JPS60247462A - 鋳造施設において電磁式圧送を行なうための横鉢 - Google Patents
鋳造施設において電磁式圧送を行なうための横鉢Info
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- JPS60247462A JPS60247462A JP60032556A JP3255685A JPS60247462A JP S60247462 A JPS60247462 A JP S60247462A JP 60032556 A JP60032556 A JP 60032556A JP 3255685 A JP3255685 A JP 3255685A JP S60247462 A JPS60247462 A JP S60247462A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
- B22D39/00—Equipment for supplying molten metal in rations
- B22D39/003—Equipment for supplying molten metal in rations using electromagnetic field
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、一般的に鋳物業界において、そして特に軽・
金属業界において、溶融金属を電磁力のみによって動か
して型を満たすような鋳物施設で電磁圧送を行なうため
の構体に係る。
金属業界において、溶融金属を電磁力のみによって動か
して型を満たすような鋳物施設で電磁圧送を行なうため
の構体に係る。
従来の技術
このような目的で電磁力を利用することは公知であり、
電磁ポンプに関する多数の特許に開示されている。これ
らの特許は一般に2つの種類に分けられる。
電磁ポンプに関する多数の特許に開示されている。これ
らの特許は一般に2つの種類に分けられる。
第1の種類は、液体ナトリウム用のポンプに関するもの
で、これは主として高速中性子原子炉に使用される。世
界中で知られている電磁ポンプ特許の大部分は、この形
式のポンプに関するものである。我々が知っている最も
初期の特許は、今世紀の始めまでさかのぼり、最初のポ
ンプは、Hartmanによって1918年に製作され
ている。
で、これは主として高速中性子原子炉に使用される。世
界中で知られている電磁ポンプ特許の大部分は、この形
式のポンプに関するものである。我々が知っている最も
初期の特許は、今世紀の始めまでさかのぼり、最初のポ
ンプは、Hartmanによって1918年に製作され
ている。
その主たる特許は、Albert Einstein氏
及びLe。
及びLe。
5zelard氏のもので、これらは1930年代にベ
ルリンに最初に出願された(例えば、特許第5′55.
413号、クラス17a、グループ304及び特許第4
76.812号、クラス31c、グループ26)。ナト
リウムは、一般的に低炭素ステンレススチールで作られ
たダクト内で空気と接触しないように保たれ、このダク
トのまわりにポンプの作動部が構成され、磁気部分及び
電気巻線自体は空気中に置かれる。
ルリンに最初に出願された(例えば、特許第5′55.
413号、クラス17a、グループ304及び特許第4
76.812号、クラス31c、グループ26)。ナト
リウムは、一般的に低炭素ステンレススチールで作られ
たダクト内で空気と接触しないように保たれ、このダク
トのまわりにポンプの作動部が構成され、磁気部分及び
電気巻線自体は空気中に置かれる。
これらの″ナトリウム″ポンプは、それらの構造及び用
途が本発明の適用分野と大きく異なるので、ここでは背
景技術として説明するが、同じ物理学的原理を用いて、
金属が移動せしめられるので、本発明によるポンプを液
体ナトリウムの圧送にも問題なく使用できることになる
。
途が本発明の適用分野と大きく異なるので、ここでは背
景技術として説明するが、同じ物理学的原理を用いて、
金属が移動せしめられるので、本発明によるポンプを液
体ナトリウムの圧送にも問題なく使用できることになる
。
第2の種類の電磁ポンプは、ナトリウムではなくて溶融
金属を移動させるために工業的に使用されている。この
ポンプは、原子炉技術に使用されるのではなくて、鋳物
技術に使用される。一般的に述べると、鋳物業界で使用
されている電磁ポンプは、次の3つの原理のうちの1つ
で作動する。
金属を移動させるために工業的に使用されている。この
ポンプは、原子炉技術に使用されるのではなくて、鋳物
技術に使用される。一般的に述べると、鋳物業界で使用
されている電磁ポンプは、次の3つの原理のうちの1つ
で作動する。
1)レンツの法則に基づいて作動するポンプ2)水中ポ
ンプ、及び 3)炉の外部に直接取り付けられるポンプ系統・ これら全てのポンプに共通した欠点は、金属を溶融する
炉の外部にあるダクトを通して溶融金属を流すことであ
る。その結果、溶融金属が偶発的に漏れた場合に、ポン
プの電気的部分及びその周囲の装置が破壊されるおそれ
が強くなる。
ンプ、及び 3)炉の外部に直接取り付けられるポンプ系統・ これら全てのポンプに共通した欠点は、金属を溶融する
炉の外部にあるダクトを通して溶融金属を流すことであ
る。その結果、溶融金属が偶発的に漏れた場合に、ポン
プの電気的部分及びその周囲の装置が破壊されるおそれ
が強くなる。
本発明の好ましい実施例では、液体金属によってポンプ
が損傷を受けるおそれが減少される。
が損傷を受けるおそれが減少される。
発明の構成、作用及び効果
本発明は、電磁ポンプの磁気部品及び液体巻回を炉内の
構体の耐熱セラミック内に一体化し、然して、ポンプを
作動するに必要な電気的巻線をこの構体の外部に配置す
ることより成る。
構体の耐熱セラミック内に一体化し、然して、ポンプを
作動するに必要な電気的巻線をこの構体の外部に配置す
ることより成る。
これにより、炉の耐熱セラミックが磁路を取り巻いてこ
れを液体金属(このような温度においては非常に腐食性
が強い)から保護するので、溶融金属が漏れ出すおそれ
がなくなる。金属タンクは、通常それ自体が防水になブ
ているが、この金属タンクにセラミックの裏張りが一般
的に含まれる。このタンクの目的は、溶融金属の移送中
(例えば、ひしやくの形態)に炉のセラミック部分に機
械的強度を与えるかもしくは耐衝撃性を与えることであ
る。
れを液体金属(このような温度においては非常に腐食性
が強い)から保護するので、溶融金属が漏れ出すおそれ
がなくなる。金属タンクは、通常それ自体が防水になブ
ているが、この金属タンクにセラミックの裏張りが一般
的に含まれる。このタンクの目的は、溶融金属の移送中
(例えば、ひしやくの形態)に炉のセラミック部分に機
械的強度を与えるかもしくは耐衝撃性を与えることであ
る。
このようにして、1つ以上の既知の電磁ポンプ系統をこ
のような体内に一体化することができる。然し乍ら、所
期の使用目的においては、以下に述べるような新規なポ
ンプ系統を使用するのが便利である。
のような体内に一体化することができる。然し乍ら、所
期の使用目的においては、以下に述べるような新規なポ
ンプ系統を使用するのが便利である。
以下、添付図面を参照し、本発明の実施例を詳細に説明
する。
する。
実施例
ここに提案する新規なポンプ系統を容易に理解できるよ
うにするため、本発明が、ここに開示する解決策にたど
り着くまでの種々の段階について1つづつ説明する。そ
の各々の段階が本発明の実施例を構成するが、当然のこ
とながら、最後の段階が、ここに取り上げる使用目的に
おける最良の実施例を構成すると考えられる。本発明の
新規なポンプ系統は、部分的に飽和された磁路を使用す
るものである。
うにするため、本発明が、ここに開示する解決策にたど
り着くまでの種々の段階について1つづつ説明する。そ
の各々の段階が本発明の実施例を構成するが、当然のこ
とながら、最後の段階が、ここに取り上げる使用目的に
おける最良の実施例を構成すると考えられる。本発明の
新規なポンプ系統は、部分的に飽和された磁路を使用す
るものである。
第1図は、本発明による電磁ポンプの基本的な作動原理
を示す斜視図である。このポンプは、−次巻線1及び二
次巻線2を有する変成器をペースとするもので、二次巻
線2には液体金属が満たされ、従って「液体巻回」と称
するものを構成する。この液体巻回の前面は、炉内の液
体金属に対して直接間いている。変成器3の磁路は、そ
の垂直の脚が上半分よりも下半分の方が互いに接近する
ように変形されている。これは、一方の脚又は両方の脚
に水平部分を含ませることによって達成される。下半分
の方が上半分よりも互いに接近していることにより、図
示されたように、変成器の左の脚4から右の脚5に向か
って延びる一般的に水平の方向に漏れ磁界が生じる。こ
の漏れ磁界により、磁路の下部の水平枝路7が部分的に
短絡される。
を示す斜視図である。このポンプは、−次巻線1及び二
次巻線2を有する変成器をペースとするもので、二次巻
線2には液体金属が満たされ、従って「液体巻回」と称
するものを構成する。この液体巻回の前面は、炉内の液
体金属に対して直接間いている。変成器3の磁路は、そ
の垂直の脚が上半分よりも下半分の方が互いに接近する
ように変形されている。これは、一方の脚又は両方の脚
に水平部分を含ませることによって達成される。下半分
の方が上半分よりも互いに接近していることにより、図
示されたように、変成器の左の脚4から右の脚5に向か
って延びる一般的に水平の方向に漏れ磁界が生じる。こ
の漏れ磁界により、磁路の下部の水平枝路7が部分的に
短絡される。
垂直方向の2本の脚が互いに接近する位置において、例
えば、第1図に示すように右の脚5に設けられたノツチ
6のような色々な公知手段のいずれかによって局部的な
飽和状態を形成すれば、2本の垂直脚間に生じる水平方
向の漏れ磁界を更に強くすることができる。これを果た
す他の適当な手段としては、磁路を通る垂直又は水平の
スロットもしくは穴や、垂直脚又は水平枝路に次第に縮
径する部分を設けることや、作動温度に置いて磁性とな
る積層体を、このような温度においてほとんど或いは全
く磁性を呈さない別の積層体と部分的に取り替えたりす
ることや、或いは他の何らかの適当な公知の手段等が含
まれる。
えば、第1図に示すように右の脚5に設けられたノツチ
6のような色々な公知手段のいずれかによって局部的な
飽和状態を形成すれば、2本の垂直脚間に生じる水平方
向の漏れ磁界を更に強くすることができる。これを果た
す他の適当な手段としては、磁路を通る垂直又は水平の
スロットもしくは穴や、垂直脚又は水平枝路に次第に縮
径する部分を設けることや、作動温度に置いて磁性とな
る積層体を、このような温度においてほとんど或いは全
く磁性を呈さない別の積層体と部分的に取り替えたりす
ることや、或いは他の何らかの適当な公知の手段等が含
まれる。
このような飽和は、磁路内の狭い点6のすぐ上に水平漏
れ磁界Hfを確立するように作用し、この水平磁界は磁
路の下方水平枝路をバイパスし、飽和点の上で変成器の
一方の脚から他方の脚へと通過する。
れ磁界Hfを確立するように作用し、この水平磁界は磁
路の下方水平枝路をバイパスし、飽和点の上で変成器の
一方の脚から他方の脚へと通過する。
この漏れ磁界Hfは、液体巻回2に誘起された二次電流
Isとあいまって、アンペアの法則により垂直方向の力
Qを発生する。
Isとあいまって、アンペアの法則により垂直方向の力
Qを発生する。
実際には、上記の理論で働く電磁ポンプ系統は、第2図
、第3図及び第4図に示すように、鋳物施設に設置され
た炉のセラミック構体に鋳込まれる。
、第3図及び第4図に示すように、鋳物施設に設置され
た炉のセラミック構体に鋳込まれる。
第2図は、炉の断面図であり、左から右へ、充填鉢10
1、溶融もしくは保持体102、及び電気ヒータ、素子
103が示されている。当然のことながら、本発明を変
更せずに、ガス又はオイル或いは誘導システムによって
炉を加熱することができる。電磁ポンプ系統は、図示さ
れたように炉の右側で、構体に設置される。この構体は
液体巻回104を備え、この液体巻回は、入口オリフィ
ス105を経て主炉に連通していると共に、ダクト10
6を経て外部に通じている。磁路107は巻線108に
よって駆動される。セラミックの仕切板109が液体巻
回104の前面を炉102内の液体金属から分離し、炉
と電磁ポンプとの間の不所望な流れを減少する。従って
、作動巻回1゜4は、炉の底面より上にあり、この巻回
を空にできるように炉の底面に向かって傾斜している。
1、溶融もしくは保持体102、及び電気ヒータ、素子
103が示されている。当然のことながら、本発明を変
更せずに、ガス又はオイル或いは誘導システムによって
炉を加熱することができる。電磁ポンプ系統は、図示さ
れたように炉の右側で、構体に設置される。この構体は
液体巻回104を備え、この液体巻回は、入口オリフィ
ス105を経て主炉に連通していると共に、ダクト10
6を経て外部に通じている。磁路107は巻線108に
よって駆動される。セラミックの仕切板109が液体巻
回104の前面を炉102内の液体金属から分離し、炉
と電磁ポンプとの間の不所望な流れを減少する。従って
、作動巻回1゜4は、炉の底面より上にあり、この巻回
を空にできるように炉の底面に向かって傾斜している。
第3図は、x−x’線に沿った電磁ポンプ系統の縦断面
図であり、液体巻回104の入口は、図面でみて右側で
且つその作動部より下にあることが明らかであろう。又
、第3図には、磁路107及びその−次励磁巻線108
が示されている。
図であり、液体巻回104の入口は、図面でみて右側で
且つその作動部より下にあることが明らかであろう。又
、第3図には、磁路107及びその−次励磁巻線108
が示されている。
第3図では、飽和ノツチが110で示されている。
第4図は、Y−Y’線に沿った液体巻回104の横断面
図であり、磁路107、出口流路106及びセラミック
の仕切109を示している。この仕切は、液体巻回10
4を炉]02の主部分内の溶融金属から部分的に分離す
る。
図であり、磁路107、出口流路106及びセラミック
の仕切109を示している。この仕切は、液体巻回10
4を炉]02の主部分内の溶融金属から部分的に分離す
る。
第1図に概略的に示された特定磁気飽和の電磁ポンプ系
統は、ポンプ系統として考えられる唯一の態様ではない
。第1図のポンプ系統以外のもので、磁気飽和を使用し
ていて、炉のセラミック構体に合体することのできる多
数の色々な電磁ポンプ系統について以下に説明する。
統は、ポンプ系統として考えられる唯一の態様ではない
。第1図のポンプ系統以外のもので、磁気飽和を使用し
ていて、炉のセラミック構体に合体することのできる多
数の色々な電磁ポンプ系統について以下に説明する。
第5図は、第1図に類似した第1の変形態様を示してい
る。この変形態様においては、変成器が3つの垂直磁気
枝路を有し、中央の枝路54が液体巻回52の中央を貫
通している。液体巻回の電流は、先ず、垂直脚57及び
中央の脚54より成る磁路によって誘起されると共に、
他方の垂直脚53′&び中央の脚54より成る磁路によ
っても誘起される。磁路53−54では、巻線58が漏
れ磁界を形成するように働き、この漏れ磁界は飽和ノツ
チ56によって増強され、脚54及び53の相対的に接
近した下部間に延びる。第5図では、磁路の上部水平枝
路の各半分に2つの別々の巻線51及び58が設けられ
て示されている。これら2つの巻線に代って、1つの共
通の巻線を中央の脚54に巻き付けてもよい。
る。この変形態様においては、変成器が3つの垂直磁気
枝路を有し、中央の枝路54が液体巻回52の中央を貫
通している。液体巻回の電流は、先ず、垂直脚57及び
中央の脚54より成る磁路によって誘起されると共に、
他方の垂直脚53′&び中央の脚54より成る磁路によ
っても誘起される。磁路53−54では、巻線58が漏
れ磁界を形成するように働き、この漏れ磁界は飽和ノツ
チ56によって増強され、脚54及び53の相対的に接
近した下部間に延びる。第5図では、磁路の上部水平枝
路の各半分に2つの別々の巻線51及び58が設けられ
て示されている。これら2つの巻線に代って、1つの共
通の巻線を中央の脚54に巻き付けてもよい。
第6図に示された更に別の変形態様においては、3本の
垂直磁気脚を有する変成器に対し、3本全部の脚がその
下部付近で互いに接近されていて、2つの重畳された液
体巻回が直列に接続されたポンプを形成している。アン
ペアの法則による2つのバク1−ル図は、圧送力が加算
されることを示している。
垂直磁気脚を有する変成器に対し、3本全部の脚がその
下部付近で互いに接近されていて、2つの重畳された液
体巻回が直列に接続されたポンプを形成している。アン
ペアの法則による2つのバク1−ル図は、圧送力が加算
されることを示している。
同様に、第7図に示された更に別の変形態様では、3脚
の変成器が使用され、その外側の脚が中央の脚に接近さ
れて、単一の液体巻回に並列作用を及ぼすポンプが形成
される。各々の半巻回が作動し、金属を上方に押し上げ
る。2つの出口は互いに独立していてもよいし、平行な
流れ増大作用を得るように接続されていてもよい。又、
第7図では、1つの巻線が中央の脚に取り付けられてい
る。
の変成器が使用され、その外側の脚が中央の脚に接近さ
れて、単一の液体巻回に並列作用を及ぼすポンプが形成
される。各々の半巻回が作動し、金属を上方に押し上げ
る。2つの出口は互いに独立していてもよいし、平行な
流れ増大作用を得るように接続されていてもよい。又、
第7図では、1つの巻線が中央の脚に取り付けられてい
る。
又、第8図に示すように、単一磁路を有する変成器を使
用することもできる。この変成器は。
用することもできる。この変成器は。
1つの励磁巻線81と、2本の垂直脚83及び84とを
有し、2つの液体巻回82及び87が各々の垂直脚のま
わりに設けられていて、2本の脚間に延びる共通部分8
8を共有している。液体巻回82.87及び共通部分8
8の前面は、液体金属を供給すべく、炉の主体に体して
開いている。垂直脚83と84の互いに接近した部分間
にある共通部分88は、電磁ポンプ系統の作動領域を構
成する。この作動領域88では、2つの液体巻回82及
び87に誘起された電流の強さ及び方向が加算的となる
。飽和ノツチ86は、下方の水平枝路89の中央に配置
され、漏れ磁界Hfを増大するように働く。アンペアの
法則によるベクトル図は、合成力が上向きであることを
示している。
有し、2つの液体巻回82及び87が各々の垂直脚のま
わりに設けられていて、2本の脚間に延びる共通部分8
8を共有している。液体巻回82.87及び共通部分8
8の前面は、液体金属を供給すべく、炉の主体に体して
開いている。垂直脚83と84の互いに接近した部分間
にある共通部分88は、電磁ポンプ系統の作動領域を構
成する。この作動領域88では、2つの液体巻回82及
び87に誘起された電流の強さ及び方向が加算的となる
。飽和ノツチ86は、下方の水平枝路89の中央に配置
され、漏れ磁界Hfを増大するように働く。アンペアの
法則によるベクトル図は、合成力が上向きであることを
示している。
飽和ノツチ86に代って、2つの垂直枝路83及び84
の互いに接近した部分の各々に次第に縮径する部分を設
けてもよいし、或いは、上記の飽和発生手段のいずれか
を設けてもよい。
の互いに接近した部分の各々に次第に縮径する部分を設
けてもよいし、或いは、上記の飽和発生手段のいずれか
を設けてもよい。
電磁ポンプ巻回を得るためにここに開示する局部的な飽
和を形成する特定の手段は、本発明の範囲内に他の使用
目的も含まれるので、いずれかのやり方に限定されるも
のではなく、当事者に明らかなように、例えば、複数の
脚及び複数の巻回を有していて、多数の段に分散した並
列及び/又は直列の作用を用いているような変成器を使
用することもできる。
和を形成する特定の手段は、本発明の範囲内に他の使用
目的も含まれるので、いずれかのやり方に限定されるも
のではなく、当事者に明らかなように、例えば、複数の
脚及び複数の巻回を有していて、多数の段に分散した並
列及び/又は直列の作用を用いているような変成器を使
用することもできる。
実際上、炉の構体は、原理的には第8図に示された電磁
ポンプ系統と共に作られ、この電磁ポンプ系統は構体の
セラミック材に埋め込まれる。
ポンプ系統と共に作られ、この電磁ポンプ系統は構体の
セラミック材に埋め込まれる。
第9図は、第2図と同様の図であるが、電磁ポンプ系統
を含む炉の1部分のみを示している。
を含む炉の1部分のみを示している。
磁路207は、作動巻回204及び金属の出口ダクト2
06と同様に、セラミック材に部分的に埋設される。励
磁巻線208は、周囲の空気中に置かれる。作動巻回2
04は、金属入口オリフィス205を経て炉202の溶
融金属と連通ずる。この部分は、作動部分204と、こ
の作動部分204に接続された2つの巻回の前部及び後
部のみを示している。これらの部分は、炉の底面より高
い位置にあり、仕切209は作動巻回の下部レベルより
下に延びており、入口オリフィス205を経て作動巻回
204と炉202との間に生じる液体金属の不所望な流
れを制限する。
06と同様に、セラミック材に部分的に埋設される。励
磁巻線208は、周囲の空気中に置かれる。作動巻回2
04は、金属入口オリフィス205を経て炉202の溶
融金属と連通ずる。この部分は、作動部分204と、こ
の作動部分204に接続された2つの巻回の前部及び後
部のみを示している。これらの部分は、炉の底面より高
い位置にあり、仕切209は作動巻回の下部レベルより
下に延びており、入口オリフィス205を経て作動巻回
204と炉202との間に生じる液体金属の不所望な流
れを制限する。
第10図は、第3図と同様のx−x’線に沿った断面図
であり、変成器の磁路207及び励磁巻線208を示し
ている。巻回204の作動部は、変成器207の垂直脚
の互いに接近した部分間に位置される。この場合には、
垂直脚の互いに接近した部分を210のまわりで次第に
縮径することによって飽和が得られる。2つの巻回21
1及び212と、それらの共通の部分204は、垂直脚
の互いに接近した部分210を取り巻き、炉と連通して
いる。巻回211及び212は、入口205において炉
の底付近から、後方に延びた作動巻回204のレベルま
で上方に延び、これにより、両方の液体巻回を空にする
ことができる。
であり、変成器の磁路207及び励磁巻線208を示し
ている。巻回204の作動部は、変成器207の垂直脚
の互いに接近した部分間に位置される。この場合には、
垂直脚の互いに接近した部分を210のまわりで次第に
縮径することによって飽和が得られる。2つの巻回21
1及び212と、それらの共通の部分204は、垂直脚
の互いに接近した部分210を取り巻き、炉と連通して
いる。巻回211及び212は、入口205において炉
の底付近から、後方に延びた作動巻回204のレベルま
で上方に延び、これにより、両方の液体巻回を空にする
ことができる。
巻線208は、炉の上に配置されて示されているが、そ
の片側、例えば鉢の前部に配置することもできる。この
ような場合には、出口ダクト206を傾斜せずに、巻回
204の作動部の真上に垂直に延ばすことができ、これ
により、この出]コダクトに接続される出口管路をどの
方向に向けることもできる。
の片側、例えば鉢の前部に配置することもできる。この
ような場合には、出口ダクト206を傾斜せずに、巻回
204の作動部の真上に垂直に延ばすことができ、これ
により、この出]コダクトに接続される出口管路をどの
方向に向けることもできる。
本発明の範囲を逸脱せずに、巻線208を2つに分割し
て2つの半巻線とし、炉の各側に配置することができる
。
て2つの半巻線とし、炉の各側に配置することができる
。
第11図は、第4図と同様の横断面図であり、変成器の
磁路207.液体巻回2040作動部、その各側にある
2つの巻回211及び212、仕切209並びに出口管
路206を示しておりこの出口管路はこの部分の上に配
置されているので点線で示しである。
磁路207.液体巻回2040作動部、その各側にある
2つの巻回211及び212、仕切209並びに出口管
路206を示しておりこの出口管路はこの部分の上に配
置されているので点線で示しである。
第12図は、第9図と同様であるが別の態様を示した側
面図である。この第12図は、少なくとも磁路307及
び液体巻回304の一部を、セラミックのブロック31
3(これは鉢のセラミック裏張りと同じであるか又は別
のものである)内に作るように電磁ポンプ系統の少なく
とも一部をモールドするという変形構造を示している。
面図である。この第12図は、少なくとも磁路307及
び液体巻回304の一部を、セラミックのブロック31
3(これは鉢のセラミック裏張りと同じであるか又は別
のものである)内に作るように電磁ポンプ系統の少なく
とも一部をモールドするという変形構造を示している。
検体315は除去することができ、検体315のセラミ
ック材324は、その内部形状が、電磁ポンプ系統を含
むセラミックブロック313の外部形状を受け入れるの
に適したものとなるように鋳造される。鉢と電磁ポンプ
系統との間にはアルミナフェルト又はファイバの柔軟性
シー1−が配置され、これにより、分解を容易にすると
ともに液体金属が飛び散りしこよって漏れるおそれを防
止する。アルミナフェルトは、市販の物である。
ック材324は、その内部形状が、電磁ポンプ系統を含
むセラミックブロック313の外部形状を受け入れるの
に適したものとなるように鋳造される。鉢と電磁ポンプ
系統との間にはアルミナフェルト又はファイバの柔軟性
シー1−が配置され、これにより、分解を容易にすると
ともに液体金属が飛び散りしこよって漏れるおそれを防
止する。アルミナフェルトは、市販の物である。
炉316の固定部は、取り外し可能な鉢315を受け入
れることのできるフレーム317に固定される。取り外
し可能な鉢は、一般のスクリュー/ナツトシステム31
8(第13図参照)により炉に組み立てられ、各システ
ムは、取り外し可能な鉢315と炉316との間に配置
されるアルミナフェルト又はファイバーガスケット31
9を圧着するために少なくとも1つのバネを含む。
れることのできるフレーム317に固定される。取り外
し可能な鉢は、一般のスクリュー/ナツトシステム31
8(第13図参照)により炉に組み立てられ、各システ
ムは、取り外し可能な鉢315と炉316との間に配置
されるアルミナフェルト又はファイバーガスケット31
9を圧着するために少なくとも1つのバネを含む。
第13図は、組み立てられた炉の平面図であり、炉が、
取り外し可能なセラミックるつぼを含。
取り外し可能なセラミックるつぼを含。
むことを示している。このるつぼは、例えば、電気ロン
ドによって加熱されるか、或いは、るつぼの外面に取り
付けられた金属被膜又は炉のセラミック材もしくはファ
イバーに埋設された金属被膜によって加熱される。
ドによって加熱されるか、或いは、るつぼの外面に取り
付けられた金属被膜又は炉のセラミック材もしくはファ
イバーに埋設された金属被膜によって加熱される。
第14図は、炉を互いに分解した時の各部を示す分解図
である。
である。
ここに示す炉は、長方形であるが、当然のことながら、
条件に応じた炉及び電磁ポンプ系統を形成するように別
の所望の形状にしてもよい。特開様に、検体に電磁ポン
プ系統を組み込ませることに関連した本発明の範囲から
逸脱せずに、1組の別々の電磁用の鉢もしくは所与の鉢
に対する色々な電磁ポンプ系統を容易に使用することが
できる。
条件に応じた炉及び電磁ポンプ系統を形成するように別
の所望の形状にしてもよい。特開様に、検体に電磁ポン
プ系統を組み込ませることに関連した本発明の範囲から
逸脱せずに、1組の別々の電磁用の鉢もしくは所与の鉢
に対する色々な電磁ポンプ系統を容易に使用することが
できる。
このようなポンプ系統は、多数のやり方で、鋳物設備に
用いることができる。これらは、低圧または高圧の鋳造
装置、回転木馬型の鋳造装置、真空状態で鋳造を行なう
装置、ロストワックス型の鋳造装置等と組み合わせて使
用できる。このようなポンプは、重力によって鋳造を行
なう必要性を排除すると共に、炉より高い位置にある型
へ金属を鋳込むことができる。又、これらのポンプは。
用いることができる。これらは、低圧または高圧の鋳造
装置、回転木馬型の鋳造装置、真空状態で鋳造を行なう
装置、ロストワックス型の鋳造装置等と組み合わせて使
用できる。このようなポンプは、重力によって鋳造を行
なう必要性を排除すると共に、炉より高い位置にある型
へ金属を鋳込むことができる。又、これらのポンプは。
炉から金属を移すのにも使用できる。
第1図は、電磁ポンプ系統の基本的な原理を示す斜視図
であり、 第2図、第3図及び第4図は、各々、本発明によって第
1の検体を組み込んだ炉の断面図、端面図及び平面図で
あり、 第5図、第6図、第7図及び第8図は、第1図と同様の
斜視図であって、4つの色々な電磁ポンプ系統を示す図
であり、 第9図、第10図及び第11図は、第2図。 第3図及び第4図と同様の断面図であって本発明による
第2の構体を組み込んだ炉を示す図であり、第12図は
、本発明による取り外し可能な構体を有する炉の側面断
面図であり、 第13図は、第12図の炉の平面図であり、そして 第14図は、第12図の炉の分解断面図である。 1・・・−次巻線 2・・・二次巻線 3・・・変成器 4.5・・・脚 7・・・水平枝路 101・・・充填鉢、 102・・・溶融又は保持体 103・・・電気ヒータ素子 104・・・液体巻回 105・・・オリフィス106
・・・ダクト 107・・・磁゛路108・・・巻線 109・・・セラミック仕切 〈〕 r\ − 昭和 年 月 日 1.事件の表示 昭和60年特許願第32556号3、
補正をする者 事件との関係 出願人 氏名 アンリ カルボネル 4、代理人
であり、 第2図、第3図及び第4図は、各々、本発明によって第
1の検体を組み込んだ炉の断面図、端面図及び平面図で
あり、 第5図、第6図、第7図及び第8図は、第1図と同様の
斜視図であって、4つの色々な電磁ポンプ系統を示す図
であり、 第9図、第10図及び第11図は、第2図。 第3図及び第4図と同様の断面図であって本発明による
第2の構体を組み込んだ炉を示す図であり、第12図は
、本発明による取り外し可能な構体を有する炉の側面断
面図であり、 第13図は、第12図の炉の平面図であり、そして 第14図は、第12図の炉の分解断面図である。 1・・・−次巻線 2・・・二次巻線 3・・・変成器 4.5・・・脚 7・・・水平枝路 101・・・充填鉢、 102・・・溶融又は保持体 103・・・電気ヒータ素子 104・・・液体巻回 105・・・オリフィス106
・・・ダクト 107・・・磁゛路108・・・巻線 109・・・セラミック仕切 〈〕 r\ − 昭和 年 月 日 1.事件の表示 昭和60年特許願第32556号3、
補正をする者 事件との関係 出願人 氏名 アンリ カルボネル 4、代理人
Claims (7)
- (1)炉用の構体において、電気励磁巻線が周囲の空気
中に配置された電磁ポンチ系統を備え、磁路の少なくと
も一部と、圧送さるべき液体金属で構成された巻回の少
なくとも一部が、上記鉢の、 セラミック材の中に配置
されたことを特徴とする構体。 - (2)上記磁路は、磁気的に飽和可能な部分を含む特許
請求の範囲第(1)項に記載の構体。 - (3)上記磁路の磁気的に飽和可能な部分は、磁路の2
つの垂直枝路が互いに離れているところではなくて互い
に接近している領域の近くに位置され、上記枝路の相対
的に接近した上記部分間に漏れ磁界を向けて液体金属の
上記巻回の少なくとも一部に通し、これに電流を誘起さ
せる特許請求の範囲第(2)項に記載の構体。 - (4)上記電磁ポンプ系統は、液体金属の二次巻回を2
つ接続して使用し、この接続された巻回は、その作動部
を構成する共通の中心部を有し、この作動部は、局部的
な飽和を含む磁路の上記相対的に接近した枝路間に配置
され、磁路の垂直枝路間で上記巻回の上記作動部に漏れ
磁界が通り、この漏れ磁界は、液体巻回の作動部に誘起
される電流と組み合わされて、液体金属を圧送する力を
形成する特許請求の範囲第(3)項に記載の構体。 - (5)上記鉢は、炉から取り外しできる特許請求の範囲
第(1)項に記載の構体。 - (6)電磁ポンプ系統の作動磁路の少なくとも一部及び
液体金属巻回の少なくとも一部は、予めモールドされた
セラミックブロックに組み込まれ、このセラミックブロ
ック自体は炉のセラミック裏張りに取り外し可能に組み
込まれる特許請求の範囲第(1)項に記載の構体。 - (7)少なくとも2つの電磁ポンプ系統が上記鉢に組み
込まれる特許請求の範囲第(1)項に記載の構体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8402492A FR2559885B1 (fr) | 1984-02-20 | 1984-02-20 | Bassin lateral de pompage electromagnetique pour four de fonderie |
| FR8402492 | 1984-02-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60247462A true JPS60247462A (ja) | 1985-12-07 |
Family
ID=9301168
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60032556A Pending JPS60247462A (ja) | 1984-02-20 | 1985-02-20 | 鋳造施設において電磁式圧送を行なうための横鉢 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4586698A (ja) |
| EP (1) | EP0153255B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60247462A (ja) |
| AT (1) | ATE58317T1 (ja) |
| DE (1) | DE3580492D1 (ja) |
| FR (1) | FR2559885B1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101018005B (zh) * | 2007-02-15 | 2011-06-29 | 沈阳铝镁设计研究院有限公司 | 直流电磁泵 |
| CN101063211B (zh) * | 2007-05-15 | 2010-11-03 | 沈阳铝镁设计研究院 | 一种铝电解槽用直流电磁泵 |
| KR101766105B1 (ko) | 2013-03-11 | 2017-08-07 | 노벨리스 인크. | 마그네틱 펌프 설비 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2224982A (en) * | 1939-03-10 | 1940-12-17 | Whitehall Patents Corp | Method of die casting by electrical induction |
| FR949066A (fr) * | 1946-07-12 | 1949-08-19 | Nat Smelting Co | Pompe perfectionnée pour l'élévation et le transport des métaux en fusion |
| US2707718A (en) * | 1948-05-26 | 1955-05-03 | Ajax Engineering Corp | Induction pump for casting molten metals |
| GB1192931A (en) * | 1966-11-09 | 1970-05-28 | Ass Elect Ind | Improvements relating to Metal Treatment Apparatus |
| US3844453A (en) * | 1973-01-05 | 1974-10-29 | Modern Equipment Co | Apparatus and method for melting and pouring metal |
| FR2441946A1 (fr) * | 1978-11-15 | 1980-06-13 | Novatome Ind | Pompe a conduction pour metal liquide |
| FR2458937A1 (fr) * | 1979-06-07 | 1981-01-02 | Novatome Ind | Pompe electromagnetique a conduction pour metal liquide |
| FR2499330A2 (fr) * | 1981-02-04 | 1982-08-06 | Novatome Ind | Pompe electromagnetique a conduction pour metal liquide |
-
1984
- 1984-02-20 FR FR8402492A patent/FR2559885B1/fr not_active Expired
-
1985
- 1985-02-20 JP JP60032556A patent/JPS60247462A/ja active Pending
- 1985-02-20 US US06/703,564 patent/US4586698A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-02-20 AT AT85400301T patent/ATE58317T1/de not_active IP Right Cessation
- 1985-02-20 EP EP85400301A patent/EP0153255B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1985-02-20 DE DE8585400301T patent/DE3580492D1/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3580492D1 (de) | 1990-12-20 |
| US4586698A (en) | 1986-05-06 |
| ATE58317T1 (de) | 1990-11-15 |
| EP0153255A2 (fr) | 1985-08-28 |
| FR2559885A1 (fr) | 1985-08-23 |
| EP0153255A3 (en) | 1987-09-02 |
| FR2559885B1 (fr) | 1988-06-10 |
| EP0153255B1 (fr) | 1990-11-14 |
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