JPS6024097B2 - ９−デオキシ−９−９メチレンＰＧＥ↓２及び９−デオキシ−９α−ヒドロキシメチルＰＧＦ↓２α化合物類 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は式 の新規中間体類に関する。 式中ＧはＨノ・ＣＨ２０日又は白Ｃ比であり、Ｚはシス
ーＣＨ＝ＣＨ−であり、Ｒは水素、１〜４個の炭素原子
のアルキル、又は薬理学的に受け入れられる陽イオンで
あり、Ｒ２とＲ３は水素、メチル、又はェチルであり、
ＡはＨノ・。 日又は日／ー。日である。この中間体は以下の新規環式
エーテル類のあるものの製造に有用である。 式中×とＹは−０一又は原子価結合であるが、但し×と
Ｙの一方が−０一で他方が原子価結合であり、Ｚは−Ｃ
Ｈ２ＣＨ２−又はシスーＣＨ＝ＣＨ一であり、Ｒは水素
、１〜４個の炭素原子のアルキル、又は薬学的に受入れ
られる陽イオンであり、Ｒ２とＲ３は水素、メチル、又
はエチルであり、ＡはＲ；。 Ｈ又はＲ；／ー。日であって、Ｒ４は水素、メチル、又
はエチルであるが、但しＲ４がメチル又はエチルの時に
はＲ２とＲ３がともに水素であることを条件としている
。式１の範囲内に含まれるのは次式の化合物類である。
〔式中Ｚ、Ｒ、Ｒ２、Ｒ３及びＡは上に定義されたとお
り〕本発明の中間体は、更に以下の環式エーテルを製造
するのにも有用である。 〔式中×とＹは−○−又は原子価結合であるが、但しＸ
とＹの一方が−○−で他方が原子価結合であることを条
件とし、Ｒは水素、１〜４個の炭素原子のアルキル、又
は薬学的に受入れられる陽イオンである〕。 式Ｗの範囲内に含まれるのは次式の化合物類である。〔
式中Ｒは上に定義されたとおり〕 式１、０、ｍ、Ｗ、Ｖ、及びのの新規化合物類は、次の
式と原子の番号付けをもつプロスタン酸として知られる
物質に構造的に関連づけられる。 プロスタン酸には、この技術にすでに知られた種々の誘
導体及び誘導体の類似体がある。これらはプロスタング
ランジン類及びプロスタングランジン類似体として知ら
れている。例えば、プロスタグランジンＥ，（ＰＧＥ，
）として知られる化合物は次式をもっている。プロスタ
グランジンＥ２（ＰＧＥ２）として知られる化合物は次
式をもっている。 プロスタグランジンＦ，Ｑ（ＰＧＦ，Ｑ）として知られ
る化合物は次式をもっている。 プロスタグランジンＦ２Ｑ（ＰＧＦ２Ｑ）として知られ
る化合物は次式をもっている。 ＰＧＥ，及びＰＧＥ２に対応するが、環ヒドロキシをも
たず、環のＣ−１０とＣ−１１の間に炭素−炭素二重結
合をもった化合物類も知られている。 これらはプロスタグランジンＡ（ＰＧＡ）と名付けられ
る。このようにプロスタグランジンＡ，（ＰＧＡ，）は
次式をもっている。プロスタグランジンＡ２（ＰＧＡ２
）は次式をもっている。 式肌〜Ｘｍに対応するが、Ｃ−１５に水素の代わりにメ
チル又はエチル基をもち、又はＣ−１６に水素の１個又
は２個の代わりに１個又は２個のメチル又はエチル基を
もったプロスタグランジン様化合物類もこの技術に知ら
れている。 例えば合衆国特許第３７２８３８２号と第３８１３４３
３号及びドイツ公開特許公報第２１４５６００号を参照
。また式肌〜Ｘｍと上記のアルキル置換化合物に対応す
るが、Ｃ−１５に反対の立体イｂ学構造をもつた化合物
類もこの技術に知られている。式肌と畑に対応するが、
２個の環ヒドロキシ基‐が一緒になって環外過酸化基（
エンドパーオキサイド）を形成しているプロスタグラン
ジン様の化合物類もこの技術に知られている。 例えばハンバーグ（Ｈａｍｂｅｒｇ）ら、ＰｒＭ．Ｎａ
ｔ．Ａｃａｄ．Ｓｃｉ．ＵＳＡ．７碇蓋（３号）８９９
頁（１９７３王）；ハンバーグら、Ｐｒ比．Ｎａｔ．Ａ
ｃａｄ．Ｓｃｊ．ＵＳＡ．７１巻（２号）私５頁（１９
７４年）；ヌグテレン（Ｎｕ母ｅｒｅｎ）ら、ＢｉｏＣ
ｈｉｍ．Ｂｉｏｐｈ侭．Ａｃね３２鏡蓋４４８頁（１９
７３年）を参照。この型式のエンドパーオキシドの例は
、次の構造をもつＰＧＨ２として知られる化合物である
。またウロダワー（Ｗ１ｏ舷ｗｅｒ）ら、Ｊ．Ａｍ．Ｃ
ｈｅｍ．Ｓｏｃ．９群萱２８１５頁（１９７１年）を参
照。式１〜ＸＮに包括される化合物類の分子は、各々数
個の非対称中心をもっている。本発明の新規環式エーテ
ル類を表わす式１、ロ、ｍ、Ｗ、Ｖ、及びのを含めたこ
れらの式は、０甫乳類のある組織、例えば羊の小のう腺
又は人間の精液から得られる光学活性プロスタグランジ
ンＥ，（ＰＧＥ，）と同じ絶対立体配置をもつた光学活
性化合物類を表わす意図がある。例えばベルグストロー
ム（氏ｒｈｓｔｒｏｍ）ら、Ｊ．Ｂｊｏｌ．Ｃｈｅｍ．
２３８巻３５５５頁（１９６３王）；ホートン（日。ｒ
■ｎ）、ＥＸｐｅｒｉｅｎｔｉａ２１巻１１３頁（１９
６５年）：ベルクストロームら、Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．
Ｒｅｖ．２畔蓋１頁（１９６母玉）及びそこに引用され
ている参考文献を参照。式１〜ＸＷで、シクロベンタン
環への破線の結合は、アルファ立体配置すなわちシクロ
ベンタン環の面より下の置換基を示す。 シクロベンタン環への大線の結合は、ベータ立体配置す
なわちシクロベンタン環の面より上の鎖を示す。式肌〜
Ｘｍに示す側鎖ヒドロキシに対する立体配置は、Ｓと呼
ばれることもあるが、アルファ（Ｑ）がこの立体配置の
指示として好ましい。式１、ロ、及びｍの新規環式エー
テル類は、Ｃ−１５ヒドロキシに対するＳ則ちアルファ
立体配置ばかりでなく、ェピ、Ｒ、及びベータ（８）と
いろいろに指示されるＣ−１５での反対の立体配置をも
包含することに注意すべきである。この最後のものが好
ましい呼び方である。プロスタグランジンの絶対立体配
道と命名法の論議には、ネイチャ−謎（Ｎａｔｕｒｅ）
、２１２雀斑頁（１９６６年）及びネルソン（Ｎｅｌｓ
ｏｎ）、ＪＭｅｄ．Ｃｈｅｍ．１７巻９１１頁（１９７
４年）を参照。本明細書中に記載された式１、０、ｍ、
Ｎ、Ｖ及びのは天然ＰＧＥ，と絶対立体配置において対
応する光学活性化合物類のみを定義しているが、上に本
文中及び特許議求の範囲に記載された式は対応するラセ
ミ化合物類をもその範囲に含めるものであるが、しかし
これらの式の鏡像によって定義される光学活性化合物を
含めないことが意図されている。式１〜のの新規環式エ
ーテル類及び以下に述べるとおりに使われる化学中間体
類の命名には、式風、比、Ｘ及び幻の既知プロスタグラ
ンジン類、すなわちそれぞれＰＧＥ，、ＰＧＥ２、ＰＧ
Ｆ，Ｑ及びＰＧＦ２Ｑの一つを命名の基盤とするか、又
は式Ｗ化合物すなわちプロスタン酸を命名の基盤とし、
いずれの場合も式肌に示す炭素原子の番号付けを使うの
が有用である。 特に環式エーテル類にとっては、「ェポキシメタノ」と
いう指示は、一〇−Ｃ山一という原子団を意味する。こ
うしてＺがシスーＣＨ＝ＣＨ−、ＡがＨノ・〇日、及び
Ｒ．とＲ２とＲ３が水素の場合の式ロ化合物は、９・１
１ージデオキシー１１Ｑ・９Ｑ−エポキシメタノ−ＰＧ
Ｆ２Ｑという名前をもち、ＰＧＦ２Ｑ（式幻）に対して
この化合物が９と１１位置に結合された酸素を欠いてい
ることを示す。この名前は、酸素末端がアルファ立体配
置で１１−位置に結合され、ＣＨ２末端がアルファ立体
配置で９一位置に結合された、ェポキシメタノ部分の存
在をも示す。同機にＺが−Ｃ舷日２−、Ａが日／ー。日
、及びＲ，とＲ２とＲ３が水素の場合の式ｍ化合物は９
・１１ージデオキシー９Ｑ・１１０ーエポキシメタノ−
１５８一ＰＧＦ，Ｑという名前をもち、ＰＧＦ，Ｑ（式
×）に対してこの化合物が９及び１１−位置に結合され
た酸素を欠いていることを示す。この名前も、酸素末端
がアルファ立体配置で９一位置に結合され、ＣＨ２末端
がアルフア立体配置で１１−位置に結合された、ェポキ
シメタノ部分の存在を示す。この名前は、ＰＧＦ，Ｑ中
のようにＣ−１５のヒドロキシに対してＳ則ちアルファ
立体配置よりも「 Ｒ則ちベータ立体配瞳をも示す。 同様にＲが水素の場合の式Ｖ化合物は９Ｑ・１１Ｑ−（
ェポキシメタノ）プロスタン酸という名前をもち、酸素
末端がアルファ立体配置で９位置に結合され、Ｃ比末端
がアルファ立体位置で１１一位置に結合された、ェポキ
シメタノ部分の存在を示す。式のの環式エーテル類は、
同様な仕方で、即ち１１Ｑ・９Ｑ−（ェポキシメタノ）
ブロスタン酸及びその塩類ならびにアルキルェステル類
と名付けられる。また種々の以下に述べられる中間体類
も、同様な仕方でＰＧＥ，、ＰＧＥ２、ＰＧＦ，Ｑ、及
びＰＧＦ２はの変化したものとして命名されている。本
発明の中間体から製造される新規な式１、０、及びｍ環
式エーテル類は、低濃度で実験動物に血管収縮を起し、
血小板凝集を誘発する。 従って、これらの新規化合物類は人間、牛と馬を含めた
有用な大型家畜、及び犬猫を含めた小型家畜を含めた鰭
乳類において、血管収縮が望まれる場合、及び強化され
た局所的血４・板凝集も有利である場合に、出血制御に
有用である。この目的に好ましい投与経路は、迅速な止
血が望まれる時、例えば歯科その他口腔外科手術中又は
その後：又は鼻の外科手術後に、特に局所的に出血位置
への化合物の局所適用である。局所適用は、化合物を適
当な担体中で、出血位置に投与することによって容易に
達成される。担体は止血に関して不活性であるか、又は
望まれる時には担体自体が止血作用をもつものである。
担体が止血性でない場合の組成物の例は、等張液又は緩
衝液を提供するための普通の添加物を伴うか又は伴わな
い、またその他の希釈剤例えばエタノールを伴うか又は
伴わない水溶液である。その代わりに、グリセロール溶
液のような非水性溶液、又はその他の水性又は非水性調
製剤、例えば軟こう、坐薬、及びェァゾル充填剤が局所
用及び体腔への処置に使用される。担体自体が止血性で
あるような組成物の例は、吸収できるゼラチンのスポン
ジ例えばゲルフオーム■（ＧＩｆｏ皿■）の名で販売さ
れているスポンジ中に化合物を混和することを包含する
。局所用に意図されたこれら化合物類溶液は、私当り０
．１一夕ないし１００山夕の濃度範囲が好ましく、私当
り１ムタないし２０ムタの範囲が更に好ましい。 止血性の外科用スポンジは、スポンジのグラム当り０．
２ないし２０００ムタを含有するのが好ましく、スポン
ジのグラム当り１ムタないし５０ムタが更に好ましい。
このようなスポンジ類は、歯科、口腔、鼻内、胃−十二
指腸、直腸、前立腺、婦人科、神経学、及び一般外科手
術を含めた種々の型の外科手術による出血、並びにその
他の原因例えば外傷から生ずる出血の抑制に有用である
。新規な式１、０、及び瓜の化合物類は気管支収縮作用
ももっており、このため、出血抑制するのに化合物類を
投与するに当っては注意を要する。通常〜出血位置への
単一投与量は、体重ｋｇ当り１０仏夕を超えてはならす
、出血を減少させる必要回数以上にいよいよ繰り返すべ
きではない。気管支収縮の徴候が観察されたならば、投
与の繰り返しを中止すべきである。またこれらの化合物
の投与中に過度の血圧増加、心密教減少、及び胸部の苦
痛開始の徴候について患者を監視すべきであり、これら
の点について正常な基本線が回復するまで化合物の投与
を中断すべきである。これらの新規化合物類１、０、及
びｍは、内出血、例えば内部損傷又は濃傷による胃腸の
出血を抑制するのに、全身的例えば静脈内注入によって
投与される。 この目的には、組成物の無菌的水溶液及び局所適用に対
して上に述べた濃度範囲が使用される。この場合も、気
管支収縮、血圧増加、心薄数減少、及び胸部の苦痛開始
などの副作用を看視し、このような副作用が制御される
まで注入を中断するか注入速度を減少させる処置を取る
。本発明の中間体から製造される新規な式１、０、及び
ｍ化合物類は、同様な生物学的特性をもつその他の既知
プロスタグランジン様化合物類に比較して、水溶液中で
異常に安定である。従ってこれらの新規化合物類は、標
準的な気管支収縮、血管収縮、及び血小板凝集反応をつ
くり出すための試験管内及び生体内試験系統の標準とし
ても有用である。これらの新規化合物類を使用する系統
は、他の気管支拡張剤、血管拡張剤及び血小板凝集抑制
剤の力価と効力の検定、及びこのような活性に対して他
の化合物をスクリーニングする上で有用である。本発明
の中間体から製造される新規な式Ｗ、Ｖ及びの顔式エー
テル類は、プロスタグランジン合成酵素系の抑制剤とし
て非常に活性がある。 プロスタグランジン合成酵素の抑制については、例えば
べーン（Ｖａｎｅ）、ＮａｔｕｒｅＮｅｗＢｉｏｌｏｇ
ｙ２３１巻２３２頁（１９７１年）、タケグチ（Ｔａｋ
ｅｇ比ｈｉ）ら、「プロスタグランジン類」２巻１６９
頁（１９７２王）、及びそこに引用されている参考文献
を参照。従って、医学的にこの酵素系を抑制することが
望ましい場合にはいつでも、これらの新規化合物は人間
を含めた幅乳類への投与に有用である。例えばこれらの
新規化合物類は、幅乳類及び特に人間において消炎剤と
して有用であり、この目的には全身的に、好ましくは経
口で投与される。経口投与には、リウマチ様関節炎のよ
うな炎症性疾患と関連する苦痛の軽減をはかるため、人
間の体重ｋ９当り０．０１なし、し１００仏夕の投与量
範囲を使用する。これらは重い炎症例では、好ましくは
毎分ｋ９当り０．０１ないし１００メタの投与範囲で、
苦痛が軽減されるまで静脈内投与される。これらの目的
に使用する時は、新規化合物類は、炎症の処置に使われ
る既知合成酵素抑制剤、例えばアスピリンとインドメタ
ンよりも程度が低く回数も少ない望ましくない副作用を
起すものである。これら新規化合物を経口投与する時に
は、これらを通常の薬学担体、結合剤等と共に錠剤、カ
プセル、又は液体調製剤として処方する。静脈内使用に
は、無菌等張溶液が好ましい。上の目的の全部に対して
、本発明の中間体から製造され新規な式１、ロ、ｍ、Ｗ
、Ｖ及び町の環式エーテル類は遊離酸型、ェステル、又
は薬学的に受入れられる塩型で使用される。 ェステル型を使用する時には、Ｒについて上に定義され
た範囲内、すなわち１〜４個の炭素原子のアルキルの範
囲内の任意のェステルが使用される。 これらはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル及び
異性体ブチル基の各々である。これらのうちメチルとエ
チルが特に好ましい。上記の目的に有用な式１、０、瓜
、Ｗ、Ｖ及びのの新規な環式エーテル類の薬学的に受入
れられる塩類は、薬学的に受入れられる金属陽イオン類
、アンニウム、アミン陽イオン類、又は第四級アンモニ
ウム腸イオン類によるものである。 特に好ましい金属腸イオン類はアルカリ金属、例えばリ
チウム、ナトリウム、およびカリウムによるもの、およ
びアルカリ士類金属、例えばマグネシウムとカルシウム
によるものであるが、但しその他の金属、例えばアルミ
ニウム、亜鉛および鉄の陽イオン型は本発明の範囲内に
ある。薬学的に受入れられるアミン陽イオン類は、第一
級、第二級、又は第三級アミン類から誘導されるもので
ある。 適当なアミン類の例はメチルアミン、ジメチルアミン、
トリメチルアミン、エチルアミン、ジブチルアミン、ト
リイソプロピルアミン、Ｎ−メチルヘキシルアミン、デ
′シルアミン、ドデシルアミン、アリルアミン、クロチ
ルアミン、シクロベンチルアミン、ジシクロヘキシルア
ミン、ベンジルアミン、ジベンジルアミン、Ｑ−フエニ
ルエチルアミン、８ーフエニルエチルアミン、エチレン
ジアミン、ジエチレントリアミン等、および約１針固ま
での炭素原子を含有する脂肪族、脂環式、および芳香脂
肪族アミン類、ならびに複素環式ァミン類、例えばピベ
リジン、モルホリン、ピロリジン、ピベラジン、および
それらの低級アルキル誘導体類、例えば１−メチルピベ
リジン、４ーエチルモルホリン、１山インプロピルピロ
リジン、２ーメチルピロリジン、１・４ージメチルピベ
ラジン、２−メチルーピベリジン等、ならびに水に溶解
する基又は親水性の基を含有するァミン類、例えばモノ
−、ジー、およびトリェタノールアミン、エチルジエタ
ノールアミン、Ｎ−プチルヱタノールアミン、２ーアミ
ノ−１ーフタノール、２ーアミノー２−エチル−１・３
−プロパンジオール、２ーアミノー２−メチル−１−プ
ロパノール、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン
、Ｎ−フエニルエタノールアミン、Ｎ−（ｐ−第三アミ
ルフェニル）ジェタ／ールアミン、ガラクタミン、Ｎー
メチルグリカミン、Ｎ−メチルグルコサミン、エフエド
リン、フエニルエフリン、ェピネフリン、プロカィン等
である。薬学的に受入れられる適当な第四級アンモニウ
ム腸イオン類の例は、テトラメチルアンモニウム、テト
ラエチルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウ
ム、フエニルトリエチルアンモニウム等である。式１〜
Ｗの新規化合物の或るものを上記の薬学目的の一つに対
して注射又は注入によって静脈内に投与する時には、式
中のＲが水素又は薬学的に受入れられる陽イオンである
のが、水溶解度増加のために好ましい。 その他の投与経路に対しては、これらの新規化合物類の
遊離酸型、塩型、又はアルキルェステル型の任意のもの
が使われる。式１、ロ、及びｍの新規な環式エーテル類
は、図１及びローこ概略記載された方法によってつくら
れる。図 図１と０で、Ｚ、Ｒ２、Ｒ３、及びＡは上に定義された
とおりであり、Ｒ，は水素又は１〜４個の炭素原子のア
ルキルであり、Ｒ５は以下に更に定義される非反応性の
有機の基であり、×はＢｒ又はＣＩである。 図１と０で、式幻ＸとＸＸｍは、上の式０及びｍと同じ
であるが、但し図１と０の式××及びＸＸｍのＲ，の代
わりに式ＤとｍではＲが使われている点が違うことが見
られよう。ＲとＲ，との相違は、Ｒが水素及び１〜４個
の炭素原子のアルキルのほか、薬学的に受入れられる陽
イオンを包含することである。図１とｍこ概略記載され
た方法は、これらの最終生成物の塩類をつくるには適し
ておらず、下に述べるようにこれらの塩類（式０とｍの
Ｒは薬学的に受入れられる陽イオンである）は、式××
とＸＸｍ化合物類の対応する遊離カルボン酸型、（すな
わちＲ，が水素）からつくられる。さて、式ｍ生成物を
つくるのに使われる方法を示す図１に戻ると、式×Ｖの
最初の反応体はこの技術に知られている。 例えば合衆国特許第３７２５４６針号、第３７５９９６
５号、第斑１私３３号、及びドイツ公開特許公報第２２
１７０４４号と第２１４５６０び号を参照。 式×Ｖのこれらの反応体はすべてＰＧＡ型である。例え
ば上の例示的な式皿及びＸｍを参照。式×Ｖの初めのＰ
ＧＡ型反応体から式×Ｗ中間体への転化は、式×Ｖ反応
体の環内炭素−炭素二重結合へメタノールの光イヒ学的
付加を行なうものである。この反応は、Ｑ・８−不飽和
カルボニル化合物へのアルコールの１・４一付加に対し
てこの技術で知られた方法で実施される。例えばフアウ
（Ｐｆａｕ）ら、Ｃｏｍｐｔ．Ｒｅｄ．２５４巻１８１
７頁（１９６２年）及びフレーザー・リード（Ｆｒａｓ
ｅｒ−Ｒｅｉｄ）ら、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ
ｕｎ．１２８６（１９７２年）を参照。この反応には光
と増感剤が必要である。ペンゾフェノンが適当な増感剤
であるが、この技術に知られたその他の増感剤もこの目
的に有用である。この反応には３５００△の光線が適し
ているが、その他の波長、特により短い波長もこの目的
に有用である。式×Ｖ反応体のモル当量当り少なくとも
約１モル量の増感剤を使用するのが好ましい。式×のの
望む１１ーアルフア化合物の主重量及び対応する１１ー
ベータ異性体の少量を含有する混合物が普通には得られ
、１１−アルファ化合物はこの技術に知られた方法、例
えばクロマトグラフイによって、１１ーベータ異性体か
ら分離される。望む１１ーアルフア生成物は、普通には
１１ーベータ異性体より強い極性がある。１１−アルフ
ァ異性体は、旋光分散及び円偏光二色性の測定に基づい
て１１−ベータ異性体から区別される。 １１ーアルフア異性体は１１−ベータ異性体より陰性の
コットン効果をもく〕。 図１を再び参照すると、式×の新規中間体は、ＸＷの９
−オキソ原子をＸ抑の９−ヒドロキシ基へ還元すること
によって、式×肌の新規中間体へ転化される。 この転化には、炭素−炭素二重結合又はカルボキシレー
ト部分を還元せずにケトン性カルボニル基を第二級ヒド
ロキシを還元するような任意の還元剤を使用できる。し
かし、望む式ｍ中間体がアルファ立体配置の９−ヒドロ
キシをもつことに注意すべきである。既知のカルボニル
還元剤の多く、例えばナトリウムポロノ・ィドラィドは
、環カルボニル基を還元する時はアルファ及びベータ立
体配置のヒドロキシ基をつくる上で比較的非選択的であ
る。これらの９Ｑ及び９８ーヒドロキシ化合物類は普通
にはこの技術に知られた方法、例えばクロマトグラフィ
によって容易に分離されるが、このＸＷ〜ＸＷへのカル
ボニル還元に対しては望むアルファ異性体の主要量を形
成する結果となるような還元剤、好ましくはアルファ異
性体へ実質的に完全な還元を生じさせるような還元剤を
使用するのが好ましい。このような好ましいカルボニル
還元剤の一つはリチウムパーハィドロ一敗ーボラフエナ
アリルハイドライドである。例えばブラウン（Ｂｒｏｗ
ｎ）ら、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓ比．９２蓋７０９頁（
１９７０年）を参照。この特定還元剤及びその他のカル
ボニル還元剤を使用する手順はこの技術に知られている
。 ４Ｚがシス−ＣＨ＝ＣＨ−、Ａが
Ｈノ・〇日 及びＲ，とＲ２とＲ３が水素である場合の
式×の及び×肌の新規中間体類の本発明に続いて、これ
らの化合物はカナダのオタワで開かれた天然生成物のイ
ｂ学に関する第９回国際シンポジウムの１９７４王６月
２４−２８日会合で、及びニューハンプシャー州ニュー
ロンドンで開かれた１９７仏王８月５〜９日医化学ゴー
ドン会議で口頭で明らかにされた。再び図１を参照する
と、式×肌新規中間体は、Ｒ５が非反応性有機の基であ
る場合の式×風の対応するスルホン酸ェステルへ転化さ
れる。 これはヒドロキシ化合物をスルホン酸ヱステルへ転化す
る通常の方法、すなわち塩基性第三級アミンの存在下に
おける式×皿中間体と対応するスルホニルクロラィド又
はブロマイドＲ５Ｓ０２×との反応によって達成される
。非反応性のＲ５部分をもつ任意のスルホニルクロライ
ド又はブロマイドがこの反応に有用である。「非反応性
Ｒ５部分」とは、その部分自体のいかなる場所も式×肌
反応体とどのような部分とも反応せず、またこの部分の
いかなる場所もその後の式×腿スルホン酸ェステルから
最終生成物ＸＫへの転化に干渉しないような部分のこと
である。この反応に特に好ましいのは、アリール部分が
それ自体非反応的で、Ｒ５Ｓ０２×のＳ０２×部分の硫
黄に直接結合された単一のベンゼン環を含有する場合の
アリールスルホニルハラィド、特にクロラィド、又は第
一級ヒドロキシル基に対する同様な反応性のスルホニル
ハラィドである。この反応に特に好ましいものはｐ−ト
ルェンスルホニルクロラィドである。このような反応性
のスルホニルハライドを使用することにより、中間体Ｘ
肌の１５−ヒドロキシとの望ましくない反応が最小限に
なる。また式×肌中間体のモル当量当り１モル当量を越
えない量のスルホニルハラィドを使用するのが好ましい
。最後に図１に関して、式×個の新規中間体は、Ｘ脚と
塩基との反応によって、環式エーテル生成物ＸＫへ転化
される。 この目的に有用な塩基はアルカリ金属水酸化物、アルコ
キシド、又はハイドラィド、特にアルカリ金属がナトリ
ウム又はカリウムの場合である。式×Ｋ生成物が遊離酸
、すなわちＲ，が水素としたい時には、塩基として水酸
化ナトリウム又はカリウム水溶液を使用し、この溶液は
、均質な反応混合物を与えるのに十分な量の水と混ざる
液体希釈剤例えばメタノール又はエタノールを含有する
のが有用である。Ｘ脚がェステルの時には、すなわちＲ
，が１〜４個の炭素原子のアルキルであって、ＸＫを同
じヱステルとしたい時には、不活性有機希釈剤例えばテ
トラヒドロフラン中のナトリウム又はカリウムアルコキ
シド（このアルコキシドはＸ岬（Ｒ，）と同じアルキル
部分を含有する）を使用するか、又は不活性有機希釈剤
中のナトリウム又はカリウム第三ブトキシドを使用する
のが好ましい。この反応にはＸ風のモル当量当り少なく
とも２モル当量の塩基を使用する。反応を約１００ な
いし約５０℃、好ましくは約２５ｏｏで、好ましくは酸
素の雰囲気の不存在下に実施するのが有利である。式×
Ｒ環式ヱーテルはこの技術に知られ又以下に例示される
手順によって単鰍される。再び図１に述べる反応の全順
序を参照すると、初めの反応体中のＲ，は水素又は１〜
４個の炭素原子のアルキルである。 しかし上記の薬学目的の一つに対してＲ，が水素の場合
の式×Ｋ生成物が望まれる時は、Ｒ，がメチル又はエチ
ルの場合の初めの式×Ｖ反応体を使用し、Ｒ，がメチル
又はエチルの場合の生ずる最終ＸＫ生成物を、好ましく
は最終反応混合物中で、既知の手日頃によって式×瓜遊
離酸（Ｒ，が水素）へけん化するのが好ましい。さて式
０の生成物をつくるのに使われる方法を示した図０をみ
ると、始めの式ＸＸ反応体はこの技術に知られている。 例えば合衆国特許第３０６９３２２号、第３５９８８５
８号、第３７２８３８２号、第３８１３４３３号及びド
イツ公開特許公報第２２１７０４４号を参照。 これらの反応体はすべてＰＧＥ型である。例えば、上に
例示した式脚及びＫを参照。式×Ｖ反応体から式××環
式エーテル生成物へ至る図１に示された方法順序でのよ
うに、図０の方法順序中のＲ，は水素又は１〜４個の炭
素原子のァルキルである。しかしＲ，が水素の場合の式
×Ｘｍの環式エーテル生成物を望む時には、図１の方法
順序のように、Ｒ，がメチル又はエチルの場合の式××
の初めの出発反応体を使用し、次に最終環式エーテル生
成物ＸＸｍ（Ｒ，がメチル又はエチル）を既知手順によ
って式×Ｘｍ遊離酸（Ｒ，が水素）へけん化するのが好
ましい。ＸＸからＸ幻への転化において、第一段階‘１
１は、出発反応体ＸＸのシリル化である。この反応段階
の意図は、式××反応体において２個のヒドロキシ基の
水素及びカルボニル基が存在する場合にはその水素を、
そうでない場合にはヒドロキシ基又はカルボキシ基中に
望んでいない変化を起すか、又はヒドロキシ又はカルボ
キシの水素が干渉するような望まれる反応の後に除去で
きる保護基と置換することである。この目的には、必要
なだけ長い期間保護基として未変化でいるが、次いで別
の点で望む分子を変化しないような手順によって容易に
除去される任意のシリルジェーテル又はシリルジェーテ
ル・ェステルを使用する。適当なシリル保護基及びそれ
らを形成し除去する手順の選択は、当業者の範囲内であ
る。この目的に特に有用なものはシリル部分が式−Ｓｉ
−（Ｅ）３ のものであるシリルェーテル及びシリルヱ
ステル類である。式中Ｅは１〜４個の炭素原子のアルキ
ル、フェニル、（フルオロ、クロロ、又は１〜４個の炭
素原子のアルキルの１個又は２個）で置換されたフェニ
ル、又は７〜１２個の炭素原子のアラルキルである。−
Ｓｉ−（Ｅ）３部分の種々のＥは同じ又は別のものであ
る。例えば一Ｓ；−（Ｅ）３はトリメチルシリル、ジメ
チルフェニルシリル、又はメチルフヱニルベンジルシリ
ルでありうる。この目的に特に好ましいシリル基はトリ
メチルシリルである。Ｓｉ−（Ｅ）３型のものを含めた
これらのシリルジェーテル類又はジェーテルェステル類
は、この技術に知られているか、又はこの技術に知られ
た方法によって製造できる試薬を使用して、この技術に
知られた手順によってつくられる。 例えばポスト（Ｐｏｓｔ）「シリコーン類及びその他の
有機珪素化合物類（Ｓｉｌｉｃｏｎｅｓ ａｎｄ Ｏｔ
ｈｅｒ ○ｒ鱗ｎＩＣＳｉｌｉｏｓｎＣｏｍｐｏｕｎｄ
ｓ）」レインホールド出版社ニューヨーク、Ｎ．Ｙ．（
１９４９年）及びピアース（Ｐｉｅｒｃｅ）「有機化合
物類のシリル化（ＳｉｌｙｌａｔｉｏｎｏｆＯｒｇａｍ
ｃＣｏｍｐｏｕｎｄｓ）」ピアース・ケミカル社、ロッ
クフオード、イリノイ（１９６８年）を参照。式××反
応体のＣ−１１とＣ−１５両ヒドロキシ基は、例えば一
〇−Ｓｉ−（Ｅ）３部分へシリル化され、これを達成す
る既知手順に従って十分なシリル化剤が使用される。Ｒ
．が水素の場合の式××反応体の場合には、一ＣＯＯ日
を例えば一ＣＯＯ−Ｓｉ−（Ｅ）３へシリル化するのに
過剰なシリル化剤とより長いシリル化反応時間を使用す
る。図０を再び参照すると、ＸＸからＸ幻への転化にお
ける段階‘２ーと脚は、シリル化された式××反応体の
９オキソ原子から９ーメチレン（＝ＣＨ２）部分への転
化を行なう。この転化はジョンソン（Ｊｏｈｎｓｏｎ）
ら、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．９５巻６４６２頁（
１９７３王）に明らかにされた手順、又はその明白な変
法によって実施される。ジョンソンらの手順は、Ｓーメ
チルーＳ−アリールスルホキシミンのＮーアルキル誘導
体のカルバニオン、例えばＮ・Ｓ−ジメチル−Ｓーフェ
ニルスルホキシミンのカルバニオン（ジョンソンらがＮ
ーメチルフエニルスルホンイミドイルメチルアニオンと
呼ぶもの）の発生を包含する。 このカルバニオンは、Ｎ−アルキル−Ｓ−メチル一Ｓ−
アリールスルホキシミンを、このようなスルホキシミン
から活性水素を取出すような普通の試薬の任意のもの、
例えばアルキルリチウム又はアルキルマグネシウムハラ
ィドと反応させることによって発生する。シリル化され
た式ＸＸ反応体をこうして発生するカルバニオンと混合
し、次に生成するアダクトを酢酸及び水の存在下にアル
ミニウムアマルガムと混合すると、望む式×紅９−メチ
レン中間体を生ずる。このＸＸからＸ幻への転化（図０
）の段階■と‘３ｌ‘こ対しては、シリル化された式Ｘ
Ｘ反応体のモル当量当り、Ｎ−アルキルーＳーフェニル
−Ｓ−メチルスルホキシミン約３モル当量を使用するの
が重要な様である。 理由は十分に理解されていないが、実質的により多量又
は少量のスルホキシミンを使用すると、望む式×幻中間
体の収率が低くなる様である。スルホキシミンの当量当
り水素抽出試薬、例えば塩化メチルマグネシウム又はブ
チルリチウムの１モル当量を使用する。アダクト形成は
約０℃ないし約一１００ｏｏ、好ましくは約一５０℃よ
り低温で、有利には固体二酸化炭素の温度で実施する。
好ましくはァダクトの単離を容易にするため、不活性反
応希釈剤を使用するか、アダクトが段階‘３’より前に
単離しない時は、水と混ざる希釈剤を使用する。テトラ
ヒドロフランが通した反応希釈剤である。段階■の反応
が終了した時、アダクトをこの技術に知られた手日頃に
よって単離するか、又はその代わりに段階｛３’‘こ全
反応混合物を使用する。 アダクトを単離する時は、段階‘３｝がこれらの保護基
を必要としないため、脚へ進む前にシリル保護基を除く
のが有利である。しかしシリル基の除去は必愛でなく、
シリル化されたアダクトを段階‘３｝の還元除去に使用
できる。好まれる通切こアダクトからシリル基を除くこ
とが望ましいならば、これはシリル化されたアダクトを
、シリル基除去による以外にアダクトを変更しないよう
な酸で処理することによって容易に達成される。この目
的に適した酸は、くえん酸又は燐酸の希水溶液である。
還元段階

【３｝‘ま、シリル保護基を伴った又は伴わな
い段階■からのァダクトを、酢酸水溶液の存在下に、有
利には上に引用されたジョンソンらのとおりにつくられ
るアルミニウムアマルガムと、約０℃ないし約５００○
の温度範囲、好ましくは約２０ｏないし３ぴＣの範囲で
接触させることによって実施される。酢酸以外のカルボ
ン酸、例えばプロピオン酸、酪酸、及びくえん酸を使用
できる。鉱酸例えば塩酸もこの目的に有用である。アル
ミニウムアマルガム及び酢酸の量は臨界的ではないが、
但しアダクトのモル当量を還元するのに十分なモル当量
の各々を使用することを条件とする。しかし大過剰のア
ルミニウムアマルガムと酸、例えば酢酸を使用するのが
好ましい。水の量も臨界的ではないが、イオン化反応系
を提供するのに十分な量を使用する。またアルミニウム
アマルガムに関する以外は流動性のある実質的に均質な
反応濠合物を提供するのに十分な、水と混ざる不活性有
機液体希釈剤を使用する。段階■からのアダクトが段階
｛３｝を進める前に脱シリル化されない場合には、上記
の手順（段階２と３）でつくられる式×紅の９−メチレ
ン中間体、１１と１５の位置にまだシリル保護基をもつ
ことがある。 これらのシリル基は所望により、シリル化された中間体
Ｘ幻をくえん酸、燐酸、希水溶液、又は上記のようなそ
の他の適当な酸と混合することによって、中間体Ｘ幻か
らＸ刈（図０）への転化に進む前に容易に除去される。
この脱シリル化は必須ではない。というのは次段階すな
わち図ロの段階｛４｝が、図ロの段階‘５｝、（６’及
び｛７｝へ進む前にカルボキシ基と、カルボニル基が存
在すればこれを保護するためのシリル化だからである。
しかし中間体Ｘ皿へ進む前に中間体Ｘ幻を単離して精製
することが望まれる場合は、Ｘ幻を脱シリル型で単離し
精製するのが好ましい。再び図０を参照すると、中間体
Ｘ幻は図Ｄ‘こ示す４段階｛４ー、【５）、｛６｝及び
‘７によって中間体Ｘ皿へ転化される。 ＸＸからＸＭへの転化後にシリル基がすでに存在しない
場合には、シリルイ○没階‘小ま、図０の段階【１｝‘
こついて上述のとおりに実施される。 しかしこのシリル化には、好ましいシリル基はトリフェ
ニルシリル及びｔ−ブチルジメチルシリルである。図ロ
の段階■はハイドロボレィションと酸化の組合せであっ
て、Ｘ幻の９ーメチレン基を９−ヒドロキシメチル基（
一ＣＨ２０Ｈ）へ転化する。 ハイドロボレイション一酸化方法は、オレフイン二重結
合を加水するのにこの技術に知られている。例えばッバ
ィフェル（Ｚｗｅｊｆｅｌ）ら、「有機反応（仇鞍ｎｉ
ｃＲｅａｃｔｉｏｎｓ）」第１３巻第１章、ジョン・ゥ
ィリー・アンド・サンズ社、ニューヨーク（ｉ９６２王
）を参照。図Ｕの段階‘５’１こ特に適したハイドロボ
レィション試薬は、９一ＢＢＮとしても知られた９ーボ
ラビシクロ〔３・３・１〕ノナンである。ナイト（Ｋｎ
ｉｇｈｔ）ら、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓ比．９８篭５２
８０頁（１９総年）；同５２８１頁を参照。シリル化さ
れたＸＭのハイドロポレィション及びそのあとの酸化に
有用な手順は、この技術に述べられているとおり、例え
ば前掲ッバィフェルらとナイトらのものである。またブ
ラウン（Ｂｒｏ肌）ら、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．
９虎萱７７６５頁（１９７４年）を参照。図ロの段階肌
ま、段階■から生ずる第一級アルコール（９−ＣＨ２０
Ｈ）のスルホン酸ェステルの形成である。 この段階脚は、Ｒ５Ｓ０２×（式中Ｒ５とＸは上に定義
されたとおり）の範囲内のスルホニルハラィド類を使用
して、スルホン酸ェステルＸ肌（図１）の形成に対して
上に述べたとおりに実施される。しかし図□のこの段階
■に対してはメタンスルホニルクロラィドが特に好まし
く、その使用はメタンスルホン酸ェステルを生ずる。再
び図ロを参照すると、次の段階、即ち段階‘７ーは、前
の段階■でつくられるスルホン酸ェステルのシリル保護
基の除去則ち脱シリル化である。これは図川こ含まれる
始めの脱シリル化反応に対して上述されたとおりに、す
なわちスルホン酸ヱステルを適当な酸例えばくえん酸又
は燐酸水溶液、特にシリル基がトリフェニルシリルの時
には後者と接触させることによって達成される。最後に
図０でスルホン酸ェステル中間体Ｘ柳から環式エーテル
最終生成物ＸＸｍへの転化は、図１のスルホン酸中間体
ＸＷから環式エーテル最終生成物ＸＫへの転化に対して
上に述べたとおりに、すなわちＸ狐と塩基との反応によ
って実施される。 上述のように、Ｒ，が水素の場合の式×Ｋ又はＸＸｍの
環式エーテル最終生成物が上記の薬学目的の一つにとっ
て望まれる時は、Ｒ，が各々メチル又はエチルの場合の
式×Ｖ又はＸＸ反応体から出発して、図１又は０１こ従
って対応するメチル又はエチルェステルをつくり、最終
ェステルをこの技術に知られた手順によって遊離酸にけ
ん化するのが好ましい。 その代わりの選択は、アルカリ金属水酸化物、特に水酸
化ナトリウム又はカリウムによってスルホン酸ェステル
中間体メチル又はエチルヱステルＸ風又はＸ細を各々Ｘ
Ｋ又はＸＸｍへ転化することである。それによって環式
ェーブル基が形成され、メチル又はエチルェステル基が
単一反応宅史階中でけん化される。式Ｗ、Ｖ及び町の新
規環式エーテル類は、図ｍに示す方法によってつくられ
る。 図ｍで×、Ｙ、及びＺは上に定義されたとおりであり、
Ｒ．は水素又は１〜４個の炭素原子のアルキルであり、
Ｒ６は１〜４個の炭素原子のアルキルであり、またＥ‘
ます・ｏｃ。 ｃＨ３又は／（＼日 ○ＣＯＣＨ３である。 換言すれば図ｍの方法では、ある段階でアセテート反応
体を使用する図１又は０の方法により直接に式×ＸＮア
セテート反応体をつくるよりも、むしろ図１又はロのよ
うにつくられるＥがＨノリＨ又はげへり日の場合の式×
ＸＷ化合物から普通の方法でのアセチル化によって反応
体ＸＸＷをつくるのが好ましいこと以外は、後者図１又
は０で上述したとおりにつくられる環式エーテルのアル
キルヱステル１５−アセテ−トで出発する手順は実施可
能である。アセテート反応体ＸＸＷから望む生成物ＸＸ
Ｖへの転化は、水素添加と水添分解の組合せであり、Ｃ
−１３ Ｃ−１４表素−炭素二重結合は単結合に転化さ
れ、またＺがシス−ＣＨこＣＨ−の時にはこれが−ＣＱ
Ｃ日２一へ転化され、ＥはＨ／＼日へ転化される。 この転化は水素添加触媒「例えば通常の触媒形式のパラ
ジウム又は白金のどちらかの存在下に、また好ましくは
少量の錫酸例えば塩酸の存在下に水素添加によって実施
される。特定の反応条件、例えば温度、圧力、希釈剤、
及び反応時間はすべて当業者の範囲内にある。Ｒ，が１
〜４個の炭素原子のアルキルである場合の式×ＸＶ生成
物が望まれる時には、Ｒ６が同じァルキルの場合の式×
ＸＷ反応体を使うのが好ましい。 Ｒ，が水素の場合の式ＸＸＶ生成物が望まれる時には、
式×ＸＷ反応体がメチルェステル、すなわちＲ６がメチ
ルであること、及びＸＸＶメチルェステルが水素添加−
水添分解反応混合物から単離されずに、例えばろ過又は
遠心分離による水素添加触媒の除去後、反応混合物へ強
塩基例えば水酸化ナトリウム又はカリウムを加えること
によって、通常の方法でけん化されるのが好ましい。次
にけん化が終了してから、混合物を酸性にし、式×ＸＶ
生成物をこの技術に知られた手順によって単離する。上
記の薬学目的の一つに対して、式×Ｋ、Ｘｍ、又はＸＸ
Ｖ生成物のアルキルェステルすなわちＲ，が１〜４個の
炭素原子のアルキルの場合を望む時には、Ｒ，が望むア
ルキル基である場合の式×Ｖ、ＸＸ、又はＸＸＷ出発反
応体から出発し、上記のとおりに各方法順序の最後の段
階で塩基水溶液を避けることによってこのェステルがつ
くられる。 その代わりに望むアルキルェステルはＲ，が水素の場合
の式×Ｋ、ＸＸ皿又はＸＸＶ長終生成物から、この技術
に知られた手順によってつくられる。例えばこのェステ
ル化は遊離酸と適当なジアゾ炭化水素との相互作用によ
って容易に達成される。例えばジアゾメタンを使う時に
は、メチルェステルがつくられる。同様に例えばジアゾ
ヱタン、ジアゾプロパン、ジアゾブタン、を使用して、
それぞれエチル、プロピル、ブチル、ェステル類が得ら
れる。ジアゾ炭化水素類とのェステル化は、適当な不活
性溶媒、好ましくはジェチルェーテル中のジアゾ炭化水
素の溶液を、有利には同じ又は別の不活性希釈剤中の酸
反応体と混合することによって実施される。 ェステル化反応が終了してから、溶媒を蒸発によって除
去し、所望により慣用の方法、好ましくはクロマトグラ
フィによってェステルを精製する。望んでいない分子の
変化をさげるために酸反応体とジアゾ炭化水素との接触
を、望むェステル化を行なわせるのに必要な時間より長
くしない、好ましくは約１分ないし約１０分とすること
が好まれる。ジアゾ炭化水素類はこの技術に知られてい
るか、又はこの技術に知られた方法でつくることができ
る。例えば「有機反応トジョン・ウィリ−・アンド・サ
ンズ社、ニューヨーク、Ｎ．Ｙ．、第８巻３８９〜３９
４頁（１９５４王）を参照。式×Ｋ、ＸＸｍ、又はＸＸ
Ｖ化合物類の遊離酸型をェステル化する代わりの方法は
、遊離酸を対応する銀塩へ転化し、続いてこの塩と沃化
ァルキルとの相互作用からなる。適当な沃化物の例は沃
化メチル、沃化エチル、沃化ブチル、沃化イソブチル、
沃化第三プチル等である。銀塩は慣用の方法、例えば酸
を化学量論量より僅かに少ない量の冷希アンモニア水溶
液でゆっくりと中和し、次に化学量論量の硝酸銀を加え
ることによってつくられる。Ｒが薬学的に受入れられる
腸イオンの場合の式１、０、皿、Ｗ、Ｖ及びのの最終化
合物は、対応する遊離酸（Ｒが水素）から、この技術に
知られた種々の手順、例えば対応する無機又は有機塩基
の適当量での中和によってつくられる。 塩基の例は上に列挙した腸イオンおよびアミン類に相当
する。これらの転化は、この技術において無機すなわち
金属又はアンモニウム塩、アミン酸付加塩、及び第四級
アンモニウム塩の製造に一般に有用であることが知られ
ている種々の手順によって実施される。手順の選択は、
部分的にはつくろうとする個々の塩の溶解度特性に左右
される。無機塩の場合には、望む無機塩に対応する水酸
化物、炭酸塩、又は重炭酸塩の化学量論量を含有する水
中に、酸を溶解するのが普通には適している。例えば水
酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、又は重炭酸ナトリウ
ムをこのように使用すると、ナトリウム塩溶液を生ずる
。水の蒸発、又は中程度の極性の水と混ざる溶媒、例え
ば低級アルカノール又は低級ァルカノンの添加は、固体
無機塩を望むのであればこの型を生ずる。アミン塩をつ
くるには、式１〜Ｗの酸を中程度又は低い極性の適当な
溶媒中に溶解する。 前者の例はエタノール、アセトン、および酢酸エチルで
ある。後者の例はジェチルェーテルとベンゼンである。
次に望む陽イオンに対応するアミンの少なくとも化学量
論量をこの溶液に加える。生ずる塩が沈殿しない場合に
は、低檀性の混ざる希釈剤の添加又は蒸発によって、普
通には固体型で得られる。アミンが比較的揮発性の場合
には、任意の過剰量は蒸発によって容易に除去できる。
揮発性のより少ないアミン類の化学量論量を使用するの
が好ましい。陽イオンが第四級アンモニウムである場合
の塩類は、水溶液中の対応する水酸化第四級アンモニウ
ムの化学暴論量に式１〜Ｗの酸を混合し、続いて水を蒸
発することによってつくられる。 式×幻の９−デオキシ−９ーメチレン−ＰＧＥ型化合物
類は、新規な図ロの方法における中間体として有用であ
るほか、人間、犬、及び豚を含めた。 甫乳類の処置用の胃液分泌防止剤としても有用である。
この目的に特に有用なのは、Ｒ２とＲ３がメチルでＡが
日 ○日の場合、及びＲ２とＲ３が水素でＡがＣＨ３○
Ｈ又はＣＨ３０日の場合の式×紅の化合物類である。こ
れらの化合物類は、その他のプロスタグランジン様化合
物類に対してこの技術に説明されている胃液分泌に関す
る医学問題の処置に使用される。例えばドイツ公開特許
公報第２２１６７１７号を参照。この目的には、上記の
第２２１６７１７号でプロスタグランジン様の化合物類
に対して説明されているより幾分大きい投与量で、本発
明の式×紅化合物類が使われている。特に上記の好まし
い式×幻化合物類に対しては、第松１６７１７号に記載
の投与量の約２倍ないし約１０倍の範囲の投与量が使わ
れる。その他の式×幻の化合物類では、第松１６７１７
号に記載の投与量の約５〜約２ｑ音範囲の投与量が使用
される。本発明は以下の実施例によって更に十分に理解
できる。 赤外線吸収スペクトルは、未希釈（まぜもののない）試
料又は鍵油マルを使用して、パーキン・ェルマー・モデ
ル４２１赤外線スベクトロフオトメーター上で記録され
ている。ＮＭＲスペクトルは、テトラメチルシランを内
部標準としてデューテロクロロホルム溶液中でバリァン
Ａ−６船スベクトロフオトメーター上に記録されている
。質量スペクトルは、ＴＯ−４光源（イオン化電圧７氏
ｖ）を使用してアトラスＣＨ−４質量スベクトロメータ
ー上に記録されている。参考例 １ １１ーデオキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチル−ＰＧＥ，
（式×Ｗ：Ｒ，、Ｒ２、Ｒ３＝Ｈ；Ａ＝日 ＯＨ；Ｚ＝
−Ｃ比ＣＨ２−）メタノール９００地中のＰＧＡ，３．
３６夕とペンゾフヱノン３００の９の溶液を、レィオネ
ット型ＲＳ調製用光化学反応器中で、３５００△の光線
を使用して照射し、２８ｏ 〜３〆Ｃの範囲に冷却しな
がら、かきまぜ、ガス分散管を通して反応器底部へ導入
される窒素流により酸素を排除する。 ２．５時間の反応期間後、追加のペンゾフェノン３００
の９を加える。 次に更に各１時間の２回の反応期間の各々の後に追加の
ペンゾフェノン３００の９を加える。１時間後、反応混
合物の一部をＡ−Ｋ溶媒系（ハンバーグ（舷ｍ戊ｒｇ）
ら、Ｊ．Ｂｉｏｌ．Ｃｈｅｍ．２４１巻２５７頁（１９
６６年））によって薄層クロマトグラフィ分析にかける
と、反応混合物がＰＧＡ，反応体の検出できる量を含ん
でいないことが示される。 次に過剰のメタノールを減圧下に蒸発させ、残留物を、
酢酸エチル２３容量％を含有するスケリソルブＢ（異性
体へキサン類混合物）と共に詰めたシリカゲルカラム（
マリンクロツトＣＣ−４、７００夕）上でクロマトグラ
フイ処理し、カラムを酢酸エチルースケリソルブＢ（１
：１容量）１０そ、酢酸エチルースケリソルブＢ（３：
１容量）１０夕、及び酢酸エチル１０そで次々に溶離し
、４５０の‘ずつのフラクションを集める。フラクショ
ン４６〜弘を一緒にし、減圧下に蒸発させると、望む１
１−デオキシ−１１Ｑ−ヒ．ドロキシメチルーＰＧＥ，
１．１０夕を生ずる。赤外線吸収は３３４０、２６５０
、１７３０、１４６０、１４００、１３７５、１２５止
１１６０１０５０、及び９７２仇‐１、ＮＭ旧のピー
クは５．７〜５．４（マルチプレツト）、４．７５〜４
．３（マルチプレット）、４．２５〜３．９０（マルチ
プレツト）及び３．７５〜３５（マルチプレツト）６。
初期のクロマトグラフィフラクションは、対応する１１
８異性体の少量と混合した望む生成物の追加量を含有す
る。初めのフラクションから、酢酸エチルとスケリソル
ブＢの適当な勾配を使用する、上記のようなクロマトグ
ラフィ手順を更に行なって、追加量の望む生成物が得ら
れる。参考例 ２ １１−デオキシ−１１Ｑ−ヒドロキシ−ＰＧＥ２（Ｘ／
へ、Ｗ：Ｒ，、Ｒ２、Ｒ３ニＨ；Ａ＝日 。 Ｈ；Ｚニシス−ＣＨニＣＨ一）メタノール１０００地中
のＰＧＡ２１０．００夕とペンゾフェノン５．４０夕の
溶液を、レィノット型ＲＳ調製用光化学反応器中で、参
考例１のとおりに冷却、かきまぜ、及び窒素の雰囲気で
３５００△の光線を使用して照射する。 ５時間の照射時間後、過剰のメタノールを減圧下に蒸発
させる。 生ずる残留物を酢酸エチルースケリソルブＢ（１：３容
量比）と共に詰めたシリカゲルカラム（マリンクロツト
ＣＣ一４、１５００夕）上でクロマトグラフィにかけ、
酢酸エチルースケリソルブＢ（１：１容量比）１０そ、
１：１容量比で始まり４：１容量比で終る勾配の酢酸エ
チルースケリソルブＢＩＯ夕、４：１容量比で始まり純
粋な酢酸エチルで終る勾配の酢酸エチルースケリソルブ
ＢＩＯそ、及び純粋な酢酸エチル１０そで次々に熔離し
、３５物上ずつのフラクションを集める。フラクション
５７〜７９を一緒にして減圧下に蒸発させると、望む１
１−デオキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチル−ＰＧＥ２１
．３７夕を生ずる。赤外線吸収は３４００、２６５０、
１７２５、１４５５、１４０５、１３７ｉ １２３５、
１１６Ｑ ＩＩＯふ １０５５、１０２０、及び９７０
肌‐１。ＮＭ旧のピークは５．７４〜５．１０（マルチ
ブレツト）、５．３５（広域シングレット）、４．３５
〜３．９５（マルチプレット）、及び３．９０〜３．５
０（広域シングレット）６。初期のクロマトグラフイ・
フラクション４８〜５６は、対応する１１８異性体の少
量を混合した望む生成物の追加量を含有する。望む１１
Ｑ生成物の追加量は減圧下でのこれら初期フラクション
４８〜５６の蒸発によって得られる残留物６．８２夕の
再クロマトグラフィによって得られる。この第二のクロ
マトグラフイには上記の手順が使用され（ＣＣ−４シリ
カ１．３ｋｇ）、フラクシヨン７６〜８５を一緒にして
減圧下に蒸発させると、１１−デオキシ−１１はーヒド
ロキシメチル−ＰＧＥ２の追加３．６３夕を生ずる。参
考例 ３ １１−デオキシー１１Ｑーヒドロキシメチル−ＰＧＥ，
メチルエステルメタノール２０協‘中の１１−デオキシ
−１１Ｑ−ヒドロキシメチルーＰＧＥ，（１．３５夕、
１１８一異性体１５％を含有）の溶液に、ジアゾメタン
の冷し、（０℃）ジェチルェーテル溶液（Ｎ−メチル−
Ｎ−ニトロ−Ｎ−ニトロソーグアニジン２．６夕からつ
くる）を０℃で加える。 ０℃で５分後、酢酸を加えて過剰のジアゾメタンと反応
させ、全反応混合物を減圧下に蒸発させる。 残留物をジェチルェーナルに溶解し、溶液を重炭酸ナト
リウム水溶液及び塩水（塩化ナトリウム飽和水溶液）で
次々に洗い、次いで減圧下に蒸発させる。残留物を酉乍
酸エチルと一緒にカラムに詰めて又酢酸エチルで溶離す
る、中性シリカ（ィー・メルク）１７０タ上でクロマト
グラフイにかけ、１７地のフラクションを集める。フラ
クション４８〜１１０を一緒にして蒸発させると、１１
−デオキシ−１１Ｑ−ヒドロキシメチル−ＰＯＥ，メチ
ルェステル７６８ｍｇを生ずる。薄層クロマトグラフィ
（ｔｉｃ）によれば均質であり、酢酸エチル中でＲｆ値
０．１６。この材料をすり砕いた上で結晶化させ、酢酸
エチルとへキサンの混合物から再結晶させると、同じメ
チルェステル５４０奴９を生ずる。融点４７．８〜４８
．３ｑ○。赤外線吸収は３４００、１７３ふ １２９０
、１２２０、１１９０、１１７０、１０７５、１０２５
、及び９８０伽‐１。ＮＭＲのピークは５．７５〜５．
４５（マルチプレツト）、４．３〜３．９（マルチプレ
ツト）、３．６７（シングレット）及び２．４５（シン
グレツト）６。参考例 ４１１ーヂーオキシー１１Ｑー
ヒドロキシメチル−ＰＧＥ２メチルエステル参考例３の
手順に従うが、１１−デオキシ−１１Ｑ−ヒドロキシメ
チルーＰＧＥ２（少量部の１１３異性体を含有）を過剰
のジアゾメタンで処理し、生成物（１．２夕）を酢酸エ
チルースケリソルブＢ（９：１容量比）と共に詰めた中
性シリカ（ィー・メルク）２００タ上でクロマトグラフ
イにかけ、酢酸エチルースケリソルブＢ（９：１容量比
）１そ及び酢酸エチル３そで次々に溶離し、５０の‘フ
ラクションを集める。 フラクション１１１〜１４０を一緒にし、蒸発させると
、１１−デオキシー１１ＱーヒドロキシメチルーＰＧＥ
２メチルエステル聡０のｏを生ずる。ＴＬＣで均一であ
る。赤外線吸収は３４８０、１７４５、１７２５（ｓｈ
）、１４４０、１３７５、１１６０、１０６０及び９７
６狐‐１。ＮＭ庇のピークは５８〜５．５６（マルチプ
レツト）、５．５６〜５．２５（マルチブレツト）、４
．３〜３．８５（マルチプレツト）、３．服（シングレ
ツト）、及び２．６０（シングレツト）８。参考例 ５ １１ーデオキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチルーＰＧＥ，
メチルエステル参考例１の手順に従うが、ＰＧＡ，の代
わりにＰＧＡ，メチルェステルを使用して、１１ーデオ
キシ−１１Ｑ−ヒドロキシーメチル−ＰＧＥ，メチルエ
ステルが得られる。 参考例３の生成物と実質的に同じ物性である。参考例
６ １１ーデオキシ−１１Ｑ−ヒドロキシメチルーＰＣＥ２
メチルエステル参考例２の手順に従うが、ＰＧんの代わ
りにＰＧＡ２メチルェステルを使用して、１１−デオキ
シー１１Ｑーヒドロキシメチル−ＰＧＥ２メチルエステ
ルが得られる。 参考例４の生成物と実質的に同じ物理性状である。参考
例 ７ １１−デオキシ−１１Ｑ−ヒドロキシメチルー１５８−
ＰＧＥ，参考例１及び２の手順に従うが、ＰＧＡ，及び
ＰＧＡ２の代わりに１５８一ＰＧＡ，を使用して、１１
−デオキシ−１１Ｑ−ヒドロキシメチル−１５３−ＰＧ
Ｅ，が得られる。 参考例 ８ １１−デオキシー１１Ｑーヒドロキシメチル−１５３一
ＰＧＥ，メチルエステル参考例３の手順に従うが、１１
ーデオキシ−１１Ｑーヒドロキシメチル−ＰＣＥ，の代
わりに１１ーデオキシ−１１Ｑ−ヒドロキシメチルー１
５８−ＰＧＥ，を使用して、１１ーデオキシー１１Ｑ−
ヒドロキシメチルー１５８一ＰＧＥ，メチルェステルが
得られる。 また参考例１及び２の手順に従うが、ＰＧＡ，及びＰＧ
Ａ２の代わりに１５８一ＰＧＡ，メチルェステルを使用
して、実質的に同じ物理性状をもつ１１−デオキシー１
１Ｑーヒドロキシメチル−１５８一ＰＧＥ，メチルェス
テルが得られる。参考例 ９ １１ーデオキシー１１Ｑーヒドロキシメチルー１５８一
ＰＧＥ２参考例１及び２の手順に従うが、ＰＧＡ，及び
ＰＧＡ２の代わりに１５８×ＰＧＡ２を使用して、１１
ーデオキシ−１１Ｑーヒドロキシメチル−１５３一ＰＧ
Ｅ２が得られる。 参考例 １０ １１−デオキシー１１ｏーヒドロキシメチルー１５６一
ＰＧＥ２メチルエステル参考例３の手順に従うが、１１
−デオキシー１１ＱーヒドロキシメチルーＰＧＥ，の代
わりに、１１ーデオキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチル−
１５３−ＰＧＥ２を使用して、１１−デオキシ−１１Ｑ
−ヒドロキシメチルー１５８一ＰＧＥ２メチルェステル
が得られる。 また実施例１及び２の手順に従うが、ＰＧＡ，及びＰＧ
Ａ２の代わりに１５８−ＰＧＡ２メチルェステルを使用
して、実質的に同じ物理性状をもつ１１−デオキシ−１
１０−ヒドロキシメチル−１５８−ＰＧＥ２メチルヱス
テルが得られる。参考例 １１ １１−デ十オキシ−１１Ｑ−ヒドロキシメチル−ＰＧＥ
２メチルエステル１５−アセテートメタノール１０００
の‘中のＰＧＡ２メチルェステル１５ーアセテート１０
．００夕とペンゾフヱノン５．００２の溶液を、レィオ
ネット型ＲＳ調製用光化学反応器内で、参考例１及び２
の手順に従って冷却しながら３５００Ａの光線を使用し
て４時間照射する。 次に過剰のメタノールを減圧下に蒸発させ、残留物を、
ＰＧＡ２メチルェステル１５ーアセテートの前と同様で
あるが小規模の照射から得られる残留物８３７の９と一
緒にする。一緒にした残留物を酢酸エチルースケ１」ソ
ルブＢ（３：７容量比）と共に詰めた中性シリカ１．５
ｋ９上でクロマトグラフィにかけ、酢酸エチルースケリ
ソルブＢ（３：７容量比）４ぞ、酢酸エチルースケリソ
ルブＢ（４：６容量比）２８〆及び酢酸エチルースケリ
ソルブＢ（８：２容量比）２そで次々に溶離し、１５０
の‘ずつのフラクションを集める。フラクション９５〜
１２５を一緒にし、減圧下に蒸発させると、１１ーデオ
キシー１１０ーヒドロキシメチル−ＰＧＥ２メチルエス
テル１５−アセテート４．３５夕を生ずる。赤外線吸収
‘ま３５００・１７４５、１７３５（Ｓｈ）、１３６０
、１１２３０、１１６０、１０２０、９７０、及び８９
５仇‐１。ＮＭ町のピークは５．７５〜５．００（マル
チプレツト）、３．６５（シングレツト）、２．８０（
シングレツト）及び２．０２（シングレツト）６。参考
例 １２ １１ーデオキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチルー１５８−
ＰＧＥ２メチルエステル１５−アセテート参考例１１の
手順に従うが、ＰＧＡ２メチルェステル１５ーアセテー
トの代わりに１５８−ＰＧＡ２メチルェステル１５−ア
セテートを使用して、１１−デオキシー１１Ｑーヒドロ
キシメチル−１５８一ＰＧＥ２メチルェステル１５ーア
セテートが得られる。 参考例 １３ １１−デオキシー１１ｏーヒド０キシメチル−１６・１
６ージメチルーＰＧＥ２及びそのメチルェステル参考例
１及び２の手順に従うが、ＰＧＡ，及びＰＧＡ２の代わ
りに１６・ｉ６−ジメチル−ＰＧＡ２を使用して、１１
−デオキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチルｍ１６・１６−
ジメチル−ＰＧＥ２が得られる。 また参考例３の手順に従うが、１１−デオキシ−１１Ｑ
ーヒドロキシメチル−ＰＧＥ，の代わりに１１−デオキ
シー１１Ｑ−ヒドロキシメチル−１６・１６−ジメチル
−ＰＧＥ２を使用して、１１−デオキシ−１１Ｑ−ヒド
ロキシメチル−１６・１６−ジメチル−ＰＧＥ２メチル
エステルが得られる。参考例１及び２の手順に従うが、
ＰＧＡ，及びＰＧＡ２の代わり１こ１６・１６−ジメチ
ルーＰＧＡ２メチルェステルを使用して、参考的に同じ
物理性状をもつ同じメチルェステルが得られる。参考例
１４ １１ーデオキシ−１１Ｑーヒドロキシメチル−１５Ｑー
メチルーＰＧＥ２及びそのメチルェステル参考例１及び
２の手順に従うが、ＰＧＡ，及びＰＧＡ２の代わりに１
５ＱーメチルーＰＧＡ２を使用して、１１−デオキシー
１１Ｑ−ヒドロキシメチルー１５Ｑ−メチル−ＰＧＥ２
が得られる。 また参考例３の手順に従うが、１１ーデオキシ−１１Ｑ
−ヒドロキシメチルーＦＯＥ，の代わりに１１ｎデオキ
シー１１Ｑ−ヒドロキシメチルー１５Ｑーメチル−ＰＧ
Ｅ２を使用して、１１ーデオキシ−１１Ｑーヒドロキシ
メチルー１５Ｑ−メチル一ＰＧＥ２メチルェステルが得
られる。参考例１及び２の手順に従うが、ＰＧＡ．及び
ＰＧＡ２の代わりに１５ＱーメチルーＰＧＡ２メチルェ
ステルを使用して、実質的に同じ物理性状をもつ同じメ
チルェステルが得られる。また参考例１及び２の手順に
従って、１５ＱーェチルーＰＧＡ，、１５はーエチルー
ＰＧＡ２、１５８ーメチルーＰＧＡ，、１５８−メチル
一ＰＧＡ２、１５８一１６・１６ージメチルーＰＧＡ，
、１５８一１６１１６−ジメチルーＰＧＡ２、１６ーメ
チルーＰＧＡ，、１６ー メ チル−ＰＧＡ２、１５８
一１６ーメチルーＰＧＡ２、及びそれらの各々のメチル
ェステルは、１１−デオキシ−１１Ｑ−ヒドロキシメチ
ル−１５ＱーエチルーＰＧＥ，、１１−デオキシ−１１
Ｑーヒドロキシメチル−１５Ｑ−エチル一ＰＧＥ２、１
１ーデオキシー１１Ｑーヒドロキシメチル−１５８−メ
チル一ＰＧＥ，、１１−デオキシー１１Ｑーヒドロキシ
メチル−１５８−メチル−ＰＧＥ２、１１−デオキシ−
１１Ｑーヒドロキシメチル−１５８一１６．１６−ジメ
チルーＰＧＥ，、１１−デオキシ−１１Ｑーヒドロキシ
メチルー１５８−１６・１６−ジメチル−ＰＧＥ２、１
１−デ、オキシ−１１Ｑ−ヒドロキシメチルー１６ーメ
チルーＰＧＥ，、１１ーデオキシ−１１Ｑ−ヒドロキシ
メチルー１６−メチル−ＰＧＥ２、１１−デオキシー１
１Ｑ−ヒドロキシメチル−１５８−１６−メチル−ＰＧ
Ｅ２、及びそれらの各々のメチルェステルに転化される
。 更に参考例１と２の手順に従うが、ＰＧＡ，及びＰＧＡ
２の代わりにそれぞれＰＧＡ，エチルェステル、プロピ
ルエステル、イソプロピルエステル、ブチルェステル、
ィソブチルェステル、第一ブチルェステル、及び第三ブ
チルェステルを使用して、１１−デオキシー１１Ｑ−ヒ
ドロキシメチルーＰＧＥ，エチルエステル、フ。 ロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエステ
ル、イソブチルエステル、第二ブチルェステル、及び第
三ブチルェステルがつくられる。また参考例１と２の手
順に従って、対応するＰＧＡ２、１６・１６ージメチル
ーＰＧＡ２、及び１５ＱーメチルーＰＧんのアルキルヱ
ステル類の各々を使用して、１１ーデオキシー１１Ｑ−
ヒドロキシメチルーＰＧＥ２、１１ーデオキシー１１Ｑ
−ヒドロキシメチル−１６・１６−ジメチル−ＰＧＥ２
及び１１ーデーオキシ−１１Ｑーヒドロキシメチル−１
５Ｑ−メチル−ＰＧＥ２のアルキル部分に２、３、及び
４個の炭素原子をもつアルキルェステル類の各々がつく
られる。更に実施例１と２の手順に従って、上記のその
他のＰＧＡ，一型及びＢＯＡ２型化合物類の各々のアル
キル部分に２、３及び４個の炭素原子をもつアルキルェ
ステル類の各々がつくられる。参考例 １５１１ーデオ
キシー１１Ｑ−ヒド。 キシメチルーＰＧＦ，Ｑ（式×肌：Ｒ，、Ｒ２、Ｒ３＝
Ｈ；Ａ＝＃ ＯＨ；Ｚ＝−ＣＱＣ日２一）テトラヒドロ
フラン２００叫中の１１ーデオキシー１１Ｑーヒドロキ
シメチル−ＰＧＥ，４００の３の溶液を、ジグラィム中
の０．磯リチウムパーハィドロ一助−ポラフェナリルハ
ィドラィドのかきまぜた溶液２０の‘に約一７８ｑＣで
１び分間に徐々に添加する。 生ずる混合物を−７８ｑｏで３時間かきまぜ、３０分間
に２０℃まで暖まるようにする。次に混合物に水（３の
上、徐々に添加）、ＩＮ塩酸１５地、及び水３０物上を
次々に加える。生ずる混合物を酢酸エチルで数回抽出し
、一緒にした酢酸エチル抽出液を０．９Ｍ炭酸ナトリウ
ム水溶液で３回抽出する。一緒にした水性抽出液を酢酸
エチルで１回洗い、２Ｎ重硫酸カリウム水溶液で酸性に
し、次に酢酸エチルで数回抽出する。一緒にした酢酸エ
チル抽出液を塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
、減圧下に蒸発させる。残留物１．０４夕をシリカ（マ
リンクロット、ＣＣ−４）５０タ上でクロマトグラフイ
処理する。カラムは酢酸エチルーヘキサン（６：４容量
比）と一緒に詰められており、酢酸エチル−へキサン（
６：４容量比）１〆及び酢酸エチルーヘキサン（６：４
容量比）１どの勾配、及び酢酸エチル１そで次々に溶離
し、１５私ずつのフラクションを集める。フラクション
】６４〜２５０を一緒にし、減圧下に蒸発させると、１
１ーデオキシー１１Ｑーヒドロキシメチル−ＰＧＦ，Ｑ
Ｏ．３７５夕を生じる。これをすり砕いて結晶化させ、
酢酸エチルとへキサンの混合物から３回再結晶させる。
融点７３〜７４ｏｏ。赤外線吸収は３４３０、３２３０
、２７００、１７００、１３０５、１２８０ １２４ｕ
１２０以 １０２ふ１０００ 擬ふ及び９６＆スー１
０参考例 １６ １１ーデオキシー１１ＱーヒドロキシメチルーＰＧＡ，
Ｑメチルエステルテトラヒドロフラン２０の‘中の１１
−デオキシ−１１Ｑーヒドロキシメチル−ＰＧＥ．メチ
ルエステル０．４９０夕の溶液にリチウムトリ−（ｔー
ブトキシ）ーアルミニウムハィドラィド１．３夕を徐々
に加える。 混合物を約２５ｑＣで１錨時間かきまぜる。次に混合物
を減圧下に蒸発させ、水及びジェチルヱーテルの両方を
残留物に加える。この混合物を洲重硫酸カリウム水溶液
で酸性にし、ジェチルェーテルで数回抽出する。一緒に
した抽出液を重硫酸ナトリウム水溶液及び水で次々に洗
い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に蒸発させる
。残留物０．５１０夕をカラムにアセトンージクロロメ
タン（１：９容量比）で詰めた中性シリカ５０タ上でク
ロマトグラフイにかけ、アセトンージクロロメタン（３
：７容量比）２５０地、ァセトンージクロロメタン（３
５：６受容量比）２５０叫、及びアセトンージクロロメ
タン（１：１容量比）１．５そで次々に溶離し、１５叫
ずつのフラクションを集める。フラクション斑〜４８を
ＴＬＣでの均一性（アセトンージクロロメタン４：６、
Ｒｆ値０．３９）に基づいて一緒にし蒸発させると１１
−デオキシ−１１ＱーヒドロキシメチルーＰＧＦ，Ｑメ
チルエステル０．１５０夕を生ずる。ＮＭＲのピークは
５．５６〜５．３５（マルチプレツト）、４．２５〜３
．９０（マルチプレツト）、３．６７（シングレツト）
、３．６５〜３．４５（マルチプレツト）及び３．４０
（シングレット）８。参考例 １７１１ーデオキシー１
１Ｑ−ヒドロキシメチルーＰＧＦ２Ｑ（式×肌：Ｒ，、
Ｒ２、Ｒ３＝Ｈ；Ａ＝ Ｈ／、、。 日；ＺニシスーＣＨニＣＨ−）テトラヒドロフラン５０
奴中の１１−デオキシ−１１ＱーヒドロキシメチルーＰ
ＧＥ２１．１３夕の溶液を、約一７８００でジグライム
中のりチウムパーハイドロー功−ポラフエナリルハイド
ライドのかきまぜた０．８Ｍ溶液２５の‘に１０分間に
わたって徐々に加える。生ずる混合物を−７８℃で２時
間かきまぜ、次に６０分にわたって２０まで暖まるよう
にする。次に混合物に水（３の‘、徐々に添加）、２Ｎ
重硫酸カリウム水溶液１５の‘及び水３００の‘を次々
に加える。生ずる混合物を酢酸エチルで数回抽出し、一
緒にした酢酸エチル抽出液を水で１回洗い、次に０．９
Ｍ炭酸ナトリウム水溶液５０の

【ずつで３回抽出する。
一緒にした水性抽出液を酢酸エチルで１回洗い、が重硫
酸カリウム溶液で酸性にし、酢酸エチルで数回抽出する
。一緒にした酢酸エチル抽出液を塩水で洗い、無水硫酸
ナトリウム上で乾燥し、減圧下に蒸発させる。残留物１
．２夕を同じ規模の別個の反応からの対応する残留物と
一緒にし、これ（２．４６夕）をシリカ（マＩＪンクロ
ツツＣＣ一４）２００多上でクロマトグラフイにかける
。カラムは酢酸エチルースケリソルブ８（６：４容量比
）で詰められており、酢酸エチルースケリソルブＢ（８
：２容量比）１〆、酢酸エチルースケ１」ソルブＢ（９
：１容量比）１ぐ、及び酢酸エチル１そで次々に藩離し
、２３叫ずつのフラクションを集める。フラクション３
５〜４７を一緒にして減圧下に蒸発させると、１１ーデ
オキシ山１１ＱーヒドロキシメチルーＰＧＦ２ＱＩ．１
４夕を生ずる。これを放置して結晶化させ、酢酸エチル
及びへキサンの混合物から再結晶させる。融点６４〜６
５ｑｏ。赤外線吸収は３２２０、２７２０、２鞠０、１
７１５、１３２５、１２７０、１２００、１０２ふ ９
９０、９６５、及び９４０肌‐１。ＮＭＲのピークは５
．７５〜５．０５（マルチプレツト）、４．３〜３．８
５（マルチプレット）及び３．８〜３．３（マルチプレ
ツト）６。参考例 １８ １１ーデオキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチル−ＰＧＦ２
はメチルエステルジエチルエーテル中の１１−デオキシ
ー１１Ｑーヒドロキシメチル−ＰＧＦ２Ｑ３００のｏの
溶液を、ジェチルェーテル中のジアゾメタンのモル過剰
の溶液と０℃で約５分間混合する。 次に反応混合物を減圧下に蒸発させ、残留物を酢酸エチ
ルーヘキサン（６：４容量比）で詰めた中性シリカ８０
タ上でクロマトグラフィにかけ、酢酸エチルーヘキサン
（６：４容量比）５００の‘、酢酸エチルーヘキサン（
７：３容量比）５００の【、及び酢酸エチルーヘキサン
（８：２容量比）２そで次々に溶離し、１０のとのフラ
クションを集める。フラクショソ１２０〜１９０を一緒
にして減圧下に蒸発させると、１１ーデオキシ−１１Ｑ
−ヒドロキシメチルーＦＧＦ２Ｑメチルエステル２０９
の２を生ずる。酢酸エチル及びへキサンの混合物から結
晶化する。融点４７〜５１００。赤外線吸収３２４０、
１７４い１６７０、１４４０、１２４ふ１１９ふ１１７
５、１０２ふ １０１０、９９０、及び９６＆ネ‐１。
ＮＭ町のピークは５．７０〜５２５（マルチプレツト）
、４．２６〜３９０（マルチブレット）、３．斑（シン
グレツト）及び２．７０（シングレツト）８。参考例
１９ １１−テ十オキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチル−ＰＧＦ
，Ｑメチルエステル参考例１８の手順に従って、１１ー
デオキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチル−ＰＧＦ，Ｑは１
１ーデオキシー１１ＱーヒドロキシメチルーＰＧＦ，Ｑ
メチルエステルに転化される。 参考例１６の生成物と実質的に同じ物理性状である。参
考例 ２０ １１ーデオキシー１１ＱーヒドロキシメチルーＰＧＦ２
Ｑメチルエステル参考例１６の手順に従うが、１１ーデ
オキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチルーＰＧＥ，メチルェ
ステルの代わりに１１ーデオキシー１１Ｑ−ヒドロキシ
メチル−ＰＧＥ２メチルエステルを使用して、１１−デ
オキシー１１ＱーヒドロキシメチルーＰＧＦ２Ｑメチル
エステルが得られる。 参考例１８の生成物と実質的に同じ物理性状である。参
考例 ２１ １１ーデオキシー１１Ｑーヒドロキシメチル−１５８一
ＰＧＦ，Ｑ参考例１５と１７の手順に従うが、参考例１
５と１７の反応体の代わりもこ１１ーデオキシー１１Ｑ
−ヒドロキシメチル−１５３−ＰＧＥ，を使用して、１
１ーデオキシー１１Ｑーヒドロキシメチルー１５８−Ｐ
ＧＦ，Ｑが得られる。 参考例 ２２ １１−デオキシ−１１Ｑーヒドロキシメチル−１５８一
ＰＧＦ，Ｑメチルヱステル参考例１８の手順に従うが、
参考例１８の反応体の代わりに１１−デオキシ−１１Ｑ
ーヒドロキシメチル−１５８−ＰＧＦ，Ｑを使用して、
１１ーデオキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチルー１５８−
ＰＧＦ，Ｑメチルエステルが得られる。 また参考例１６の手順に従うが、参考例１６の反応体の
代わりに１１−デオキシ−１１Ｑ−ヒドロキシメチルー
１５３一ＰＧＥ．メチルエステルを使用して、実質的に
同じ物理性状の１１−デオキシー１１ｏーヒドロキシメ
チル−１５３−ＰＧＦ，Ｑメチルェステルが得られる。
参考例 ２３ １１ーデオキシ−１１Ｑーヒドロキシメチルー１５８−
ＰＧＦ２Ｑ参考例１５と１７の手順に従うが、参考例１
５と１７の反応体の代わりに１１−デオキシー１１Ｑー
ヒドロキシメチルー１５８一ＰＧＥ２を使用して、１１
ーデオキシ−１１Ｑーヒドロキシメチルー１５８一ＰＧ
Ｆ２Ｑが得られる。 参考例 ２４ １１ーデオキシー１１Ｑーヒドロキシメチルー１５８一
ＰＧＦ２Ｑメチルエステル参考例１８の手順に従うが、
参考例１８の反応体の代わりに１１−デオキシ−１１Ｑ
ーヒドロキシメチル−１５８一ＰＧＦ２Ｑを使用して、
１１ーデオキシー１１Ｑーヒドロキシメチルー１５８一
ＰＧＦ２Ｑメチルエステルが得られる。 また参考例１６の手順に従うが、参考例１６の反応体の
代わりに１１−デオキシ−１１Ｑーヒドロキシメチル−
１５３一ＰＧＥ２メチルエステルを使用して、実質的に
同じ物理性状をもつ１１−デオキシー１１Ｑーヒドロキ
シメチルー１５８一ＰＧＦ２Ｑメチルェステルが得られ
る。参考例 ２５ １１−デオキシ−１１ＱーヒドロキシメチルーＰＧＦ２
Ｑメチルエステル１５ーアセテート参考例１６の手順に
従うが、参考例１６の反応体の代わりに１１−デオキシ
−１１Ｑーヒドロキシメチル−ＰＯＥ２メチルェステル
１５ーアセテートを使用して、１１−デオキシ−１１Ｑ
ーヒドロキシメチルーＰＧＦ２Ｑメチルェステル１５−
アセテートが得られる。 参考例 ２６ １１−デオキシ−１１Ｑ−ヒドロキシメチル−１５３−
ＰＧＦ２Ｑメチルエステル１５ーアセテート参考例１６
の手順に従うが、参考例１６の反応体の代わりにｉｌー
デオキシ−１１はーヒドロキシメチル−１５８一ＰＧＥ
２メチルエステル１５ーアセテートを使用して、１１−
デオキシ−１１Ｑーヒドロキシメチル−１５８一ＰＧＦ
２Ｑメチルエステル１５ーアセテートが得られる。 参考例 ２７ １１ーデオキシー１１Ｑーヒドロキシメチルー１６・１
６ージメチルーＰＧＦ２Ｑ及びそのメチルェステ′レ参
考例１５と１７の手順に従うが、参考例１５と１７の反
応体の代わりに１１−デオキシ−１１はーヒド。 キシメチル−１６・１６ージメチルーＰＧＥ２を使用し
て、１１−デ′オキシー１１はーヒドロキシメチル−１
６・１６ージメチルーＰＧＦ２Ｑが得られる。また参考
例１８の手順に従うが、参考例１８の反応体の代わりに
１１−デオキシ−１１Ｑーヒドロキシメチルー１６・１
６ージメチルーＰＧＦ２Ｑを使用して、１１−デオキシ
−１１Ｑ−ヒドロキシメチル−１６・１６−ジメチルー
ＰＧＦ２Ｑメチルェステルが得られる。参考例１６の手
順に従うが、参考例１６の反応体の代わりに１１ーデオ
キシー１１Ｑーヒドロキシメチルー１６・１６ージメチ
ル−ＰＧＥ２メチルヱステルを使用して、実質的に同じ
物理性状をもつ同じメチルェステルが得られる。参考例
２８ １１−デオキシー１１Ｑーヒドロキシメチルー１５Ｑー
メチルーＰＧＦ２Ｑ及びそのメチルェステル参考例１５
と１７の手順に従うが、参考例１５と１７の反応体の代
わりに１１−デオキシ−１１Ｑ−ヒドロキシメチル−１
５ＱーメチルーＰＧＥ２を使用して、１１ーデオキシー
１１Ｑーヒドロキシメチルー】５ｏーメチル−ＰＧＦ２
Ｑが得られる。 また参考例１８の手順に従うが、参考例１８の反応体の
代わりに１１−デオキシー１１Ｑーヒドロキシメチルー
１５Ｑ−メチル一ＰＧＦ２のを使用して、１１−デオキ
シー１１Ｑーヒドロキシメチルー１５ＱーメチルーＰＧ
Ｆ２ぴメチルエステルが得られる。参考例１６の手順に
従うが、参考例１６の反応体の代わりに１１ーデオキシ
−１１Ｑ−ヒドロキシメチル−１５Ｑーメチル−ＰＧＥ
２メチルェステルを使用して、実質的に同じ物理性状を
もつ同じメチルヱステルが得られる。また参考例１５１
０及び１７の手順に従って、１１ーデオキシ−１１Ｑ−
ヒドロキシメチル−１５Ｑ−エチル一ＰＧＥ．、１１ー
デオキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチル−１５Ｑーエチル
ーＰＧＥ２、１１ーデオキシ−１１Ｑーヒドロキシメチ
ル−１５８ーメチルーＰＧＥ，、１１−デオキシ−１１
Ｑ−ヒドロキシメチルー１５８ーメチルーＰＧＥ２、１
１ーデオキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチルー１５８−１
６・１６ージメチルーＰＧＥ，、１１−デオキシ−１１
Ｑ−ヒドロキシメチル−１５８−１６・１６ージメチル
−ＰＧＥ２、１１ーデオキシー１１Ｑーヒドロキシメチ
ル−１６ーメチルーＰＧＥ，、１１ーデオキシー１１Ｑ
−ヒドロキシメチル−１６ーメチル−ＰＧＥ２、１１−
テーオキシ−１１Ｑーヒドロキシメチル−１５８一１６
ーメチルーＰＧＥ２、及びそれらの各々のメチルェステ
ルは、１１ーデオキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチルー１
５ＱーエチルーＰＧＦ，Ｑ、１１ーデオキシー１１Ｑー
ヒドロキシメチ′レー１５Ｑーエチ′レーＰＧＦ２Ｑ、
１１ーデトオキシー１１ｏーヒドロキシメチル−１５３
−メチル一ＰＧＦ，Ｑ、１１ーデオキシ−１１Ｑーヒド
ロキシメチル−１５８ーメチルーＰＧＦ２ｏ、１１ーデ
オキシ−１１Ｑーヒド。 キシメチルー１５８一１６・１６−ジメチル−ＰＧＦ．
〇、１１−デオキシー１１Ｑーヒドロキシメチル−１５
８一１６・１６ージメチル−ＰＧＦ２は、１１−デオキ
シ−１１Ｑ−ヒドロキシメチルー１６ーメチル−ＰＧＦ
，ｏ、１１ーデオキシー１１Ｑーヒドロキシメチル−１
６ーメチルーＰＧＦ２Ｑ、１１−デオキシ…１１Ｑ−ヒ
ドロキシメチル−１５８一１６−メチル−ＰＧＦ２Ｑ、
及びそれらの各々のメチルヱステル類へ転化される。更
に参考例１６の手順に従うが、参考例１６の反応体の代
わりに１１ーデオキシーＸＩＱ−ヒドロキシメチルーＰ
ＧＥ，エチルエステル、プロピルエステル、イソフ。 ロピルエステル、ブチルエステル、イソブチルェステル
、第二ブチルェステル、及び第三プチルェステルを使用
して「 １１−デオキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチルー
ＰＧＦ，Ｑエチルエステル、フ。ロピルエステル、イソ
フ。ロピルヱステル、ブチルエステル、イソブチルエス
テル、旨官＝ニブチルェステル、及び第三ブチルェステ
ルがつくられる。また参考例１６の手順に従って、参考
例１６の反応体の対応するェステル類の各々を使用して
、１１ーデオキシー１１ｏーヒドロキシメチルーＰＧＦ
２Ｑ、１１−デオキシー１１の−ヒドロキシメチル−１
６・１６ージメチル−ＰＧＦ２Ｑ、及び１１−デオキシ
−１１Ｑーヒドロキシメチルー１５Ｑーメチル−ＰＧＦ
２Ｑのアルキル部分に２、３及び４個の炭素原子をもつ
アルキルェステル額の各々がつくられる。 更に参考例１６の手順に従って、上記のその他のＰＧＥ
，型及びＰＧＥ２型化合物類の各々のアルキル部分に２
、３、及び４個の炭素原子をもつアルキルェステル類の
各々がつくられる。参考例 ２９ １１ーデオキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチルーＰＧＦ，
Ｑメチルエステル１１−トシレート無水ピリジン２泌中
の１１−デオキシー１１ＱーヒドロキシメチルーＰＧＦ
，Ｑメチルエステル１４０のりとＰ−トルェンスルホニ
ルクロライド８０の９の溶液を約２５ｑｏで窒素下に２
Ｇ時間かきまぜる。 次に反応混合物を、が重硫酸カリウム溶液１５叫を含有
する氷水、及びジェチルェーテルの混合物中へ注ぐ。混
合物を猿とうし、次いでジェチルェーテルで数回抽出す
る。一緒にした抽出液を重炭酸ナトリウム水溶液、水、
及び塩水で次々に洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
減圧下に蒸発させると、粘性の油１３０の９を生ずる。
この油をアセトンージクロロメタン（１：１畔容量比）
で詰めた中性シリカ１５タ上でクロマトグラフイにかけ
、アセトンージクロロメタン（１：１０容量比）で溶離
し、２．５の‘ずつのフラクションを集める。フラクシ
ョン２０〜２８を一緒にし、減圧下に蒸発させると、１
１−デオキシ−１１Ｑーヒド。キシメチル−ＰＯＦ，Ｑ
メチルエステル１１ートシレート５０雌を生ずる。ＮＭ
Ｒのピークは７．７７と７．３６（ダプレツト）、５．
５５〜５．２８（マルチプレツト）、４．４５〜３．８
５（マルチプレツト）、３．６７（シングレツト）、２
．４５（シングレツト）、及び１．７０（シングレツト
）６。参考例 ３０ １１ーデオキシ−１１Ｑ−ヒドロキシメチル−ＰＧＦ２
Ｑメチルエステル１１−トシレート無水ピリジン１０叫
中の１１−ヂオキシ−１１Ｑ−ヒドロキシメチルーＰＧ
Ｆ２Ｑメチルエステル７２５の９の溶液に０℃でｐ−ト
ルェンスルホニルクロラィド４０５の９をかきまぜなが
ら一度に加える。 生ずる混合物を０〜一５℃で窒素下に１劉寺間かきまぜ
、次に氷、水、塩水、ジェチルェーテル、及び２Ｍ重硫
酸カリウム溶液６７羽の混合物中に注ぐ。混合物を振と
うし、次いでジェチルェーテルで数回抽出する。一緒に
した抽出液を水、重炭酸ナトリウム水溶液、及び塩水で
次々に洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に蒸
発させると、残留物８００の９を生ずる。この残留物を
アセトンージクロロメタン（３：９７容量比）で詰めた
中性シリカ（イー・メルク）８０タ上でクロマトグラフ
イにかけ、アセトン−シクロロメタン（１：９容量比）
で藩離し、６．５肌ずつのフラクションを集める。フラ
クション３９〜５９を一緒にし、減圧下に蒸発させると
、１１ーデオキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチルーＰＧＦ
２Ｑメチルエステル１１ートシレート４４５のｏを生ず
る。アセトンージクロロメタン（１：９容量比）でのＲ
ｆ値０．４＆参考例 ３１ １１ーデオキシ−１１ｏ−ヒドロキシメチル−１５８一
ＰＧＦ，Ｑメチルエステル１１−トシレート参考例２９
と３０の手順に従うが、参考例２９と３０の反応体の代
わりに１１−デオキシ−１１Ｑ−ヒドロキシメチル−１
５８一ＰＧＦ，Ｑメチルェステルを使用して、１１ーデ
オキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチルー１５８一ＰＧＦ，
Ｑメチルエステル１１−トシレートが得られる。 参考例 ３２ １１ーデオキシ−１１Ｑーヒドロキシメチルー１５８−
ＰＧＦ２Ｑメチルエステル１１ートシレート参考例２９
と３０の手順に従うが、参考例２９と３０の反応体の代
わり‘こ１１−デオキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチル−
１５８−ＰＧＦ２Ｑメチルヱステルを使用して、１１ー
デオキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチルー１５８−ＰＧＦ
２Ｑメチルエステル１１−トシレートが得られる。 参考例 ３３ １１−デオキシ−１１ＱーヒドロキシメチルーＰＧＦ２
Ｑメチルエステル１１−トシレート１５ーアセテート参
考例２９と３０の手順に従うが、参考例２９と３０の反
応体の代わりに１１−デオキシ−１１Ｑ−ヒドロキシメ
チルーＰＧＦ２Ｑメチルエステル１５−アセテートを使
用して、１１−デオキシ−１１Ｑ−ヒドロキシメチルー
ＰＧＦ２Ｑメチルエステル１１ートシレート１５−アセ
ートが得られる。 参考例 ３４ １１ーデオキシ−１１Ｑーヒドロキシメチルー１５８一
ＰＧＦ２Ｑメチルエステル１１−トシレート１５ーアセ
テート参考例２９と３０の手順に従うが、参考例２９と
３０の反応体の代わりに１１ーデオキシー１１Ｑ−ヒド
ロキシメチル−１５８一ＰＧＦ２Ｑメチルエステル１５
−アセテートを使用して、１１ーデオキシー１１Ｑ−ヒ
ドロキシメチル−１５８一ＰＧＦ２Ｑメチルエステル１
１ートシレート１５−アセテートが得られる。 参考例 ３５１１−デオキシー１１Ｑーヒドロキシメチ
ルー１６・１６−ジメチル−ＰＣＦ２Ｑメチルエステル
１１−トシレート参考例２９と３０の手順に従うが、参
考例２９と３０の反応体の代わりに１１ーデオキシー１
１Ｑーヒドロキシメチル−１６・１６ージメチルーＰＧ
Ｆ２Ｑメチルエステルを使用して、１１−デオキシ−１
１Ｑーヒドロキシメチル−１６・１６−ジメチルーＰＧ
Ｆ２Ｑメチルェステル１１−トシレートが得られる。 参考例 ３６ １１−デーオキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチルー１５０
ーメチル−ＰＧＦ２Ｑメチルエステル１１ートシレート
参考例２９と３０の手順に従うが、参考例２９と３０の
反応体の代わりに１１ーデオキシ−１１Ｑーヒドロキシ
メチル−１５はーメチル−ＰＧＦ２Ｑメチルエステルを
使用して、１１ーデオキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチル
ー１５ＱーメチルーＰＧＦ２Ｑメチルエステル１１−ト
シレートが得られる。 また参考例２９と３０の手順に従って、１１−デオキシ
−１１Ｑ−ヒドロキシメチルー１５Ｑーエチル−ＰＧＦ
，Ｑ、１１ーデオキシー１１Ｑーヒドロキシメチル−１
５ｏーエチル−ＰＧＦ２Ｑ、１１−デオキシ−１１はー
ヒドロキシメチルー１５８ーメチル−ＰＧＦ，Ｑ、１１
−デオキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチルー１５８ーメチ
ルーＰＧＦ２Ｑ、１１−デオキシー１１Ｑ−ヒドロキシ
メチルー１５８一１６・１６−ジメチルーＰＧＦ，Ｑ、
１１−テ′オキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチルー１５８
一１６・１６ージメチルーＰＧＦ２Ｑ、１１ーデオキシ
ー１１Ｑーヒドロキシメチルー１６ーメチルーＰＧＦ，
Ｑ、１１ーデオキシ−１１Ｑーヒドロキシメチルー１６
−メチル−ＰＧＦ２Ｑ、及び１１−デオキシー１１Ｑー
ヒドロキシメチルー１５８一１６ーメチル−ＰＧＦ２Ｑ
の各々のメチルェステル類は、これらの各々の１１ート
シレート類へ転化される。 更に参考例２９と３０の手順に従って、１１ーデオキシ
−１１Ｑーヒドロキシメチル−ＰＧＦ，Ｑエチルエステ
ル、プロピルエステル、イソフ。 ロピルエステル、ブチルェステル、ィソブチルヱステル
、第二ブチルェステル、及び第三ブチルェステルは、そ
れらの各々の１１−トシレートへ転化される。また参考
例２９と３０の手順に従って、１１−デオキシ−１１Ｑ
−ヒドロキシメチル−ＰＧＦ２Ｑ、１１ーデオキシー１
１Ｑーヒドロキシメチルー１６・１６ージメチル−ＰＧ
Ｆ２Ｑ及び１１−デオキシ−１１Ｑ−ヒドロキシメチル
ー１５ＱーメチルーＰＧＦ２Ｑのアルキル部分に２、３
及び４個の炭素原子をもつアルキルェステル類の各々は
、それらの各々の１１−トシレートへ転化される。更に
参考例２９と３０の手順に従って、上記のその他のＰＧ
Ｆ，Ｑ型及びＰＯＦ２Ｑ型化合物類の各々のアルキル部
分に２、３、及び４個の炭素原子をもつアルキルェステ
ル類の各々は、対応する１１ートシレートへ転化される
。参考例 ３７ ９１１１ージデオキシー９ｏＯｉｌｏ−エポキシメタノ
−ＰＧＦ，Ｑメチルェステル（式×Ｋ：Ｒ，、Ｒ２、Ｒ
３＝Ｈ；Ａ：げ、。 Ｈ；Ｚ＝−ＣＱＣＨ２−）無水テトラヒドロフラン５泌
中の１１ーデオキシー１１Ｑーヒドロキシメチル−ＰＧ
Ｆ，Ｑメチルエステル１１−トシレート５０のｏとカリ
ウム第三ブトキシド２２の夕の溶液を窒素下に２５午０
で６０分かきまぜる。 次に溶液をジェチルヱーテル５０の‘で希釈し、が重硫
酸カルゥム水溶液５の‘を含有する冷し、塩水７５叫中
に注ぐ。この混合物をジェチルェーテル各７５の‘容量
で３回抽出する。一緒にした抽出液を重炭酸ナトリウム
水溶液と塩水で次々に洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧下に蒸発させる。残留物４５のｏを酢酸エチル
ーヘキサン（３５：６弦容量比）でつめた中性シリカ２
０多上でクロマトグラフィにかけ、酢酸エチル−へキサ
ン（３５：６髪容量）で溶離し、４の‘ずつのフラクシ
ョンを集める。フラクション３７〜５０を一緒にして減
圧下に蒸発させると、９・１１ージデオキシー９Ｑ・１
１Ｑ−エポキシメタノ−ＰＧＦ，Ｑメチルェステル３０
の９を生ずる。ＴＬＣ（酢酸エチルーヘキサン４：６容
量比によるＲｆ値０．２１）で均質である。赤外線吸収
は３４６０、１７４５、１６６５、１２００、１１７０
、１０６０、１０４０、９７０８６ふ及び７２８肌‐１
。ＮＭＲのピークは５．６５〜５．４５（マルチプレツ
ト）、４．２５〜３．９（マルチプレツト）、３．６７
（シングレツト）、３．８〜３．３５（マルチプレツト
）、及び１．９０（シングレツト）８。参考例 斑９・
１１−ジデオキシー９ＱＯ１ｌＱ−エポキシメタノーＰ
ＧＦ２Ｑ（式×Ｋ：Ｒ，、Ｒ２、Ｒ３：Ｈ；Ａこ 日ノ
・〇日；Ｚニシス−ＣＨニＣＨ一）無水テトラヒドロフ
ラン２５柵

【中の１１ーデオキシ−１１はーヒドロキシ
メチルーＰＧＦ２Ｑメチルエステル１１−トシレート４
４５柵のかきまぜた溶液に２５℃でカリウム第三ブトキ
シドｍ８６の９を一度に加える。 ２５ｑｏで３０分後、溶液を減圧下に蒸発させ、残留物
をメタノール５の‘中に溶解し、メタノール溶液に窒素
下に洲水酸化カリウム水溶液５の‘を加える。 この混合物を２５００に２時間保持し、次にメタノール
を減圧下に除去する。水性残留物を氷で冷却し、重硫酸
カリウム希水溶液で酸性にし、酢酸エチルで数回抽出す
る。一緒にした抽出液を塩水で洗い、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、減圧下に蒸発させる。残留物３７０の９を
酢酸エチル−へキサン（３５：６受容量比）でつめた酸
で洗ったシリカ（マリンクロツトＣＣ−４）２０タ上で
クロマトグラフィにかけ、酢酸エチルーヘキサン（３５
：６５済容量比）で溶離し、３の‘ずつのフラクション
を集める。フラクション３３〜６４を一緒にして減圧下
に蒸発させると、９・１１ージデオキシ−９Ｑ・１１Ｑ
−ェポキシメタノ−ＰＧＦ２Ｑ２２５の９を生ずる。赤
外線吸収は３３４０、２６４０、１７２５（ｓｈ）、１
７０５、１４５５、１４０５、１３７５、１２９５、１
２２５、１１９０、１１５０、１０４０、１０２０ ９
６５ ９２５、及び８６５弧‐１。ＮＭ旧のピークは６
．７７（シングレツト）、５．７５〜５．２０（マルチ
プレツト）、４．３５〜３．８６（マルチプレツト）、
３．８５〜３．３６（６線の模様）、及び０．８８（ト
リプレット）６。参考例 ３９９１１１−ジデオキシ−
９Ｑ・１１Ｑ−エポキシメタノ−ＰＧＦ，Ｑ参考例３８
の手順に従うが、１１−デオキシ−１１Ｑ−ヒドロキシ
メチル−ＰＧＦ，Ｑメチルエステル１１ートシレートは
９・１１−ジデオキシー９Ｑ・１１Ｑーェポキシメタノ
−ＰＧＦ，Ｑに転化される。 参考例 ４０９・１１ージデオキシ−９Ｑ・１１Ｑ−ヱ
ポキシメタノーＰＧＦ２Ｑメチルエステル参考例３７の
手順に従って、１１−デオキシー１１Ｑーヒドロキシメ
チルーＰＧＦ２Ｑメチルヱステル１１ートシレートは９
・１１ージデオキシ−９Ｑ・１１Ｑ−ェポキシメタノー
ＰＧＦ２Ｑメチルェステルに転化される。 参考例 ４１９・１１−ジデオキシー９Ｑ・１１Ｑ−エ
ポキシメタノー１５８−ＰＧＦ，Ｑ及びそのメチルェス
テル参考例３７と３８の手順に従って、１１−デオキシ
ー１１Ｑ−ヒドロキシメチル−１５８一ＰＧＦ，Ｑメチ
ルエステル１１−トシレートは９・１１−ジデオキシ−
９Ｑ・１１Ｑ−ェポキシメタノー１５８−ＰＧＦ，ひ及
びそのメチルェステルに転化される。 参考例 ４２ ９・１１−ジデオキシ−９は・１１Ｑ−エポキシメタノ
−１５８−ＰＧＦ２Ｑ及びそのメチルェステル参考例３
７と３８の手順に従って、１１−デオキシ−１１Ｑ−ヒ
ドロキシメチル−１５３−ＰＧＦ２Ｑメチルエステル１
１ートシレートは、９・１１ージデオキシー９Ｑ・１１
Ｑーエポキシメタノー１５３一ＰＧＦ２Ｑ及びそのメチ
ルェステルに転化される。 参考例 ４３ ９・１１−ジデオキシー９ｑ・１１Ｑーエボキシメタノ
ーＰＧＦ２Ｑメチルエステル１５ーアセテート参考例３
７の手順に従うが、カリウム第三ブトキシドとの反応時
間を約１８がこ短縮して、１１−デオキシー１１Ｑーヒ
ドロキシーメチル一ＰＧＦ２Ｑメチルヱステル１１ート
シレート１５−アセテートは９・１１ージデオキシ−９
Ｑ・１１Ｑーエポキシメタノ−ＰＧＦ２Ｑメチルェステ
ル１５−アセテートへ転化される。 参考例 ４４ ９・１１ージデオキシー９Ｑ・１１Ｑーエポキシメタノ
−ＰＧＦ２Ｑ参考例斑の手日頃に従って、１１−デオキ
シ−１１ＱーヒドロキシメチルーＰＧＦ２Ｑメチルエス
テル１１−トシレート１５−アセテートは、参考例３９
の生成物と実質的に同じ物理性状をもつ９・１１ージデ
オキシ−９Ｑ・１１Ｑ−エポキシメタノーＰＧＦ２Ｑへ
転化される。 参考例 ４５９・１１ージデオキシー９Ｑ・１１Ｑーエ
ポキシメタノ−１５８−ＰＧＦ２Ｑメチルエステル１５
ーアセテート参考例３７の手順に従うが、カリウム第三
ブトキシドとの反応時間を約１５分に短縮させて、１１
ーデオキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチルー１５８−ＰＣ
Ｆ２Ｑメチルエステル１１−トシレート１５ーアセテー
トは、９・１１ージデオキシ−９Ｑ・１１Ｑ−エポキシ
メタノー１５８一ＰＧＦ２Ｑメチルエステル１５−アセ
テートに転化される。 参考例 ４６ ９・１１−ジデオキシ−９Ｑ・１１Ｑーエポキシメタノ
ー１５６−ＰＧＦ２Ｑ参考例斑の手順に従って、１１ー
デオキシ−１１Ｑーヒドロキシメチル−１５８一ＰＧＦ
２Ｑメチルエステルー１１ートシレートー１５−アセテ
ートは、参考例４２の酸生成物と実質的に同じ物理性状
をもつ９・１１−ジデオキシー９Ｑ・１１Ｑーエポキシ
メタノー１５８一ＰＧＦ２Ｑへ化される。 参考例 ４７ ９・１１ージデオキシー９Ｑ・１１Ｑーエポキシメタノ
ー１６・１６ージメチル−ＰＧＦ２Ｑ及びそのメチルヱ
ステル参考例３７と斑の手順に従って、１１−デオキシ
−１１Ｑーヒドロキシメチル−１６・１６ージメチルー
ＰＧＦ２Ｑメチルエステル１１ートシレートは９・１１
−ジデオキシー９Ｑ・１１Ｑ−エポキシメタノー１６・
１６−ジメチル−ＰＧＦ２Ｑ及びそのメチルェステルへ
転化される。 参考例 ４８ ９・１１−ジデオキシー９Ｑ・１１Ｑ−エポキシメタノ
ー１５Ｑ−メチル−ＰＧＦ２Ｑ及びそのメチルヱステノ
レ参考例３７と斑の手順に従って、１１ーデオキシー１
１Ｑ−ヒドロキシメチル−１５ＱーメチルーＰＧＦ２Ｑ
メチルエステル１１−トシレートは、９・１１ージデオ
キシー９Ｑ・１１Ｑーエポキシメタノ−１５Ｑ−メチル
一ＰＧＦ２Ｑ及びそのメチルエステルへ転化される。 また参考例３７と３８の手順に従って、１１ーデオキシ
ー１１Ｑーヒドロキシメチルー１５ＱーエチルーＰＧＦ
，ｑ、１１ーデオキシ−１１はーヒドロキシメチルー１
５ＱーエチルーＰＧＦ２Ｑ、１１−デオキシ−１１Ｑー
ヒドロキシメチルー１５８−メチル−ＰＧＦ，Ｑ、１１
−デオキシー１１Ｑーヒドロキシメチル−１５８ーメチ
ル−ＰＧＦ２Ｑ、１１ーデオキシー１１Ｑ−ヒドロキシ
メチルー１５６一１６・１６−ジメチルーＰＧＦ，Ｑ、
１１ーデオキシー１１Ｑ−ヒドロキシメチルー１５８一
１６・１６ージメチルーＰＧＦ２Ｑ、１１ーデオキシー
１１Ｑーヒドロキシメチルー１６−メチル一ＰＯＰ，Ｑ
、１１ーデオキシー１１Ｑーヒドロキシメチルー１６ー
メチル−ＰＧＦ２Ｑ、及び１１ーデオキシー１１Ｑーヒ
ドロキシメチルー１５８一１６ーメチルーＰＧＦ２Ｑの
メチルェステルは、対応する９・１１−ジデオキシー９
Ｑ・１１ＱーエポキシメタノーＰＧＦ２型化合物の遊離
酸型及びメチルェステル型へ転化される。 更に参考例３７の手順に従って、１１ーデオキシ−１１
ＱーヒドロキシメチルーＰＧＦ，Ｑエチルエステル、プ
ロピルエステル、イソプロピルエステル、プチルェステ
ル、ィソブチルェステル、第二ブチルェステル、及び第
三ブチルェステルの各々の１１ートシレートは、９・１
１−ジデオキシー９Ｑ・１１はーェポキシメタノーＰＧ
Ｆ，Ｑの対応するェステルに転化される。 また参考例３７の手順に従って、１１ーデオキシ−１１
ｏーヒドキシメチル−ＰＧＦ２Ｑ、１１ーデオキシ−１
１ばーヒドロキシメチルー１６・１６−ジメチル−ＰＧ
Ｆ２Ｑ、及び１１ーデオキシー１１Ｑーヒドロキシメチ
ルー１５ＱーメチルーＰＧＦ２Ｑのアルキル部分に２、
３、及び４個の炭素原子をもつアルキルェステル類の各
々の１１−トシレートは、対応する９・１１ージデオキ
シー９Ｑ・１１Ｑ−ェポキシメタノ−ＰＧＦ２Ｑ型化合
物の各々の対応するェステルに転化される。更に、実施
例３７の手順に従って、上記のその他のＰＧＦ，Ｑ型及
びＰＯＦ２Ｑ型化合物類の各々のアルキル部分に２、３
及び４個の炭素原子をもつアルキルェステル類の１１−
トシレートは、対応する９・１１−ジデオキシー９Ｑ・
１１Ｑ−エポキシメタノ−ＰＧＦ２型化合物の対応ヱス
テルに転化される。実施例 １ ９ーデオキシ−９ーメチレン−ＰＧＥ２メチルエステル
（式×幻：Ｒ，＝メチル、Ｒ２とＲ３＝水素、Ａ＝ 日
ノリ日、Ｚ＝シス−ＣＨ＝ＣＨ−）Ａ ＰＧＥ２メチル
ェステルは、合衆国特許第３６５１１１６号の手順に従
って、ヘキサメチルジシラザン及びトリメチルクロロシ
ランの混合物との反応によって、ＰＧＥ２メチルェステ
ル１１・１５−ビスー（トリメチルシリルェーテル）へ
転化される。 Ｂ 無水テトラヒドロフラン１５０の【中のＮ・Ｓ−ジ
メチルーＳーフエニルスルホキシミン１７．０夕のかき
まぜた溶液に、メチルマグネシウムクロライドのテトラ
ヒドロフラン溶液（５０の‘、２Ｍ）を０℃で２０分間
に糠加する。 混合物を０℃で１５分かきまぜ、次に０℃に保持しなが
ら、テトラヒドロフラン６５の‘中のＰＧＥ２メチルエ
ーテル１１．１５−ビス（トリメチルシリルエーブル）
１６．８夕のかきまぜた溶液に、約一７がｏで窒素下に
４５分にわたって加える。かきまぜを−７８℃で２．虫
時間続け、次に混合物を塩化アンモニウム飽和水溶液５
００の【、氷、及びジェチルェーテルの混合物中に注ぐ
。この混合物をジェチルェーテル各３００の上２回分と
２００の上１回分で次々に抽出し、一緒にした抽出液を
塩水で２回洗い、次に無水硫酸丈、トリウムで乾燥する
。減圧下にジェチルェーテルを除去する残留物が得られ
、これをメタノール２００奴中に溶解する。くえん醗水
溶液（２．５％２００の‘）をメタノ−ル溶液に加え、
混合物を２５００で３０分かきまぜる。次に塩水を加え
、混合物を酢酸エチルで数回抽出する。一緒にした抽出
液を塩水で４回洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減
圧下に蒸発させる。Ｃ Ｂからの残留物をテトラヒドロ
フラン９００地に溶解する。この溶液にかきまぜながら
水１４０の【、酢酸１４０松【、及び２０メッシュのア
ルミニウム金属粒３０夕からのアマルガム化されたアル
ミニウムを加え、混合物を２０〜２５千０の範囲に保持
するために外部から冷却する。混合物を１時間かきまぜ
てから、珪藻土（セライト）を加え、この混合物をセラ
ィトの詰物を通してろ過する。フィルター詰物をテトラ
ヒドロフラン各１５０ｍ‘３回分で洗い、一緒にしたろ
液と洗浄液を減圧下に蒸発させる。塩水を残留物に加え
、濠合物を酢酸エチル−へキサン（４：６容量比）の４
００の‘１回分、３００泌１回分及び２００舷２回分で
次々に抽出する。一緒にした抽出液を１５０泌容量の塩
水で２回、次に０．９Ｍの燐酸水素二ナトリウム水溶液
で洗浄液がｐＨ９になるまで洗う。次に一緒にした抽出
液を再び塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し減圧
下に蒸発させると、残留物１７．６夕を生ずる。この残
留物を酢酸エチルーヘキサン（３：７容量比）で詰めた
中性シリカ１．５ｋｇ上でクロマトグラフィにかけ、酢
酸エチルーヘキサン（７．５：３．５容量比）で港離し
、１２５肌とずつのフラクションを集める。フラクショ
ン６２〜８０を一緒にして減圧下に蒸発させると、９ー
デオキシー９ーメチレンーＰＧＥ２メチルェステル７．
７０夕を生ずる。赤外線吸収は３３６０、３０７０、１
７４０、１６５５、１４３５、１３６５１３１５、１２
４を１２１０１１６０、１０８０、１０２０、９７０及
び８８５弧‐１。ＮＭ旧のピークは５．６５〜５．２５
（マルチプレツト）、４．９０（シングレツト）、４．
２〜３．４（マルチプレツト）及び３．６５（シングレ
ツト）６０実施例 ２ ９−デオキシー９ーメチレンーＰＧＥ２ ９ーデオキシー９ーメチレン−ＰＧＥ２メチルエステル
７５の９、１０％水酸化カリウム水溶液１の‘、及びメ
タノール２の‘の混合物を２５００で９０分かきまぜる
。 次に混合物を氷水で希釈し、２Ｍ重硫酸カリウム冷水溶
液で酸性にし、酢酸エチルで数回抽出する。一緒にした
抽出液を塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減
圧下に蒸発させると、９ーデオキシー９−メチレン−Ｐ
ＯＥ２を生ずる。実施例 ３９−デオキシー９−メチレ
ン−１６・１６ージメチル−ＰＧＥ２メチルエステルＡ
１６・１６−ジメチル−ＰＧＥ２３００の夕は、ジエ
チルェーテルとメタノールの混合物中における過剰のジ
アゾメタンによって、始めにそのメチルェステルへ転化
され、次に実施例１の手順により、その１１・１５−ビ
ス（トリメチルシリルエーテル）へ転化される。 Ｂ メチルマグネシウムクロライドのテトラヒドロフラ
ン溶液（２の‘、公け）を、０℃でテトラヒドロフラン
１０肌‘中のＮ・ＳージメチルーＳ−フェニルースルホ
キシミン７００の夕のかきまぜた溶液に滴加する。 混合物を０℃で２０分かきまぜ、次に−７８００に冷却
する。テトラヒドロフラン３０の‘中における上のＡ部
で得られる１６・１６−ジメチルーＰＧＥ２メチルエス
テル１１・１５ービス（トリメチルシリルェーテル）溶
液を加え、混合物を−７８００で１．５時間かきまぜる
。次に混合物を氷、水、塩化アンモニウム及びジェチル
ェーテルの混合物中に注ぐ。この混合物をジェチルェー
テルで数回抽出し、一緒にした抽出液を塩水で洗い、無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に蒸発させる。残留
物８００枚ｏをくえん酸及び次で実施例１のＢ及びＣ部
のとおりにアマルガム化されたアルミニウムで処理する
と、残留物５５０の９を生ずる。これを酢酸エチル−へ
キサン（２：８容量比）で詰めた中性シリカ１００タ上
でクロマトグラフィにかけ、酢酸エチルーヘキサン（１
：１容量比）で溶離し、１０の‘ずつのフラクションを
集める。フラクション６６〜９９を一緒にして減圧下に
蒸発させると、９ーデオキシ−９ーメチレン−１６・１
６ージメチルーＰＧＥ２メチルェステル６９の９を生ず
る。赤外線吸収は３５００、３０００、１７５０、１６
７０、１４４０、１０８０、９７５、及び８９０仇‐１
。ＮＭ収のピークは５．７０〜５．２（マルチプレット
）、５．０５〜４．７５（広域シングレット）、３．６
５（シングレツト）、３．９５〜３５５（マルチプレッ
ト）、３．０５（シングレット、冷却するとダウンフィ
ールドにシフトする）及び０．８５と０．８０（シング
レツト）６。実施例 ４ ９ーデオキシー９ーメチレンー１６・１６ージメチルー
ＰＧＥ２水酸化ナトリウム水溶液（２．５の‘、洲）を
、窒素下に約０℃でメタノール５地中の９−デオキシー
９−メチレンー１６・１６ージメチル−ＰＧＥ２メチル
ェステル溶液に、２．８分間に徐々に加える。 混合物を約２５℃まで暖まるようにし、２５００で計２
時間保持する。次に混合物を水１００風上で希釈し、ジ
ェチルェーテルで２回洗い、冷却しながら洲重硫酸ナト
リウム水溶液で酸性にし、酢酸エチルで３回抽出する。
一緒にした抽出液を塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、減圧下に蒸発させる。残留物８０の９を酢酸エ
チル−へキサン（４：６容量比）で詰めたシリカ（マリ
ンクロツトＣＣ−４）１０タ上でクロマトグラフィにか
け、酢酸エチルーヘキサン（８：２容量比）で溶離し、
２の【ずつのフラクションを集める。フラクション１９
〜２４を一緒にして減圧下に蒸発させると、９ーデオキ
シー９−メチレンー１・１６ージメチル−ＰＧＥ２６３
のｏを生ずる。トリメチルシリル誘導体の質量スペクト
ルはＭせ（測定値）＝５９４。又ピークはｍ／ｅ５７９
．３７０６（Ｍ−ＣＨ３）（Ｃ３，星９Ｓｉ３０４の理
論値＝５７９．３４２１）、５０４４９う４８３４０５
及び２４３。参考例 ４９９ーデオキシー９ーメチレン
ーＰＧＥ，及びそのメチルエステル実施例１と３の手順
に従って、ＰＧＥ，メチルェステルは９ーデオキシ−９
ーメチレンーＰＧＥ，メチルェステルへ転化される。 次に実施例２と４の手順に従って、後者のメチルェステ
ルは９ーデオキシー９−メチレンーＰＧＥ，に転化され
る。参考例 ５０９ーデオキシー９ーメチレンー１５３
−ＰＣＥ，及びそのメチルエステル実施例１と３の手順
に従って、１５８一ＰＧＥ，メチルエステルは９−デオ
キシ−９ーメチレン−１５８−ＰＧＥ，メチルェステル
に転化される。 次に実施例２と４の手順に従って、後者のメチルェステ
ルは９ーデオキシー９−メチレンー１５８一ＰＧＥ，に
転化される。参考例 ５１ ９ーデオキシー９ーメチレンー１５８−ＰＧＥ２及びそ
のメチルエステル実施例１と３の手順に従って、１６８
一ＰＧＥ２メチルエステルは９ーデオキシー９−メチレ
ン−１５８−ＰＧＥ２メチルェステルに転化される。 次に実施例２と４の手順に従って、後者のメチルェステ
ルは９−デオキシー９ーメチレンー１５８−ＰＧＥ２へ
転化される。また実施例１と３の手順に従って、１５Ｑ
−メチル一ＰＧＥ，、１５ＱーメチルーＰＧＥ２、１５
Ｑーエチル−ＰＧＥ２、１５８−メチル−ＰＧＥ，、１
５８−メチル−ＰＧＥ２、１５８一１６・１６ージメチ
ルーＰＧＥ，、１５８一１Ｇ１６−ジメチルーＰＧＥ２
、１６−メチル一ＰＧＥ，、１６ーメチルーＰＧＥ２、
及び１５８−１６−メチル一ＰＧＥ２の各々のメチルェ
ステルは、９ーデオキシー９ーメチレンー１５Ｑ−メチ
ル一ＰＧＥ，、９ーデーオキシー９−メチレンー１５ね
‐メチル−ＰＧＥ２、９−デオキシー９−メチレンー１
５ｏーエチル−ＰＣＥ２、９ーデオキシー９−メチレン
ー１５８ーメチル−ＰＧＥ，、９−デオキシー９−メチ
レン−１５８ーメチル−ＰＧＥ２、９−デオキシ−９ー
メチレンー１５８一１６・１６ージメチルーＰＧＥ，「
９ーデオキシー９ーメチレンー１５８一１６・１６ー
ジメチルーＰＧＥ２、９−デオキシー９ーメチレンー１
６−メチル一ＰＧＥ，、９−デオキシ−９ーメチレンー
１６−メチル一ＰＧＥ２及び９−デオキシー９−メチレ
ンー１５８−１６ーメチルーＰＧＥ２のメチルエステル
へ転化される。 次に実施例２と４の手順に従って、これらのメチルェス
テルの各々は対応する遊離酸へ転化される。更に実施例
１と３の手順に従って、ＰＧＥ２のエチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、イソブチル、第二プチル、及び
第三ブチルェステル類は各々９−デオキシー９ーメチレ
ンーＦＧＥ２の対応ェステル類へ転化される。 また実施例１の手順に従って、ＰＧＥ，、１６・１６−
ジメチル−ＰＧＥ２、及び１５ＱーメチルーＰＧＥ２の
アルキル部分に２、３及び４個の炭素原子をもつアルキ
ルェステル類は、各々対応する９ーデオキシー９ーメチ
レンーＰＧＥ型化合物の対応ェステル類へ転化される。
更に実施例１の手順に従って、上記のその他のＰＧＥ，
型及びＰＧＥ２型化合物類の各々のアルキル部分に２、
３及び４個の炭素原子をもつアルキルェステル類は、対
応する９ーデオキシ−９ーメチレン−ＰＧＥ型化合物の
対応ェステル類へ転化される。参考例 ５２ ９・１１−ジデオキシ−１１は・９Ｑーエポキシメタノ
ーＰＧＥ２Ｑ（式×Ｘｍ：Ｒ，、Ｒ２、Ｒ３＝Ｈ：Ａｉ
日ノリ日；Ｚ＝シス−ＣＨ＝ＣＨ−）Ａ トリフェニル
クロロシラン１１．１夕を０℃で窒素下にピリジン６５
の【中の９−デオキシ−９−メチレンーＰＧＥ２メチル
ェェステル６．５夕の溶液にかきまぜながら一度に加え
る。 混合物を約２５００に暖まるようにし、２５ｏｏで窒素
下に２時間かきまぜる。次にトリフェニルクロロシラン
の追加１１．１夕を加え、この混合物を窒素下に２５０
で約６虫時間かきまぜる。次で混合物を水、氷及びへキ
サンの混合物中に注入する。次に混合物をへキサンで数
回抽出し、一緒にした抽出液を水で３回、氷冷した重硫
酸カリウム水溶液で洗浄液が酸性になるまで、水、重炭
酸カリウム水溶液、及び最後に塩水で次々に洗い、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に蒸発させる。残留物
２０夕を酢酸エチル−へキサン（３：９７容量比）で詰
めた中性シリカ１．５ｋｇ上でクロマトグラフィにかけ
、酢酸エチル−へキサン（５：９５容量比）１０夕、酢
酸エチルーヘキサン（１：９容量比）８そ、１：９容量
比で始まり純粋な酢酸エチルで終る勾配の酢酸エチル−
へキサン３そ、及び酢酸エチル２そで次々に溶離し、２
５０の‘ずつのフラクションを集める。ＴＬＣによって
均質であることが示された全フラクションを一緒にして
蒸発させると、ＴＬＣによって均質な９ーデオキシー９
ーメチレンーＰＧＥ２メチルエステル１１・１５ービス
（トリフエニルシリルエーテル）１５．３夕を生ずる。
Ｂ テトラヒドロフラン１０２の‘中の９−ポラピシク
ロ〔３・３・１〕ノナンの０．９Ｍ溶液を、０℃で窒素
下にテトラヒドロフラン６００の【中の９−デオキシ−
９ーメチレン−ＰＧＥ２メチルエステル１１．１５−ビ
ス（トリフエニルシリルエーテル）１５．０夕の溶液に
かきまぜなら４５分にわたって加える。 次にかきまぜを０℃で４時間続ける。この混合物に３０
％週酸化水素水溶液１５机上を滴加し、次に洲水酸化ナ
トリウム水溶液２０の‘を加える。この混合物を０℃で
６時間かきまぜ、次に塩水で希釈し、酢酸エチルで数回
抽出する。一緒にした抽出液を塩水で３回洗い、無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に蒸発させる。生ずる残
留物３Ｍをテトラヒドロフラン６００泌に溶解する。０
℃でこの溶液に３０％過酸化水素水溶液ｌｏの‘と洲水
酸化カリウム水溶液１０の｛を加え、混合物を２５ｑ０
で３時間かきまぜる。 次に混合物を塩水で希釈し、酢酸エチルで数回抽出する
。一緒にした抽出液を塩水で３回洗い、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、減圧下に蒸発させる。生ずる残留物３５
．３夕を酢酸エチルーヘキサン（５：９＆容量比）で詰
めた中性シリカ１．５ｋ９上でクロマトグラフィにかけ
、酢酸エチル−へキサン（１：９容量比）１０そと酢酸
エチル−へキサン（３：７容量比）１０そで次々に瀞離
し、６５０叫ずつのフラクションを集める。ＴＬＣで均
質なフラクションを一緒にして蒸発させると、９ーデオ
キシー９Ｑーヒドロキシメチル−ＰＧＦ２Ｑメチルエス
テル１１・１５ービス（トリフェニルシリルヱーテル）
１０．２夕を生ずる。この手順において、過酸化水素及
び水酸化カリウムでの処理については、第１回目のこの
処理を上に特定されたように０００でよりもむしろ約２
５ｏＣで実施する場合には、第二のこのような処理は必
要ではない。 Ｃ ジクロロメタン６必中の９ーデオキシ−９Ｑ−ヒド
ロキシメチル−ＰＧＦ２Ｑメチルエステル１１・１５ー
ビス（トリフエニルシリルヱーテル）０．９０夕の溶液
にトリェチルアミン０．２２の‘を０℃で窒素下に一度
に加える。 次にメタンスルホニルクロラィド０．１処を約１分間に
滴加し、混合物を窒素下に０℃で１８分かきまぜる。生
ずる混合物を氷、水、重炭酸ナトリウム、及びへキサン
の混合物へ注ぎ、この混合物をへキサンで数回抽出する
。一緒にした抽出液を氷水、重硫酸カリウム希水溶液、
重炭酸ナトリウム水溶液、及び塩水で次々に洗い、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に蒸発させると、９−
デオキシー９ＱーメシロキシメチルーＰＧＦ２Ｑメチル
ヱステル１１・１５ービス（トリフエニルシリルエーテ
ル）１．０２夕を生じる。Ｄ テトラヒドロフラン４０
の上中の９ーデオキシ９Ｑ−メシロキシメチルーＰＧＦ
２Ｑメチルヱステル１１．１５−ビス（トリフエニルシ
リルエーブル）１．００夕の溶液に水３０の‘を加える
。 生ずるスラリーに８５％燐酸１泌を加え、混合物をかき
まぜながら４０００に４時間加熱する。混合物を２５ｑ
ｏに１斑時間放置し、次に氷と重炭酸ナトＩＪウム水溶
液の混合物中に注ぐ。この混合物を酢酸エチルで数回抽
出する。一緒にした抽出液を塩水で洗い、硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、減圧下に蒸発させると、９ーデオキシ−９
−メシロキシメチルーＰＧＦ２Ｑメチルエステル１．０
９夕を生ずる。Ｅ メタノール１０机中の９−デオキシ
ー９−メシロキシメチル−ＰＧＦ２Ｑメチルエステル９
５の９の溶液に水酸化ナトリウム水溶液（２の‘、乳Ｍ
）をかきまぜながら０℃で加える。混合物を０℃で１．
虫時間かきまぜる。次に母Ｍ水酸化ナトＩＪウム水溶液
の別の２の‘を加え、この混合物を約２５℃で２時間か
きまぜる。生ずる混合物を塩水、氷及び重硫酸カリウム
水溶液の混合物中へ注ぐ。この混合物を酢酸エチルで数
回抽出する。一緒にした抽出液を塩水で洗い、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、減圧下に蒸発させる。残留物７６
の９を酢酸エチルーヘキサン（２：８容量比）で詰めた
シリカ（マリンクロツトＣＣ−４）１０タ上でクロマト
グラフィにかけ、酢酸エチル−へキサン（１：１容量比
）で溶離し、３奴ずつのフラクションを集める。フラク
ション１６〜３０を一緒にして減圧下に蒸発させると、
９・１１−ジデオキシー１１は・９はーエポキシシメタ
ノ−ＰＧＦ２は６３の９を生ずる。赤外線吸収は３３６
０、２６４い ２９６０、２９２０ ２８６０１７３０
、１７０５、１４５５、１４０５１２９５、１２３ふ１
０３５９６５、９５０、９４０、及び８７５肌‐１。Ｎ
ＭＲのピークは６．１（シングレツト、冷却するとダウ
ンフィールドにシフトする）、５．６〜５．２（マルチ
プレツト）、４．２〜３．４（マルチプレット）及び０
．斑（トリプレット）６。ＴＭＳ誘導体の質量スペクト
ルＭ十４９４．３２４４（Ｃ２７公ｏＳｉ２０４理論値
４班．３２４８）、またピークはｍ／ｅ４７９４２３４
０４３９４３８９１９９１７３。参考例 ５３９・１１
ージデオキシー１１Ｑ・９ＱーエポキシメタノーＰＧＦ
２Ｑメチルエステル参考例５２のＡ、Ｂ、Ｃ及びＤ部の
手順に従い、次に参考例５２のＥ部の手順よりもむしろ
参考例３の手順を使用して、９ーデオキシー９ーメチレ
ンＰＧＥ２メチルエステルは、９・１１ージデオキシ−
１１Ｑ・９Ｑ−エポキシメタノーＰＧＦ２Ｑメチル工ス
テルに転化される。 参考例 ５４９・１１−ジデオキシ−１１の・９はーエ
ポキシメタノーＰＧＦ，Ｑ及びそのメチルェステル参考
例５２と５３の手順に従って、９ーデオキシ−９ーメチ
レンＰＧＥ，メチルエステルは９−デオキシ−９ｑーヒ
ドロキシメチル−ＰＧＦ，Ｑメチルエステル１１・１５
ービス（トリフエニルシリルヱーテル）を経て９１１１
ージデオキシー１１Ｑ・９Ｑ−ェポキシメタノ−ＰＧＦ
，Ｑ及びそのメチルェステルに転化される。 参考例 ５５ ９・１１ージデオキシ−１１ｏ・９Ｑ−エポキシメタノ
ー１５８−ＰＧＦ，Ｑ及びそのメチルェステル参考例５
２と球の手順に従って、９ーデオキシー９ーメチレンー
１５８一ＰＧＥ，メチルエステルは、９ーデオキシ−９
Ｑ−ヒドロキシメチルー１５８−ＰＧＦ．Ｑメチルヱス
テル１１・１５ーピス（トリフエニルシリルェーテル）
を経て９・１１ージデオキシー１１Ｑ・９Ｑーエポキシ
メタノー１５３−ＰＧＦ，Ｑ及びそのメチルェステルに
転化される。 参考例 ５６ ９・１１ージデオキシー１１ｑ・９０−エポキシメタノ
ー１５８−ＰＧＦ２Ｑ及びそのメチルェステル参考例５
２と５３の手順に従って、９−デオキシ−９−メチレン
ー１５８−ＰＧＥ２メチルエステルは、９−デオキシー
９Ｑ−ヒドロキシメチルー１５８−ＰＧＦ２Ｑメチルエ
ステル１１１日５−ビス（トリフエニルシリルェーテル
）を経て９・１１ージデオキシ−１１Ｑ・９Ｑ−エポキ
シメタノ−１５８−ＰＧＦ２Ｑ及びそのメチルェステル
に転化される。 参考例 ５７ ９・１１−ジデオキシ−１１Ｑ・９Ｑ−エポキシメタノ
ー１６・１６−ジメチルーＰＧＦ２以及びそのメチ／レ
エステノレ参考例５２と５３の手順に従って、９ーデオ
キシ−９−メチレンー１６・１６ージメチルーＰＧＥ２
メチルエステルは、９ーデオキシー９Ｑーヒドロキシメ
チルー１６・１６ージメチルーＰＧＦ２Ｑメチルエステ
ル１１・１５−ビス（トリフエニルシリルエーテル）を
経て、９・１１ージデオキシ−１１Ｑ・９Ｑーヱポキシ
メタノ−１６・１６−ジメチル−ＰＯＰ２Ｑ及びそのメ
チルェステルに転化される。 また参考例５２と＄の手順に従って、９ーデオキシ−６
ーメチレン−１５Ｑ−メチル−ＰＧＥ，、９ーデオキシ
ー９−メチレン−１５Ｑ−メチル一ＰＧＥ２、９−デオ
キシー９ーメチレン−１５Ｑ−エチル一ＰＧＥ２、９−
デオキシー９−メチレン−１５８ーメチルーＰＧＥ，、
９−デオキシー９ーメチレン−１５８ーメチル−ＰＧＥ
２、９ーデオキシ−９−メチレン−１５８−１６・１６
ージメチル−ＰＧＥ，、９ーデオキシ−９ーメチレンー
１５８−１６・１６ージメチルーＰＧＥ２、９ーデオキ
シ−９−メチレンー１６−メチル一ＰＧＥ，、９ーデオ
キシ−９−メチレンー１６−メチル−ＰＧＥ２、及び９
ーデオキシ−９ーメチレン−１５８−１６ーメチル−Ｐ
ＧＥ２の各々のメチルェステルは、対応する９Ｑ−ヒド
ロキシメチル化合物の１１・１５ーピス（トリフェニル
シリルェーテル類）をへて、それぞれ９・１１−ジデオ
キシ−１１Ｑ・９Ｑーエポキシメタノ−１５Ｑ−メチル
−ＰＧＦ，Ｑ、９・１１ージデオキシー１１ｏ・９ｏー
エポキシメタノー１５Ｑーメチル−ＰＧＦ２Ｑ、９・１
１ージデオキシー１１Ｑ・９ｏ−エポキシメタノー１５
Ｑ−エチル一ＰＧＦ２Ｑ、９・１１−ジデオキシー１１
Ｑ・９Ｑーエポキシメタノー１５８ーメチル−ＰＧＦ，
Ｑ、９・１１ージデオキシー１１Ｑ・９Ｑ−エポキシメ
タノー１５８ーメチルーＰＧＦ２Ｑ−９ ．１１−ジデ
オキシー１１Ｑ・９Ｑ−エポキシメタノ−１５８−１６
１１６ージメチル−ＰＧＦ，Ｑ、９・１１−ジデオキシ
−１１Ｑ・９Ｑーエポキシメタノ−１５８一１６．１６
−ジメチルーＰＧＦ２Ｑ、９・１１−ジデオキシ−１１
Ｑ・９Ｑーエポキシメタノー１６−メチル−ＰＧＦ，Ｑ
、９・１１ージデオキシー１１Ｑ・９Ｑーエポキシメタ
ノ−１６ーメチルーＢＧＦ２Ｑ、及び９１１１ージデオ
キシ−１１Ｑ・９Ｑ−エポキシメタノー１５８一１６ー
メチルーＰＧＦ２Ｑならびにそれらの各々のメチルヱス
テルに転化される。 更に参考例５２の手順に従って、９ーデオキシー９ーメ
チレン−ＰＧＥ２のエチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、ィソブチル、第二プチル及びｔーブチルェステ
ル類は、各々９ーデオキシ−９Ｑーヒドロキシメチル−
ＰＧＦ２ＱＩ１・１５ービス（トリフェニルシリルェー
テル）の対応ェステルを経て、９１１１−ジデオキシ−
１１Ｑ・９ＱーェポキシメタノーＰＧＦ２Ｑの対応ヱス
テルへ転化される。 また参考例５２の手順に従って、９−デオキシ−９−メ
チレンーＰＧＥ，、９−デオキシー９ーメチレンー１６
・１６ージメチルーＰＧＥ２、及び９ーデオキシー９−
メチレン−１５はーメチル−ＰＧＥ２のアルキル部分に
２、３、及び４個の炭素原子をもつアルキルヱステル類
は、それぞれ９ーデオキシー９Ｑーヒドロキシメチル−
ＰＧＦ，ＱＩ１・１５−ビス（トリフエニルシリルエー
テル）、９ーデオキシ−９Ｑーヒドロキシメチルー１６
・１６−ジメチル−ＰＧＦ２ＱＩ１・１５ービス（トリ
フエニルシリルエーテル）、及び９ーデオキシ−９Ｑ−
ヒドロキシメチルー１５Ｑ−メチル−ＰＧＦ２ＱＩＩ．
１５ービス（トリフェニルシリルェーテル）の対応ェス
テルを経て、９・１１ージデオキシー１１Ｑ●９Ｑ−エ
ポキシメタノーＰＧＦ．Ｑ、９・１１ージデオキシ−１
１Ｑ・９Ｑ−エポキシメタノー１６・１６ージメチルー
ＰＧＦ２Ｑ、及び９・１１ージデオキシ−１１Ｑ・９Ｑ
ーェポキシメタノー１５０−メチル−ＰＧＦ２Ｑの対応
ェステルへ転化される。更に参考例５２の手順に従って
、上記のその他の９−デオキシー９ーメチレン−ＰＧＥ
型化合物類の各々のアルキル部分に２、３及び４個の炭
素原子をもつアルキルェステル類は、９−デオキシ−９
Ｑーヒドロキシメチル−ＰＧＦＱ型化合物の対応１１・
１５−ビス（トリフェニルシリルェーテル）の対応ェス
テルを経て、対応する９・１１ージデオキシ−１１Ｑ・
９ＱーェポキシメタノーＰＧＦ型化合物の対応ェステル
に転化される。実施例 ５ ９−デオキシー９ＱーヒドロキシメチルーＰＧＦ２Ｑメ
チルエステル ９−デオキシー９Ｑ−ヒドロキシメチルーＰＧＦ２Ｑメ
チルエステル１１・１５−ビス（トリフエニルシリルエ
ーテル）１．００夕、テトラヒドロフラン４０の‘、水
３０の‘、及び８５％燐酸１の‘の混合物を窒素下に約
２５００で１錨時間かきまぜる。 生ずる透明溶液を減圧下に一部蒸発させてテトラヒドロ
フランを除き、残留物を塩水で希釈し、次に酢酸エチル
で数回抽出する。一緒にした抽出液を重炭酸ナトリウム
水溶液と塩水で次々に洗い、無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧下に蒸発させる。残留物を酢酸エチルで詰め
た中性シリカ６０タ上でクロマトグラフイにかけ、酢酸
エチル１．３で及びメタノール−酢酸エチル（２：８容
量比）５００の‘で次々に溶離し、８叫ずつのフラクシ
ョンを集める。フラクション１２４〜１７５を一緒にし
て、減圧下に蒸発させると、９ーデオキシ−９Ｑーヒド
ロキシメチルーＰＧＦ２Ｑメチルェステル３６５の９を
生ずる。赤外線吸収は私５い３０００、１７５い１６７
う１４４０ １０２５、及び９７０の‐１。ＮＭＲのピ
ークは５．６〜５．２（マルチプレツト）、４．２〜３
．５（マルチプレット）、及び３．６５（シングレツト
）６。参考例 ５８ ９ーデオキシ−９Ｑ−ヒドロキシメチルーＰＧＦ２Ｑ 実施例２と４の手順に従って、９ーデオキシ−９Ｑーヒ
ドロキシメチル−ＰＧＦ２Ｑメチルエステルは９ーデオ
キシ−９ｏーヒドロキシメチルーＰＧＦ２Ｑに転化され
る。 参考例 ５９ ９ーデオキシー９Ｑ−ヒドロキシメチルーＰＧＦ，Ｑ及
びそのメチルェステル 実施例５と参考例５８の手順に従って、９−デオキシ−
９Ｑ−ヒドロキシメチルーＰＧＦ．Ｑメチルエステル１
１．１５ービス（トリフエニルシリルエーテル）は、９
−デオキシー９Ｑーヒドロキシメチル−ＰＧＦ．Ｑメチ
ルェステルへ、次いでその遊離酸型へ転化される。 参考例 ６０ ９ーデオキシー９Ｑ−ヒドロキシメチルー１５８一ＰＧ
Ｆ，Ｑ及びそのメチルェステル実施例５と参考例５８の
手順に従って、９−デオキシー９Ｑーヒドロキシメチル
−１５３−ＰＧＦ，Ｑメチルエステル１１・１５−ビス
（トリフエニルシリルヱーテル）は、９ーデオキシー９
Ｑーヒドロキシメチルー１５３一ＰＧＦ，Ｑメチルェス
テルへ、次いでその遊離酸型へ転化される。 参考例 ６１ ９ーデオキシー９Ｑ−ヒドロキシメチル−１５８一ＰＧ
Ｆ２は及びそのメチルェステル実施例５と参考例５８の
手順に従って、９ーデオキシー９はーヒドロキシメチル
ー１５８一ＰＧＦ２Ｑメチルエステル１１・１５ービス
（トリフエニルシリルエーテル）は、９ーデオキシー９
ｏーヒドロキシメチル−１５８一ＰＧＦ２Ｑメチルェス
テルへ、次いでその遊離酸型へ転化される。 参考例 ６２ ９ーデオキシ−９Ｑ−ヒドロキシメチル−１６・１６ー
ジメチル−ＰＧＦ２Ｑ及びそのメチルェステ′レ実施例
５と参考例斑の手順に従って、９ーデオキシー９Ｑーヒ
ド。 キシメチルー１６・１６−ジメチルーＰＧＦ２Ｑメチル
エステル１１・１５ーピス（トリフエニルシリルエーテ
ル）は９ーデオキシ−９Ｑ−ヒドロキシメチル−１６・
１６ージメチルーＰＧＦ２Ｑメチルェステルへ、次いで
その遊離酸型へ転化される。また実施例５と参考例斑の
手順に従って、９−デオキシ−９ｏーヒドロキシメチル
−１５Ｑ−メチル一ＰＧＦ，Ｑ、９ーデオキシ−９Ｑー
ヒドロキシメチルー１５０−メチル一ＰＧＦ２の、９−
デオキシ−９Ｑ−ヒドロキシメチルー１５Ｑ−エチル−
ＰＧＦ２Ｑ、９−デオキシー９ｏーヒドロキシメチルー
】５８−メチル一ＰＧＦ，Ｑ、９ーデオキシー９Ｑーヒ
ドロキシメチル−１５３−メチル一ＰＧＦ２Ｑ、９ーデ
オキシー９Ｑーヒドロキシメチルー１５８−１５・】６
ージメチルーＰＧＦ，Ｑ、９−デオキシ−９Ｑーヒドロ
キシメチル−１５３一１６・１６−ジメチルーＰＧＦ２
Ｑ、９ーデオキシー９ｑーヒドロキシメチルー１６ーメ
チルーＰＧＦ，ｏ、９ーデオキシー９ｑーヒドロキシメ
チルー１６ーメチルーＰＧＦ２Ｑ、及び９ーデオキシ−
９Ｑ−ヒドロキシメチル−１５８−１６−メチル−ＰＧ
Ｆ２Ｑの各々のメチルエステル１１・１５ービス（トリ
フエニルシリルェーテル）は、対応する９Ｑーヒドロキ
シメチルメチルェステルへ、次いでそれらの各々の遊離
酸型へ転化される。 更に実施例５の手五項に従って、９−デオキシ−９Ｑー
ヒドロキシメチルーＰＧＦ２ＱＩ１・１５ービス（トリ
フエニルシリルエーテル）のエチル、プロピル、ィソプ
。 ピル、ブチル、ィソプチル、第二ブチル及びｔ−プチル
ェステル類は、それぞれ９−デオキシ−９Ｑ−ヒドロキ
シメチルーＰＧＦ２Ｑの対応ェステルへ転化される。ま
た実施例５の手順に従って、９ーデオキシー９Ｑ−ヒド
ロキシメチルＰＧＦ，Ｑ、９ーデオキシー９はーヒドロ
キシメチルー１６・１６ージメチル−ＰＧＦ２Ｑ及び９
−デオキシー９Ｑ−ヒドロキシメチルー１５Ｑーメチル
ーＰＧＦ２Ｑの１１・１５−ビス（トリフエニルシリル
ェーテル）のアルキル部分に２、３及び４個の炭素原子
をもつアルキルェステル類は、それぞれ９−デオキシー
９Ｑ−ヒドロキシメチル−ＰＧＦ，Ｑ、９ーデオキシ−
９Ｑ−ヒドロキシメチルー１６・１６ージメチルーＰＧ
Ｆ２Ｑ及び９−デオキシー９Ｑ−ヒドロキシメチル−１
５ＱーメチルーＰＧＦ２Ｑの対応ェステル類へ転化され
る。 更に実施例５の手順に従って、上記のその他の９−デオ
キシ−９ＱーヒドロキシメチルーＰＧＦび型化合物類の
各々の１１・１５−ビス（トリフェニルシリルェーテル
類）の各々のアルキル部分に２、３及び４個の炭素原子
をもつアルキルェステル類は、対応する９−デオキシ−
９Ｑ−ヒドロキシメチル−ＰＧＦＱ型化合物の対応ェス
テルへ転化される。参考例 ６３９・１１ージデオキシ
−９Ｑ・１１Ｑーエポキシエタノール一ＰＧＦ２はメチ
ルエステル１５ーアセテートＡ Ｏ℃のジェチルェーテ
ル中の過剰なジアゾメタンの溶液を、０℃のジヱチルェ
ーテル中の９・１１ージデオキシ−９Ｑ・１１Ｑーエポ
キシメタノーＰＧＦ２Ｑ６３８雌の溶液へ加える。 ０℃で５分後、混合物を窒素流で蒸発させる。 残留物を酢酸エチル−へキサン（１：９容量比）で詰め
た中性シリカ７０タ上でクロマトグラフィにかけ、酢酸
エチルーヘキサン（３５：６弦容量比）で溶離し、７泌
ずつのフラクションを集める。フラクション９７〜１４
０を一緒にして減圧下に蒸発させると、９・１１−ジデ
オキシー９Ｑ・１１Ｑ−エボキシメタノーＰＧＦ２Ｑメ
チルエステル５７０雌を生ずる。ＮＭＲのピークは７．
３（シングレツト）、５．６５〜５．１５（マルチプレ
ツト）、４．２〜３．８５（マルチプレツト）、３．６
５（シングレツト）、及び３．８５〜３．２５（６線の
模様）６。Ｂ ピリジン４の‘と無水貴乍酸１肌【の混
合物に９・１１ージデオキシー９Ｑ・１１Ｑーエポキシ
メ夕／−ＰＧＦ２Ｑメチルェステル２００雌を溶解し、
生ずる溶液を２５ｑ０で１錨時間かきまぜる。 次に混合物を氷、塩水、ジェチルヱーテル及びが重硫酸
カリウム水溶液２５の‘の混合物中に注ぎ、この混合物
をジェチルェーテルで数回抽出する。一緒にした抽出液
を冷し、ＩＮ軍硫酸カリウム水溶液、水、重炭酸ナトリ
ウム水溶液、及び塩水で次々に洗い、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、減圧下に蒸発させると、黄色の油２３５雌
を生ずる。この油を酢酸エチル−へキサン（５：９接客
量比）で詰めた中性シリカ１８タ上でクロマトグラフイ
にかけ、酢酸エチルーヘキサン（３：１０容量比）で漆
離し、３の【ずつのフラクションを集める。フラクショ
ン２１〜私を一緒にして減圧下に蒸発させると、９・１
１ージデオキシー９Ｑ・１１Ｑ−エポキシメタノーＰＧ
Ｆ２Ｑメチルエステル１５−アセテート２００秘を生ず
る。赤外線吸収は１７４５１３６５、１２４ＱＩ１５５
１０４ふ１０２０、９７０及び８７＆奴‐１。ＮＭＲの
ピークは５６５〜５０５（マルチプレツト）、４．１２
（シングレツト）、３．６５（シングレット）、３．８
５〜３．３５（６線の模様）及び２．０１（シングレツ
ト）６。この化合物は実施例４３の手順によってもつく
られる。参考例 ６４９Ｑ・１１Ｑ−（ェポキシメタノ
）プロスタン酸（式×ＸＶ：Ｘは−０−、Ｙは原子価結
合、及びＲ，は水素）濃塩酸水溶液０．１８の‘を含有
するエタノール１８の上中に９・１１ージデオキシ−９
Ｑ・１１Ｑ−ェポキシメタノーＰＧＦ２Ｑメチルエステ
ル１５ーアセテート１８０の９を含有する溶液にパラジ
ウム触媒（４０雌、炭素上の１０％）を加える。 生ずる混合物を大気圧下及び約２５００で水素の雰囲気
中で、水素の摂取がやむまで（約４粉ご）振とうする。
次に混合物を二酸化炭素の雰囲気中でセラィトの詰物を
通してろ過し、フィルター詰物を各５の【３回分のエタ
ノールで洗う。一緒にしたろ液と洗浄液に洲水酸化カリ
ウム水溶液５の｛を加え、混合物を２６０で２時間放道
する。次にエタノールを減圧下に除去し、残留物水溶液
を次々に、水で希釈し、重硫酸カリウム水溶液で酸性に
し、酢酸エチルで数回抽出する。一緒にした抽出液を塩
水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に蒸発
させる。残留物１９０の９を酢酸エチル−へキサン（５
：９５容量比）で詰めた酸で洗ったシリカ（マリンクロ
ツトＣＣ−４）２０タ上でクロマトグラフィにかけ、酢
酸エチルーヘキサン（５：９接容量比）５０のと、酢酸
エチル−へキサン（１０：９庇容量比）９０の‘、酢酸
エチル−へキサン（１５：８甲容量比）１００の‘、及
び酢酸エチルーヘキサン（２：８容量比）２００の‘で
溶離し、５必ずつのフラクションを集める。フラクショ
ン４６〜６５を一緒にして減圧下に蒸発させると、９Ｑ
・１１Ｑ−（ェポキシメタノ）プロスタン酸０のｏを生
ずる。赤外線吸収は３０００、２６７０（ｓｈ）、２９
２０、２８５０、１７１０、１４６０、１４１５、１３
８０、１２９０、１２５５、１２３５、１２１５、１１
９５、１０６０、１０３０、９６５、９３０、８６５及
び７２５仇‐１、ＮＭＲのピークは４．１５（シングレ
ット）及び３．８０〜３．３５（６線の模様）・６。参
考例 ６５９Ｑ・１１は一（ェポキシメタ／）プロスタ
ン酸メチルエステル９．１１ージデオキシ−９ｑ・１１
Ｑ−エポキシメタノ−ＰＧＦ２Ｑメチルエステル１５−
アセテートをパラジウム及び塩酸を触媒とする参考例６
４に述べた水素添加と水添分解にかける。 しかし一緒にしたろ液と洗浄液を水酸化カリウムで処理
する代わりに、冷し、重炭酸ナトリウム水溶液の注意深
い添加によって中和する。減圧下に大部分のエタノール
を除去してから（最高温度３０）、残留物を酢酸エチル
で完全に抽出する。一緒にした抽出液を塩水で洗い、無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮すると、９
Ｑ・１１Ｑ−（ェポキシメタ／）プロスタン酸メチルェ
ステルを生ずる。このメチルヱステルは、考参例６３の
手順に従って９Ｑ・１１Ｑ一（ェポキシメタ／）プロス
タン酸とジアゾメタンとの反応によって縛られるメチル
ェステルと実質的に同じ物理性状をもっている。 参考例 ６６９Ｑ・１１Ｑ−（ェポキシメタ／）プロス
タン酸参考例６３の手順に従って、９・１１−ジデオキ
シー９Ｑ・１１Ｑーエポキシメタノー１５８−ＰＧＦ２
Ｑは対応するメチルェステル１５ーアセテートに転化さ
れる。 これは参考例４５の手順によってもつくられる。次に参
考例６４の手順に従って、このメチルエステル１５ーア
セテートは９Ｑ・１１Ｑ−（エポキシメタノ）プロスタ
ン酸に転化される。参考例６４の生成物と実質的に同じ
物理性状である。参考例 ６７ ９Ｑ・１１Ｑ−（ヱポキシメタ／）プロスタン酸参考例
６３の手順に従って、９・１１ージデオキシー９Ｑ・１
１ｑーェポキシメタノーＰＧＦ，Ｑは対応するメチルェ
ステル１５ーアセテートに転化される。 次に参考例６４の手順に従って、このメチルェステル１
５−アセテートは９Ｑ・１１Ｑ−（エポキシメタノ）プ
ロスタン酸へ転化される。参考例６４の生成物と実質的
に同じ物理性状である。参考例 ６８ ９Ｑ・１１Ｑ−（ェポキシメタ／）プロスタン酸メチル
エステル参考例６５の手順に従って、９・１１ージデオ
キシ−９Ｑ・１１Ｑ−エポキシメタ／一１５０−ＰＧＦ
２はメチルエステル１５ーアセテートは、９Ｑ・１１Ｑ
−（ヱポキシメタノ）プロスタン酸メチルェステルに転
化される。 参考例６５の生成物と実質的に同じ物理性状である。ま
た参考例６４と６５の手順に従って、９・１１−ジデオ
キシー９Ｑ・１１Ｑ−エポキシメタノー− ＰＧＦ２Ｑ
１５−アセテート及び９Ｑ・１１Ｑ−ェポキシメタノー
１５８一ＰＧＦ２ｏ１５ーアセテートのエチル、ブロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第二ブチル、
及びｔーブチルェステル類は、９Ｑ・１１Ｑ−（ェポキ
シメタノ）プロスタン酸及びその対応するアルキルェス
テル類に転化される。参考例 ６９ ９・１１ージデオキシー１１Ｑ・９Ｑ−エポキシメタノ
ーＰＧＦ２Ｑメチルエステル１５ーアセテート参考例６
３の手順に従って、９・１１ージデオキシ−１１Ｑ・９
Ｑ−エポキシメタノＰＧＦ２Ｑ３００の９はまずそのメ
チルェステルへ、次にその１５ーアセテートへ転化され
、残留物３４０の９を参考例筋に述べるように中性シリ
カ上のクロマトグラフイにかける。 参考例 ７０ １１Ｑ・９Ｑ−（ェポキシメタノ）ブロスタン酸１％の
濃塩酸水溶液を含有するェタ／ール２５の【中の９・１
１−ジテオキシー１１Ｑ・９ＱーエポキシメタノーＰＧ
Ｆ２Ｑメチルエステル１５ーアセテート２２７の９の溶
液にパラジウム触媒（５０の９、炭素上の１０％）を加
える。 生ずる混合物を大気圧の水素雰囲気下に約２５午○で、
水素の摂取が止まるまで（６分間）振とうする。次にこ
の混合物をセライトの詰物に通してろ過し、フィルター
詰物をエタノールで洗う。一緒にしたろ液と洗浄液に水
酸化ナトリウム水溶液を加え、エタノールの約半量を減
圧下に除去する。残りの混合物を２５ｑ０に３時間放置
する。次に残りのエタノールを減圧下に除去し、水性残
留物を冷し、が重硫酸カリウム水溶液で酸性にし、酢酸
エチルで数回抽出する。一緒にした抽出液を塩水で洗い
、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に蒸発させる。
残留物を酢酸エチル−へキサン（５：９乾き量比）で詰
めた酸で洗ったシリカ（マリンクロツトＣＣ一４）上で
クロマトグラフィにかけ、酢酸エチルーヘキサン（１５
：８３容量比）で港離し、５の‘ずつのフラクションを
集める。フラクション１８〜斑を一緒にして減圧下に蒸
発させると、１１は・９Ｑ−（ェポキシメタ／）プロス
タン酸１５７の夕を生ずる。赤外線吸収は３０００、２
腿０、２９２０、２８６０、１７３５、１７１０、１４
６０、１４１５、１２９０、１２４０、１１６５、１１
２０、１０６０、１０２５、９５５、９３５、概５、及
び８７０肌‐１。ＮＭＲのピークは９．１８（シングレ
ツト、冷却するとシフトする）、４．０５（シングレツ
ト）、３．９〜３．４（６本の線模様）６。ＴＭＳ譲導
体の質量スペクトルＭ＋４１０．３２０６（Ｃ２４日簿
Ｓｉ０３の理論値４１０．３２１６）、またピークはｍ
／ｅ３９ふ３９２、総ｕ３４２、２８４、２５７、２０
９。参考例 ７１１１Ｑ・９Ｑ−（ェポキシメタノ）プ
ロスタン酸メチルエステル９・１１−ジデオキシー１１
は・９Ｑ−エポキシメタノ−ＰＧＦ２Ｑメチルエステル
１５−アセテートを、参考例７０に述べたパラジウム及
び塩酸で接触された水素添加及び水添分解にかける。 しかし一緒にしたろ液と洗浄液を水酸化ナトリウムで処
理する代わりに、参考例６５の手順に従って処理すると
、１１Ｑ・９Ｑ一（エポキシメタノ）プロスタン酸メチ
ルェステルを生ずる。このメチルェステルは、参考例６
３の手順に従って１１Ｑ・９Ｑ−（ェポキシメタノ）プ
ロスタン酸とジアゾメタンとの反応によって得られるメ
チルェステルと実質的に同じ物理性状をもっている。参
考例 ７２ １１Ｑ・９Ｑ−（ェポキシメタノ）プロスタン酸参考例
６３の手順に従って、９・１１−ジデオキシー１１は・
９はーェポキシメタノーＰＧＦ，Ｑは対応するメチルヱ
ステル１５−アセテートへ転化される。 次に参考例７０の手順に従って、このメチルェステル１
５−アセテートは１１Ｑ・９Ｑ−（エポキシメタノ）プ
ロスタン酸に転化される。参考例７０の生成物と実質的
に同じ物理性状である。参考例 ７３ １１Ｑ・９Ｑ−（ェポキシメタノ）プロスタン酸参考例
６３の手順に従って、９・１１−ジデオキシー１１Ｑ・
９Ｑ−エポキシメタノ−１５３−ＰＧＦ２Ｑは対応する
メチルェステル１５−アセテートへ転化される。 次に参考例７０の手順に従って、このメチルエステル１
５−アセテートは１１Ｑ・９Ｑ−（ヱポキシメタノ）プ
ロスタン酸へ転化される。参考例７０の生成物と実質的
に同じ物理性状である。参考例 ７４１１Ｑ・９Ｑ−（
ェポキシメタノ）プロスタン酸メチルエステル参考例７
１の手順に従って、９・１１−ジデオキシ−１１Ｑ・９
Ｑーエポキシメタノー１５８一ＰＧＦ２Ｑメチルエステ
ル１５ーアセテートは１１Ｑ・９Ｑ−（ェポキシメタノ
）プロスタン酸メチルェステルへ転化される。 参考例７１の生成物と実質的に同じ物理性状である。ま
た参考例７０と７１の手順に従って、９・１１ージデオ
キシ−１１ｏ・９ｏーエポキシメタノ−ＰＧＦ２Ｑ１５
ーアセテート及び１１Ｑ・９Ｑーェポキシメタノー１５
８−ＰＧＦ２Ｑ１５ーアセテートのエチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、イソブチル、第二プチル及びｔ
−プチルェステル類は、１１Ｑ・９Ｑ−（ェポキシメタ
ノ）プロスタン酸及び対応するそのアルキルェステル類
へ転化される。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物〔式中Ｇは ▲数式、化学式、表等があります▼ 又は＝ＣＨ＿２であ り、Ｚはシス−ＣＨ＝ＣＨ−であり、Ｒは水素、１〜４
   個の炭素原子のアルキル、又は薬学的に受入れられる陽
   イオンであり、Ｒ＿２とＲ＿３は水素、メチル、又はエ
   チルであり、Ａは▲数式、化学式、表等があります▼ 又は ▲数式、化学式、表等があります▼ である〕。 ２ Ｇが ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｒが水素又は１〜４ 個の炭素原子のアルキルである、特許請求の範囲第１項
   による化合物。 ３ Ｇが＝ＣＨ＿２であり、Ｒが水素又は１〜４個の炭
   素原子のアルキルである、特許請求の範囲第１項による
   化合物。 ４ Ａが ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｒ＿２とＲ＿３がともに水素 である、特許請求の範囲第２項による化合物。 ５ Ａが ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｒ＿２とＲ＿３がともにメチ ルである、特許請求の範囲第２項による化合物。 ６ Ａが ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｒ＿２とＲ＿３がともに水素 である、特許請求の範囲第３項による化合物。 ７ Ｚがシス−ＣＨ＝ＣＨ−であり、Ａが▲数式、化学
   式、表等があります▼ であり、Ｒ＿２とＲ＿３がともにメチルである、特許請
   求の範囲第３項による化合物。