JPS60243093A - ロジウム−ジホスフイン錯体及びその製造方法 - Google Patents

ロジウム−ジホスフイン錯体及びその製造方法

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式 ％式％ 式中、Ｘは、随時担体に固定されていてもよく、式Ｚ−
ＣＯＯ−の残基を表わし、Ｚは基 ノ９−フルオロフェニル、パーフルオロビフェニルまた
は式 の残１基を表わし、Ｒ１、Ｒ２及びｐＢはハロケ９ン、
低級アルキル、ノや一ノルオロフェニル、ノに一フルオ
ローＣＩ　％　２０−アルキル、水素または基−ＣＯ−
４もしくけｌ０Ｃ−（ＣＦ２）、−を宍わし、Ａけ残基
−ＯＲ捷たけ−ＮＢ’。
を界わし、たカーし、置換基Ｒ１、Ｒ２及びＲ３のうち
の少なくとも１つはフッ素を表わすものとし、Ｒけ水素
、低級アルキル捷たに」陽イオンを表わし　Ｂｌは水素
または１１ｔ　９アルキルを表わし、ｎけ！！／１〜２
０を≧ｊ（わし、Ｙはキラルソホスフイン配位子を表わ
し、そ１．てＬは中性配位子を表わす、−の新規なギラ
ル（ｃｈｉｒａｌ　）ロソウムーソホスフイン錯体に関
する。
また、本発明は弐Ｉのロソウムーソホスフイン錯体の製
造、並ひに不斉水素添加（ａｓｙｒｍｎｅｔｒｉｃｈｙ
ｄｒｏｇｅｎａｔ　ｉｏｎ　）に対するその用途に関す
る。
キラルロヅウムーソホスフイン錯体及び不斉水素添加に
おけるその用途は文献によりすでに公知である。通常こ
れらの錯体は陽イオン性であるが、或いはとれらが中性
である場合、配位子Ｘとして塩素、臭素またにヨウ素を
含有する。不斉水素添加においてかかる錯体の使用によ
って得られる光学的収率は、ケト・クントラフトンの水
素添加の場合、最も好ましい場合には約８０〜８４％で
ある。
驚くべきことに、すでに公知の錯体と比較して、本発明
における式Ｉのロジウムーソホスフイン錯体は、けるか
に活性で月つエナンチオマー選択的（ｅｎａｎｔｉｏｓ
ｅｌｅｃｔｉｖｅ　）であり、このことは殊に、該錯体
を使用することによって、かなり少量の触媒を用いるこ
とができ、短い反応時間が可能であり、そして９４に以
上の光学的収率を得ることができることを意味する。
「低級アルキル」なる用賭け、本発明の範囲においては
、炭素原子１〜９個を有する直釦状または分枝鎖状のア
ルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ、−ブチル、
ペンチル、ヘキシル、ヘゾチル、オクチルまたはノニル
等を表わす。「ノ・ロケ゛ン」なる用語はフッ素、塩素
、臭素及びヨウ素を表わし、フッ素が好ましい。１ツク
−フルオロ−０１〜、。−アルキル」なる用語は、オ発
明の範囲においては、直鉛状のみならず、また分枝鎖状
の随時また光学的活性であってもよい鋤を表わし、これ
によって、全ての水素原子がフッ素原子で完全に置換さ
れる必要はない。水素原子の全てがフッ素原子で！’１
Ｍされていない場合、殊に末端水素原子が屡々存在する
。Ｘが担体に固定されている場合、これは基−ＣＯＡを
介して固定される。本明細書において用いる「アリール
」なる用語は、本発明の範囲において、随時ｐ−及び／
まだはｍ−位置に低級アルキル“または低級アルコキシ
基、好ましくはメチルもしくはメトキシ基、或いはまた
ノー低級アルキルアミノ基、好ましく幻ツメチルアミノ
基、並びにカルボキシ、カルバモイル、シアンまたは低
級アルコキシカルボニル基ヲモっていてもよいフェニル
を表わす。更に、同一リン原子における２個のアリール
基は藺接相■に□−位置を介して、或いはまたメチレン
、エチレンまタハゾロビレン基を介して結合していても
よい。
「アリールオキシ」力る用語ねアリール残基が」二記の
意味を有する基を表わす。「低級アルコキシ」なる用語
はアルキル残基が上記の意味を有する基を表わす。更に
、表示「マ」は対応する残基が分子の面の上に位置する
ことを表わし、一方、表示「百」は対応する残基が分子
の面の下に位１６′することを表わす。記号ｎは数１〜
２０、打首シ２くは１〜１２、特に１〜８を表わす。
「中性配位子」なる用語は、本発明の範囲において、容
易に交換可能な配位子、例えばオレフィン、例工ばエチ
レン、プロピレン、シクロオクテン、１，５−ヘキサツ
エン、ノルボルナジェン、１．５−シクロオクタツエン
等、ニトリル、例えばアセトニトリル、ベンゾニトリル
、または用いる溶媒、等を表わす。この配位子は水素添
加に際して交換され得る。１個以上のかかる配位子が存
在する場合、またこれらは相互に異なるものであっても
よい。
キラルソホスフイン配位子として、不斉水素添加に関し
て公知の計つ随時担体に固定されていてもよい全てのソ
ホスフイン配位子を原則として用いることができる。か
かる配位子１公知のものであり、当該分野に精通せる省
にとつで０容易に理解できよう。例えば本発明の範囲内
で考えられる配位子け、マルコ・エル（Ｍａｒｋ’ｏ　
、Ｌ、）笠、アスペクト・オプ・ホモソニアス・キャタ
リシス（Ａｓｐｅｃｔｓ　ｏｆ　ｌｌｏｍｏｇｅｎｏｕ
ｓ　Ｃａｔａｌｙｓｉｓ　）、４．１４５〜２０２（１
９８１）；１９７８年６月４日の特許出願第６７４１１
号（、Ｄｅｒｗｅｎｔ　８　ｊ　８０Ｃ）；ドイツ国特
許出願公開明細書第２．１６１．２００号：ヨーロッノ
ク特許出願第１０４，３７５号により公知である。％に
適当且つ好ましい配位子は例えば一般式 式中、Ｒ４はアリールを表わし、そしてＲ１′は基−Ｃ
ｏ−Ｒ６’１−５ｏ２−Ｊ？’　、−ＰＯ（Ｒ′′）２
またｌｄ’−７’、Ｓ（／？６）、を表わし、Ｒ６けア
リール、低級アルキル、ノアＩＪ−ルアミノ、ノー低級
アルキルアミノ、アリールオキシまたは低級アルコキシ
を表わす、のキラルホスフィンである。
式■の好ましいロソウムーソホスフイン錯体はＺが基 を表わし、そして置俟基ＲＩＸＲ１及びＲ３のうちの２
つがフッ素を表わし、他がハロゲノまたは・ぐ−フルオ
ローＣ１〜２ｏ−アルキルを表わすものである。式ＴＩ
の好ましいジホスフィン配位子けＲ４がフェニル、ｐ−
トリル、ｍ−トリルマタハ３．５−キシリルを表わし７
、そして残基ＲＩ′におけるＲ６がフェニル、ｐ−トリ
ル、？７Ｌ−）リル、ｐ−４１’ｆＡアルコキシカルボ
ニルフエニルマタハｔｅｒｔ、−ブトキシを表わすもの
である。更に、特に好ましいホスフィンは残基Ｒ１１が
基−ＰＯＣ１）。
を表わすものである。
好ましいジホスフィン配位子の例として次のものを挙げ
ることができる： （２Ｓ、４Ｓ）−４−（シーｍ−トリ＃ホスフィノ）−
２−（（ジーｍ−）リルホスフイノ）メチル）−１−（
ジフェニルホスフィノイル）−ピロリジンＨ（ｒｎｃＨ
，−ＰＯＰＰＭ）（２Ｓ、４Ｓ）−４−（ジフェニルホ
スフィノ）−２−（（ジフェニルホスフィノ）メチル〕
−１−（ジフェニルホスフィノイル）−ピロリジン；（
ＰＯＰＰＭ） （２ｓ、４ｓ）−４−（ソーｐ−トリルホスフィノ）−
２−［（ソーｐ−トリルホスフィノ）メチル〕−１−（
？）フェニルホスフィノイル）−ピロリジン、（ｐＣＨ
，−ＰＯＰＰＭ） （２５，４５）−４−（ジフェニルホスフィノ）−２−
Ｃ（ジフェニルホスフィノ）メチル〕−１−（？−ｐ−
カルボメトキシフェニルホスフィノイル）−ピロリソ／
； （２Ｓ、４Ｓ）　−４−（ジフェニルホスフィノ）−２
−（（ジフェニルホスフィノ）メチル〕−１−（ｔｅｒ
ｔ、−ブトキシカルボニル）−ピロリジン＋　（ＢＦ７
”ＡＩ＞ （２Ｓ、４Ｓ）−４−（ジー餠−トリルホスフイノ）−
２−（（ジー兜−トリルホスフィノ）メチル〕−１−（
ｔｔｔｒｔ、−ブトキシカルボニル）−ピロリジン；　
（ｍｃＨ３−ＢＰＰＭ）。
式Ｉの特に好ましいロソウムージホスフイン錯体Ｆ’ｉ
Ｒ’　ＸＲ”　１−ｋｕＲ”がノｅ−フルオロ−ＣＩ−
１１０−アルキルを表わすもの、並びにＺが基−ＣＦ、
またけＣ１−ＣＦ、−を表わし、そしてジホスフィン配
位子がＢｐｐＭ：淋ＣＨ８−ＢＰＰＭ。
ＰＯＰＰＭまたは慨ＣＨ３−ＰＯＰＰＭであるものであ
る。式 ％式％ ） の錯体が殊に好ましい。
本発明における式Ｉのロジウムーソホスフイン錯体はそ
れ自体既知の方法において製造することができる。本錯
体は、例えば α）式 ％式％ 式中、Ｘ及びＬは上記の意味を有し、そしてｍは数１〜
４を表わす、 のロソウム錯体をキラルソホスフイン配位子と反応させ
るか、 ｂ）式 ％式％ 式中、Ｌ及び毒は上記の意味を有し、そしてＡ−は陰イ
オン、特にＢＦ、−１ＣＩＯ４−１Ｐ　Ｆａ−またはＢ
（Ｃｅ　Ｂ１１）　４−　を弄わす、のロジウム錯体を
キラルソホスフイン配位子及び陰イオンＸを含む塩と反
応させるか、 Ｃ）式 ％式％ 式中、Ｌ、Ｙ及びＡ−は上記の意味を治し、そしてｐは
数１〜３を表わす、 のロソウムーソホスフイン錯体を陰イオンＸを含む塩と
反応させるか、或いは ｄ）式 ％式％ 式中、Ｘｌはハロケ゛ンを表わし、そしてＬ及びＹは上
記の意味を有する、 のキラルロノウムーソホスフイン錯体を式％式％ 式中、Ｘは上記の意味を有する、 の銀塩またはタリウム塩と反応させる ことによって製造することができる。
反応方法ａ）〜ｄ）における式ＩＩＩ　、　ＩＶ　、　
Ｖ及び■のロジウム錯体の反応はそれ自体汲知の方法に
よって行うことができる。これらの反応は不活性有機溶
媒中で有利に行うことができる。挙げ得るかかる溶媒の
例は芳香族炭化水素、例えばベンゼン、トルエン等、エ
ステル、例、ｔｌｄ’酢酸エチル等、環式エーテル、例
えばテトラヒドロフランもしくはソオキサン、低級アル
コール、例えばメタノール、エタノール等、或いはまた
これらの混合物である。この反応は約０℃乃至約１００
℃間の湯度、好ましくは約１５°Ｃ〜約６０℃で、但し
酸素を完全に排除しながら、行うことができる。
「陰イオンＸを含む塩」なる用語は、本発明の範囲にお
いて、特にアンモニウム塩、アルカリ金属塩、アルカリ
土類金属塩並びに他の適当な金属塩を表わす。かかる塩
は公知の物質である。ある溶媒に対するかかる塩の溶解
度を高めるために、必要に応じて適当なりラウンエーテ
ル（ｃｒｏｌｌｙｒＬｅｔｈｅｒ　）を加えることがで
きる。
式■のロノウムーソホスフイン錯体は触媒またはその前
駆物質である。その真の化学的構造式を確実に示すこと
ができないために、またこれらのものは、前記の反応α
）〜ｄ）に従って式■〜■のロジウム錯体を反応させて
得られることに特徴ずけられる。
出発物質として用いる式Ｉｎ　、　ＩＶ　、　Ｖ及び■
のロジウム錯体は既知の物質であるか、或いは公知の物
質と同様にして容易に製造し得る公知の物質の同族体で
ある。
すでに述べた如く、本発明における式■のロソウムーソ
ホスフイン錯体は不斉水素添加における触媒として利用
される。本錯体けα、β−不飽和酸及びエステル、並び
にα−ケト−カルボン酸及びエステル並びにα−ケト−
ラクトンの不斉水素添加に関連して殊に重要である。殊
に、ジヒドロ−４，４−ツメチル−２，３−７ランノオ
ン（ケト・９ントラクトン）の対応するＲ−（α−ヒド
ロキシ−β、β−ツメチルーγ−ブチロラクトン）ＣＲ
−（−）−パントラクトン〕への不斉水素添加に対して
重要である。
上記の不斉水素添加を行うために、式Ｉの錯体をそのま
ま水素添加する不斉化合物の溶液に加えることができる
。別法として、また該錯体を、水素添加する不斉化合物
の存在下において、その場で生成させることができる。
不斉水素添加は反応条件下で不活性である適当な有機溶
媒中で行うことができる。かかる溶媒として、殊に低級
アルカノール、例えばメタノールまたはエタノール、芳
香族炭化水素、例えばベンゼンまたはトルエン、環式エ
ーテル、例えばテトラヒドロフラ／サタはソオキリン、
エステル、例えは酢酸エチル、或いはまたこれらの混合
物等を挙げることができる。ロソウム及び配位子Ｙ間の
比は有利には配位子１モル当シロソウム約０．０５乃至
約５モル間、好ましくは約０．５乃至約２モルである。
ロソウム及び残基Ｘ間の比は有利には残基Ｘ１モル当り
ロソウム約０．０１乃至約２０モル間、好ましくは約０
．５乃至約１０モル間である。
式■の錯体におけるロソウム及び水素添加する化合物間
の比は有利には約ｏ、ｏｏｏｏｉ乃至約５重量％間、好
ましくは約０．０００１乃至約０．０１重量％間である
。
弐Ｉの錯体を用いる不斉水素添加は約０９Ｃ〜約１００
℃、好ましくは約０９Ｃ〜約７０°Ｃの温度で行うこと
ができる。この水素添加は有利には加圧下で、特に約１
〜１００バール、好ましくは２〜５０バール下で行われ
る。
以下の実施例は本発明を説明するものであり、決して本
発明を限定するものではない。
実施例において、用いた略語は次の意味含有する＝ Ｃ０Ｄ＝１．５−シクロオクタジエン ＢＰＰＭ：ｍｃＨ，−ＢＰＰＭ：ＰＯＰＰＭ：ｍｃＨ，
−Ｐ　ＯＰ　ＰＨ：　前記のソホスフイン。
５８９ｎｍ、（Ｄ−線）で（Ｒ）−（−）−パントラク
トンの光学的回転は２０°Ｃ及びイオンを含まぬ水中の
３％濃度で測定した。
光学的純度に対する値は最も純粋な（Ｒ）−（−）−パ
ントラクトンに対する〔α〕π＝　−５１，６゜（ｃ＝
３＋Ｈ２０）に基づく。
実施例１ ９８％（２Ｓ、４Ｓ）−４−ジ−ｍ−トリルホスフィノ
）−２−４（ソーｍ−トリルホスフィノ）メチル）−１
−（ソフェニルホスフィメイル）ピロリソｙ　（−ｔｎ
Ｃｌｌ’ｓ　−Ｐ　ＯＰＰＭ　）　９０．５　”／　（
０，１２５ミリモル）、テトラフルオロホウ酸ビス（１
，５−シクロオクタジエン）ロソウム（Ｉ）５［］、２
Ｔｎｇ（０，１２４ミリモル）及びトリフルオロ酢酸テ
トラズチルアンモニウム４４．４　ｍｇ　（ｏ、　１２
５ミリモル）をグローブ・ボックス（ｇｌｏｖｅ　ｂｏ
ｘ　）　（０゜含有ｆｔ　１　ｐ　ｐ　ｍ以下）中で容
量１００−のメスフラスコに加えた。次にこのフラスコ
に、０．を含寸ぬトルエン約１００−を１００ｒｎＩ！
の印し捷で入れた。得られた懸濁液を２２℃で２４時間
攪拌し、これによって橙色の濁った溶液を生じた。
実施例２ ジヒドロ−４，４−ツメチル−２，６−７ランノオン（
ケトパントラクトン）２００ｆ（１，５６１モル）及び
トルエン６００−を容量１ノの攪拌機料オートクレーブ
中に入れた。４０°Ｇに加熱した後、空気を高真空ポン
プ（０，０５〜０．１バール）によって５回真空にして
オートクレーブから除去し、各々の場合に水素１０バー
ルを導入した。次にケトパントラクトン溶液の温度を３
５℃に調節し、圧力を０５バールに降下させ、直ちに実
施例１に従って製造した触媒溶液５０−を０２の完全な
不存在下において吸入させた。４０バールの水素圧にし
だ後、混合物を攪拌しながら一定圧力（４０バール）に
て６５℃で１時間及び４５℃で４時間水素添加した。合
計５時間の水素添加後、淡黄色の水素添加溶液をオート
クレーブから減圧下で除去し、オートクレーブをトルエ
ン各１００−で５回すすいだ。合液したトルエン溶液を
６０’Ｃ／１７１バールで回転蒸発機によって蒸発させ
た。残渣（２１ｏｙ）を浴温１６０〜１５０℃及び１２
ミリバー、ＩＬで蒸留した。光学的純度９０７％を有す
るＲ−（α−ヒドロキシ−β、β−ツメチルーγ−ブチ
ロラクトン（−Ｒ−（−）−・ぐントラクトン）２０１
．６ｒ（９９，３に）が得られた。
〔α〕ガバー−６，８°　（Ｃ＝３、Ｈ，０）。
吠、流側３ 実施例１と同様の方法において、クロロノルボルナツエ
ン−ロジウム（１）二量体２９０■（０，０６２５ミリ
モル）、（２Ｓ、４５）−４−（ジフェニルホスフィノ
）−２−〔（ジフェニルホスフィノ）メチル］　−１−
（’　ｔｅｒｔ、−ブトキシカルボニル）−ピロリジノ
（ＢＰＰＭ）７０．０７４ｒ　（０，１２６ミリモル）
及びトリフルオロ酢酸鋼２７．８〜（０，１２６ミリモ
ル）から触媒溶液（１００ｒｔｉ　）を製造した。
実施例４ 容ｉＪＨ５００ｍｌのオートクレーブにグローブ・ボッ
クス中でケトノぞントラクトン４０Ｍ０．３１モル）、
トルエン２０〇−及び触媒溶液（実施例３によるもの）
１０ｔｎｌを入れた。水素添加を３０℃でＨ２４０バー
ルの一定圧力下にてはげしく攪拌しながら行った。溜敷
の偏度が４３℃に上昇した。
１時間後、転化率は９８丸であった。合１ｉｔ３時間伝
、混合物を実施例２と同様にして処理し、紳、枠外（Ｒ
）−パントラクトンが得られた。〔α〕カ＝−４６．０
°。光学的純度８９１％。
実施例５ 実施例１と同様の方法において、テトラフルオロホウ酸
ビス（アセトニトリル）−１，５−シクロオクタソエン
ーロソウム２６８■（０，０６２５ミリモル）、（２Ｓ
、４Ｓ）−４−（ソー？＋＋、−）リルホスフイノ）−
２−（（ジーｍ−）　ＩＪルホスフイノ）メチル）−１
−（ジフェニルホスフィノイル）−ピロリジノ（ｔｎ、
ｃ’Ｈ３−Ｐ　ＯＰ　Ｐ　ＩＩＩ’　）　７５３〜（０
，０６２５ミリモル）及びｌ・リフルオロ酢酸テトー７
２チルアンモニウム２２．２〜（０，０６２５ミリモル
）から触媒溶液（１００ｍ！りを製造し、た。
実施例６ 実施例５に従って製造しに触媒溶油１０　ｍｌによるケ
トパントラクトン４０．Ｏｆの水素添加を実施例４に述
べた如くして行った。２時間の水素添加稜、混合物を実
施例２と同様にして処理し、純粋１（／？）−・ぐント
ラクトンが得られた。〔α〕かニー４６．７°。、光学
的純度９０，５％。
実施例７ 実施例１と同様の方法において、ヘキサフルオロリン酸
ビス（１，５−シクロオクタツエン）ロジウム２９．　
ＯｊＶ　（０，０，６２５ミリモル）、ｍＣＨ８−ＰＯ
ＰＰＭ４５．５■（０，０６２５ミリモル）及Ｕ／？−
７／ｌ／オロゾロビオン酸テトラブチルアンモニウム２
５．３＋ｎｑ　（ｏ、ｏ　Ｉｓ　２　ｓミリモル）から
触媒油浴（１００ｍ／）を製造した。
実施例８ 実施例７（ｆ（従って製造した触媒溶油ＩＤ＋ｍ！によ
るケト・ぞントラクｌン４０２の水素添加を実施例４に
述へた如くして行った。３時間の反応時間後、混合物を
実施例２と同様にして処理１〜だ。純粋な（、ｌ？）−
ノ七ントラクトン、〔α〕”１＝−４８，３°、が得ら
れた。光学的純度９３６％。
実施例９ 実施例１と同様の方法において、ヘキサフルオロリン酸
ビス（１，５−シクロオクタシアニン）ロジウム２９．
０〜（０，０６２５ミリモル）、ｍＣＨ。
−ｐＯＰｐＭ４５３巧（０，０６２５ミリモル）及びパ
ーフルオロ酪酸テトラブチルアンモニウム２８．５ｗｊ
（０，０６２５ミリモル）から触媒溶液（１００ゴ）を
製造した。
実施例１０ 実施例９に従って製造し７か触媒溶液１０ｍ／’、によ
るケト・ぐントラクトン４００２の水素添加を実施例４
に述べた如クシ、て行った。５時間の水素添加時間後、
混合物を実施例２と同様にして処理し、純粋な（／ｒ）
−・ぞントラクトンが得られた。
〔α）ｇ−−４８，４°。光学的純度９３．８に。
実施例１１ 実施例１と同様の方法において、〔Ｒｈ（ＣＯＤ）、〕
ＰＦ６２９．０■（０，０６２５ミリモル）、常ＣＨ，
−ＰＯＰＰＭ４５．５■（０，０６２５ミリモル）及び
クロロソフルオロ酢酸テトラブチルアンモニウム２３、
０１１１ｇ（０，０６２５ミリモル）から触媒溶液（１
ｏ　Ｏａ／）を製造した。
実施例１２ 実施例１１に従って製造した触媒溶液１ｏ−によるケト
パントラクトン４０．Ｏｆの水素添加を実施例４に述べ
た如くして行った。２時間の水素添加時間後、混合物を
実施例２と同様にして処理し、純粋な（Ｒ）−パントラ
クトンが得られた。
〔α）ｇ−−４６，９°。光学的純度９１．０％。
実施例１３ 実施例１と同様の方法において、Ｃｐｈ（Ｃｏｎ）＊）
ＰＦ、５ａ０１１ｆ（０１２５ミｌＪモル）、ｒｎＣＨ
，−ＰＯＰＰＭ９０〜（０，１２５ミリモル）及びトリ
フルオロ酢酸テトラブチルアンモニウム４４．０〜（０
，１２５ミリモル）から触媒溶液（１００ｔｎｌ）を製
造した。
実施例１４ 実施例１３に従って製造した触媒溶液１０１によるケト
パントラクトン４０２の水素添加を実施例４と同様にし
て、但しＨ１圧５バールで行った。
１０時間の水素添加時間後、混合物を実施例２と同様に
して処理した。純粋な（Ｒ）−−ｅントラクトンが得ら
れた。〔α１３＝−４７，７°。光学的純度９２．２％
。
実施例１５ 実施例１３と同様の方法において、酢酸エチル中の触媒
溶液を製造した。
実施例１６ 実施例１５に従って製造した触媒溶液１０−によるケト
パントラクトン４０Ｆの水素添加を実施例２に従って３
０°Ｃ／４０バールＨ１で２０時間行い、そして処理し
、９１５％（Ｒ）−・にントラクトンを得た。〔α）５
；＝−４６，８°。光学的純度９０．７％。。
実施例１７ 容量５００７のスチール製オートクレーブにグローブ・
ボックス（Ｏ６含ｉ’ｆ　１　ｐ　ｐ　ｍ以下）中でケ
トパントラクトン４ｏ、ｏｒ（ｏ３１モル）、トルエン
２１０　ｍ、ＣＲｈ　（ＣＯＤ）、〕ＰＦ６１８０．６
１１ｖ（０，３８９ミリモル）　、ｍｃＨ，−ＢＰＰＨ
２５Ｚ３■（［］、　３８９ミリモル）及びトリフルオ
ロ酢酸テトラブチルアンモニウム１３８６■（Ｄ、　３
８９　ミＩＪモル）を加えた。水素添加をＲ２４０バー
ルの一定圧力下にて３０℃ではげしく攪拌しながら行っ
た。発熱反応のために、温度が５５℃に上昇した。１．
２時ｒ！Ｊ後に、９９％以上の転化率が達成された。合
計２時間の水素添加時間後、混合物を実施例２に述べた
如くして処理した。
純粋な（１−−＃ントラクトンが得られた。
〔α）ｇ−−ｓ６．ｏｏ。光学的純度８９１％。
実施例１８ 容量５００１ｎｌのスチール製オートクレーブにグロー
ブ・ボックス（Ｏ８含有ｆ／ｒ１ｐｐｍ以下）中でケト
ノぐントラクトン４０．（Ｉｎ（０，３１モル）、トル
エン２１０−１〔Ｒｈ（ＣＯＤ）２〕ＰＦ６１８０．６
■（０，３８９ミリモル）、ＰＯＰＰＭ２５４．３■（
０３８９ミＩＪモル）及びトリフルオロ酢酸テトラブチ
ルアンモニウム１６８６■（０，３８９ミリモル）を加
えた。水素添加をＲ７４０バールの一定圧力下にて６０
℃で―けしく攪拌し女から行った。発熱反応のだめに、
＠度が５８℃に上列した。
１時間徒に９９％以上の転化率が達成された。合１１２
時間の水素添加時間後、混合物を実施例２に述べた如く
して処理した。純粋ｆｘ（Ｒ）−−Ｚントラクトンが得
られた。〔α）ｇ＝−４６，６°。光学的純度９０．４
％。
実施例１９ 実施例１８と同様の方法において、〔Ｒｈ（ＣＯＤ）！
〕ＰＦ６１８０．’６■（０，３８９ミリモル）及びｐ
ｏｐＰＭの代シに（２Ｓ、４Ｓ）−４−（’）フェニル
ホスフィノ）　−２−Ｃ（ソフェニルホスフイノ）メチ
ル）−１−（ヅーｐ−カルボメトキシフエごルホスフイ
ノイル）−ピロリジン２９９．４　恍Ｉ（０，３８９ミ
リモル）を用いて水素添加を行った。
２時間の反応時間後、混合物を実施例２と同様にして処
理し、純枠外（Ｒ）−・ぞントラクトンが得らねた。〔
α）ｐ−−４６，２°。光学的純度８９６％。
実施例２０ 実施例１８と同様の方法において、〔Ｒｈ（ＣＯＤ）（
ＢＰＰＭ）〕ＣＩ０，３３６．２１ｖ（０，６８９ミリ
モル）及びトリフルオロ酢酸テトラブチルアンモニウム
１４４．７！（０，３８９ミリモル）を用いて水素添加
を行った。２時間の反応時間後、混合物を実施例２と同
様にして処理し、純粋な（Ｒ）−パントラクトンが得ら
れた。〔α）ｐ＝−４７，５°。光学的純度９２．０％
。
実施例２１ 実施例１８と同様の方法において、（２Ｓ。
４Ｓ）−４−（ソフェニルホスフイノ）−２−〔（ソフ
ェニルホスフイノ）メチル）　−１−（１０−ウンデセ
ノイル）−ピロリジン２４１．１１ｎｆ（０，５８９ミ
リモル）、クロロソフルオロ酢酸テトラブチルアンモニ
ウム１４４．７■（０，３８９ミリモル）及び〔Ｒｈ　
（ＣＯＩＪ））、〕ＰＦ６１８０．６■（０，３８９ミ
リモル）を用いて、ケトパントラクトン４０ｆの水素添
加を行った。１．５時間の反応時間後、混合物を実施例
２と同様にして処理し、純粋ｆｉ　’（Ｒ）　−ノｅン
トラクトンが得られた。
〔α〕ガーー４６．０°。光学的純度８９．２％。
実施例２２ 容ｉｉ゛５ｏｏ−のスチール製オートクレーブにグロー
ブ・ボックス（０２含有ｆ１１ｐｐｍ以下）中テイタコ
ン酸２．６Ｆ（２０ミリモル）、トルエン１５０ｆｆＩ
１１メタノール５０ｒｎＩ！、トリエチルアミン２．０
２ｆ（２０ミリモル）、〔Ｒｈ（ＣＯＤ）、〕ＢＦ。
３６．０■（０，０８８６ミリモル）、ＢＰＰＭ４９ｖ
ｑ　（０，０８８６ミリモル）及びトリフルオロ酢酸テ
トラブチルアンモニウム５１．５ｍン（０，０８８６ミ
リモル）を加えた。水素添加をＲ１６バールの一定圧力
下にて６０°Ｃではげしく攪拌しガから行った。合計６
時間の水素添加時間後、反応溶液を蒸発させ、残査を２
Ｎ水酸化す）　ＩＪウム溶液に溶解した。水相をトルエ
ンで洗浄し、濃塩酸でｐＨ値２に調節し、ＮａＣ１で飽
和させ、エーテル３Ｘ１００ｄで抽出した。合液したエ
ーテル相をＮａ、ＳＯ，上で乾燥し、そして蒸発させた
。白色結晶としてメチルコハク酸２．４　ｆ　（９２，
３π）が得られた。融点１１１〜１１２℃。〔α〕ｒ−
−１６．２°　（ｃ　＝５　、　ＥｔｏＨ）。光学的純
度９５４％。
実施例２３ オートクレーブにグローブ・ボックス中でトランス−α
−アセトアミド−４−アセトキシ−３−メドキシーケイ
皮酸５．８７ｆ（２０ミリモル）、エタノール２００ゴ
、トリエチルアミン６０．７　ｍｙ（０，６ミリモル）
、ＣＲｈ（ＣＯＤ）、”ＪＢＦ４Ｂ　１．２■（０，２
０ミリモル）、ＢＰＰＡｆ１２１．８■（０２２ミリモ
ル）及びトリフルオロ酢酸テトラブチルアンモニウム７
１．１今（０，２０ミリモル）を加えた。
水素添加を３０℃及びＲ２圧５ｏバールで３時間行った
。反応溶液全蒸発させ、残＄　（５，６ｙ　）を４、５
９Ｆ、’ＮａＨＣＯ３水溶液４０πεに溶解した。水相
をトルエンで洗浄し、濃塩酸でｐＨ値ろに調節し、Ｎａ
Ｃｔ　で飽和させ、クロロホルムで抽出した。
有機相をＮａ、ＳＯ２上で乾燥し、そして蒸発させた。
淡黄色結晶として３−（４−アセトキシ−３−メトキシ
フェニル）−Ｎ−アセチル−Ｄ−アラニン４．８５ノ（
８３％）が得られた。融点１７４〜１７５℃。（α）’
３＝＝３６．７°　（ｃ＝１゜Ｃ１ｌ、ＯＨ）　。光学
的純度９ｏ６（Ｘ０実施例２４ 容量５００ｍ１．のスチール製オートクレーブにグロー
ブ・ボックス（０□含有量ｌｐｐｍ以下）中でケトノぐ
ントラクトン４ｏ、ｏｒ（ｏ、ｓ１ミリモル）、テトラ
ヒドロンラン２０５−１〔Ｒｈ（ＣＯＤ）、〕ＰＦ６１
８０、６　ｍｇ　（０，３８９ミリモル）、ＢＰＰＭ２
１５、’２〜（０，３８９ミリモル）及びトリフルオロ
酢酸テトラブチルアンモニウム１３８３■ヲ加えた。水
素添加を実施例１８と同様にして行った。
１時間の反応時間後、混合物を実施例２と同様にして処
理し、純粋な（７？）−・ぐントラクトンが得られた。
〔α）”、、−−４７，８°。光学的純度９２．７％。
実施例２５ 実施例１と同様の方法において、〔Ｒｈ（ＣＯＤ）、〕
ｐＦ６２９　Ｗ　（０，０６２５ミリモ／Ｉ／　）　、
ｍｃＩｌ、　−ＰＯＰＰＭ４５．５■（０，０６２５ミ
リモル）及びｉｅ−フルオロカプリル酸テトラブチルア
ンモニウム４１．４１ｎ？（０，０６２６ミリモル）か
ら触媒溶液（１００ｍ）を製造した。
実施例２６ 実施例２５に従って製造した触媒溶液１ｏ１ｎｌによる
ケトノぐントラクトン４０．０ｆ（０，３１モル）の水
素添加を実施例４に述べた如くして行った。
３時間の水素添加時間後、混合物を実施例２と同様にし
て処理し、純粋々（１−・ぐントラクトンが得られた。
〔α］＄−−４８．３°。光学的純度９３．６％。
実施例２７ 容量５００−のスチール製オートクレーブにグローブ・
ボックス（０，含有量１１）７１１１以下）中でケトノ
ぐントラクトン４ｏ、ｏｆ（ｏ、３１モル）、）　ルエ
７２１０　ｍ／、（Ｒｈ　（ＣＯＤ）ｔ　〕ＰＦ６１８
０．６ｍｙ　（０，３８９ミリモル）、ＢＰＰＭ２１５
．２ｔｒｑｔ（０，３８９ミリモル）及びペンタフルオ
ロ安息香酸テトラブチルアンモニウム１７６．４■（０
，３８９ミリモル）を加えた。水素添加をＢ２４０バー
ルの一定圧力下にて３０℃ではげしく攪拌しガから行っ
た。発熱反応のために、温度が４０℃に上昇した。３時
間の水素添加時間後、混合物を実施例２に述べた如くし
て処理した。純粋な（Ｒ）−＝ントラクトンが得られた
。〔α〕”ｊ！、＝−４５，８°。
光学的純度８８８％。
実施例２８ ４０％水酸化テトラグチルアンモニウム水溶沿４０．１
■（０，０６２ミリモル）、パーフルオロへブタン酸２
２４０〜（０，０６２ミリモル）、テトラフルオロホウ
酸ビス（１，５−シクロオクタツエン）ロソウム（Ｉ）
　２５．１■（０，０６２ミリモル）及（ＪｍＣＨ３＝
ＰＯＰＰＭ４４．７〜（０，０６２ミリモル）をグロー
ブ・ボックス（０２含有Ｍ１　ｐ　ｐｒｎ以下）中で容
量１００−のメスフラスコに入ねた。
次にこのフラスコに、Ｏ７を含まぬトルエン約１００−
を１００−〇印しまで入れた。次に得られた懸濁液を２
２℃で２４時間攪拌した。かくして、橙色のほとんど透
明な溶液が得られた。
失施例２９ 容１Ｉｔ５００ＩＩ！７！のオートクレーブにグローブ
・ボックス中でケトノぐントラクトン４ｏｙ（ｏ、ｓｉ
モル）、トルエン２００ｔｎｌ及び実施例２８に従って
製造した触媒溶液１０−を加えた。水素添加をＨ８４０
バールの一定圧力下にて４０℃ではげしく攪拌し々から
行った。１時間後、転化率は９９．９％であった。合計
２５時間後、混合物を実施例２と同様にして処理し、純
粋な（Ｒ）−パントラクトンが得られた。〔α）７３−
−４７．５°。光等的純度９２．０％。
実施例６０ 実施例２８と同様の方法において、４０９６水酸化テト
ラブチルアンモニウム水溶液、　４０．１　”！（００
６２ミリモル）、パーフルオロノナン酸２９、０１ｎｇ
　（０，０６２ミリモル）、テトラフルオロホウ酸ビス
（１，５−シクロオクタツエン）ロソウム（Ｔ）２５．
１１ｎｉ／　（０，０６２ミリモル）及びｍｃＥ３−Ｐ
ＯＰＰＭ４４．７■（０，０６２ミリモル）から触媒溶
液（１００ｍ）を製造した。
実施例３１ 実施例３０に従って製造した触媒溶液１０−によるケト
パントラクトン４０．（ｌの水素添加を実施例２９に述
べた如くして行った。２．５時間の水素添加時間後、混
合物を実施例２と同様にして処理し、純粋ｆｉ（Ｒ）−
−ｅントラクトンが得られた。
〔α：）”、３−−４７．５°。光学的純度９２０％。
実施例３２ 実施例２８と同様の方法において、４０％水酸化テトラ
ブチルアンモニウム水溶液４０．１〜（０，０６２ミリ
モル）、ノンーフルオロデン酸３１．８■（０，０６２
ミリモル）、テトラフルオロホウ酸ビス（１，５−シク
ロオクタツエン）ロソウム（Ｉ）２５．１■（ｏ、　０
６２ミリモル）及び竜Ｃ１ｌ、−Ｐ　ＯＰＰＭ４４．７
■（０，０６２ミリモル）から触媒溶液（１００＋＋ｆ
）を製造した。
実施例３３ 実施例３２に従って製造した触媒溶液１０ｍ１！による
ケトパントラクトン４０．　Ｏｆの水素添加を実施例２
９に述べた如くして行った。２．５時間の水素添加時間
後、混合物を実施例２と同様にして処理し１、純粋ｆｉ
（Ｒ）−−６ントラクトンが得られた。
〔α）’、５＝−４７．８°。光学的純度９２．７％。
実施例３４ 実施例２８と同様の方法において、４０％水酸化テトラ
ブチルアンモニウム水溶液１２７．１　Ｆｌ＋’。
（０１９５ミＩＪモル）、α−フルオロケイ皮酸３２．
３■（０，１９５ミリモル）、テトラフルオロホウ酸ビ
ス（１，５−シクロオクタツエン）ロソウム（１）７　
ａ５Ｑ）　（０，１９５ミリモル）及びｒｎ　ＣＨ。
−ＰＯＰＰＭ　１４０．９岬（０，１９５ミリモル）か
Ｃつ触媒溶液（５０ｍｒ、）を製造した。
実施例３５ 実施例６４に従って製造した触媒溶液５０ｍ／による、
トルエン５５ゴに溶解したケト・ぞントラクトン２０．
Ｏｆの水素添加を実施例２９に述べた如くして行った。
１時間の水素添加時間後、混合物を実施例２と同様にし
、て処理し、純粋な（Ｂ）−パントラクトンが得られた
。〔α）’、７　＝−４６，４°。
光学的純度８９，９％。
実施例３６ 実施例２８と同様の方法において、４０％水酸化テトラ
ブチルアンモニウム水溶液２５４．２７ＱＩ（０，３ｓ
　９ミリモル）、２−フルオロ−ろ−フェニルプロ／ｆ
ンｎ６５．４■（０，３８９ミリモル）、テトラフルオ
ロホウ酸ビス（１，５−シクロオクタツエン）ロソウム
（Ｉ）１５７．８弓＝　（０３８９ミリモル）及びｍｃ
Ｅ、−ＰＯＰＰＡｆ２８１．０Ｆｒ（０，３８９ミリモ
ル）から触媒溶液（１００ｒｎＩりを製造した。
実施例３７ 実施例３６に従って製造した触媒溶液１００―による、
トルエン１１０ｔｎ１．に溶解したケト・セントラクト
ン４００Ｆの水素添加を実施例２９に述べた如くして行
った。２時間の水素添加時間後、混合物を実施例２と同
様にして処理し、純粋な（１−バントラクトンが得られ
た。〔α〕”、３＝−４７，９°。
光学的純度９２．８％。
実施例６Ｂ 容量５ｏｏ−のスチール製オートクレーブにグローブ・
ボックス（ＯＸ含有量１ｐｐ惧以下）中でピルビン酸メ
チル１０．２１（０，１モル）、ベンゼン２００ｍ／、
ジーμ−トリフルオロアセテート−ビス（１，５−シク
ロオクタツエン）ジロソウム３２．１■（０，０４９６
ミリモル）及びＢｐｐＭ５６．０■（０，０９９１ミリ
モル）を加えた。水素添加をＨ７２０バールの一定圧力
下にて２１℃ではげしく攪拌しながら行った。４時間後
の転化率は９８，４％であった。反応溶液を蒸発させ、
残渣を大気圧下で蒸留した。（Ｒ）−（＋）−乳酸（沸
点１４３〜１４５℃）が得られた。ガスクロマトダラム
において過剰Ｉ″のエナンチオマーを測定するために、
その試料を定量的にカンファン酸エステルに転化した。
エナンチオマー過剰量＝８０．１％。
実施例３９ 比較として、ピルビン酸メチル１０．２Ｆの水素添加を
実施例３８と同様の方法において、トリフルオロ酢酸ロ
ソウム錯体の代りに〔Ｒｈ（ＣＯＤ）ＣＬ〕２２４．５
ＷＩ！７（０，０４９６ミリモル）を用いて行った。
（７？）−（＋）−乳酸メチル（沸点１４６〜１４５℃
）が得られた。エナンチオマー過剰量ニア０．６％。同
一条件下でこの水素添加に対して、光学的収率６６．６
％が文献に示されている〔アイ・オジマ（１、０ｊｉｔ
ｎａ　）、ティ・コダレ（Ｔ、　Ｋｏｇｕｒｅ）及びケ
ー・アチワ（Ｋ、　Ａｃｈｉｗａ）、ヅヤーナル・オグ
・ケミカル菅ソシエテイ、ケミカル・コミュニケーショ
ンズ（Ｊ、　Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、　Ｃｈｅｔｎ、。
Ｃｏｍｍｕｎ　）　；　１９７７　、４２８　）。
実施例４０ ピルビン酸エテル１１．６り（０１モル）の水素添加を
実施例６８と同様の方法で行った。転化率は２５時間後
に９９２％であった。（Ｒ）−（＋）−性感゛エテル（
沸点１５２〜１５４℃）が得られた。エナンチオマー過
剰！ニア９．５％。
実施例４１ ピルビン酸エチル１１．６ｆの水素添加を実施例３９と
同様の方法で行った。（７？）　−（＋）−乳酸エチル
（沸点１５１〜１５４℃）が得られた。
エナンチオマー過剰警ニア１．２％。同−条件下でこの
水素添加に対して、光学的収率６５，３％が文献に示さ
れている〔ケー・アチヮ（Ｋ、　Ａｃｈｉｗａ）、テト
ラヘデロ７−レｌＸ−ズ（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌ
ｅｔｔ、）１９７７．３７３５） 実施例４２ （２ｓ、　４Ｓ）−４−（ジフェニルホスフィノ）−２
−（（ジフェニルホスフィノ）メチル〕−１−（４−ペ
ンテノイル）−ビロリヅン及びメタクリル酸２−ヒドロ
キシエチルから製造した共重合体（リン含！　１．３３
％）　５７．　＜Ｓ■をグローブ・ボックス（０，含有
ｔ１ｐｐｍ以下）中でトルエン２〇−中（７）　〔Ｒｈ
　（ＣＯＩＪ））ＣＦ、　ＣＯＯ〕、　４．０２　％（
０，００６２ミリモル）の溶液に加え、得られた懸濁液
を２２℃で２４時間攪拌した。
実施例４３ 実施例４２に従って製造した触媒！Ｍ”、ｆ＠液にょる
ケトノぐントラクトン２０．　Ｏｒの水素添加を実施例
２９に述べた如くして、但し６０℃で行った。
２４時間の水素添加時間後、この混合物を実施例２と同
様にして処理し、純粋＆（Ｊ？）−−＃ントラクトンが
得られた。〔α）３−−４３．６°。光学的純度８４．
４％。
特許出願人　エフ・ホフマン・う・ロシュ・ラント・コ
ンノぐニー・アクグ−エング ゼルシャフト

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 ％式％ 式中、Ｘは、随時担体に固定されていてもよく、式ｚ−
    ｃｏｏ−の残基を表わし、Ｚは基 ＼ ｓ ノぐ一フルオロフェニル、ノぞ−フルオロピフェニルま
    たは式 の残基を表わし、Ｒ’ＸＲ”及びＲ８はハロケ９ン、低
    級アルキル、ツク−フルオロフェニル、ノソーフルオロ
    ー〇ｒ、ｔｏ−フルキル、水素または基−ＣＯＡもしく
    はＡＯＣ（（１’７’４）ｗ−を表わし、Ａけ残基−Ｏ
    Ｒまたは−ＮＲｚを岩わし、ただし、置換基Ｒ１、Ｒ２
    及びＲ８のうちの少なくとも１つはフッ素を表わすもの
    とし、Ｒは水素、低級アルキルまたは陽イオンを表わし
    、Ｒ′は水素または低級アルキルを表わし、ｎはＰ１〜
    ２ｏを表わし、Ｙけキラルジホスフィン配位子を表わし
    、そしてＬけ中性配位子を表わず、のキラルロジウムー
    ソホスフイン錯体。 ２．２が基 を表わす特許請求の範囲第１項記載のキラル錯体。 ３．置換基Ｒ１、Ｒ２及びＲ８の少なくとも１つがフッ
    素を界わす特許請求の範囲第１項またｄ第２項記載のキ
    ラル錯体。 ４、式■におけるＸが基ｃｐ、−ｃｏｏ−または・ぐ−
    フルオローＣＩ〜１．−アルキルを表わす触杆請求の範
    囲第１〜３項のいずれかに記載のキラル錯体。 ５、式ＩにおけるＹが一般式 ｅ 式中、Ｒ４はアリールを表わし、そしてＲ５は基−Ｃｏ
    −Ｒ６、−５ｏ、−Ｒ６、−ＰＯ（Ｒ’）ｔまたは−ｐ
    Ｓ（Ｒ６）、を表わし、　Ｒ６はアリール、低級アルキ
    ル、ソアリールアミノ、ソー低級アルキルアミノ、アリ
    ールオキシまたは低級アルコキシを表わす、 のキラル配位子を表わす特許請求の範囲第１〜４項のい
    ずれかに記載のキラル錯体。 ６、　Ｒ５が基−Ｐ　Ｏ（／？６　＞２を表わす特許請
    求の範囲第５項記載のキラル錯体。 ７、Ｒ４がｆｎ−トリルを表わし、そしてＲ６がフェニ
    ルを衣わす特許請求の範囲第５項または第６項記載のキ
    ラル錯体。 ８、一般式 ％式％ 式中、Ｘは、随時担体に固定されていてもよく、式Ｚ−
    ＣＯＯ−の残基を表わし、Ｚけ基 ノセーフルオロフェニル、ノぞ−フルオロピフェニルま
    たは式 の残基を表わし１、ＲＩＸＲ２及びＲＩはハ’ｌ−”７
    、低級アルキル、ノｆ−フルオロフェニル、パーフルオ
    ロ−Ｃ８〜２ｏ−アルキル、水素または基−ＣＯＡもし
    くけＡＯＣ−（ＣＦ、）、ｒＬ−を表わし、Ａけ残基−
    ＯＲまたは−ＮＲ’。 を表わし、ただし、置換基Ｒ１、Ｒｔ及びＲ３のうちの
    少なくとも１つはフッ素を表わすものとし、Ｒけ水素、
    低級アルキルまたは陽イオンを表わし、Ｒ′は水素また
    は低級アルキルを表わし、ｎは数１〜２ｏを表わし、Ｙ
    はキラルソホスフィン配位子を表わし、そしてＬは中性
    配位子を表わす、のキラルロジウムーソホスフイン錯体
    を製造するにあたシ、 ａ）式 ％式％ 式中、Ｘ及びＬは上記の意味を有し、そしてｍは数１〜
    ４を表わす、 のロソウム錯体をキラルソホスフィン配位子と反応させ
    るか、 ｂ）式 ％式％ 式中、Ｌ及びｍは上記の意味を有し、そしてＡ−は陰イ
    オン、特にＢＦ、”−、ＣＩ　Ｏ，−１ＰＦ６−または
    Ｂ（Ｃａ　Ｈｓ　）　４−を表わす、のロソウム錯体を
    キラルジホスフィン配位子及び陰イオンＸを含む塩と反
    応させるか、 Ｃ）式 ％式％ 式中、Ｌ、Ｙ及びＡ−１”ｊ上記の意味をイｒＬ、そし
    てｐは数１〜６を表わす、 のロソウムーソホスフィン錯体を隘イオンＸを含む塩と
    反応させるか、或いは ｄ）式 ％式％） 式中、Ｘｌはハロケ゛ンを表わし、そしてＬ及びＹは上
    記の意味を有する、 のキラルロソウムーソホスフイン錯体を式％式％ 式中、Ｘは上記の食味を有する、 の錯塩またはタリウム塩と反応させる ことを％書とする上記一般式Ｉのキラルロソウムーノホ
    スフィン錯体の製造方法。 ９　特許請求の範囲第８項記載の方法によって得られる
    特許請求の範囲第１〜７項のいずれかに記載の一般式■
    のキラルロソウムージホスフイン錯体。 １０、不斉水素添加における触媒としての特許請求の範
    囲第１〜７項のいずれかに記載の一般式Ｉのキラルロジ
    ウムーソホスフィン錯体の使用。
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