JPS6024019A - 表面処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は真空すなわち減圧気相中でウェハ面に蒸着ある
いはエツチング等の表面処理を施すための真空表面処理
装置の改良に関するものである。

たとえば、減圧気相中でウェハ等の板状物の表面処理を
行なう装置については、特公昭５０−９４７１号に示め
されている。

真空蒸着、スパッタ蒸着、イオンブレーティングあるい
はスパッタエツチング等によるウェハの表面処理におい
ては、例えば蒸着膜の結晶粒の均一化をはかるなどの目
的でウェハを加熱してやる必要がある場合が多い。この
ような場合、従来装置においては、真空槽内にガラスカ
バー等を設けたランプヒーターを設置し、これによりウ
ェハホルダ上のつ１ハを表面から加熱していた。

しかし、上述の如き従来装置においては、ヒーターがウ
ェハ面以外に真空槽内面をも加熱するため、脱ガスによ
る真空度の低下、あるいは雰囲気中への不純ガスの混入
等が生ずる欠点があった。

また、比較的低真空（約１０　Ｔｏｒｒ）中でなされる
スパッタリングによる蒸着などでは、飛しょうする蒸着
物質の粒子が、ガスによる散乱をうけ、ランプのガラス
カバー面にも付着し、短時間のうちにヒーターの効率が
低下するとともに加熱温度も低下し、ひいては使用不能
となるなどの欠点があった。

本発明は、前述の如き従来装置の欠点を解消し、効率良
くウェハ部分のみを加熱しうるウヱノ・加熱・保持手段
を有する新規な構成忙なる真空表面処理装置を提供する
目的でなされたものである。

本発明の装置の一実施例は、ウェハホルダ・−を、熱輻
射に対して透明なる材料で構成し、上記ウェハホルダー
の裏側にヒーターを配設しさらに反射板を兼ねるシール
ド板で上記ヒーターおよびホルダーの　面をシールドし
たことを特徴とするものである。

図は、本発明の一実施例による真空表面処理装置の真空
槽内におけるウェハ加熱・保持手段の一部を示すもので
あり、図示の部分はスパッタ・タゲソトの回りを公転す
るようになっている。即ち、本実施例の装置は、ウェハ
ホルダ一部を石英板ｌとステンレス・スチール等からな
る接続部材２で環状に構成し、上記ウェハホルダーの裏
側にランプヒーター８および反射板を兼ねるシールド板
４を取付けてなるものである。

ここで、上記シールド板４はＭＯ等の耐熱金属からなる
板を断面放物線状となるように円曲せしめて構成し、ヒ
ーターからの熱線をウェハ上に反射せしめると同時に蒸
着物質がヒーター上に付着するものを防止するものであ
る。

上述の如き装置によれば、ホルダ一部１に装填されたウ
ェハ５はヒーター８によって、ホルダ一部１の裏面から
加熱されるために、前述の如く、蒸着部質によってヒー
ターの熱線が真空槽内面を照射して有害な脱ガスの混入
や真空度低下を招くこともなくなる。その上、ウェノ・
を、所望とする一定の温度に均一に加熱することが可能
となり、蒸着膜の結晶粒径の均一化による膜質の安定化
。

表面反射率の向上、エレクトロマイグレーションの抑制
等、多大の効果を得ることができた。

【図面の簡単な説明】

図は本発明の一実施例による真空表面処理装置のウェハ
ホルダーの一部を示す斜視図である。 １・・・ホルダ一部、２・・・接合部材、３・・・ヒー
ター、４・・・反射板を兼ねるシールド板、５・・・つ
Ｓノ・。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、　ウェハの裏面より熱輻射により前記ウェハを加熱
   できるようにしてなり、気相中または真空中でウェハの
   表面に表面処理を施す表面処理装置であって、上記輻射
   の効果を減少させる部分への不所望な部材の被着を防止
   する部材の少なくとも１部を熱輻射の反射部材としたこ
   とを特徴とする表面処理装置。