JPS60255129A - 回転デイスク型スクラバ装置および方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の背景］ 本発明は、ガス流からガス状物質や粒状物質を除去する
改良型装置および方法に関し、具体的には、液体から大
容量の液体噴霧を作る装置と方法であって、噴霧をなす
液体が前記液体の上を通過する気体媒質と実質的に密に
接触するようにした装置と方法に関する。ここに記載゛
する型の噴霧発生装置は、産業上の廃ガス流から固体成
分や可溶成分を抽出する手段として、あるいは気体媒質
と液体ＩＩＪ！霧との接触による蒸留によって気体媒質
を冷却する手段として有用である。

米国特許第１４６２３６３号に記載されている８− ような先行技術装置では、中心軸のまわりを回転覆るよ
うになっていて、次のように液体の上で支持されている
大きな表面積のシリンダによって液体噴霧が形成される
ようになっている。弓なわら、液体の」ニ側表面がシリ
ンダの表面の最下部分に極くわずか触れたりほぼ接して
いる。回転するシリンダが液体の表面に接Ｊると、薄膜
状の液体がそれに付着し、シリンダが回転するにつれて
、遠心力によってシリンダ表面から液体の薄膜が細かい
噴霧としてシリンダの上に飛び散る。米国特許第１４６
２３６３号では、シリンダは液体の中に非常にわずかに
浸漬されるだけ（パある。なぜ２ｉら、たとえシリンダ
の小部分でも液体の表面６１こり下に／すると、シリン
ダを回転するのに必要イｆ力は非常に大きくなり、噴霧
効宋が（９られなくなってしまうからである。米国特許
第１４．６２３６３　＠では、ディスクにＪ：っでは不
適当イｔことがあることが述べられている。その理由は
、ディスクの両面に水の摩擦があるために、液体と接触
するディスクの端が動く方向に、液体の流れがかなり生
じるがらである。他の先行技術たとどえば米国特許第１
３６１６０７号では、液体の上に液体噴霧を形成する回
転傾斜式ディスクまたはインペラを使用しているが、噴
霧を形成する液体内に極めてわずかにしか浸漬できない
という制限が同様にある。米国特許第１３６１６０７号
のディスクの円面（端）が、特別に構成された端で全体
的に形成されている。

前述の制限は、シリンダやインペラによって拾い上げら
れる液体の昂が極めて限られている点で重要である。そ
して、更に、液位の微小変動や液面の乱れが、回転部祠
と液体の接触を不適切にし、発生−Ｃする噴霧が泪え−
Ｃしまったり不規則になる。

その結果、他の各種の手段によってガス流からガス状物
質や粒状物質を除くことがプラクティスとして当業者に
一般に受り入れられるところとなった。

最も一般的なスクラバ（洗滌装置）では、密接な気−液
接触のために、洗滌すべきガスが通る容器内に洗滌液を
Ｉｆｆ　ｎ−ｊ−るポンプを使用しなければらない。伯
のスクラバ装置では、洗滌液を再循環Ｊ−る垂直積み−
Ｌげ式有孔１〜レイを使用し、孔を通る洗滌液によって
、孔や充填塔を強制的に通過するガスが洗滌される。他
の装置では、洗滌液槽に洗滌すべきガスを強制的に３３
　＜る散佑用管を使用（）ている。ノズル装置が比較的
有効であるが、液体中に含まれる粒状物質によって詰ま
りやずく、気体媒質に液体を定常的に晒してＪ３＜能力
に限定がある。ざらに、このような装置は、液体と気体
の対向流が望ましいところ、例えば、ガス流から除去し
た構成物７！、１を有効に回収する必要があるといった
状況では使用できない。またポンプ、噴霧、ノズル、有
孔１・・レイ、充ｌ１ｉＹ塔、散イ０装置や、これらの
機素を操作覆るのに必要な各種装置に仏？？７する多く
の装置の利用には欠点がある。なぜなら、設備資本が大
きいし、それに続く運転保全資本も大きいからである。

［発明の概要］ 本発明の主目的は、ガス流からガス状物質や粒状物質を
除去する改良型装置と方法を提供する午１１− とである。

本発明の他の目的は、液体貯蔵部の上に大容量の液体噴
霧を発生させ、このとき、噴霧を構成する液体が、液体
の上を通る気体媒質と極めて密に接触するようにする改
良型装置と方法に関する。

本発明の他の目的は、噴霧の形で気体と液体を密に接触
させる方法と装置であって、噴霧を発生する液体の液４
Ｃｉとは無関係に装置が作動するものを提供することで
ある。

本発明の他の目的は液体噴霧でガスを洗滌する改良型装
置と方法であって、噴霧を発生する液体の流れが、洗滌
すべきガスの流れに対向する方向にある装置および方法
を提供覆ることである。

本発明の他の目的は、比較的簡単な構造で、信頼性の高
い作業で実施でき、必要な手入れや修理が極めて少ない
ガスの洗滌装置と方法を提供することである。

前述の目的を達成するために、本発明では、下側部分に
液体を含有し、上側部分に気液接触空間を有するハウジ
ングからなる装置を設ける。ハウ１２− ジンクの下側部分には、液体の入口と出口があり、同様
に上側部分にはガスの入口と出口がある。本発明の一特
徴によれば、気体と液体の密＜７接触をもたらす次のよ
うな組合せの改良型装置が設けられる。

（ａ　）下側部分に液体を含有し、上側部分に気液接触
空間を画成する細長い水平配置のハウジング。

（ｂ）ハウジングの気液接触空間に気体媒質を導入する
装置と、気体媒質がハウジングから出て行（プるように
覆る装置。

（Ｃ）気液接触空間内に液体の噴霧を形成することがで
きる構造物を横方向面に有し、ハウジング内に軸方向に
配置された複数の回転自在軸に取り付けられ、下側部分
がほとんど液体内に浸漬されるように液体の上で支持さ
れている複数のディスク形インペラ。

（ｄ）前記軸を回転づる装置。

概略的には、本発明は、液体の噴霧を気−液接触空間内
に形成することができる構造を横面に有する回転ディス
ク形インペラを使用して洗滌の作動効率を増大すること
である。ディスク形のインペラは、ハウジング内に軸方
向に配置された回転自在の複数の軸に取り付（プられ、
ディスク形のインペラの下側部分が洗滌液内にほぼ浸漬
するように洗滌液の上に支持されている。実施例によっ
ては、回転ディスク形インペラの横面の各々に、集めら
れた液体の投げつけ用翼形突起がある。このインペラは
、液体の上に支持された複数の平行な回転軸に取り付け
られ、インペラの下部が液体の内に実質的に浸漬してい
る。インペラが液体内に実質的浸漬しでいるから、本発
明は、液体レベルとは独立に作動する。さらに、隣り同
志の軸、従ってそのインペラが反対方向に回転できるよ
うにすることがこのましい。軸が回転するとインペラの
横方向突起が液体の実質的膜を拾い上げて、それを比較
的細かい噴霧として気−液接触空間内に投げつけあるい
は推進して、インペラの上に均等に散布する。

ハウジングの貯蔵部又は下側部分に入れられた液体は、
ハウジング端壁の中間に配置された隔壁によって複数の
小ざな隔室に区分される。さらに液体の入口が気体の入
口に対しハウジングの対向端にあり、同様に気体出口に
対しハウジングの対向端に液体出口があり、液体の流れ
が気体の流れに対向して、本装置の効率を向上する。

貯蔵部の中で液体を動かし続（プる攪拌装置や、液体内
の成分の酸化のための空気散布器が更に部品として設け
られる。

本発明の他の特徴によれば、液体によって除去可能４７
汚染成分を有するガス流を洗滌する改良方法が次のよう
・に提供される。すなわち、（ａ　）液体貯蔵部の上に
段【フられた気液接触空間の一端に汚染物質（汚染要因
物）含有気体媒質を導入し、 （Ｃ〕）気液接触空間に液体の噴霧を形成しくｅ）気液
接触空間内で、汚染物質含有気体媒質を液体の噴霧に通
し、これにより、汚染物質除去済み気体を形成し、 （ｄ　）汚染物質除去済み気体を気液接触空間の１５− 他端から取り出し、 （ｅ、）汚染物質除去済み気体を取り出したところの実
質的に下のところで、汚染されていない液体を貯蔵部へ
導入し、これにより、汚染物質除去気体の取り出し点で
気液接触空間に形成された液体噴霧が実質的に汚染のな
い噴霧であり、（ｆ　）汚染物質含有の気体媒質の導入
点の実質的に下のところで、貯蔵部から汚染液体を取り
出す。

本発明によって、上述の先行技術の問題、不利点、制約
が、ノズルや回転シリンダを使用しない装置や方法を提
供することによって克服される。

本発明は、装置の有効作動が液体レベルの微小変動によ
って悪影響を受【ノないようにして、液体から液体噴霧
を発生ずるのに有効である。

以上に加えて、本発明の目的、利点、特徴は、添付の図
面を参照して、以下の実施例の記載を読むことにより明
らかになる。

［実施例の具体的説明］ 第１図には、気体と液体の密な接触を行う本発明の装置
を図示している。当該装置は、細長いハ１６− ウジングまたは室１０を有する。好適実施例では、ハウ
ジングまたは室１０は実質的に円筒形である。

しかしハウジングまたは室は、他のいろいろな気液の密
な接触によって気体の洗滌を行ういろいろな形状用法を
とりうる。第１図τ゛、ハウジング１０は、複数の支持
部祠１１上に配置されている。

支持部月１１は、円筒形ハウジングの下面をぴったり受
１ノ入れる」：うに単円形に削られた部分を有している
。

本発明の洗滌装置は、液体噴霧で気体を効果的に洗滌す
るように、及びインペラを浸漬する充分な液位の液体を
もたらすように実質的に水平になっている。

本発明の装置は、金属、プラスチックのような適当な材
料で構成でき、本発明の装置が産業排気ガス流を洗滌す
るのに使用される場合、ハウジング１０は、ぞれと接触
Ｊる物質がたとえばアルカリ洗滌溶液やガス流の酸性成
分のＪζうに腐蝕性であるから、耐酸性、耐アルノＪり
性祠料で構成するのが重要である。

本発明を理解するには、図示のようにハウジングの縦軸
を通る水平面を見て、概念的に、水平配置のハウジング
１０を下側部分１２と上側部分１３に分りるのが有用で
ある。本装置の通常の作動において、ハウジングの下側
部分１２は、液体１４を含むが、そのレベルは、上側表
面１５が概念化面の直下に配置されるように維持される
。以下に）ボベる制限のもとで、概念化面よりも液体表
面１５がどの位下にあるかは、本装置の作動の間の液体
哨ｎ１６（第１図には図示していない。）の適当な発生
にとっては重要でない、しかし、インペラの軸に対して
所定のレベルに液体１４を維持する手段を設けるのが好
ましい。これは、例えば、液体を液体入口に供給し、ま
た液体出口の液体の流れを制御し、液体人口１７および
液体出口１８をハウジングの下側部分１２の壁に配置し
て、こうし−Ｃ不充分な液体や過剰の液体による不適切
な作動の可能性が生じないにうにすることによって行わ
れる。液体入口と液体出口は第３図に詳細に示されてい
る。

ここで用いられているように、液体を含有する下側部分
く貯蔵部）と気液接触空間を画成する上側部分で占め−
られるハウジングの部分には、気液接触空間内に気体が
液体によって効果的に洗滌される十分な接触空間がある
かぎり、制約はない。

多くの実施例て゛、および図示のものにおいて、液体を
有づる下側部分（貯蔵部）はハウジングの大体下側半分
であり、気液接触空間を画成する一Ｆ側部分はハウジン
グの大体上側半分である。しかし、他の洗滌装置の上側
部分と下側部分は、必要に応じＣ１６０％上側部分と４
０％下側部分、４０％上側部分と６０％下側部分、７０
％Ｆ側部分と３０％下側部分のように区分でｉλ゛る。

ハウジングのに側部分には、洗滌する気体媒質を気体接
触空間に導入づる通常の手段と洗妓した気体媒質を気液
接触空間から出すことのできる手段とを５ＱＵる。これ
が、第３図に示されており以下に詳述する。

第１図に示づように、細長いハウジング１０内に縦方向
に配置された２つの回転軸２３に、複数−１９＝ のディスク形インペラ２４を設置プ、ディスク形インペ
ラ２４にはその横面から外側へ伸びる突起２５がある。

ディスク形インペラは、ハウジングの下側部分１２内の
液体１４に浸漬され、インペラの回転によって、液体噴
霧がハウジングの上側部分、寸なわち、インペラの−Ｌ
の区域の気液接触空間に飛ばされる。回転軸２３は、ハ
ウジング内に、液体より一定距離だけ上に通常の手段に
よって軸方向に取り付けられてい゛Ｃ１インペラの下側
半分が液体内に実質的に浸漬するようになっている。

インペラ装置２２は、複数のディスク形インペラ２４を
右する複数の回転軸２３を有し、ディスク形インペラ２
４からは、インペラ装置の横面から外側へ翼形の突起２
５が伸びている。ディスク形インペラ２４は、回転軸２
３の各々に連続的に配置されている。回転軸２３は、液
体１４の１−に支持され、軸がハウジング１０の縦軸に
平行で、ディスク形インペラ２４の下側半分が液体の中
に実質的に浸漬するようになっている。第３図に示ずモ
ータのような動力源をハウジング１０の外部２０− に設置」て、回転軸２３へ回転運動が伝えられる。

こうして、置型突起２５によってハウジング１０の気液
接触空間１３内へ液体が噴霧として投げ上げられる。液
体噴霧１６は第２図〜第４図に示されている。

ここに用いられて１ノいるｊ：うに、ディスク形インペ
ラは、液体の中に実質的に浸漬じており、突起２５の大
部分が軸２３の回転中液体内に入り込むようになってい
る。当然ながら、ディスク形インペラの一部は、気液接
触空間内に伸びて、液体をハウジングの上側部分へ駆動
しあるい（ま投げつける。例えば、ディスク形インペラ
の５０％が液体の中に浸漬すると、ディスク形インペラ
の５０％が気液接触空間内へ入り込む。

第２図に示すように、ディスク形インペラ２４の下側半
分を液体１４の中に浸漬することによって、両型の突起
２５が液体を上側部分すなわち気液接触空間１３へ投げ
十げ、そこでは液体表面１５が回転軸２３の下で且つデ
ィスク形インペラ２４の最下周縁の上にある。ディスク
形インペラの横面にある構造物は、ディスク形インペラ
が液体の中に実質的に浸漬されて回転するときに、液体
の噴霧を形成する突起ならどのような形状設計のもので
もよい。ディスク形インペラ２４の横面の９７形突起２
５は本発明の洗滌装置の構造物としてＱｆ適である。突
起はディスクの片面あるいは両面に取りつ１ノられる。

各回転軸２３に取りつ（）られるディスク形インペラ２
４の数はいくつでも良いが、気液接触空間１３内の液体
噴霧１６を一層均一にするために互いに平行に整列させ
るのがよい、更に各回転軸２３は、互いに隣りの軸に対
して反対へ回転するようにすること、およびこのような
軸を４本以上設けることが好ましい。このような構成は
、個々のディスク形インペラ２４によって発生した噴霧
を最大に重ね合わぼるという点で望ましい。

各回転軸２３のディスク形インペラ２４の数を増減して
、発生ずる液体噴霧１６の体積を比例的に増減できる。

こうして、回転軸２３のディスク形インペラ２４の数を
変えて最適の気液接触を容易に得ることができる。

ざらに、液体噴霧１６の特性は、本発明のいろいろな利
用に応じて変えられる。例えば、液体噴霧１６の液滴の
寸法や１１）霧の角度は、いろいろ４１勺法のディスク
形インペラ２／Ｉを設（Ｊることにより、またデーｒス
ク形インペラの横方向突起２５の設計変更により、また
回転軸２３０回転速度を増減することにより変えられる
。

液（Ｑはポンプや堰のような通常の手段により必要に応
じて所定の１ノベルに維持される。第３図は、液体人口
１７や液体出口１８を通して貯蔵部に液体を供給したり
除去したりＭる本発明の好適実施例を示づ。液体１４（
ま、液体入口から液体を供給したり、液体用１」を通る
液体貯蔵部からの液体の流れを制御して、インペラの軸
に対しで所定のレベルに維持される。こうして、液体を
軸の軸線に対して所定のレベルに維持する手段が設けら
れる。

そして液体のレベルは軸２３から均一の距ｍｔのところ
に維持される。概略的に、ハウジングの下側部分に配置
された液体入目はハウジングに新しい２３− 液体を導入覆る手段にもなる。また、ハウジングの下側
部分に配置された液体出口は使用後の液体をハウジング
から除去する手段になる、好適実施例では、液体人口１
７は液体出口１８の大体反対側にある。

第３図には、気液接触区域へ洗滌すべき気体媒質を導入
する手段と、ハウジング１０から気体媒？１を出す手段
とが示されている。気体媒質は気体入口ダクト３０から
ハウジング１０に入り、気体出口ダクト３２からハウジ
ング１０を出る。ハウジング１０内のガスの流れは、矢
印３４で示されている。気体入口ダクト３０に入るガス
は矢印３４の方向に流れ、ハウジング１０の上側部分１
３内でミストまたは噴霧の形の液体により洗滌される。

洗滌されたガスは出口ダクト３２からハウジング１９を
出て、通気手段や煙突のような装置（図示せず）に導び
くことができる。

多くの場合、装置の作動の間、例えば産業排気ガス流か
ら可溶成分を除くとぎ、装置の作動の間、気体媒質と液
体１４の自流を作ることは好ましい、２４− このような向流に」、って、気体媒質から除去した成分
を液体に最大に含有させることを可能とし、従って、こ
のＪ−うな成分の回＋１’２が重要イ【とき狛に有用で
ある。本発明の好適実施例で向流を作るには、液体入口
をハウジングの下側部分内に、気体媒質のハウジング外
への出口手段の下に設（）、そして液体出口をハウジン
グ内の液体入口の反対側に、気体媒質のハウジングへの
導入手段の下に設りて、気体媒質ど液体が万いに反対に
ハウジング内を流れるようにする。言い換えると、液体
入口はハウジングの下側部分内に、気体媒質をハウジン
グから出す手段の近くに配置され、液体出口はハウジン
グの下側部分内に、気体媒質を気液接触空間内に導入す
る手段６近くに配置される。

第３図の実施例では、気体媒質と液体の自流は気体出口
ダクト３２の下に液体人口１７を、そして気体人ロダク
１〜３０の下に液体出口１８を配置して、気体媒質と液
体が、ハウジング１００両端のところで導入されまた導
出されるようにする。

本発明によれば、更に有効な自流が、ハウジング１０の
下側部分すなわち液体貯蔵部１２に１つ以上の隔壁２６
を更に設（プて、複数の液体含有隔室２７を形成するこ
とによって得られる。こうして、不発明の好適実施例で
は、液体を含有する下側部分１２に１つ以上の隔壁を置
いて、複数の液体含有隔室と、隔室間に液体を通１手段
とを設けである。

隔壁２６は、堰としての隔壁２６の上側表面に液体を流
でようにして、隣接隔室２７間に液体を流寸ようにする
ことに有効であるが、有孔壁のような他の手段も使用で
きる。こうして、ハウジングの下側部分内に１つ以上の
隔壁を設けて、複数の液体含有隔室を形成し、液体表面
に最も近い隔壁の表面が、隔室間に液体を流すのに充分
なだけ液体中に浸漬される。各端壁１９は下側部分また
は貯蔵部１２と上側部分１３の外側端壁を形成する。

隔壁が下側部分または貯蔵部１２内に配置される場合、
気液接触空間１３を通る気体媒質は、気体出口２１に近
づくにつれて、純粋になり、液体出口１８に近い隔室２
７には、気体媒質から除去された成分の量が徐々に多く
なる。隔室２７の底に粒状物質が沈積しないように、通
常は攪１！１′手段２８を設けて、液体１４の動ぎと粒
状物質の浮遊を維持することができる。第２図〜第４図
に示Ｊように、攪拌装置２８は、モータ３６によって駆
動されて、適当な攪拌を行なう。液体出口１８を出る粒
状物質は、ろ過や沈積のような通常の方法により液体か
ら抽出される。

場合によっては、下側部分すなわち貯蔵部１２内の液体
中の溶解物質（汚染物質）を酸化あるいは反応させるこ
とが望ましい。これらの溶解物質は、密な気液接触から
生じる汚染物ｖ１や成分であることが多い。酸化や反応
は、汚染物質の酸化や反応を引き起Ｍ空気などの媒質を
液体内に吹き込んで行われる。液体中に吹き込まれる媒
質は、液体でもよいが、ＩＩ適実施例では、気体である
。こうして本発明の実施例によってＩよ、汚染液体中の
汚染物質や構成成分の少なくとも一部を酸化するために
貯蔵部内の液体に気体媒質を導入する。密２７− な気液接触の結果として液体内の溶解成分を酸化するた
めに液体中に気体媒質を導入するには通常の手段を使用
できる。

例えば、第３図で液体１４内の物質を酸化するのが望ま
しい場合は、ハウジングの端隔１９と隔壁２６やその隣
りの隔壁２６によって形成される隔室２７内に空気散布
装Ｎ２９を設置できる。石炭燃焼発電プラントによって
発生する煙道ガスから硫黄酸化物を除く装置を使用する
場合、空気散布装置は、セメントや壁板の製造に使用す
る石膏にカルシウム硫黄塩を転化するのに使用できる。

この場合、汚染物質除去ガスまたは洗滌されたガスは、
硫黄酸化物を除去したガスである。

気体媒質がかなりの速度で気液接触空間１３を通過する
か・ら、液体噴霧１６は気体出口ダクト３２内に吹き込
まれる傾向にある。従って、実施例にＪζつでは、汚染
物質除去ガスまたは洗滌されたガス内に含まれる液体を
除去する手段を設けることが望ましい。気体出口ダクト
３２近くにあるいは５その中に脱ミスト装置４０を設け
て、気液接触２８− 空ＩＪＩ　１３内に液体噴霧１６を保持Ｊるのに使用す
ることができる。さらに。８芹ミスト装置４０は酸淵縮
による排出塔の腐蝕を最小にするのに役存つ。

本発明の好適実施例では、気液の密な接触を有効に行わ
せる改良形装置が次のような組合せで設りられる。（ａ
）液体を収容する下側部分と気液接触空間を画成Ｊる下
側部分を有する水平配置の細長いハウジング、（ｂ）ハ
ウジングの気液接触空間内に気体媒質を導入する装置と
、ハ・ウジングから気体媒質を出づ装置、（［）複数の
ディスク形インペラであって、その構面から外側へ突起
が伸びており、ハウジング軸方向に配置された４本以上
の回転軸に取り付（プられて、液体の上に支持され、下
側半分が液体中に実質的に浸漬しているディスク形イン
ペラ、ｉｄ）互い、に隣接する軸を反対方向に回転する
装置、（ｅ）ハウジングの下側部分に配置された液体入
口と、ハウジングの下側部分に配置さ・れた液体出口、
および（ｆ）複数の液体含有隔室を形成するようにハウ
ジングの下側部分の両端間の位置にある１つ以上の隔壁
。さらに、ハウジングの下側部分に液体に定常的動きを
維持する攪１２１′装置を配置したり、密な気液接触の
結果として液体中に溶、４フた成分を析出させるために
気体媒質を液体中に導入Ｊる手段を設けたり、気体媒質
をハウジングから出す装置にハウジングから液体噴霧の
損失を防止覆る手段を設けることなどは任意である。

本発明の具体的方法では、次のように、例′えば粉砕石
灰あるいは石灰石のようなカルシウム含有化合物を水に
入れて使用することに」こりガス流から二酸化硫黄を除
去づ−る。（ａ　）二酸化硫黄含有ガス流をカルシウム
含有水の貯蔵部の上の気液接触空間の一端に導入し、（
ｂ）気液接触空間にカルシウム含有水の噴霧を形成し、
（Ｃ）二酸化硫黄のガスを含む気体媒質を気液接触空間
内のカルシウム含有液の噴霧に通し、気体媒質から二酸
化硫黄を除去し、（ｄ　）カルシウム含有液の貯蔵部の
上の気液接触空間の他端から二酸化硫黄を除去した気体
媒質を取り出し、（ｅ　）二酸化硫黄除去済みガスの取
り出し点より実質的に下にところで新しいカルシウム含
有水を貯蔵部に導入し、二酸化硫黄除去済みガスの取り
出し点Ｃ゛気液１ａ触空間に形成されたカルシラ１１含
有水の噴霧が実質的に汚染されていないカルシウム含有
水の噴霧であり、（ｆ）貯蔵部内のカルシ「″ツム含有
水内に空気を導入して、カルシウム含有水内に含まれる
カルシウム硫黄ｊｎを石膏含有水に転換し、（ｇ）二酸
化硫黄含有の気体媒質の導入点より実質的に小のところ
で貯蔵部から石膏含有水を取り出し、そして（］１）石
膏を回収覆る。カルシウム含有水は、析出した石膏を懸
濁１ノでおくため攪拌しておくのがよい。

第４図は、各軸に複数のディスク形インペラを支持する
４本の回転軸をハウジング１０内に使用した本発明の実
施例を示Ｊ−０各回転軸は、例えは第３図に示１モータ
４８によって他の軸とは独Ａ′ｌに回転され、直ぐ隣り
の軸とは互いに反対方向に回転できるのが望ましい、第
４図の矢印で示ずＪζうに、１つの壁に最も近い軸は反
部に１方向に回転し、その次に隣接する軸は時計方向に
回転づる、３１− そしてその次に隣接する軸は半時削方向に回転する、そ
して反対側の壁に最も近い軸は時計方向に回転する。当
然のことながら、互いに隣接する軸が互いに反対方向に
回転する手段を設【ノる本発明の好適実施例を得るのに
、第４図に示すのと反対に各軸が回転するようにもでき
る。

本発明の範囲内で使用できる他の変形や改良は記載しな
かったが、本出願の特許請求の範囲はこれらの変形や改
良を含むことが意図されている。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の装置の一部削除斜視図である。 第２図は、第１図の線２−２に沿う断面図で、２本の回
転自在軸に取りつけられて、一部が液体中に浸漬し−Ｃ
いるインペラの構造を示す図である。 第３図は、第２図の線３−３に沿う縦方向断面図で、液
体収容隔室を形成する隔壁の使用を示し、本装置を通る
気液の対向流を有効にするため液体の出口と入口、及び
気体の出口と入口を各々互いに反対側に配置したところ
を示す。 ３２− 第１図は、第２図と同様の断面図で、４本の回転軸の取
りつけられ、液体中に部分的に浸漬しているインペラの
構造を示す。 １０・・・・・・ハウジング １１・・・・・・支持部材 １２・・・・・・下側部分（貯蔵室） １３・・・・・・上側部分（気液接触空間）１４・・・
・・・液体 １５・・・・・・上側表面 １６・・・・・・液体噴霧 １７・・・・・・液体入口 １８・・・・・・液体用［１ １９・・・・・・端壁 ２２・・・・・・インペラ装置 ２３・・・・・・回転軸 ２４・・・・・・ディスク形インペラ ２５・・・・・・突起 ２６・・・・・・隔壁 ２７・・・・・・隔室 ２８・・・・・・攪拌装置 ２つ・・・・・・空気散布装置 ３０・・・・・・気体入口ダクト ３２・・・・・・ダクト気体出口 ３６・・・・・・モータ ４０・・・・・・脱ミスト装置 ３５−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、（１）液体を含有覆る下側部分と気液接触空間を画
   成する上側部分を有する水平配置の細長いハウジングと
   、（ｂ）ハウジングの気液接触空間内に気体媒質を導入
   する装置およびハウジングから気体媒質を導出する装置
   と、＜Ｃ）気液接触空間内に液体噴霧を形成でき、ハウ
   ジング内に軸方向に配置された複数の回転軸に取りつＩ
   ′Ｊられて、下側部分が液体内に実質的に浸漬するよう
   に液体の十に支持された複数のディスク形インペラと、
   （１３）前記軸を回転づる装置とを組合わせてなる、気
   液の密な接触を右列にする改良形装置。 ２、　更に、ハウジングの下側部分内に配置され１、゛
   ハウジング内に新しい液体を導入でる装置を右する液体
   入口、およびハウリングの下側部分内に配置され、使用
   された液体をハウジングから取り１］ＩＪ装置を有する
   液体出口とを有する特許請求の範囲第１項に記載の装置
   。 ３、液体入口が液体出口と実質的に反対側にある、特許
   請求の範囲第２項に記載の装置。 ４、液体入口が、ハウジングの下側部分内で、ハウジン
   グから気体媒質を導出する駅岡に隣接しＣ配置され、液
   体用［１が、ハウジングの下側部分内で気液１と触空間
   に気体媒質を導入Ｊる製直に隣接し−（配盾さ４・１て
   いる、特許請求の範囲載の駐同１，゛ ５、更に、１つ以−１の隔壁が液体含右下側部分内に配
   置ざれ、検数の液体含有隔室を形成し、イし一Ｃ該隔室
   間に液体を通Ｊ装置が設（プられＣいる特許請求の範囲
   第１項に記載の装置 ６、前記軸の軸線に対し、所定のレベルに液体を糾持Ｊ
   る装置を右づる特許請求の範囲第１項に記載装置。 ７、液体を所定のレベルに紺持Ｊる装置が、ハウジング
   の下側部分内で、気体媒質をハウジングから出す装置の
   下に設けられた液体人口ど、該液体入口の反対側で、ハ
   ウジング内において、ハウジングに気体媒質を導入する
   装置の下に配置した液体用［］とを設（プ、気体媒質と
   液体がハウジング内を反対方向に流れるようにした、特
   許請求の範囲第６項に記載の装置。 ８、更に、複数の液体含有隔室を形成するようにハウジ
   ングの下側部分に１つ以上の隔壁を設け、液体の表面に
   最も近い隔壁の表面が、隔室間に液体を流１−のに充分
   なだり液体内に浸漬している、特許請求の範囲第７項に
   記載の装置。 ９．４本以上の回転軸が各軸に複数のディスク形インペ
   ラを有している、特許請求の範囲第１項に記載の装置。 １０、回転軸を回転する装置が、互に隣接する軸を反対
   り向に回転する装置を含む、特許請求の範囲第１項に記
   載の装置。 １１、複数の回転軸が／Ｉ水水上上軸を有し、隣接軸を
   互いに反対に回転させる装置を設けた特許請求の範１７
   ？ｌｆｆ！１項に記載の装置。 １２、液体を定常的に動かしておくためにハウジングの
   下側部分内に撹拌装置を設けた、特許請求の範囲第１項
   に記載の装置。 １３、密な気液接触の結果として液体中に溶けた成分を
   酸化Ｊるために、気体媒質を液体中に導入Ｊる装置を特
   徴とする特許請求の範囲第１項に記載の装置。 １４、ハウジングからの液体噴霧の損失を防１１−する
   ために、気体媒質をハウジングから出す装置内に＋＋＋
   ＋ミスト装置を設置−Ｊ　ｉζ特ｉ９請〉１ミの範囲第
   １項に記載の装置。 １５、気液接触空間内に液体の噴霧を形成することので
   きる構造物を右Ｊるディスク形インペラが、横ノフ向面
   から外側へ伸びる突起を有しでいる、特許請求の範囲第
   １項に記載の装置。 １６、次の組み合わせからイする気液の密な接触を有効
   に行う改良形装首。 ＜ａ　）液体を含有する下側部分と気液接触空間を画成
   する一Ｖ側部分とを有づる水平配置の１１１Ｉ長い導入
   する装置およびハウジングから気体媒質を導３− 出する装置。 （Ｃ）横向から突起が外側に伸びていて、ハウジング内
   に軸方向に配置された４本以上の回転軸に取り付【プら
   れ、下側半分が実質的に液体内に浸漬するように液体の
   上に支持されている複数のディスク形インペラ。 （ｄ＞７ｉいに隣接する軸を反対方向に回転する菰１ｑ
   ０ （ｅ　）ハウジングの下側部分に配置された液体入口と
   、ハウジングの下側部分に配置された液体出口。 （ｆ）複数の液体含有隔室を形成するようにハウジング
   の下側部分の端と端の間の所に設けられた１つ以上の隔
   壁。 １７、液体の定常的動きを維持するためにハウジングの
   下側部分内に配置された攪拌装置を更に有Ｊる特許請求
   の範囲第１６項に記載の装置、１８、密な気液接触の結
   果として液体中に溶解する成分を酸化させるため、気体
   媒質を液体中に導入する装置を更に右する特許請求の範
   囲第１６４− 項に記載の装置。 １９、ハウジングからの液体噴霧の損失を防止覆る装置
   をハウジングから気体媒質を出づ装置に設けた特許請求
   の範囲第１６項に記載の装置。 ２０、次の各工程からなる、液体によって除去可能な汚
   染物質を含有するガス流を浄化覆る方法。 （ａ　＞汚染物含有気体媒質を液体の貯蔵部の上に配置
   された気液接触空間の一端に導入し、〈ｌ））気液接触
   空間内に液体の噴霧を形成し、（Ｃ）気体接触空間内で
   、汚染物質含有気体媒質を液体の噴霧に通し、汚染物質
   除去済みガスを形成し、 （ｄ　）汚染物質除去済みガスを気液接触空間の他端か
   ら取り出し、 （ｅ）汚染物質除去済みガスの取り出し点の実質的に下
   で汚染されていない液体を貯蔵部内に導入し、汚染物質
   除去潤みガスの取り出し点における気液接触空間内に形
   成された液体噴霧が実質的に汚染されていない液体噴霧
   であるようにし、（ｆ）汚染物質を含む気体媒質の導入
   点の実質的に下で、汚染液体を貯蔵部から取り出す。 ２１．貯蔵部内の所定レベルに液体が維持される、特許
   請求の範囲第２０項に記載の方法。 ２２、貯蔵部内の液体を攪拌づることを含む特許請求の
   範囲第２０項に記載の方法。 ２３、汚染液体の汚染物質の少なくとも一部を酸化する
   ために、貯蔵部内の液体中に気体媒質を導入覆ることを
   含む特ｈ′１請求の範囲第２０項に記載の方法。 ２４、汚染物質除去潤みガス内に含まれる液体を除去づ
   ることを含む特許請求の範囲第２０項に記載の方法。 ２５、次の工程からなる、水中のカルシウム含有化合物
   を使用して気体流から二酸化硫黄を除去する方法。 （ａ　）カルシウム含有水の貯蔵部の上に配置された気
   液接触空間の一端に二酸化硫黄含有気体媒質を導入し、 （１））気液接触空間内にカルシウム含有水の噴霧を形
   成し、 ＜Ｃ＞気液接触空間内で二酸化硫黄含有気体媒質をカル
   シウム含有水の噴霧に通しで、二酸化硫黄を除去したガ
   スを形成し、 （ｄ　）二酸化硫黄を除去した気体媒質を、カルシウム
   含有液体の貯蔵部より上に配置された気液接触空間の他
   端から取り出し くｅ）二酸化硫黄除去済みガスの取り出し点より実質的
   に下のところ−（・新しいカルシウム含有水を貯蔵部内
   に導入し、二酸化硫黄除去済みガスの取り出し点で気液
   接触空間内に形成されたカルシウム含有水の噴霧／］＜
   実質的に汚染されていないカルシウム含有水の噴霧でｄ
   するＪ−うに」２１、（［）貯蔵部内のカルシウム含有
   水内に空気を導入しで、ぞこに含まれるカルシウム硫黄
   塩を石膏含有水に転換し、 （（ｊ）二酸化硫黄を含有Ｊる気イホ媒質の導入点Ｊ−
   り実質的に下のところで貯蔵部内から石膏含有水を取り
   だし、 （１１）石膏を回収りる。 ２６、析出した石膏の懸濁を相持ぞするために、貯７− 蔵部内のカルシウム含有水を攪拌することを含む特許請
   求の範囲第２５項に記載の方法 ２７、カルシウム含有化合物が石灰である、特許請求の
   範囲第２５項に記載の方法 ２８、カルシウム含有化合物が粉砕した石灰石または石
   灰である特許請求の範囲第２５項に記載の方法