JPS60256584A - 高真空装置 - Google Patents
高真空装置Info
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- JPS60256584A JPS60256584A JP59111721A JP11172184A JPS60256584A JP S60256584 A JPS60256584 A JP S60256584A JP 59111721 A JP59111721 A JP 59111721A JP 11172184 A JP11172184 A JP 11172184A JP S60256584 A JPS60256584 A JP S60256584A
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- Japan
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- vacuum
- oil
- pump
- rotary pump
- vessel
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- Granted
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B37/00—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
- F04B37/10—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for special use
- F04B37/14—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for special use to obtain high vacuum
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
- Applications Or Details Of Rotary Compressors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高真空装置に関し、詳しくは実費的に油の逆拡
散のない高真空装置に関する。
散のない高真空装置に関する。
半導体集積回路はか、種々の電子機器素子の製造におい
ては、高真空が必要とされる場合が多く、空容器に油回
転ポンプを接続し、また、より直真空を得るときは、第
１図に示すように、真空容器１に油回転ポンプ２を補助
ポンプとした油拡散ポンプ３を接続して、真空容器１を
高真空としている。しかし、このように油を使用する真
空ポンプ基よれば、例えば、１０−１Ｔｏｒｒ程度の真
空度から真空容器内に真空ポンプの油が逆研散して、容
器内を油汚染するので、この油汚染を避けるためには、
通常は、図示したように、真空容器１と油拡散ポンプ３
との間に例えば液体窒素を冷却剤とするコールド・トラ
ップ４を介在させている。
ては、高真空が必要とされる場合が多く、空容器に油回
転ポンプを接続し、また、より直真空を得るときは、第
１図に示すように、真空容器１に油回転ポンプ２を補助
ポンプとした油拡散ポンプ３を接続して、真空容器１を
高真空としている。しかし、このように油を使用する真
空ポンプ基よれば、例えば、１０−１Ｔｏｒｒ程度の真
空度から真空容器内に真空ポンプの油が逆研散して、容
器内を油汚染するので、この油汚染を避けるためには、
通常は、図示したように、真空容器１と油拡散ポンプ３
との間に例えば液体窒素を冷却剤とするコールド・トラ
ップ４を介在させている。
このような高真空装置によれば、逆拡散する油はコール
ド・トラップに凝縮して捕捉されるので、真空容器内の
雰囲気の油汚染は防止し得るが、高真空装置にコールド
・トラップを付設することは装置を複雑化し、また、操
作費用を高価とするのみならず、真空容器の雰囲気によ
らてはコールド・トラップによる捕捉蒸気の後処理に問
題を生じることがある。例えば、半導体集積回路の製造
には自燃性のシランガスを使用することが多いが、真空
容器内をシランガス雰囲気とした場合、このシランガス
もコールド・トラップに凝縮捕捉されるので、コールド
・トラップを常温に戻す際にシランガスを回収するため
の装置が必要となる。
ド・トラップに凝縮して捕捉されるので、真空容器内の
雰囲気の油汚染は防止し得るが、高真空装置にコールド
・トラップを付設することは装置を複雑化し、また、操
作費用を高価とするのみならず、真空容器の雰囲気によ
らてはコールド・トラップによる捕捉蒸気の後処理に問
題を生じることがある。例えば、半導体集積回路の製造
には自燃性のシランガスを使用することが多いが、真空
容器内をシランガス雰囲気とした場合、このシランガス
もコールド・トラップに凝縮捕捉されるので、コールド
・トラップを常温に戻す際にシランガスを回収するため
の装置が必要となる。
一方、第３図に示すように、油を用いない真空ポンプと
してのメカニカル・ブースター５を真空容器２に接続し
、このメカニカル・ブースターの補助ポンプとして油回
転ポンプ２を用いた真空装置に・よれば、真空容器内の
油汚染は比較的軽度であるものの、コールド・トラップ
を用いる第１図に示した装置に比べれば、向暑しい。
してのメカニカル・ブースター５を真空容器２に接続し
、このメカニカル・ブースターの補助ポンプとして油回
転ポンプ２を用いた真空装置に・よれば、真空容器内の
油汚染は比較的軽度であるものの、コールド・トラップ
を用いる第１図に示した装置に比べれば、向暑しい。
本発明者らは高真空における上記した問題を解決するた
めに鋭意研究した結果、真空容器に接続したメカニカル
・ブースターと、その補助ポンプである油回転ポンプと
を接続する管路に少量の気体を浪人させ、油回転ポンプ
の吸入側をその到達真空度よりも低く保持することによ
り、予期しないことに、コールド・トラップを用いた高
真空装置とほぼ同じ程度に真空容器内の油汚染を有効に
防止し得ることを見出して、本発明に至ったものである
。
めに鋭意研究した結果、真空容器に接続したメカニカル
・ブースターと、その補助ポンプである油回転ポンプと
を接続する管路に少量の気体を浪人させ、油回転ポンプ
の吸入側をその到達真空度よりも低く保持することによ
り、予期しないことに、コールド・トラップを用いた高
真空装置とほぼ同じ程度に真空容器内の油汚染を有効に
防止し得ることを見出して、本発明に至ったものである
。
従って、本発明は、真空容器内においる油の逆拡散によ
る油汚染をコールド・トラップを用いることなく有効に
防止し得る高真空装置を提供することを目的とする。
る油汚染をコールド・トラップを用いることなく有効に
防止し得る高真空装置を提供することを目的とする。
本発明による高真空装置は、真空容器に接続されるメカ
ニカル・ブースターと、このメカニカル・ブースターに
接続された油回転ポンプと、上記メカニカル・ブースタ
ーと油回転ポンプとの接続管路に気体を浪人させて、上
記油回転ポンプの吸入側をこの油回転ポンプの到達真空
度以下に保持するための気体洩入管とからなることを特
徴とする。
ニカル・ブースターと、このメカニカル・ブースターに
接続された油回転ポンプと、上記メカニカル・ブースタ
ーと油回転ポンプとの接続管路に気体を浪人させて、上
記油回転ポンプの吸入側をこの油回転ポンプの到達真空
度以下に保持するための気体洩入管とからなることを特
徴とする。
第４図は本発明による高真空装置の装置構成の一実施例
を示し、補助ポンプとしての油回転ポンプ１１を備えた
メカニカル・ブースター１２が真空容器１３に接続され
ており、上記油回転ポンプとこのメカニカル・ブースタ
ーとを接続する管路１４には、油回転ポンプ１１の吸入
側の真空度を測定する真空計１５と、上記吸入側に気体
を洩入させるための浪人管１６を備えた中間容器１７と
が設けられている。本発明の高真空装置においては、こ
の気体洩入管から油回転ポンプの吸入側に気体を浪人さ
せ、この吸入側の真空度を油回転ポンプの到達真空度よ
りも低く保持することにより、真空ポンプからの真空容
器内への油の逆拡散による雰囲気汚染を防止するのであ
る。
を示し、補助ポンプとしての油回転ポンプ１１を備えた
メカニカル・ブースター１２が真空容器１３に接続され
ており、上記油回転ポンプとこのメカニカル・ブースタ
ーとを接続する管路１４には、油回転ポンプ１１の吸入
側の真空度を測定する真空計１５と、上記吸入側に気体
を洩入させるための浪人管１６を備えた中間容器１７と
が設けられている。本発明の高真空装置においては、こ
の気体洩入管から油回転ポンプの吸入側に気体を浪人さ
せ、この吸入側の真空度を油回転ポンプの到達真空度よ
りも低く保持することにより、真空ポンプからの真空容
器内への油の逆拡散による雰囲気汚染を防止するのであ
る。
油回転ポンプの吸入側への気体の浪人量は、好ましくは
、上記真空計にて計測しつつ、吸入側の真空度を油回転
ポンプの到達真空度よりも低い一定の圧力に保持するよ
うに調整される。一般に油回転ポンプの到達真空度は１
０−２〜１０−３Ｔｏｒｒ程度であるので、気体の浪人
によって、吸入側を例えば１００〜１０−１Ｔｏｒｒ程
度に保持するのが好ましい。
、上記真空計にて計測しつつ、吸入側の真空度を油回転
ポンプの到達真空度よりも低い一定の圧力に保持するよ
うに調整される。一般に油回転ポンプの到達真空度は１
０−２〜１０−３Ｔｏｒｒ程度であるので、気体の浪人
によって、吸入側を例えば１００〜１０−１Ｔｏｒｒ程
度に保持するのが好ましい。
尚、図示したように、上記中間容器１７には冷却水管１
８が導入され、油回転ポンプからの油蒸気を冷却して凝
縮させ、また、邪魔板１９を適宜に配設して、油の真空
容器への逆拡散を防止し、このようにして、本発明によ
る気体注入と併せて、真空容器の油汚染を防止してもよ
い。
８が導入され、油回転ポンプからの油蒸気を冷却して凝
縮させ、また、邪魔板１９を適宜に配設して、油の真空
容器への逆拡散を防止し、このようにして、本発明によ
る気体注入と併せて、真空容器の油汚染を防止してもよ
い。
以上のように、本発明の高真空装置によれば、メカニカ
ル・ブースターと油回転ポンプとの間に気体洩入管を配
設し、これより気体を浪人させて、油回転ポンプの吸入
側の真空度を油回転ポンプの到達真空度よりも低く保持
することによって、真空容器内の真空雰囲気の油汚染を
実質的になくすることができ、前記したコールド・トラ
ップを用いる高真空装置に比べて装置が簡単化され、ま
た、その操作も簡単化される。
ル・ブースターと油回転ポンプとの間に気体洩入管を配
設し、これより気体を浪人させて、油回転ポンプの吸入
側の真空度を油回転ポンプの到達真空度よりも低く保持
することによって、真空容器内の真空雰囲気の油汚染を
実質的になくすることができ、前記したコールド・トラ
ップを用いる高真空装置に比べて装置が簡単化され、ま
た、その操作も簡単化される。
以下に実験に基づいて本発明の詳細な説明する。
第５図に示すように、真空計１を備えた真空容器３１に
バルブＶ、を介して液体窒素を冷却剤とするコールド・
トラップＴを配設し、これに油拡散ポンプ３２及び油回
転ポンプ３３を接続して、油拡散ポンプによる高真空装
置Ｉを構成した。
バルブＶ、を介して液体窒素を冷却剤とするコールド・
トラップＴを配設し、これに油拡散ポンプ３２及び油回
転ポンプ３３を接続して、油拡散ポンプによる高真空装
置Ｉを構成した。
また、真空計Ｍ２を有する補助容器３４をバルブｖ２を
介して真空容器３１に接続し、この補助容器にバルブｖ
３により流量を制御し得るように窒素ガス導入管３５を
取付けると共に、管路３６にバルブＶ、を介して油回転
ポンプ３７を接続して、油回転ポンプによる真空装置■
を構成した。
介して真空容器３１に接続し、この補助容器にバルブｖ
３により流量を制御し得るように窒素ガス導入管３５を
取付けると共に、管路３６にバルブＶ、を介して油回転
ポンプ３７を接続して、油回転ポンプによる真空装置■
を構成した。
更に、上記管路３６に別にバルブＶ、を介してメカニカ
ル・ブー、スター３８を接続し、このメカニカル・ブー
スターと油回転ポンプ３９とを接続する管路４０に真空
計Ｍ２を備えた中間容器４１を配設した。この中間容器
には窒素ガスを流入させて、上記油回転ポンプの吸入側
を到達真空度よりも低い所定の圧力に保持するためのバ
ルブｖ６を備えた流入管４２を接続した。この装置が本
発明による高真空装置■を構成する。
ル・ブー、スター３８を接続し、このメカニカル・ブー
スターと油回転ポンプ３９とを接続する管路４０に真空
計Ｍ２を備えた中間容器４１を配設した。この中間容器
には窒素ガスを流入させて、上記油回転ポンプの吸入側
を到達真空度よりも低い所定の圧力に保持するためのバ
ルブｖ６を備えた流入管４２を接続した。この装置が本
発明による高真空装置■を構成する。
前記真空容器３１には、真空容器内の油蒸気を検出する
ために、分析管（マス・フィルター）４３を介してマス
・フィルター型真空ガス分析計４４を取付けた。
ために、分析管（マス・フィルター）４３を介してマス
・フィルター型真空ガス分析計４４を取付けた。
実験１
表に示すように、バルブＶ１を全開、バルブｖ２を微開
、バルブＶ２を微開として、窒素を真空容器に流入させ
つつ、真空装置■を作動させ、真空計Ｍ１による真空容
器の真空度を３×１０−５Ｔｏｒｒに保持した。真空容
器内の雰囲気のマス・スペクトルを第６図に示す。
、バルブＶ２を微開として、窒素を真空容器に流入させ
つつ、真空装置■を作動させ、真空計Ｍ１による真空容
器の真空度を３×１０−５Ｔｏｒｒに保持した。真空容
器内の雰囲気のマス・スペクトルを第６図に示す。
図において横軸は質量掃引幅Ｍ／ｅを示し、縦軸は検出
出力イオン電流を示す。フルスケール感度は、Ｍ／ｅが
１〜３５のときは１０−５Ａ。
出力イオン電流を示す。フルスケール感度は、Ｍ／ｅが
１〜３５のときは１０−５Ａ。
Ｍ／ｅが３５〜５０のときは１０−６Ａ、Ｍ／ｅが５０
〜１５０のときは１０−８Ａで測定した。
〜１５０のときは１０−８Ａで測定した。
Ｍ／ｅが５０以下のスペクトルは窒素、水蒸気、酸素、
アルゴン及び二酸化炭素に対応し、Ｍ／ｅが５０より大
きいスペクトルが油（炭化水素）に基づく。即ち、Ｍ／
ａが５０〜６０は炭素数４．７０付近は炭素数５．８０
付近は炭素数６．９０〜１００は炭素数７．１０６付近
は炭素数８．１２０付近は炭素数９のそれぞれ炭化水素
を示す。
アルゴン及び二酸化炭素に対応し、Ｍ／ｅが５０より大
きいスペクトルが油（炭化水素）に基づく。即ち、Ｍ／
ａが５０〜６０は炭素数４．７０付近は炭素数５．８０
付近は炭素数６．９０〜１００は炭素数７．１０６付近
は炭素数８．１２０付近は炭素数９のそれぞれ炭化水素
を示す。
従って、この装置によれば、油拡散ポンプ３２から逆拡
散する油蒸気はコールド・トラップＴに捕捉されるので
、真空容器内は実質的に油汚染がないことが理解される
。
散する油蒸気はコールド・トラップＴに捕捉されるので
、真空容器内は実質的に油汚染がないことが理解される
。
実験２
表に示すように各バルブを操作し、真空装置Ｉと真空装
置■を作動させ、真空容器内を３．５×１０−５Ｔｏｒ
ｒに保持した。尚、実験１によって真空装置Ｉによる真
空容器内の油汚染は実質的にない。
置■を作動させ、真空容器内を３．５×１０−５Ｔｏｒ
ｒに保持した。尚、実験１によって真空装置Ｉによる真
空容器内の油汚染は実質的にない。
また、真空容器内を上記のように減圧したのは、マス・
フィルターを作動させるためには、１×１０−４Ｔｏｒ
ｒ以上の高真空を必要とするからである。
フィルターを作動させるためには、１×１０−４Ｔｏｒ
ｒ以上の高真空を必要とするからである。
真空容器内の雰囲気のマス・スペクトルを第７図に示す
。油回転ポンプを用いるこの装置によれば、真空容器内
の油汚染が著しいことが理解される。
。油回転ポンプを用いるこの装置によれば、真空容器内
の油汚染が著しいことが理解される。
実験３
表に示すように各バルブを操作し、本発明の装置におけ
る窒素流入の効果を調べるために、バルブＶ、を閉じて
、中間容器に窒素を流入しなかった以外は、本発明の装
置と同じ高真空装置を構成し、真空容器の真空度を３．
５×１０−５Ｔｏｒｒに保持した。真空容器内の雰囲気
のマス・スペクトルを第８図に示す。
る窒素流入の効果を調べるために、バルブＶ、を閉じて
、中間容器に窒素を流入しなかった以外は、本発明の装
置と同じ高真空装置を構成し、真空容器の真空度を３．
５×１０−５Ｔｏｒｒに保持した。真空容器内の雰囲気
のマス・スペクトルを第８図に示す。
この装置によれば、真空容器内の油汚染が幾分低減して
いるが、しかし、高真空装置Ｉに比べれば向暑しいこと
が理解される。
いるが、しかし、高真空装置Ｉに比べれば向暑しいこと
が理解される。
実験４
表に示すように各バルブを操作し、真空装置Ｉと本発明
による真空装置■とを、油回転ポンプ３９の吸入側を０
．１Ｔｏｒｒの真空度に保持しつつ、作動させ、真空容
器の真空度を３×１０−５Ｔｏｒｒに保持した。真空容
器内の雰囲気のマス・スペクトルを第９図に示す。
による真空装置■とを、油回転ポンプ３９の吸入側を０
．１Ｔｏｒｒの真空度に保持しつつ、作動させ、真空容
器の真空度を３×１０−５Ｔｏｒｒに保持した。真空容
器内の雰囲気のマス・スペクトルを第９図に示す。
本発明の高真空装置■によれば、装置Ｉの場合とほぼ同
しく、真空容器内が実質的に油汚染されていないことが
理解される。
しく、真空容器内が実質的に油汚染されていないことが
理解される。
第１図乃至第３図は従来の高真空装置を示す装置構成図
、第４図は本発明による高真空装置の一実施例を示す装
置構成図、第５図は従来の真空装置と本発明による装置
における真空容器内の油汚染を比較するための実験装置
を示す装置構成図、第６図乃至第８図は比較のための従
来の真空装置における真空装置内の雰囲気ガスの組成を
示すマス・スペクトル、第９図は本発明による高真空装
置における真空装置内の雰囲気ガスの組成を示すマス・
スペクトルである。 ３１・・・真空容器、３２川油拡散ポンプ、３３・・・
油回転ポンプ、３４・・・補助容器、３７・・・油回転
ポンプ、４０・・・管路、４１・・・中間容器、４２・
・・気体洩入管、４４・・・マス・フィルター型薫空ガ
ス分析計、Ｔ・・・コールド・トラップ、ｖ１〜ｖ６・
・・バルブ、Ｍ１〜Ｍ３、・・・真空計。 特許出願人 本荘ケミカル株式会社 代理人弁理士 牧野逸郎 手続補正書（自発） 昭和５９年 ７月 ９日 特許庁長官殿 １．事件の表示 昭和５９年特許願第１１１７２１号 ２、発明の名称 高真空装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪市淀用区西中島３丁目１８番２１号名 称
本荘ケミカル株式会社 代表者 本荘 一郎 ４、代理人 住 所 大阪市西区新町１丁目８番３号新町七福ビル 氏名弁理士（７９１２）牧野逸部 〒５５０ 電話（０６） ５３１−４１８１５、補正の
対象 明細書発明の詳細な説明の欄補正の内容 （１） 明細書第３頁第８行の「第１図」を「第２図」
と補正する。 （２）明細書第３頁第２０行の「においる」を「におけ
る」と補正する。 以上 手続補正書（自発） 昭和５９年７月２０日 １、事件の表示 昭和５９年特 許 願第１１１７２１号２、発明の名称 高真空装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪市淀用区西中島３丁目１８番２１号名 称
本荘ケミカル株式会社 ４、代理人 住 所 大阪市西区新町１丁目８番３号新町七福ビル 氏名弁理士（７９１２）牧野逸部 〒５５０ 電話（０６） ５３１−４１８１５、補正命
令の日付 昭和 年 月 日（発送日 昭和 年 月
日） ６、補正により増加する発明の数 補正の内容 （１）明細書第３頁５行の「容器２」を「容器１」と補
正する。 以上 手続補正書（方式） 昭和５９年１０月 ４日 特許庁長官殿 １、事件の表示 昭和５９年特許願第１１１７２１号 ２、発明の名称 高真空装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪市淀用区西中島３丁目１８番２１号名 称
本荘ケミカル株式会社 代表者 本 荘 一郎 ４、代理人 住 所 大阪市西区新町１丁目８番３号５、補正命令の
日付 昭和５９年 ９月 ５日（発送日 昭和５９年
９月２５日） ６、補正の対象 図面（第６乃至第９図）７、補正の内
容 別紙の通り
、第４図は本発明による高真空装置の一実施例を示す装
置構成図、第５図は従来の真空装置と本発明による装置
における真空容器内の油汚染を比較するための実験装置
を示す装置構成図、第６図乃至第８図は比較のための従
来の真空装置における真空装置内の雰囲気ガスの組成を
示すマス・スペクトル、第９図は本発明による高真空装
置における真空装置内の雰囲気ガスの組成を示すマス・
スペクトルである。 ３１・・・真空容器、３２川油拡散ポンプ、３３・・・
油回転ポンプ、３４・・・補助容器、３７・・・油回転
ポンプ、４０・・・管路、４１・・・中間容器、４２・
・・気体洩入管、４４・・・マス・フィルター型薫空ガ
ス分析計、Ｔ・・・コールド・トラップ、ｖ１〜ｖ６・
・・バルブ、Ｍ１〜Ｍ３、・・・真空計。 特許出願人 本荘ケミカル株式会社 代理人弁理士 牧野逸郎 手続補正書（自発） 昭和５９年 ７月 ９日 特許庁長官殿 １．事件の表示 昭和５９年特許願第１１１７２１号 ２、発明の名称 高真空装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪市淀用区西中島３丁目１８番２１号名 称
本荘ケミカル株式会社 代表者 本荘 一郎 ４、代理人 住 所 大阪市西区新町１丁目８番３号新町七福ビル 氏名弁理士（７９１２）牧野逸部 〒５５０ 電話（０６） ５３１−４１８１５、補正の
対象 明細書発明の詳細な説明の欄補正の内容 （１） 明細書第３頁第８行の「第１図」を「第２図」
と補正する。 （２）明細書第３頁第２０行の「においる」を「におけ
る」と補正する。 以上 手続補正書（自発） 昭和５９年７月２０日 １、事件の表示 昭和５９年特 許 願第１１１７２１号２、発明の名称 高真空装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪市淀用区西中島３丁目１８番２１号名 称
本荘ケミカル株式会社 ４、代理人 住 所 大阪市西区新町１丁目８番３号新町七福ビル 氏名弁理士（７９１２）牧野逸部 〒５５０ 電話（０６） ５３１−４１８１５、補正命
令の日付 昭和 年 月 日（発送日 昭和 年 月
日） ６、補正により増加する発明の数 補正の内容 （１）明細書第３頁５行の「容器２」を「容器１」と補
正する。 以上 手続補正書（方式） 昭和５９年１０月 ４日 特許庁長官殿 １、事件の表示 昭和５９年特許願第１１１７２１号 ２、発明の名称 高真空装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪市淀用区西中島３丁目１８番２１号名 称
本荘ケミカル株式会社 代表者 本 荘 一郎 ４、代理人 住 所 大阪市西区新町１丁目８番３号５、補正命令の
日付 昭和５９年 ９月 ５日（発送日 昭和５９年
９月２５日） ６、補正の対象 図面（第６乃至第９図）７、補正の内
容 別紙の通り
Claims (1)
- （１）真空容器に接続されるメカニカル・ブースターと
、このメカニカル・ブースターに接続された油回転ポン
プと、上記メカニカル・ブースターと油回転ポンプとの
接続管路に気体を浪人させて、上記油回転ポンプの吸入
側をこの油回転ポンプの到達真空度以下に保持するため
の気体洩入管とからなることを特徴とする高真空装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59111721A JPS60256584A (ja) | 1984-05-30 | 1984-05-30 | 高真空装置 |
| US06/631,107 US4621985A (en) | 1984-05-30 | 1984-07-16 | High vacuum apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59111721A JPS60256584A (ja) | 1984-05-30 | 1984-05-30 | 高真空装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60256584A true JPS60256584A (ja) | 1985-12-18 |
| JPH0127277B2 JPH0127277B2 (ja) | 1989-05-29 |
Family
ID=14568478
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59111721A Granted JPS60256584A (ja) | 1984-05-30 | 1984-05-30 | 高真空装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4621985A (ja) |
| JP (1) | JPS60256584A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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