JPS60239255A - 厚膜型感熱記録ヘツドの製造方法 - Google Patents
厚膜型感熱記録ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS60239255A JPS60239255A JP59096289A JP9628984A JPS60239255A JP S60239255 A JPS60239255 A JP S60239255A JP 59096289 A JP59096289 A JP 59096289A JP 9628984 A JP9628984 A JP 9628984A JP S60239255 A JPS60239255 A JP S60239255A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resistance
- thick film
- recording head
- heating resistor
- thermal recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N97/00—Electric solid-state thin-film or thick-film devices, not otherwise provided for
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Electronic Switches (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、プリンタ、ファクシミリ等の感熱記録装置ｌ
こ用いられる厚膜型感熱記録ヘッドの製造方法に関する
。
こ用いられる厚膜型感熱記録ヘッドの製造方法に関する
。
発熱素子を並設してなる感熱記録ヘッドを感熱記録媒体
に接触させて記録を得る感熱記録方式は、近年、性能の
よい発熱素子および感熱材料が開発されるようになり、
急激に注目を集めている記録方式である。
に接触させて記録を得る感熱記録方式は、近年、性能の
よい発熱素子および感熱材料が開発されるようになり、
急激に注目を集めている記録方式である。
この感熱記録方式で用いられる感熱記録ヘッドには、厚
膜型、薄膜型、半導体型の３つの型がある。このうち、
厚膜型は、スクリーン印刷および焼成によって形成され
る厚膜パターンによって発熱素子を形成したもので、製
造工程が簡単で量産性に富むこと、大型のヘッドを作り
易いこと等の点で他の２つの型よりもはるかに優れてい
る。その反面、厚膜法で高密度パターンを形成するのは
困難であり、抵抗値のばらつきが生じ易く、高密度ヘッ
ドの形成に厚膜型を用いるのは不向きだとされてきた。
膜型、薄膜型、半導体型の３つの型がある。このうち、
厚膜型は、スクリーン印刷および焼成によって形成され
る厚膜パターンによって発熱素子を形成したもので、製
造工程が簡単で量産性に富むこと、大型のヘッドを作り
易いこと等の点で他の２つの型よりもはるかに優れてい
る。その反面、厚膜法で高密度パターンを形成するのは
困難であり、抵抗値のばらつきが生じ易く、高密度ヘッ
ドの形成に厚膜型を用いるのは不向きだとされてきた。
例えば、１２ドツト／１１ｍ１の感熱ヘッドでは発熱体
幅は１００〜１２０μｍと細くしなければならず、これ
をばらつきなく、厚膜印刷によって形成するのは極めて
困難でありた。しかしながら、更に高密度化への要求は
強まり、１６ドツト／朋から２４ドツト／１ｕｔｔへと
進められている。
幅は１００〜１２０μｍと細くしなければならず、これ
をばらつきなく、厚膜印刷によって形成するのは極めて
困難でありた。しかしながら、更に高密度化への要求は
強まり、１６ドツト／朋から２４ドツト／１ｕｔｔへと
進められている。
この対策として、発熱体として用いられる抵抗体層の形
成を、厚膜印刷、焼成工程にフォトリソグラフィ一工程
を組み合わせることにより行う方法が考えられている。
成を、厚膜印刷、焼成工程にフォトリソグラフィ一工程
を組み合わせることにより行う方法が考えられている。
この方法は、エツチングにより、線幅の細い抵抗体層を
形成しようとするものであるが、抵抗体層と、その下地
の導体層が同一の金属成分を含んでいたり、下地のグレ
ーズ層と抵抗体層中のガラス成分とが同−成分来であっ
たりすること、および抵抗体層は導体層よりもはるかに
膜厚が大きくなるように形成されているため、エツチン
グに要する時間が長くなること等から、下地に影響を与
えることなくエツチングを行い不要部の抵抗体層を除去
し、線幅の細い抵抗体層を形成するのは困難であった。
形成しようとするものであるが、抵抗体層と、その下地
の導体層が同一の金属成分を含んでいたり、下地のグレ
ーズ層と抵抗体層中のガラス成分とが同−成分来であっ
たりすること、および抵抗体層は導体層よりもはるかに
膜厚が大きくなるように形成されているため、エツチン
グに要する時間が長くなること等から、下地に影響を与
えることなくエツチングを行い不要部の抵抗体層を除去
し、線幅の細い抵抗体層を形成するのは困難であった。
本発明は、前記実情に鑑みてなされたもので、抵抗値の
ばらつきのない均一な発熱抵抗体を具えた高密度の感熱
記録ヘッドを提供することを目的とする。
ばらつきのない均一な発熱抵抗体を具えた高密度の感熱
記録ヘッドを提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明は、発熱抵抗体を形成
する工程を、所望のパターン幅よりも大きめの高抵抗層
を厚膜法によって形成する工程と、所望のパターン幅に
相当する部分のガラス成分のみを前記高抵抗層から除去
し、発熱領域を形成する工程とから構成するものである
。
する工程を、所望のパターン幅よりも大きめの高抵抗層
を厚膜法によって形成する工程と、所望のパターン幅に
相当する部分のガラス成分のみを前記高抵抗層から除去
し、発熱領域を形成する工程とから構成するものである
。
すなわち、この発明では、まず厚膜で高抵抗層を形成し
た後、例えばフォ） ＩＪソエノチング法により、所定
の部分の前記高抵抗層からガラス成分のみをエツチング
除去し、選択的に低抵抗層となし、この部分を発熱抵抗
体としている。
た後、例えばフォ） ＩＪソエノチング法により、所定
の部分の前記高抵抗層からガラス成分のみをエツチング
除去し、選択的に低抵抗層となし、この部分を発熱抵抗
体としている。
以下、本発明の実施例について図面を参照しつつ詳細に
説明する。
説明する。
この厚膜型感熱記録ヘッドは、第１図ｉこ概要図、第２
図に第１図のａ−ａ断面図を示す如く、アルミナ基板１
上に千鳥状に接続され、画情報に応じて、電力供給を行
うための多数本のリード２と該リード上にこれを横切る
ように配設された１本の抵抗体３とよりなり、該抵抗体
は線幅１關の高抵抗部３ａと、この高抵抗部内に配設さ
れた線幅２００μｍの発熱抵抗体部３ｂとより構成され
ている。
図に第１図のａ−ａ断面図を示す如く、アルミナ基板１
上に千鳥状に接続され、画情報に応じて、電力供給を行
うための多数本のリード２と該リード上にこれを横切る
ように配設された１本の抵抗体３とよりなり、該抵抗体
は線幅１關の高抵抗部３ａと、この高抵抗部内に配設さ
れた線幅２００μｍの発熱抵抗体部３ｂとより構成され
ている。
次に、この厚膜型感熱記録ヘッドの製造方法について説
明する。
明する。
まず、第３図に示す如く、アルミナ基板１上に導体ペー
ストを用いて、スクリーン印刷および焼成を行いリード
２を形成する。
ストを用いて、スクリーン印刷および焼成を行いリード
２を形成する。
次いで、第４図に示す如く、ＲＺ−ＧＺと指体されてい
る日中マッセイ社製の抵抗ペーストを用いてスクリーン
印刷および焼成（９００’０）を行い線幅ｐｉｉｍの高
抵抗部３ａを形成する。
る日中マッセイ社製の抵抗ペーストを用いてスクリーン
印刷および焼成（９００’０）を行い線幅ｐｉｉｍの高
抵抗部３ａを形成する。
続いて、第５図に示す如く、フォトエツチング法により
、中心部に幅２００ ｐｍの窓を有し、前記高抵抗部全
体を覆うような形状でレジストパターン４を形成する。
、中心部に幅２００ ｐｍの窓を有し、前記高抵抗部全
体を覆うような形状でレジストパターン４を形成する。
そして、第６図に示す如く該レジストパターンをマスク
としてこのアルミナ基板１全体を弗硝酸液に浸漬し窓内
に露呈する高抵抗部からガラス成分のみをエツチング除
去する。
としてこのアルミナ基板１全体を弗硝酸液に浸漬し窓内
に露呈する高抵抗部からガラス成分のみをエツチング除
去する。
こののち、前記レジストパターンを除去し約９００℃で
再び焼成を行い第７図の如く線幅２００μｍの低抵抗部
すなわち、発熱抵抗体部３ｂを形成する。
再び焼成を行い第７図の如く線幅２００μｍの低抵抗部
すなわち、発熱抵抗体部３ｂを形成する。
そして最後に、第８図の如く、オーバーガラス５を形成
する。
する。
ここで、ガラス成分のエツチング除去による高成分であ
る酸化ルテニウム（ＲｕＯｚ）のチェーンＲの間にガラ
ス成分Ｇが介在した状態である。
る酸化ルテニウム（ＲｕＯｚ）のチェーンＲの間にガラ
ス成分Ｇが介在した状態である。
ガラス成分のエツチングｌこよって第Ａ）歯に示す如く
、空間を有した層となる。そして、焼成によって、空間
を介して離れていた酸化ルテニウムのチーーンも第１￥
ｃ）＠に示す如く、互い化密着した状態となって安定化
され絶縁成分であるガラス成分の１部を除去することに
より、抵抗値は下がり低抵抗部と化すわけである。
、空間を有した層となる。そして、焼成によって、空間
を介して離れていた酸化ルテニウムのチーーンも第１￥
ｃ）＠に示す如く、互い化密着した状態となって安定化
され絶縁成分であるガラス成分の１部を除去することに
より、抵抗値は下がり低抵抗部と化すわけである。
ここでは、抵抗部そのものをエツチング除去するのでは
なく、抵抗層中のガラス成分のみをエツチング除去する
ため、エツチング時間も、厚い抵抗層全体をエツチング
する場合に比べてはるかに短かくてすみ、下地層を浸す
こともなく、微細パターンの形成が可能となる。
なく、抵抗層中のガラス成分のみをエツチング除去する
ため、エツチング時間も、厚い抵抗層全体をエツチング
する場合に比べてはるかに短かくてすみ、下地層を浸す
こともなく、微細パターンの形成が可能となる。
このようにして形成された厚膜型感熱記録ヘッドは、発
熱抵抗体の微細パターンが精度良く形成されており、幅
のばらつきも極めて少ないため、良好な特性を示す。
熱抵抗体の微細パターンが精度良く形成されており、幅
のばらつきも極めて少ないため、良好な特性を示す。
また、従来、厚膜では不可能でありた細い線厚のパター
ンが精度良く形成されるため、熱応答性の良い、高密度
の厚膜型感熱記録ヘッドの形成が可能となる。
ンが精度良く形成されるため、熱応答性の良い、高密度
の厚膜型感熱記録ヘッドの形成が可能となる。
以上、説明してきたように、本発明によれば、所望の発
熱抵抗体のパターン幅よりも大きめの高抵抗層を厚膜法
によりて形成し、この高抵抗層から所望のパターン幅に
相当する部分のガラス成分のみを除去し、この部分を発
熱抵抗体領域としているため、抵抗値のばらつきのない
、均一な発熱抵抗体を具えた高密度の感熱記録ヘッドの
形成が可能となる。
熱抵抗体のパターン幅よりも大きめの高抵抗層を厚膜法
によりて形成し、この高抵抗層から所望のパターン幅に
相当する部分のガラス成分のみを除去し、この部分を発
熱抵抗体領域としているため、抵抗値のばらつきのない
、均一な発熱抵抗体を具えた高密度の感熱記録ヘッドの
形成が可能となる。
第１図は、本発明実施例の厚膜型感熱記録ヘッドの概要
図、第２図は第１図の４−ハ断面図、第３図乃至第８図
は、第１図に示した厚膜型感熱記。へ２８．）製え工程
やオオ。、第う）〜第へ溝は、厚膜抵抗体層からガラス
成分をエツチング除去する際の組成変化を示す説明図で
ある。 １・・・アルミナ基板、２・・・リード、３・・・抵抗
体、３ａ・・・高抵抗部、３ｂ・・・低抵抗部、４・・
・レジストパターン、５・・・オーバーガラス、Ｒ・・
・酸化ルテニウムのチェーン、Ｇ・・・ガラス成分。 １ζ−パ 第１図 第２図 第３図 第８図 第４図 第５図 第６図 第７図
図、第２図は第１図の４−ハ断面図、第３図乃至第８図
は、第１図に示した厚膜型感熱記。へ２８．）製え工程
やオオ。、第う）〜第へ溝は、厚膜抵抗体層からガラス
成分をエツチング除去する際の組成変化を示す説明図で
ある。 １・・・アルミナ基板、２・・・リード、３・・・抵抗
体、３ａ・・・高抵抗部、３ｂ・・・低抵抗部、４・・
・レジストパターン、５・・・オーバーガラス、Ｒ・・
・酸化ルテニウムのチェーン、Ｇ・・・ガラス成分。 １ζ−パ 第１図 第２図 第３図 第８図 第４図 第５図 第６図 第７図
Claims (1)
- 発熱抵抗体を厚膜で形成する厚膜型感熱記録ヘッドの製
造方法において、高抵抗の厚膜パターンを形成した後、
該厚膜パターン中、発熱抵抗体を形成すべき部分のガラ
ス成分のみを選択的に除去することにより、該部分に発
熱抵抗体を形成したことを特徴とする厚膜型感熱記録ヘ
ッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59096289A JPS60239255A (ja) | 1984-05-14 | 1984-05-14 | 厚膜型感熱記録ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59096289A JPS60239255A (ja) | 1984-05-14 | 1984-05-14 | 厚膜型感熱記録ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60239255A true JPS60239255A (ja) | 1985-11-28 |
Family
ID=14160917
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59096289A Pending JPS60239255A (ja) | 1984-05-14 | 1984-05-14 | 厚膜型感熱記録ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60239255A (ja) |
-
1984
- 1984-05-14 JP JP59096289A patent/JPS60239255A/ja active Pending
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