JPS6024460B2 - 感光材料 - Google Patents
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は感光材料に関するものである。
官能基を有する液状ポリブタジェンの官能基を利用して
、シンナモイル基を導入したポリマーを紫外線硬化或は
放射線硬化する事は既に知られている。
、シンナモイル基を導入したポリマーを紫外線硬化或は
放射線硬化する事は既に知られている。
しかしながら、これらのポリマーは放射線より、エネル
ギーの小さい光化学領域での硬化では光活性が小さい為
に、更にシンナモィル基を有するモ/マーを混合して使
用せねばならない等の欠点があり、又放射線硬化は安全
上の問題からまだ一般的ではない。本発明者らは、感光
性樹脂について鋭意研究の結果、本発明を完成した。
ギーの小さい光化学領域での硬化では光活性が小さい為
に、更にシンナモィル基を有するモ/マーを混合して使
用せねばならない等の欠点があり、又放射線硬化は安全
上の問題からまだ一般的ではない。本発明者らは、感光
性樹脂について鋭意研究の結果、本発明を完成した。
本発明は数平均分子量が200なし・し6000好まし
くは200なし、し3000であり、重合体鎖の40%
以上がブタジェン単位で構成され1分子中1.4個以上
のシンナミリデン基、シアノシンナミリデン基、フェニ
レンジアクリレート基或はアジド基を有するポリブタジ
ェンを感光性物質として含有することを特徴とする感光
材料である。本発明に係るポリブタジェンは新規であり
、種々の方法によりポリブタジェンにシンナミリデン基
、シアノシンナミリデン基、フェニレンジアクリレート
基或はアジド基を導入して合成する事ができる。
くは200なし、し3000であり、重合体鎖の40%
以上がブタジェン単位で構成され1分子中1.4個以上
のシンナミリデン基、シアノシンナミリデン基、フェニ
レンジアクリレート基或はアジド基を有するポリブタジ
ェンを感光性物質として含有することを特徴とする感光
材料である。本発明に係るポリブタジェンは新規であり
、種々の方法によりポリブタジェンにシンナミリデン基
、シアノシンナミリデン基、フェニレンジアクリレート
基或はアジド基を導入して合成する事ができる。
例えば、ヒドロキシル基、メルカプト基、カルポキシル
基、ェボキシ基を有するポリブタジェン或はマレィン化
ポリプタジェンにそれらの官能性を利用して、シンナミ
リデン基、シアノシンナミリデン基、フヱニレンジアク
リレート基或はアジド基を有し且つ適宜の反応基例えば
カルポニルクロラィド基、塩化スルホニル基、カルボキ
シル基、酸無水物基、スルホン酸基、アルデヒド基、ヒ
ドロキシル基、ィソシアナート基或はアミ/基等を有す
る化合物を縮合、付加等により反応せしめて行なわれる
。一般的には、ヒドロキシル基、メルカプト基、ェポキ
シ基と酸クロラィド基とによるェステル化が好ましくシ
ンナミリデン基を有する本発明に係るポリプタジェンを
合成するには、1分子中に2個のヒドロキシル基、メル
カプト基或はェポキシ基を有するポリプタジェン或はマ
レィン化ポリブタジェンにシンナミリデン基と酸クロラ
ィド基等を有する化合物、例えばシンナミリデン酢酸、
シンナミリデン酢酸クロラィド等を反応せしめる。
基、ェボキシ基を有するポリブタジェン或はマレィン化
ポリプタジェンにそれらの官能性を利用して、シンナミ
リデン基、シアノシンナミリデン基、フヱニレンジアク
リレート基或はアジド基を有し且つ適宜の反応基例えば
カルポニルクロラィド基、塩化スルホニル基、カルボキ
シル基、酸無水物基、スルホン酸基、アルデヒド基、ヒ
ドロキシル基、ィソシアナート基或はアミ/基等を有す
る化合物を縮合、付加等により反応せしめて行なわれる
。一般的には、ヒドロキシル基、メルカプト基、ェポキ
シ基と酸クロラィド基とによるェステル化が好ましくシ
ンナミリデン基を有する本発明に係るポリプタジェンを
合成するには、1分子中に2個のヒドロキシル基、メル
カプト基或はェポキシ基を有するポリプタジェン或はマ
レィン化ポリブタジェンにシンナミリデン基と酸クロラ
ィド基等を有する化合物、例えばシンナミリデン酢酸、
シンナミリデン酢酸クロラィド等を反応せしめる。
シアノシンナミリデン基を有するポリブタジェンは、同
様のポリプタジェンにシアノシンナミリデン基と酸クロ
ライド基を有する化合物、例えばシアノシンナミリデン
酢酸クロラィドを反応せしめる。フェニレンジアクリレ
ート基を有するポリブタジェンは、同様のポリブタジェ
ンにフェニレンジアクリレート基と酸クロラィド基を有
する化合物、例えばP−フェニレンジアクリリツククロ
ラィドを反応せしめ、又、アジド基を導入するにはアジ
ド基と酸クロラィド等を有する化合物、例えばアジド安
息香酸、P−アジドベンゾィルクロラィド、3ーァジド
磯水フタル酸、アジドスルホニルベンゾイルクロライド
、アジドジフエニルアミンスルホン酸を反応せしめ、ヒ
ドロキシル基或はメルカプト基を有するポリブタジェン
と、アジド基及びアルデヒド基とを有する化合物例えば
、m−アジドベンツアルデヒド、ホルミルー1ーナフチ
ルアジドとをアルドール縮合せしめ、又、ヒドロキシル
基、メルカプト基或はカルポキシル基を有するポリブタ
ジェンと、アジド基及びィソシアナート基を有する化合
物例えばP−ィソシアネートベンゼンスルホニルアジド
、2ークロo−5−アジドスルフオニルフェニルイソシ
アナート等を反応せしめて合成することができる。ポリ
ブタジェン1分子中のシンナミリデン基、シアノシンナ
ミリデン基、フヱニレンジアクリレート基、アジド基が
1.4個以下となると極端に感光性が減少する。よって
ポリブタジェンのヒドロキシル基、メルカプト基、カル
ポキシル基、ェポキシ基等の1個に対し、1.5分子以
上シンナミリデン酢酸、シァノシンナミリデン酢酸クロ
ラィド、P−フェニレンジアクリル酸クロラィド或はア
ジド安息香酸を反応に使用し、得られるポリプタジェン
中のシンナミリデン基、シアノシンナミリデン基フェニ
レンジアクリレート基或アジド基の密度を高めるのが好
ましい、これらの反応は、一般的方法で行なわれェステ
ル化反応の反応溶媒としては、それ自身で触媒作用をも
備えているピリジンの他、アセトン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、メチルエチルケトン、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、セロソルブアセテート、Nーメチルピロリド
ン、ハロゲン化炭化水素等を用いる事が出来る。
様のポリプタジェンにシアノシンナミリデン基と酸クロ
ライド基を有する化合物、例えばシアノシンナミリデン
酢酸クロラィドを反応せしめる。フェニレンジアクリレ
ート基を有するポリブタジェンは、同様のポリブタジェ
ンにフェニレンジアクリレート基と酸クロラィド基を有
する化合物、例えばP−フェニレンジアクリリツククロ
ラィドを反応せしめ、又、アジド基を導入するにはアジ
ド基と酸クロラィド等を有する化合物、例えばアジド安
息香酸、P−アジドベンゾィルクロラィド、3ーァジド
磯水フタル酸、アジドスルホニルベンゾイルクロライド
、アジドジフエニルアミンスルホン酸を反応せしめ、ヒ
ドロキシル基或はメルカプト基を有するポリブタジェン
と、アジド基及びアルデヒド基とを有する化合物例えば
、m−アジドベンツアルデヒド、ホルミルー1ーナフチ
ルアジドとをアルドール縮合せしめ、又、ヒドロキシル
基、メルカプト基或はカルポキシル基を有するポリブタ
ジェンと、アジド基及びィソシアナート基を有する化合
物例えばP−ィソシアネートベンゼンスルホニルアジド
、2ークロo−5−アジドスルフオニルフェニルイソシ
アナート等を反応せしめて合成することができる。ポリ
ブタジェン1分子中のシンナミリデン基、シアノシンナ
ミリデン基、フヱニレンジアクリレート基、アジド基が
1.4個以下となると極端に感光性が減少する。よって
ポリブタジェンのヒドロキシル基、メルカプト基、カル
ポキシル基、ェポキシ基等の1個に対し、1.5分子以
上シンナミリデン酢酸、シァノシンナミリデン酢酸クロ
ラィド、P−フェニレンジアクリル酸クロラィド或はア
ジド安息香酸を反応に使用し、得られるポリプタジェン
中のシンナミリデン基、シアノシンナミリデン基フェニ
レンジアクリレート基或アジド基の密度を高めるのが好
ましい、これらの反応は、一般的方法で行なわれェステ
ル化反応の反応溶媒としては、それ自身で触媒作用をも
備えているピリジンの他、アセトン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、メチルエチルケトン、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、セロソルブアセテート、Nーメチルピロリド
ン、ハロゲン化炭化水素等を用いる事が出来る。
ェステル化反応触媒としては、ピリジン、ピコリン、ル
チジン、トリェチルアミン等の第三級アミンが適当であ
るが、これらの他のアルカリも用いる事が出釆る。また
反応温度は、アルカリ触媒を用いる場合には、アルカリ
水による好ましくないケン化反応を避ける為に室温以下
好ましくは、0℃以下が適当であり、その他の場合には
室温から120℃の温度はんし、が好ましい。本発明の
ポリブタジェンを合成する原料として使用されるポリブ
タジェンとしては、数平均分子量200ないし6000
であり、ラジカル重合、カチオン重合、炭化水素溶媒中
でのナトリウム、リチウム触媒による重合、有機リチウ
ムを使用する重合、配位アニオン重合又はテトラヒド。
チジン、トリェチルアミン等の第三級アミンが適当であ
るが、これらの他のアルカリも用いる事が出釆る。また
反応温度は、アルカリ触媒を用いる場合には、アルカリ
水による好ましくないケン化反応を避ける為に室温以下
好ましくは、0℃以下が適当であり、その他の場合には
室温から120℃の温度はんし、が好ましい。本発明の
ポリブタジェンを合成する原料として使用されるポリブ
タジェンとしては、数平均分子量200ないし6000
であり、ラジカル重合、カチオン重合、炭化水素溶媒中
でのナトリウム、リチウム触媒による重合、有機リチウ
ムを使用する重合、配位アニオン重合又はテトラヒド。
フランの如きルイス塩基と金属アルカリとからなる触媒
によるアニオンリビング重合等により製造されるものが
代表的であり、微細な精度の高い画像を得る為には、ア
ニオンリビング重合により得られる分子戦布の帆狭し、
もの(例えば帯ミ・なし・し1.3)が好ましい。この
様にして製造された官能基を有するポリブタジヱンの市
販品としてはNISSOPB(日本曹達株式会社)、H
ycar(B.F.仇odrichchemCo)、P
oly M(ARC0 chemDIV),HC一Po
lymer(Thiokol chem Co),Te
lagen(蛇ne細 Tire),ButareZ(
PhillipsPetroCo)等のヒドロキシル基
、メルカプト基、カルボキシル基を有するポリマーがあ
る。更にこれら官能基を有しないポリブタジェンあるい
は官能基を有するポリブタジェンの重合体鎖中の二重結
合に常法によりオキシラン酸素を付加したェポ化ボリブ
タジェンおよび重合体鎖中の第三級炭素に常法により無
水マレィン酸を付加したマレイン化ポリブタジェン等も
ある。ポリブタジェンに導入される官能基としては、こ
の様にヒドロキシル基、メルカプト基、カルボキシル基
、ェポキシ基、酸無水物基等があるがこれらに限定され
る必要はない。尚、ここでポリブタジエンとはブタジエ
ンホモポリマ一或はブタジェンの他のコモノマーとのコ
ボリマーでコモノマー残基の量がブタジェン残基の量の
60%以下のコポリマーを含み、数平均分子量を200
から6000と限定したのは、分子量が200以下では
ポリプタジェンとしての特徴の一つである耐酸性が低下
する為であり、又、6000以上では光感度が充分期待
出釆ない為であり、好ましくは3000以下である方が
よい。
によるアニオンリビング重合等により製造されるものが
代表的であり、微細な精度の高い画像を得る為には、ア
ニオンリビング重合により得られる分子戦布の帆狭し、
もの(例えば帯ミ・なし・し1.3)が好ましい。この
様にして製造された官能基を有するポリブタジヱンの市
販品としてはNISSOPB(日本曹達株式会社)、H
ycar(B.F.仇odrichchemCo)、P
oly M(ARC0 chemDIV),HC一Po
lymer(Thiokol chem Co),Te
lagen(蛇ne細 Tire),ButareZ(
PhillipsPetroCo)等のヒドロキシル基
、メルカプト基、カルボキシル基を有するポリマーがあ
る。更にこれら官能基を有しないポリブタジェンあるい
は官能基を有するポリブタジェンの重合体鎖中の二重結
合に常法によりオキシラン酸素を付加したェポ化ボリブ
タジェンおよび重合体鎖中の第三級炭素に常法により無
水マレィン酸を付加したマレイン化ポリブタジェン等も
ある。ポリブタジェンに導入される官能基としては、こ
の様にヒドロキシル基、メルカプト基、カルボキシル基
、ェポキシ基、酸無水物基等があるがこれらに限定され
る必要はない。尚、ここでポリブタジエンとはブタジエ
ンホモポリマ一或はブタジェンの他のコモノマーとのコ
ボリマーでコモノマー残基の量がブタジェン残基の量の
60%以下のコポリマーを含み、数平均分子量を200
から6000と限定したのは、分子量が200以下では
ポリプタジェンとしての特徴の一つである耐酸性が低下
する為であり、又、6000以上では光感度が充分期待
出釆ない為であり、好ましくは3000以下である方が
よい。
この様にして得られた本発明に係るポリブタジェソは、
そのままでも感光材料として使用できるがそれ自身では
感度が低い場合があり、通常増感剤が加えられる。
そのままでも感光材料として使用できるがそれ自身では
感度が低い場合があり、通常増感剤が加えられる。
増感剤の添加量としては、本発明に係るポリブタジェン
に対して0.01〜30%好ましくは3〜15%程度添
加される。増感剤の具体的化合物としては、シンナミリ
デン基、シアノシンナミリデン基、フェニレンジアクリ
レート基を感光基とする場合には、1,5ージニトロア
ントラキノン、アントラキノン、1,2ーベンザントラ
キノン、5ーベンゾイルアセナフテン、5−ニトロアセ
ナフテン、1,8ーフタロイルナフタリン、2ーニトロ
フルオレン、2,6−ピス(P−エチルフエニル)一4
一(P一nーアミロキシフエニル)チアピリリウムパー
クロレート、P,P−テトラメチルジアミ/ペンゾフエ
ノン(ミヒラーズケトン)2,4,6ートリアニシルビ
リリウムパークロレート、エリスロシン、ローダミンB
等。アジド基を感光基とする場合には、アセナフテン、
ピレン、アクリドン、アントラキ/ン、q−ナフトキノ
ン、ミヒラーズケトン、Pーニトロアニリン、5ーニト
ロアセナフテン、2ーニトロフルオレン、1−ニトロピ
レン、1,2ーベンザントラキノン、1,8−フタロイ
ルナフタリン、9−フルオレン、ジフエニルジスフイト
、P−ニトロベンツアルデヒド、ローダミンB、2,4
,6−トリアニシルピリリウムパークロレート、2,4
,6ートリフエニルピリリウムパークロレート、4一(
4ーエトキシフエニル)−2,6ージフエニルピリリウ
ムパークロレート、4−(2,4ージクロロフエニル)
−2,6−ジフエニルピリリウム/ぐークロレート、2
,4,6−トリフエニルチアピリウムパークロレート、
2,4,6ートリフエニルチアピリリウムフルオボレー
ト、2,6−ビス(4ーエチルフエニル)−4一(4−
メトキシフエニル)チアピリリウムパークロレート等が
用いられる。更に、もし必要ならば所期の目的に反しな
い限り、本発明に係るポリブタジェンにラジカル架橋の
為の有機過酸化物、硬化促進剤、重合防止剤、金属、ガ
ラスとの接着性向上の為のシランカップリング剤、ビニ
ルモノマー、着色剤、充填材および他のポリマーを混合
使用しても差しつかえはないし、残存の二重結合を電子
線硬化しても差しつかえない。
に対して0.01〜30%好ましくは3〜15%程度添
加される。増感剤の具体的化合物としては、シンナミリ
デン基、シアノシンナミリデン基、フェニレンジアクリ
レート基を感光基とする場合には、1,5ージニトロア
ントラキノン、アントラキノン、1,2ーベンザントラ
キノン、5ーベンゾイルアセナフテン、5−ニトロアセ
ナフテン、1,8ーフタロイルナフタリン、2ーニトロ
フルオレン、2,6−ピス(P−エチルフエニル)一4
一(P一nーアミロキシフエニル)チアピリリウムパー
クロレート、P,P−テトラメチルジアミ/ペンゾフエ
ノン(ミヒラーズケトン)2,4,6ートリアニシルビ
リリウムパークロレート、エリスロシン、ローダミンB
等。アジド基を感光基とする場合には、アセナフテン、
ピレン、アクリドン、アントラキ/ン、q−ナフトキノ
ン、ミヒラーズケトン、Pーニトロアニリン、5ーニト
ロアセナフテン、2ーニトロフルオレン、1−ニトロピ
レン、1,2ーベンザントラキノン、1,8−フタロイ
ルナフタリン、9−フルオレン、ジフエニルジスフイト
、P−ニトロベンツアルデヒド、ローダミンB、2,4
,6−トリアニシルピリリウムパークロレート、2,4
,6ートリフエニルピリリウムパークロレート、4一(
4ーエトキシフエニル)−2,6ージフエニルピリリウ
ムパークロレート、4−(2,4ージクロロフエニル)
−2,6−ジフエニルピリリウム/ぐークロレート、2
,4,6−トリフエニルチアピリウムパークロレート、
2,4,6ートリフエニルチアピリリウムフルオボレー
ト、2,6−ビス(4ーエチルフエニル)−4一(4−
メトキシフエニル)チアピリリウムパークロレート等が
用いられる。更に、もし必要ならば所期の目的に反しな
い限り、本発明に係るポリブタジェンにラジカル架橋の
為の有機過酸化物、硬化促進剤、重合防止剤、金属、ガ
ラスとの接着性向上の為のシランカップリング剤、ビニ
ルモノマー、着色剤、充填材および他のポリマーを混合
使用しても差しつかえはないし、残存の二重結合を電子
線硬化しても差しつかえない。
本発明の感光材料を使用とするに当っては、公知の感光
材料に準じて使用することが出来る。
材料に準じて使用することが出来る。
例えば本発明のポリブタジェンと要すれば適宜増感剤と
を混合し、更に要すれば粘度調整の為、有機溶剤例えば
ベンゼン或はトルェン等に溶解し、銅、亜鉛、アルミニ
ウム等の金属板やシリコンウェーハー上に薄膜として塗
布后乾燥し、これに通常、光たとえば太陽光線、タング
ステン灯、蛍光灯、キセノン灯、アーク灯、高圧或は低
圧水銀灯等で照射すれば、架橋反応が起って有機溶剤に
不落になる。よってパターンを通過して露光し溶剤現像
することにより蕗光部がレジスト画像として得られる。
本発明に係るボリブタジェンはシンナモィル基を感光基
とするポリブタジェンに比較して、光感度が優れ、又塩
化第二鉄水溶液、フツ化水素酸等の様な腐食剤に対し非
常に優れた耐食性を示すとともに増感も可能である事か
ら多方面にわたって使用可能である。
を混合し、更に要すれば粘度調整の為、有機溶剤例えば
ベンゼン或はトルェン等に溶解し、銅、亜鉛、アルミニ
ウム等の金属板やシリコンウェーハー上に薄膜として塗
布后乾燥し、これに通常、光たとえば太陽光線、タング
ステン灯、蛍光灯、キセノン灯、アーク灯、高圧或は低
圧水銀灯等で照射すれば、架橋反応が起って有機溶剤に
不落になる。よってパターンを通過して露光し溶剤現像
することにより蕗光部がレジスト画像として得られる。
本発明に係るボリブタジェンはシンナモィル基を感光基
とするポリブタジェンに比較して、光感度が優れ、又塩
化第二鉄水溶液、フツ化水素酸等の様な腐食剤に対し非
常に優れた耐食性を示すとともに増感も可能である事か
ら多方面にわたって使用可能である。
使用用途の具体例としてはプリント配線板、ネームプレ
ート、メタルマスク、薄膜集積回路用のエッチングレジ
ストおよびPS腐食凸板、ロングランオフセット版用フ
オトレジスト、更に比較的低粘度である為に感光性イン
キおよび塗料用ビヒクル材料、感光性接着剤等がある。
次に本発明を実施例によって更に具体的に説明するが、
本発明は以下の実施例によって制限を受けるものではな
い。
ート、メタルマスク、薄膜集積回路用のエッチングレジ
ストおよびPS腐食凸板、ロングランオフセット版用フ
オトレジスト、更に比較的低粘度である為に感光性イン
キおよび塗料用ビヒクル材料、感光性接着剤等がある。
次に本発明を実施例によって更に具体的に説明するが、
本発明は以下の実施例によって制限を受けるものではな
い。
尚、実施例に於いて部は、特にことわらない限り、重量
部を意味するものとする。実施例 1 数平均分子量1160、水酸基価(OHV)87.4、
1,2ービニル含有量90.3%、1,4−トランス含
有量9.7%のポリブタジヱングリコール11.6部(
1.0×10‐2モル)をピリジンloG部に溶解し、
シンナミリデン酢酸クロラィド7.7部(4.0×10
‐2モル)を加え、さらにピリジン5碇部を加えた。
部を意味するものとする。実施例 1 数平均分子量1160、水酸基価(OHV)87.4、
1,2ービニル含有量90.3%、1,4−トランス含
有量9.7%のポリブタジヱングリコール11.6部(
1.0×10‐2モル)をピリジンloG部に溶解し、
シンナミリデン酢酸クロラィド7.7部(4.0×10
‐2モル)を加え、さらにピリジン5碇部を加えた。
次に灘梓下にオイル裕中で温度を約75℃まで上昇させ
、この温度で約4時間損梓を続けた。次にこれを室温の
水に投入すると粘性をもった茶色の沈澱物を得た。これ
をよく水洗し真空乾燥させ、感光材料〔A−1〕を得た
。実施例 2数平均分子量2750、OHV46.9、
17 2−ピニル含有量20.2%、1,4ートランス
含有量59.3%、1,4ーシス含有量20.5%のポ
リブタジェングリコールとシンナミリデン酢酸クロライ
ドを使用して実施例1と同機にェステル化を行ない粘性
をもった茶色の感光材料〔A−2〕を得た。
、この温度で約4時間損梓を続けた。次にこれを室温の
水に投入すると粘性をもった茶色の沈澱物を得た。これ
をよく水洗し真空乾燥させ、感光材料〔A−1〕を得た
。実施例 2数平均分子量2750、OHV46.9、
17 2−ピニル含有量20.2%、1,4ートランス
含有量59.3%、1,4ーシス含有量20.5%のポ
リブタジェングリコールとシンナミリデン酢酸クロライ
ドを使用して実施例1と同機にェステル化を行ない粘性
をもった茶色の感光材料〔A−2〕を得た。
実施例 3実施例1で使用したポリブタジエングリコ−
ル11.6部(1.0×10‐2モル)をジオキサン1
3碇部‘こ溶解し、シアノシンナミリデン酢酸クロラィ
ド7.6部(3.5×10‐2モル)を加え、さらにピ
リジン20部を加えた。
ル11.6部(1.0×10‐2モル)をジオキサン1
3碇部‘こ溶解し、シアノシンナミリデン酢酸クロラィ
ド7.6部(3.5×10‐2モル)を加え、さらにピ
リジン20部を加えた。
次に櫨洋下にチッ素ガスを流しながら、オイル裕中で温
度を約90℃まで上昇させ、この温度で約4時間縄拝を
続けた。次にこれを室温の水に投入すると、粘性をもっ
た薄茶色の沈澱物を得た。これをよく水洗し真空乾燥さ
せ、感光材料〔A−3〕を得た。実施例 4 実施例1で使用したポリプタジェングリコール58部(
5.0×10‐3モル)をトルェン30部に溶解し、P
ーフエニレンジアクリリツククロライド1.$部(7.
5×10‐3モル)を加え、さらにトルエン2礎部を加
えた。
度を約90℃まで上昇させ、この温度で約4時間縄拝を
続けた。次にこれを室温の水に投入すると、粘性をもっ
た薄茶色の沈澱物を得た。これをよく水洗し真空乾燥さ
せ、感光材料〔A−3〕を得た。実施例 4 実施例1で使用したポリプタジェングリコール58部(
5.0×10‐3モル)をトルェン30部に溶解し、P
ーフエニレンジアクリリツククロライド1.$部(7.
5×10‐3モル)を加え、さらにトルエン2礎部を加
えた。
還流冷却しながらオイル浴中で温度を690まで徐々に
上げると液相が褐色に変化した。この温度で約2時間櫨
拝を続けたところ黒褐色の不純物が沈澱したので猿遇し
取り除いた。蟻液からトルェンをロータリーェバポレー
タで取り除き感光材料〔A−4〕を得た。赤外吸収スペ
クトルは第1図の如くであった。
上げると液相が褐色に変化した。この温度で約2時間櫨
拝を続けたところ黒褐色の不純物が沈澱したので猿遇し
取り除いた。蟻液からトルェンをロータリーェバポレー
タで取り除き感光材料〔A−4〕を得た。赤外吸収スペ
クトルは第1図の如くであった。
実施例 5数平均分子量2040、OHV47.5、ブ
タジェン単位53%、スチレン単位47%の末端にヒド
ロキシル基を有するブタジェンースチレンランダムコポ
リマー10.2部(5.0XIO‐3モル)をビリジン
10碇部‘こ溶解し、これにP−アジドベンゾィルクロ
ラィド3.7部(2.0×10‐2モル)を加え、さら
にピリジン5碇部を加えた。
タジェン単位53%、スチレン単位47%の末端にヒド
ロキシル基を有するブタジェンースチレンランダムコポ
リマー10.2部(5.0XIO‐3モル)をビリジン
10碇部‘こ溶解し、これにP−アジドベンゾィルクロ
ラィド3.7部(2.0×10‐2モル)を加え、さら
にピリジン5碇部を加えた。
次に蝿梓下にオイル裕中で温度を約7yoまで上昇させ
、この温度で約4時間燈梓を続けた。次にこれを室温の
水に投入すると粘性をもった薄黄色の沈澱物を得た。こ
れをよく水洗し真空乾燥させ感光材料〔A−5〕を得た
。実施例 6 数平均分子量120い酸化(AV)81.&1,2ビニ
ル含有量91.7%、1,4−トランス含有量8.3%
のポリブタジェンジカルポン酸1炎部(1.0×10‐
2モル)をメチルエチルケトン50部に溶解し、P−イ
ソシアネートベンゼンスルホニルアジド9.礎部(4.
0×10‐2モル)を加え、さらにメチルエチルケトン
5碇部を加えた。
、この温度で約4時間燈梓を続けた。次にこれを室温の
水に投入すると粘性をもった薄黄色の沈澱物を得た。こ
れをよく水洗し真空乾燥させ感光材料〔A−5〕を得た
。実施例 6 数平均分子量120い酸化(AV)81.&1,2ビニ
ル含有量91.7%、1,4−トランス含有量8.3%
のポリブタジェンジカルポン酸1炎部(1.0×10‐
2モル)をメチルエチルケトン50部に溶解し、P−イ
ソシアネートベンゼンスルホニルアジド9.礎部(4.
0×10‐2モル)を加え、さらにメチルエチルケトン
5碇部を加えた。
次に蝿梓下にオイル裕中で温度を約75℃まで上昇させ
、この温度で約4時間燈拝を続けた。次にこれを室温の
水に投入すると粘性をもった茶色の沈澱物を得た。これ
をよく水洗し真空乾燥させ感光材料〔A−6〕を得た。
対比例 1 実施例1で使用したポリブタジェングリコール11.6
部(1.0×10‐2モル)をピリジン100部に溶解
し、これにケイ皮酸クロラィド6.不郊(4.0×10
‐2モル)を加え、さらにピリジン5礎都を加えた。
、この温度で約4時間燈拝を続けた。次にこれを室温の
水に投入すると粘性をもった茶色の沈澱物を得た。これ
をよく水洗し真空乾燥させ感光材料〔A−6〕を得た。
対比例 1 実施例1で使用したポリブタジェングリコール11.6
部(1.0×10‐2モル)をピリジン100部に溶解
し、これにケイ皮酸クロラィド6.不郊(4.0×10
‐2モル)を加え、さらにピリジン5礎都を加えた。
次に蝿梓下にオイル浴中で温度を約7デ0まで上昇させ
、この温度で約4時間燈拝を続けた。次にこれを室温の
水に投入すると粘性をもった薄黄色の沈澱物を得た。こ
れをよく水洗し、真空乾燥させ感光材料〔B−1〕を得
、対比の為使用した。相対感度試験法前記実施例1より
6まで及び対比例1の感光材料を各々ベンゼンに溶解し
て10%の溶液とし砂自立したアルミ板(ミラクルプレ
ート)に回転数10びpmの回転塗布機により、30〜
35qoで塗布乾燥して感光板を作成した。
、この温度で約4時間燈拝を続けた。次にこれを室温の
水に投入すると粘性をもった薄黄色の沈澱物を得た。こ
れをよく水洗し、真空乾燥させ感光材料〔B−1〕を得
、対比の為使用した。相対感度試験法前記実施例1より
6まで及び対比例1の感光材料を各々ベンゼンに溶解し
て10%の溶液とし砂自立したアルミ板(ミラクルプレ
ート)に回転数10びpmの回転塗布機により、30〜
35qoで塗布乾燥して感光板を作成した。
この感光板にグレィスケール(コダックのステップタブ
レット舷.2)を密着し、真空暁枠中で表1に記載の光
源で露光した後表1の記載の現像液で現像し、水洗して
画像を作り次式により感度を計算し実施例1の増感剤無
添加の場合と対比して相対感度を計算し表1に記載した
。・ 感度=市ワ T:競付けたステップタブレットの隣付可能限界透過率
(競付けられた限界の判定は、現像後明らかに濃く現れ
た像と、淡く不明瞭な像の中間の段階を基準とした。
レット舷.2)を密着し、真空暁枠中で表1に記載の光
源で露光した後表1の記載の現像液で現像し、水洗して
画像を作り次式により感度を計算し実施例1の増感剤無
添加の場合と対比して相対感度を計算し表1に記載した
。・ 感度=市ワ T:競付けたステップタブレットの隣付可能限界透過率
(競付けられた限界の判定は、現像後明らかに濃く現れ
た像と、淡く不明瞭な像の中間の段階を基準とした。
)1:照射面に於る照度
t:露光時間
本発明の感光材料は表1の結果よりシンナモィル基を導
入したポリブタジェンに比して非常に感度が優れている
。
入したポリブタジェンに比して非常に感度が優れている
。
表I
注1)増感剤は感光性樹脂に対し10%添加注2)実施
例1の増感剤無添加の場合を相対感度の基準として表麦
示した。
例1の増感剤無添加の場合を相対感度の基準として表麦
示した。
第1図は本発明の感光材料の1例の赤外吸収スベクトル
である。 図 ′ボ
である。 図 ′ボ
Claims (1)
- 1 数平均分子量が200ないし6000であり重合体
鎖の40%以上がブタジエン単位で構成され、シンナミ
リデン基、シアノシンナミリデン基、フエニレンジアク
リレート基或はアジド基を有するポリブタジエンを感光
性物質として含有することを特徴とする感光材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11589475A JPS6024460B2 (ja) | 1975-09-25 | 1975-09-25 | 感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11589475A JPS6024460B2 (ja) | 1975-09-25 | 1975-09-25 | 感光材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5239742A JPS5239742A (en) | 1977-03-28 |
| JPS6024460B2 true JPS6024460B2 (ja) | 1985-06-13 |
Family
ID=14673819
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11589475A Expired JPS6024460B2 (ja) | 1975-09-25 | 1975-09-25 | 感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6024460B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5643141Y2 (ja) * | 1975-04-19 | 1981-10-08 | ||
| US4549824A (en) * | 1983-12-30 | 1985-10-29 | International Business Machines Corporation | Ink additives for efficient thermal ink transfer printing processes |
| JPH0530603Y2 (ja) * | 1986-01-29 | 1993-08-05 | ||
| JPS6370241A (ja) * | 1986-09-11 | 1988-03-30 | Nippon Zeon Co Ltd | 感光性エラストマ−組成物 |
| WO2000020468A1 (en) | 1998-10-08 | 2000-04-13 | Kaneka Corporation | Polymers and curable compositions |
-
1975
- 1975-09-25 JP JP11589475A patent/JPS6024460B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5239742A (en) | 1977-03-28 |
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