JPS60260165A - 薄膜太陽電池およびその製造方法 - Google Patents

薄膜太陽電池およびその製造方法

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Publication number
JPS60260165A
JPS60260165A JP59115938A JP11593884A JPS60260165A JP S60260165 A JPS60260165 A JP S60260165A JP 59115938 A JP59115938 A JP 59115938A JP 11593884 A JP11593884 A JP 11593884A JP S60260165 A JPS60260165 A JP S60260165A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solar cell
amorphous silicon
lower electrode
metal lower
thin film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP59115938A
Other languages
English (en)
Inventor
Koichi Yamasaka
山坂 孝一
Zenichiro Ito
伊藤 善一郎
Koshiro Mori
森 幸四郎
Akira Hanabusa
花房 彰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP59115938A priority Critical patent/JPS60260165A/ja
Publication of JPS60260165A publication Critical patent/JPS60260165A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F77/00Constructional details of devices covered by this subclass
    • H10F77/10Semiconductor bodies
    • H10F77/16Material structures, e.g. crystalline structures, film structures or crystal plane orientations
    • H10F77/169Thin semiconductor films on metallic or insulating substrates
    • H10F77/1692Thin semiconductor films on metallic or insulating substrates the films including only Group IV materials
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Landscapes

  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、非晶質シリコンを主成分とする薄膜太陽電池
およびその製造方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点 近年、非晶質シリコン太陽電池は、電卓、電子ゲーム等
の電子機器の内蔵電源として広(用いられている。一般
に、非晶質シリコン太陽電池1素子の起電力は、屋内螢
光灯のもとで0.50−0.90ボルトであり、上記電
子機器を駆動するにあた9、複数個の非晶質シリコン太
陽電池を直列接続する必要がある。そのためには、ガラ
ス、セラミック、耐熱性樹脂等の絶縁性基板上に非晶質
シリコン太陽電池が形成されなければならない。
機器の薄型化に伴い、非晶質シリコン太陽電池の薄型化
もまた要求されるようになった。直列接続された非晶質
シリコン太陽電池は11nm程度のガラス等の絶縁性基
板と0.1μm−0,5μmの金属電極層と0.5μm
〜1μmの非晶質シリコン層、および0.06μm−0
,2μmの透明電極層とからなり、その厚さは絶縁性基
板の厚さによって決定される。
そこで従来のガラス基板に代わり、薄型絶縁性基板とし
てステンレス等の金属薄板表面にポ、リイミド等の耐熱
性樹脂を塗布した基板や、耐熱性樹脂フィルム基板が用
いられるようになった。しかし、これらの耐熱性樹脂は
高価なだけでなく、非晶質シリコン堆積時の高温、低圧
のもとでガスを発生し、太陽電池特性の低下、あるいは
歩留りの低下をまねいていた。また、金属下部電極と耐
熱性樹脂との熱膨張係数、湿度膨張係数の違いにより経
時的なハガレ、クラックが発生するなどの諸々の問題点
があったため、ガスの発生が極めて少なく、金属下部電
極との密着性の良い非晶質シリコン太陽電池用基板が要
求されるようになった。
発明の目的 本発明は上記の欠点に鑑み、アルミニウムの薄板表面を
化学処理して低コストの絶縁性基板を得、薄型、軽量で
、割れない高信頼性の薄膜太陽電池を提供することを目
的として〜・る。
発明の構成 上記の目的を達成するために、本発明の薄膜太陽電池は
、アルミニウム薄板の少なくとも一方の表面をリン酸塩
、クロム酸塩を含む溶液中に浸漬するか、または前記塩
の水溶液をスプレー塗布して表面をリン酸塩、クロム酸
塩の絶縁物で覆い絶縁化した後、金属下部電極層、非晶
質シリコン層、透明電極層を順次形成して構成されてい
る。
実施例の説明 以下、本発明の一実施例について図面を参照しながら説
明する。
図は本発明によって得られたリン酸塩、クロム酸塩皮膜
によって絶縁化されたアルミニウム基板を用℃・た非晶
質シリコン太陽電池の一実施例である。
図中、1はアルミニウム板であり、2はその片面に形成
されたリン酸−クロム酸塩皮膜である。
このリン酸−クロム酸塩皮膜を形成するには、アルミニ
ウム板1をリン酸2〜10wt%、クロム酸0.6〜2
 wt%、77化ナトリウム0.2〜0.6 wt%の
水溶液(20°C)中に5分間以上浸漬して得ることが
できる。また、上記溶液をスプレーで塗布することも可
能である。このようにして得られる皮膜は厚さ2.5〜
10μm程度のもので緑色を呈している。この反応は Ad+H,PO4→AlPO4+ 3HCry3−1−
 H3PO4+ 3H−) CrPO4−4−3H20
A7 +〇ry3+ 2!H3PO4→AlPO4+C
rPO4+3H,,0の反応によってA7PO4−1−
CrPO4の皮膜が生じるものと考えられ、この皮膜に
よってアルミニウム板1表面の絶縁化が実現される。3
は複数個に分割されて絶縁皮膜上に設けられた金属下部
電極であす、クロム、ニクロム、ステンレス鋼、ニッケ
ル、チタンの金属が適している。4はp、i、n層より
なる非晶質シリコン層である。5は非晶質シリコン層上
に前記金属下部電極との間を直列接続するよう設けた透
明電極層であり、ITO1S102より構成される。
本実施例ではリン酸−クロム酸塩を絶縁皮膜として用い
たが、クロム酸塩皮膜を絶縁皮膜とじて用℃・ることも
可能である。その処理条件はCrO50,35〜0.4
 W t% Na、、0r2070.30〜0.35wt%NaF 
O,08wt% の溶液成分とし、これを30℃に保って3分以上浸漬す
ればよい。このクロム酸塩皮膜の厚さは0.6μm程度
であり、非常に薄いため、軽い衝撃によって絶縁皮膜が
破壊されやすく、リン酸−クロム酸塩皮膜の場合より、
非晶質シリコン太陽電池製作時の歩留りは15〜20%
低下した。
本実施例における非晶質シリコン太陽電池は、片面に絶
縁層を形成したアルミニウム薄板を基体として用いてい
るので、巻き取りが可能であり、絶縁皮膜形成から、金
属下部電極、非晶質シリコン半導体層、透明電極形成ま
でを連続的に行なうことが可能である。
発明の効果 以上のように本発明は、アルミニウム板の表面をリン酸
塩、クロム酸塩で、絶縁化したものを基板として用いる
ことにより、アルミニウム板上に直列接続された非晶質
シリコン太陽電池を形成することができ、薄型で可撓性
を有する太陽電池を提供することができる。しかも基板
と金属下部電極との親和性が良く、ハガレ、クラックは
生じない。
また、ポリイミド等の耐熱性樹脂を絶縁層に用いた場合
に問題となった熱膨張係数、湿度膨張係数及び脱ガスに
よる太陽電池特性の低下もない。
さらにアルミニウムは、放熱性が良好であるため、温度
上昇による太陽電池特性の低下をも防止できる。
【図面の簡単な説明】
図はアルミニウムの片面をリン酸−クロム酸塩皮膜によ
って絶縁化された基板を用いて構成された非晶質シリコ
ン太陽電池の構成断面図である。 1・・・・・・アルミニウム板、2・・・・・・リン酸
−クロム酸塩皮膜、3・・・・・・金属下部電極、4・
・・・・・非晶質シリコン半導体層、5・・・・・・透
明電極層。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)少なくとも一方の表面がリン酸塩、クロム酸塩に
    よる絶縁層で覆われたアルミニウム基板と、複数個に分
    割されて前記絶縁層上に設けられた金属下部電極と、非
    晶質シリコンを主成分とする半導体層と、金属下部電極
    に対向するよう半導体層上に設けた透明電極とよりなる
    薄膜太陽電池。
  2. (2) アルミニウム板の少なくとも一方の面を、リン
    酸塩、クロム酸塩の水溶液中に浸漬するか、あるいは前
    記塩をスプレー塗布することによって絶縁化したのち、
    その表面上に複数個に分割された金属下部電極を形成し
    、さらに、この金属下部電極と絶縁層上に非晶質シリコ
    ンを主成分とする半導体層を形成し、つ℃・で金属下部
    電極に対向するよう半導体層上に透明電極層を形成する
    ことを特徴とする薄膜太陽電池の製造方法。
JP59115938A 1984-06-06 1984-06-06 薄膜太陽電池およびその製造方法 Pending JPS60260165A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63168056A (ja) * 1986-12-29 1988-07-12 Taiyo Yuden Co Ltd 非晶質半導体太陽電池
US5558723A (en) * 1994-04-15 1996-09-24 Siemens Solar Gmbh Thin-film solar module with electrically conductive substrate and method for the manufacture thereof

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63168056A (ja) * 1986-12-29 1988-07-12 Taiyo Yuden Co Ltd 非晶質半導体太陽電池
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