JPS6029199B2 - 放射線発生装置 - Google Patents
放射線発生装置Info
- Publication number
- JPS6029199B2 JPS6029199B2 JP13808878A JP13808878A JPS6029199B2 JP S6029199 B2 JPS6029199 B2 JP S6029199B2 JP 13808878 A JP13808878 A JP 13808878A JP 13808878 A JP13808878 A JP 13808878A JP S6029199 B2 JPS6029199 B2 JP S6029199B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- output
- radiation
- value
- sampling
- circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Particle Accelerators (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、X線あるいは電子線等の放射線を発生する
線形電子加速装置を備えた放射線発生装置に関し、放射
線強度を検出することにより、装置の設定パラメータを
安定化を行うようにしたものである。
線形電子加速装置を備えた放射線発生装置に関し、放射
線強度を検出することにより、装置の設定パラメータを
安定化を行うようにしたものである。
従釆この種の装置の例を第1図に示す。
第1図の例においては、電子ビームを偏向する偏向電磁
石を搭載し、電子ビームを偏向する装置を用いたものを
示しており、そしてこの偏向角が90oの例を示してい
るが、偏向角はこの他110o,2700およびその他
のものも同様である。第1図において、1は電子ビーム
の加速部を示す。
石を搭載し、電子ビームを偏向する装置を用いたものを
示しており、そしてこの偏向角が90oの例を示してい
るが、偏向角はこの他110o,2700およびその他
のものも同様である。第1図において、1は電子ビーム
の加速部を示す。
この加速部には、電子ビームを発生する電子銃、加速機
能を有する加速管の他、加速するためのマイクロ波源、
およびそのための、高圧パルス変調器、マイクロ波伝送
系真空保持機構、冷却機構を有している。又、電子銃か
らの発生電子ビームを収束させるための電磁レンズビー
ム軌道補正用のステアリングコイル、加速された電子ビ
ームを収束させる四極電磁石等を備えていることもある
。2は偏向電磁石で、電子ビームを適宜の角度偏向させ
る機能を有している。
能を有する加速管の他、加速するためのマイクロ波源、
およびそのための、高圧パルス変調器、マイクロ波伝送
系真空保持機構、冷却機構を有している。又、電子銃か
らの発生電子ビームを収束させるための電磁レンズビー
ム軌道補正用のステアリングコイル、加速された電子ビ
ームを収束させる四極電磁石等を備えていることもある
。2は偏向電磁石で、電子ビームを適宜の角度偏向させ
る機能を有している。
3は偏向された電子ビームによりX線あるいは電子線等
の放射線を発生する放射線発生機構で、通常X線を発生
させる場合には重金属によるターゲットを用い、電子線
を発生させる場合には、スキャッタリングフオィルを用
いる。
の放射線を発生する放射線発生機構で、通常X線を発生
させる場合には重金属によるターゲットを用い、電子線
を発生させる場合には、スキャッタリングフオィルを用
いる。
4は電子ビームの軌道を示す。
Aは放射線発生機構3により発生した放射線、5は平坦
化フィル夕で放射線AがX線の場合に用いられ、電子線
の場合には取除かれる。6は放射線Aの強度のを測定す
る放射線検出器で、通常放射線により電離電流を発生す
る透過形あるいは指頭形イオンチャンバが多く用いられ
る。7は放射線検出器6と同様の放射線検出器であるが
、放射線Aによる照射野内の異つた領域の強度を検出す
るためのもので7a,7bの様に2個又はそれ以上の数
が設置される。
化フィル夕で放射線AがX線の場合に用いられ、電子線
の場合には取除かれる。6は放射線Aの強度のを測定す
る放射線検出器で、通常放射線により電離電流を発生す
る透過形あるいは指頭形イオンチャンバが多く用いられ
る。7は放射線検出器6と同様の放射線検出器であるが
、放射線Aによる照射野内の異つた領域の強度を検出す
るためのもので7a,7bの様に2個又はそれ以上の数
が設置される。
8は放射線検出器6の信号を増中する増中器、9は放射
線強度を安定化するための制御機構、10a,10bは
増中器8と同様の増中器、11は増中器10a,10b
の出力を差動増中する差動増中器である。
線強度を安定化するための制御機構、10a,10bは
増中器8と同様の増中器、11は増中器10a,10b
の出力を差動増中する差動増中器である。
12は差動増中器11の出力により照射野の放射線強度
分布を一定に保っための制御機構で加速部1を制御する
。
分布を一定に保っための制御機構で加速部1を制御する
。
13a,13bは野射野限定機構で、13a,13bの
一対となり更にこの直角方向にも一対ある。
一対となり更にこの直角方向にも一対ある。
(図示せず)又、矩形以外の照射野を構成できる多分割
の限定機構もある。照射野限定機構13a,13bは主
にX線の場合に野射野を定める機能を有し、電子線の場
合には14の電子線照射筒(電子線用アプリケータ)を
用いる。次に従来の装置の動作について説明する。
の限定機構もある。照射野限定機構13a,13bは主
にX線の場合に野射野を定める機能を有し、電子線の場
合には14の電子線照射筒(電子線用アプリケータ)を
用いる。次に従来の装置の動作について説明する。
加速部1で所定のエネルギーに加速された電子ビームは
そのエネルギーに対応して、所定の磁場を発生している
偏向電磁石2により偏向され、放射線発生機構3に導か
れ、X線あるいは電子線等の放射線Aを発生する。放射
線Aは照射野限定機構13a,13bあるいは電子線照
射筒で定められる照射野内に照射される。X線の場合に
は平坦化フィル夕5により放射線強度の分布を平坦にす
るが、電子線の場合には平坦化フィル夕5は照射野内か
ら取除かれる機構を有している。照射される放射線の強
度は、放射線検出器6で検出され、強度に比例した電離
電流が発生する。
そのエネルギーに対応して、所定の磁場を発生している
偏向電磁石2により偏向され、放射線発生機構3に導か
れ、X線あるいは電子線等の放射線Aを発生する。放射
線Aは照射野限定機構13a,13bあるいは電子線照
射筒で定められる照射野内に照射される。X線の場合に
は平坦化フィル夕5により放射線強度の分布を平坦にす
るが、電子線の場合には平坦化フィル夕5は照射野内か
ら取除かれる機構を有している。照射される放射線の強
度は、放射線検出器6で検出され、強度に比例した電離
電流が発生する。
これは増中器8により、電流−電圧変換されて、更に増
中される。通常この装置はパルス運転され、放射線強度
はこのパルス繰り返し周波数や、パルス中に依存するた
め、増中器8の出力で放射線強度の表示を行うと同時に
、放射線強度の制御機構9に信号を送り、パルス繰り返
し周波数又はパルス中を制御する機構を有している。所
で、偏向電磁石により電子ビームを偏向するため、加速
された電子ビームエネルギーが所定の値よりずれたり、
軌道がずれたりすると、放射線発生機構3への電子ビー
ムの入射角や、入射位置が、ずれる現象が通常現われる
。
中される。通常この装置はパルス運転され、放射線強度
はこのパルス繰り返し周波数や、パルス中に依存するた
め、増中器8の出力で放射線強度の表示を行うと同時に
、放射線強度の制御機構9に信号を送り、パルス繰り返
し周波数又はパルス中を制御する機構を有している。所
で、偏向電磁石により電子ビームを偏向するため、加速
された電子ビームエネルギーが所定の値よりずれたり、
軌道がずれたりすると、放射線発生機構3への電子ビー
ムの入射角や、入射位置が、ずれる現象が通常現われる
。
このため、照射野内の放射線強度の分布が、第1図に示
す様に、理想的な分布Bから放射線強度分布の平坦性が
失われるCの様な分布にずれる。Cは平坦性の失われた
場合の一例である。しかし、装置には平坦な分布Bの様
な平坦性を保つことが要求されるため、以下のような制
御機構が通常用いられている。即ち、野射野内の異った
領域の放射線強度を検出する放射線検出器7a,7bが
設置され、各々の領域の放射線強度を測定している。電
子ビームエネルギーが変化すると、偏向電磁石で偏向さ
れる時のビーム軌道が変わり、採用されている偏向電磁
石の系に特有の軌道変化のため、放射線発生機構3への
入射角あるいは入射位置又はその双方が変化するため放
射線が有する指向性の中心軸が変化するため第1図のC
に示す様な強度の不均一性が生じる。このため放射線検
出器7a,7bの各々の電離電流が増加又は減少するこ
とにより放射線検出装置7a,7bの出力に差が生じる
。これらが各々増中器10a,10bで増中され、差動
増中器11によって両者の差分が符号も含めて検出ある
いは増中これる。そこで差敷増中器11の出力が十分4
・さくなる様(±0)に制御機構9を動作ごせ元の平坦
な放射線強度分布に回復させる。この時電子ビームエネ
ルギーに強度平坦性を維持させる場合には、加速マイク
ロ波周波数、加速マイクロ波電力、加速ビーム電流等の
いずれかあるいは複数のもを制御対象として制御する。
加速電子ビーム軌道が変動する様な装置あるいは制御可
能な装置にあっては、加速管の出力部に軌道修正用のス
テアリングコイルを装備してこのステアリングコイルの
電流値を制御し、電子ビームの軌道を修正することもあ
る。この時は偏向電磁石2へのビームの入射位置が変化
し平坦性が失われたことに対する補正ができる。この制
御機構を用いる場合は通常電子ビームエネルギーの補正
のための制御機構と並行して運転する場合が多い。第2
図にその動作の基本となる関係を示す。第2図において
D。は放射線検出器6による検出値でD,,D2は各々
7a,7bによる検出値である。×は、制御対象となっ
ている電子ビームエネルギーを設定する量で装置が所定
の電子ビームエネルギーで加速するための最適状態に保
たれると、通常×mに設定されている。任意に設定でき
る放射線強度を調整する機構を不変に保った場合、通常
XmにおいてDoは最大値Dmを得る。この時、D,=
D2となって平坦性が得られている。XがXmから変化
するとDoはDmから減少すると同時に、D,≠D2と
なり平坦性が失われるため、D,=D2に復帰する様に
Xを制御するのである。従来の線形電子加速装置による
放射線発生装置においては以上の様な構成と動作を行う
ため、第1図のCの様な照射野の放射線強度の不均一性
を生じた場合、制御動作がいくつか並行するため、複雑
で相互に干渉し合う結果となり、安定な出力と平坦な放
射線強度分布を得るのに難しさがあり、第2図のD,.
D2がDoと相似の特性を示す装置や電子線にあっては
電子ビームエネルギーの制御は、放射線の出力により行
うことはできなくなる等の欠点があった。この発明は従
来の装置の上記のような欠点を除去するためになされた
もので、正規化した放射線強度の最大値制御を行なうも
のであり、微分回路を用いずに最大値制御を行わしめ、
電子ビームエネルギーと放射線出力の安定化を持たらす
ことのできる制御装置を提供することを目的としたもの
である。
す様に、理想的な分布Bから放射線強度分布の平坦性が
失われるCの様な分布にずれる。Cは平坦性の失われた
場合の一例である。しかし、装置には平坦な分布Bの様
な平坦性を保つことが要求されるため、以下のような制
御機構が通常用いられている。即ち、野射野内の異った
領域の放射線強度を検出する放射線検出器7a,7bが
設置され、各々の領域の放射線強度を測定している。電
子ビームエネルギーが変化すると、偏向電磁石で偏向さ
れる時のビーム軌道が変わり、採用されている偏向電磁
石の系に特有の軌道変化のため、放射線発生機構3への
入射角あるいは入射位置又はその双方が変化するため放
射線が有する指向性の中心軸が変化するため第1図のC
に示す様な強度の不均一性が生じる。このため放射線検
出器7a,7bの各々の電離電流が増加又は減少するこ
とにより放射線検出装置7a,7bの出力に差が生じる
。これらが各々増中器10a,10bで増中され、差動
増中器11によって両者の差分が符号も含めて検出ある
いは増中これる。そこで差敷増中器11の出力が十分4
・さくなる様(±0)に制御機構9を動作ごせ元の平坦
な放射線強度分布に回復させる。この時電子ビームエネ
ルギーに強度平坦性を維持させる場合には、加速マイク
ロ波周波数、加速マイクロ波電力、加速ビーム電流等の
いずれかあるいは複数のもを制御対象として制御する。
加速電子ビーム軌道が変動する様な装置あるいは制御可
能な装置にあっては、加速管の出力部に軌道修正用のス
テアリングコイルを装備してこのステアリングコイルの
電流値を制御し、電子ビームの軌道を修正することもあ
る。この時は偏向電磁石2へのビームの入射位置が変化
し平坦性が失われたことに対する補正ができる。この制
御機構を用いる場合は通常電子ビームエネルギーの補正
のための制御機構と並行して運転する場合が多い。第2
図にその動作の基本となる関係を示す。第2図において
D。は放射線検出器6による検出値でD,,D2は各々
7a,7bによる検出値である。×は、制御対象となっ
ている電子ビームエネルギーを設定する量で装置が所定
の電子ビームエネルギーで加速するための最適状態に保
たれると、通常×mに設定されている。任意に設定でき
る放射線強度を調整する機構を不変に保った場合、通常
XmにおいてDoは最大値Dmを得る。この時、D,=
D2となって平坦性が得られている。XがXmから変化
するとDoはDmから減少すると同時に、D,≠D2と
なり平坦性が失われるため、D,=D2に復帰する様に
Xを制御するのである。従来の線形電子加速装置による
放射線発生装置においては以上の様な構成と動作を行う
ため、第1図のCの様な照射野の放射線強度の不均一性
を生じた場合、制御動作がいくつか並行するため、複雑
で相互に干渉し合う結果となり、安定な出力と平坦な放
射線強度分布を得るのに難しさがあり、第2図のD,.
D2がDoと相似の特性を示す装置や電子線にあっては
電子ビームエネルギーの制御は、放射線の出力により行
うことはできなくなる等の欠点があった。この発明は従
来の装置の上記のような欠点を除去するためになされた
もので、正規化した放射線強度の最大値制御を行なうも
のであり、微分回路を用いずに最大値制御を行わしめ、
電子ビームエネルギーと放射線出力の安定化を持たらす
ことのできる制御装置を提供することを目的としたもの
である。
先づ、本発明の原理について説明する。
即ち第2図に示されるように、放射線強度の調整機構を
不変に保った場合、所定の電子ビームエネルギーを得る
最適状態にパラメータを保てば(第2図のXで代表され
る設定パラメータの量をX:×mに設定する)、放射線
検出器6で検出される放射線の強度Poは最大値Dmと
なり、かつD,=D2の様に放射線強度分布は平坦にな
るという性能を利用してDoがDmになる様な制御方式
を彩用する。
不変に保った場合、所定の電子ビームエネルギーを得る
最適状態にパラメータを保てば(第2図のXで代表され
る設定パラメータの量をX:×mに設定する)、放射線
検出器6で検出される放射線の強度Poは最大値Dmと
なり、かつD,=D2の様に放射線強度分布は平坦にな
るという性能を利用してDoがDmになる様な制御方式
を彩用する。
この時、Doは放射線強度調整機構で設定される量(こ
れをyで代表する)に無関係にするため、DN=Do/
yという正規化を行い、DNが最大値DNmになる様に
する。第3図はこれを達成するための基本的な構成を示
す。第3図において、放射線検出器6の出力を増中器8
で増中しその出力を正規化回路16で正規化する。
れをyで代表する)に無関係にするため、DN=Do/
yという正規化を行い、DNが最大値DNmになる様に
する。第3図はこれを達成するための基本的な構成を示
す。第3図において、放射線検出器6の出力を増中器8
で増中しその出力を正規化回路16で正規化する。
正規化には放射線強度調整機構15で放射線強度を設定
する量により行われ、既に示したDN=Do/yとする
。これを微分回路17で微分し皿N/dtを発生させる
が、これは18のタイミング回路18で発生させるゲー
ート信号によって行い、このゲート信号は△tの間隔で
発生する。したがってdDN/dtは△t間隔で発生し
、△tの間維持される。19は微分回路17の出±幻D
N/dtを増中する増中器で、その出力を絶対値回路2
0に入力する。
する量により行われ、既に示したDN=Do/yとする
。これを微分回路17で微分し皿N/dtを発生させる
が、これは18のタイミング回路18で発生させるゲー
ート信号によって行い、このゲート信号は△tの間隔で
発生する。したがってdDN/dtは△t間隔で発生し
、△tの間維持される。19は微分回路17の出±幻D
N/dtを増中する増中器で、その出力を絶対値回路2
0に入力する。
絶対値回路20はl山DN/dtlに相当する量を出力
し、制御量が定められる。一方増中器19の出力は制御
パラメータ変化率弁別回路22に入力され、皿N/dt
>0ならば、Xの変化する方向を維持し、皿N/dt<
0ならば、Xの変化する方向を反転する機能を有してそ
れに相当する信号を発生する。絶対値回路20の出力が
虹DN/dt=0となると制御弁別回路23のゲートを
閉じ、制御パラメータ変化率弁別回路22の出力を制御
信号発生回路25に伝達されるのを停止する。以上の様
に制御信号発生回路25は功DN/dt=0の時Xの変
化すべき方向と制御量をを発生し皿N/dt=0の時は
Xの現在の値を保持する様に動作してDN最大値となっ
ている。但照射を開始した初期においては山DN/dt
=0のため制御信号が発生しないので、初期条件設定回
路24により最初の△t間は絶対値回路2川こ適宜の制
御量を設定し、又制御パラメータ変化率弁別回路22の
変化の方向を設定する。同時に開始と同時にタイミング
回路18がゲート信号を発生する信号をタイミング回路
18に送る。以上のようにして制御信号発生回路25が
加速部の電子ビームエネルギー設定のパラメータを制御
することにより、第2図のXmに×を制御し、安定な電
子ビームエネルギーと放射線出力を得ようとするもので
ある。ここで第3図の回路では微分回路17を用いてい
るが、通常増中器を利用した微分回路はノイズが発生し
やすいため、装置が誤動作しやすいという危険性を内包
している。本発明は、正規化した放射線強度の最大値制
御を微分回路を用いずに達成するものである。
し、制御量が定められる。一方増中器19の出力は制御
パラメータ変化率弁別回路22に入力され、皿N/dt
>0ならば、Xの変化する方向を維持し、皿N/dt<
0ならば、Xの変化する方向を反転する機能を有してそ
れに相当する信号を発生する。絶対値回路20の出力が
虹DN/dt=0となると制御弁別回路23のゲートを
閉じ、制御パラメータ変化率弁別回路22の出力を制御
信号発生回路25に伝達されるのを停止する。以上の様
に制御信号発生回路25は功DN/dt=0の時Xの変
化すべき方向と制御量をを発生し皿N/dt=0の時は
Xの現在の値を保持する様に動作してDN最大値となっ
ている。但照射を開始した初期においては山DN/dt
=0のため制御信号が発生しないので、初期条件設定回
路24により最初の△t間は絶対値回路2川こ適宜の制
御量を設定し、又制御パラメータ変化率弁別回路22の
変化の方向を設定する。同時に開始と同時にタイミング
回路18がゲート信号を発生する信号をタイミング回路
18に送る。以上のようにして制御信号発生回路25が
加速部の電子ビームエネルギー設定のパラメータを制御
することにより、第2図のXmに×を制御し、安定な電
子ビームエネルギーと放射線出力を得ようとするもので
ある。ここで第3図の回路では微分回路17を用いてい
るが、通常増中器を利用した微分回路はノイズが発生し
やすいため、装置が誤動作しやすいという危険性を内包
している。本発明は、正規化した放射線強度の最大値制
御を微分回路を用いずに達成するものである。
以下本発明の一実施例を図について説明する。第4図に
おいて、26は照射開始信号ゲート発生回路、27はタ
イミングパルス発生回路、28a,28b,28cは夫
々サンプリング・ホールド回路、29a,29b,29
cはサンプリング・ホールド回路28a,28b,28
cの出力をインピーダンス変換により出力を構成する増
中器で、サンプリング・ホールド回路28a,28b,
28cの各々に対応して設置されている。増中器29a
,29b,29cの入力側はサンプリング・ホールド回
路28a,28b,28cの出力を十分長い時間の間保
持できるように高入力インピーダンスとなっており、出
力側は低出力インピーダンスである。30は差動増中器
、31は増中器29cの出力の絶対値を構成するための
絶対値回路、32はフliッブフ。
おいて、26は照射開始信号ゲート発生回路、27はタ
イミングパルス発生回路、28a,28b,28cは夫
々サンプリング・ホールド回路、29a,29b,29
cはサンプリング・ホールド回路28a,28b,28
cの出力をインピーダンス変換により出力を構成する増
中器で、サンプリング・ホールド回路28a,28b,
28cの各々に対応して設置されている。増中器29a
,29b,29cの入力側はサンプリング・ホールド回
路28a,28b,28cの出力を十分長い時間の間保
持できるように高入力インピーダンスとなっており、出
力側は低出力インピーダンスである。30は差動増中器
、31は増中器29cの出力の絶対値を構成するための
絶対値回路、32はフliッブフ。
ップで、照射開始信号ゲート発生回路26の出力ゲート
により、その出力は初期設定され、増中器29cの出力
が正の時は出力は反転せず、増中器29cの出力が負に
なった時、出力が反転する。23は、加速部の電子ビー
ムエネルギーを決定する制御対象となるパラメータの制
御部である。
により、その出力は初期設定され、増中器29cの出力
が正の時は出力は反転せず、増中器29cの出力が負に
なった時、出力が反転する。23は、加速部の電子ビー
ムエネルギーを決定する制御対象となるパラメータの制
御部である。
フリップフ。ップ32の出力によりこの制御対象となる
量の増加、減少の方向を決定すると共に絶対値回路31
の出力により制御量が定められる。次に本発明による装
置の動作を説明する。
量の増加、減少の方向を決定すると共に絶対値回路31
の出力により制御量が定められる。次に本発明による装
置の動作を説明する。
X線又は電子線等の放射線が放射線発生機構3により発
生し、その出力強度が放射線検出器6で検出され、増中
器8で増中これ同時にパルス的に発生している検出値を
平均化する。この出力により放射線強度や積算の放射線
の量が表示できる。一方、放射線強度調整機構15によ
り設定されている放射線強度調整値に比例する量で増中
器8の出力が正規化される。
生し、その出力強度が放射線検出器6で検出され、増中
器8で増中これ同時にパルス的に発生している検出値を
平均化する。この出力により放射線強度や積算の放射線
の量が表示できる。一方、放射線強度調整機構15によ
り設定されている放射線強度調整値に比例する量で増中
器8の出力が正規化される。
正規化された値又はそれに比例した値をDNとする。2
7はタイミングパルス発生回路27は周期△tの間にタ
イミングの異なる3種類のパルスを発生する。
7はタイミングパルス発生回路27は周期△tの間にタ
イミングの異なる3種類のパルスを発生する。
パルス中は△tに対して十分小さく、かつサンプリング
・ホールド回路28a,28b,28cのサンプリング
ホールド‘こよりその入力が応答するのに十分長い値を
有している。最初のパルスS,が時刻し‘こおいて発生
するとこれに△t.遅れて次のパルスS2が時刻t2に
発生する。更に△t2遅れて第3のパルスS3が時刻t
3において発生しこの後△t3後に再びS,が発生する
。したがって1周期は△t:△ら+△t2十△らとなる
。これらS,,S2,S3の各パルスは各々サンプリン
グホールド回路28a,28b,28cに加えられ、各
々のパルスにより開かれたゲートの間、サンプリングホ
ールド回路28a,28b,28cはその入力の値を出
力側に伝達する。サンプリングホールド回路28a,2
8b,28cの出力の値を十分長い時間保つためその出
力側には高入力インピーダンスの増中器29a,29b
,29cが設置され周期△tの間この値を保っている。
増中器29a,29b,29cの出力を各々D側DN2
,DN3とする。DN・,DN2の出力は差動増中器3
0により両者の差が検出される。差動増中器30の出力
をDdとし、Ddは例えばDd=DN2−DN,とする
。Ddはサンプリング・ホールド回路28cにより再び
サンプリングホールドされ、高入力インピーダンスであ
る増中器29cにより出力が保持される。増中器29c
の出力がDN3である。そこでこれらの関係を第5図を
用いて説明する。
・ホールド回路28a,28b,28cのサンプリング
ホールド‘こよりその入力が応答するのに十分長い値を
有している。最初のパルスS,が時刻し‘こおいて発生
するとこれに△t.遅れて次のパルスS2が時刻t2に
発生する。更に△t2遅れて第3のパルスS3が時刻t
3において発生しこの後△t3後に再びS,が発生する
。したがって1周期は△t:△ら+△t2十△らとなる
。これらS,,S2,S3の各パルスは各々サンプリン
グホールド回路28a,28b,28cに加えられ、各
々のパルスにより開かれたゲートの間、サンプリングホ
ールド回路28a,28b,28cはその入力の値を出
力側に伝達する。サンプリングホールド回路28a,2
8b,28cの出力の値を十分長い時間保つためその出
力側には高入力インピーダンスの増中器29a,29b
,29cが設置され周期△tの間この値を保っている。
増中器29a,29b,29cの出力を各々D側DN2
,DN3とする。DN・,DN2の出力は差動増中器3
0により両者の差が検出される。差動増中器30の出力
をDdとし、Ddは例えばDd=DN2−DN,とする
。Ddはサンプリング・ホールド回路28cにより再び
サンプリングホールドされ、高入力インピーダンスであ
る増中器29cにより出力が保持される。増中器29c
の出力がDN3である。そこでこれらの関係を第5図を
用いて説明する。
今、△tの周期が照射を開始してからn番目のにあった
とするとパルスS,,S2,S3は各々tn・,tn2
,tn3,の時刻に発生し次の(n+1)番目の周期で
はt(n川,,t(n+,)2,t(n川3の時刻に発
生するとする。今、制御対象Xが変化しており、正規化
された放射線強度DNが漸増しているとするのが第5図
のn番目の周期で、その結果最大値に十分近い位置にX
が変化してDNの変化がほとんどなくなったのが(n+
1)番目の周期である。
とするとパルスS,,S2,S3は各々tn・,tn2
,tn3,の時刻に発生し次の(n+1)番目の周期で
はt(n川,,t(n+,)2,t(n川3の時刻に発
生するとする。今、制御対象Xが変化しており、正規化
された放射線強度DNが漸増しているとするのが第5図
のn番目の周期で、その結果最大値に十分近い位置にX
が変化してDNの変化がほとんどなくなったのが(n+
1)番目の周期である。
tn,の時刻に発生したパルスS,により、増中器29
aの出力はその時のDNの値DN,を読み込んで時刻t
(n川,までホールドしている。次にtn2の時刻に発
生したパルスS2により、増中器29bの出力はその時
のDNの値DN2を読み込んで時刻t(川,)2までホ
ールドしている。したがって、差動増中器30はDd=
DN2−DN,を出力するので、DNが増加している時
はDN2がt(n−,)2の時点の値が記憶されている
ため、△t,の間は負となり、t舵によりDN2が更新
されるとDN2>DN,となってDdは正の値に変化す
る。こうして時刻tn3においてDdの値がパルスS3
により増中器29cの出力DN3となって表われる。t
n3までは増中器29cの出力はt(n−,)3の時刻
のDdの値が記憶され、DNが増加しているため正であ
った。DNが最大値により近づいたためDN2とDN・
の差は次第に小さくなるため、tn3で更新されたDN
3の値はそれ以前に比して小さくなった。時刻tn3ま
でのDN3の値によりフリップフロップ32はDN3が
正のため制御対象Xの値をある方向に変化させており、
又絶対値回路31で制御量が定められ、制御部33が時
刻tn3まで制御駆動信号を発して来た。時刻tn3に
おいて新たにDN3が発生したが、依然正の値であるの
でフリップフロップ32はXの変化の方向を変えず、絶
対値回路31により定められた制御量で引き続きt(帆
)3まで制御部33は制御駆動信号を発生する。(n+
1)番目の周期も同じ様な方法でDN,,DN2,DN
3が発生するのであるが最大値に十分近くなったため、
△t,の間隔で検出されたDN,とDN2がほぼ等しい
値になるとt(n川3の時刻のDdはほぼDd=0とな
っているため、DN3=0となり、t(n川3以後は制
御量が0となって制御部33はXを変化させる駆動信号
を停止し、現在の値を保持するのである。
aの出力はその時のDNの値DN,を読み込んで時刻t
(n川,までホールドしている。次にtn2の時刻に発
生したパルスS2により、増中器29bの出力はその時
のDNの値DN2を読み込んで時刻t(川,)2までホ
ールドしている。したがって、差動増中器30はDd=
DN2−DN,を出力するので、DNが増加している時
はDN2がt(n−,)2の時点の値が記憶されている
ため、△t,の間は負となり、t舵によりDN2が更新
されるとDN2>DN,となってDdは正の値に変化す
る。こうして時刻tn3においてDdの値がパルスS3
により増中器29cの出力DN3となって表われる。t
n3までは増中器29cの出力はt(n−,)3の時刻
のDdの値が記憶され、DNが増加しているため正であ
った。DNが最大値により近づいたためDN2とDN・
の差は次第に小さくなるため、tn3で更新されたDN
3の値はそれ以前に比して小さくなった。時刻tn3ま
でのDN3の値によりフリップフロップ32はDN3が
正のため制御対象Xの値をある方向に変化させており、
又絶対値回路31で制御量が定められ、制御部33が時
刻tn3まで制御駆動信号を発して来た。時刻tn3に
おいて新たにDN3が発生したが、依然正の値であるの
でフリップフロップ32はXの変化の方向を変えず、絶
対値回路31により定められた制御量で引き続きt(帆
)3まで制御部33は制御駆動信号を発生する。(n+
1)番目の周期も同じ様な方法でDN,,DN2,DN
3が発生するのであるが最大値に十分近くなったため、
△t,の間隔で検出されたDN,とDN2がほぼ等しい
値になるとt(n川3の時刻のDdはほぼDd=0とな
っているため、DN3=0となり、t(n川3以後は制
御量が0となって制御部33はXを変化させる駆動信号
を停止し、現在の値を保持するのである。
この後状態が変化しなければ、△tの周期を繰り返して
もDN3こ0でXを変化させる駆動信号が生じないので
最適状態が維持されている。もし、何らかの原因でDN
が変化し始めるとDN3がDN3≠0即ちDN3<0と
なってこれまでの状態で設定されていたフリップフロッ
プ32が指示するXの変化の方向は反転して、×が変化
させられる。この結果DNが増加してDN3が正になれ
ば再びDN3=0となるまでXを制御する。しかし、こ
の結果やはりDN3が負であると再びフリップフロップ
32が指示する×の変化の方向は反転して、DNが増加
する方向にXを変化させる駆動信号が発生する。この様
にして、DNが最大値となる制御が達成されるのである
。以上の説明は照射を開始した後にDNが一度変化し始
めた場合の動作である。開始時点においてDNが変化し
しない、即ちXが変化しなければその時のXの値が最大
値であるかどうかは判明しない。そこで初期条件を設定
する照射開始信号ゲート発生回路26が必要となる。第
6図において時刻ら,において照射が開始され、ら,か
ら△t後の時刻ら,から上記説明のパルス周期が繰り返
される。即ちt,.,t,2,L3において各々パルス
S,,S2,S3が発生する。時刻ら,から△tのパル
ス周期は開始されるのであるが照射開始信号ゲート発生
回路26のゲートSoをto,から△toの間遅らせて
S,,S2,S3が出力する様に開く。従ってto,に
おけるパルスS.はマスクされてサンプリング・ホール
ド回路28aには印加されない。ここで△to<△りこ
しておけばto2におけるパルスS2はサンプリング・
ホールド回路28bに印加されて、この時のDNが読み
込まれるのである。そしてS,,S2,S3は照射開始
前はゲートが開かれたままになっており、開始と同時に
ゲートを閉じる論理回路により制御されている。したが
って、照射開始前はDN,,DN2,DN3はいずれも
0にリセットされているので、照射開始後の最初の△t
の間はDNは造中器29Mこのみ読み込まれることにな
り、to3において、DN3には正の値が表われる。し
たがって×を変化させる駆動信号の制御量が得られた訳
で、この時照射開始信号ゲート発生回路26により照射
開始前のフリップフロップ32の出力を定められた方向
に設定しておけば、t■からt,3の間までの制御部3
3の制御信号が定められてXを変化させる。以後の制御
の動作については既に説明した通りである。以上の様に
して制御対象を制御する信号が得られることになり最適
状態にパラメータを制御する。
もDN3こ0でXを変化させる駆動信号が生じないので
最適状態が維持されている。もし、何らかの原因でDN
が変化し始めるとDN3がDN3≠0即ちDN3<0と
なってこれまでの状態で設定されていたフリップフロッ
プ32が指示するXの変化の方向は反転して、×が変化
させられる。この結果DNが増加してDN3が正になれ
ば再びDN3=0となるまでXを制御する。しかし、こ
の結果やはりDN3が負であると再びフリップフロップ
32が指示する×の変化の方向は反転して、DNが増加
する方向にXを変化させる駆動信号が発生する。この様
にして、DNが最大値となる制御が達成されるのである
。以上の説明は照射を開始した後にDNが一度変化し始
めた場合の動作である。開始時点においてDNが変化し
しない、即ちXが変化しなければその時のXの値が最大
値であるかどうかは判明しない。そこで初期条件を設定
する照射開始信号ゲート発生回路26が必要となる。第
6図において時刻ら,において照射が開始され、ら,か
ら△t後の時刻ら,から上記説明のパルス周期が繰り返
される。即ちt,.,t,2,L3において各々パルス
S,,S2,S3が発生する。時刻ら,から△tのパル
ス周期は開始されるのであるが照射開始信号ゲート発生
回路26のゲートSoをto,から△toの間遅らせて
S,,S2,S3が出力する様に開く。従ってto,に
おけるパルスS.はマスクされてサンプリング・ホール
ド回路28aには印加されない。ここで△to<△りこ
しておけばto2におけるパルスS2はサンプリング・
ホールド回路28bに印加されて、この時のDNが読み
込まれるのである。そしてS,,S2,S3は照射開始
前はゲートが開かれたままになっており、開始と同時に
ゲートを閉じる論理回路により制御されている。したが
って、照射開始前はDN,,DN2,DN3はいずれも
0にリセットされているので、照射開始後の最初の△t
の間はDNは造中器29Mこのみ読み込まれることにな
り、to3において、DN3には正の値が表われる。し
たがって×を変化させる駆動信号の制御量が得られた訳
で、この時照射開始信号ゲート発生回路26により照射
開始前のフリップフロップ32の出力を定められた方向
に設定しておけば、t■からt,3の間までの制御部3
3の制御信号が定められてXを変化させる。以後の制御
の動作については既に説明した通りである。以上の様に
して制御対象を制御する信号が得られることになり最適
状態にパラメータを制御する。
しかも微分の原理を応用しながら、微分・回路を用いる
ことなく、通常使用されているパルス発生回路と、増中
器およびサンプリング・ホール‐ドのみで回路を構成し
たために、微分回路に付随するノイズによる誤動作を防
ぐことができるのである。以上述べたこの発明の実施例
では制御対象を電子ビームエネルギーとしているが電子
ビームエネルギーが他の制御方法で安定化できる装置に
あっては、電子ビーム軌道によっても同様な制御を行う
ことができ電子ビーム軌道修正のため、ステアリングコ
イルや、偏向電磁石電流を制御しても良い。
ことなく、通常使用されているパルス発生回路と、増中
器およびサンプリング・ホール‐ドのみで回路を構成し
たために、微分回路に付随するノイズによる誤動作を防
ぐことができるのである。以上述べたこの発明の実施例
では制御対象を電子ビームエネルギーとしているが電子
ビームエネルギーが他の制御方法で安定化できる装置に
あっては、電子ビーム軌道によっても同様な制御を行う
ことができ電子ビーム軌道修正のため、ステアリングコ
イルや、偏向電磁石電流を制御しても良い。
又、サンプリング・ホールド回路28a,28bを用い
たが、時定数の異なる遅延回路ををこれに代えて設けて
もよい。放射線発出器6は出力強度をモニタする検出器
を共有しているがこの制御回路のため別個の検出器を設
けても良く、例えば照射野の中心での放射線強度を検出
して制御回路の入力信号としても同様な効果が得られる
。更に、第4図においては、タイミングパルス発生回路
27から発生するパルスS,,S2,S3の発生するタ
イミングをt,,t2,上3の様にあたかも固定してあ
るかの様に実施例を示した。所で線形電子加速装置はパ
ルス運転されるのでこのパルスに同期させてS,,S2
,S3を発生することもできる。
たが、時定数の異なる遅延回路ををこれに代えて設けて
もよい。放射線発出器6は出力強度をモニタする検出器
を共有しているがこの制御回路のため別個の検出器を設
けても良く、例えば照射野の中心での放射線強度を検出
して制御回路の入力信号としても同様な効果が得られる
。更に、第4図においては、タイミングパルス発生回路
27から発生するパルスS,,S2,S3の発生するタ
イミングをt,,t2,上3の様にあたかも固定してあ
るかの様に実施例を示した。所で線形電子加速装置はパ
ルス運転されるのでこのパルスに同期させてS,,S2
,S3を発生することもできる。
通常、増中器8ではパルス的な放射線検出器6の出力電
離電流は平均化されて増中されることが多い。この平均
化により回路時定数で定められるリップルが生ずること
がある。したがって、装置の運転パルスに同期(運転パ
ルスに対して一定の時間遅れを持つものも同期として)
ごせてパルスS,,S2,S3を発生させれば、増中器
29a,29b,29cの出力はリップルによる変動を
除くことができる。第7図にその回路例を示す。
離電流は平均化されて増中されることが多い。この平均
化により回路時定数で定められるリップルが生ずること
がある。したがって、装置の運転パルスに同期(運転パ
ルスに対して一定の時間遅れを持つものも同期として)
ごせてパルスS,,S2,S3を発生させれば、増中器
29a,29b,29cの出力はリップルによる変動を
除くことができる。第7図にその回路例を示す。
第7図ではS,,S2のみ示す。運転パルスのトリガパ
ルス発生回路34により線形電子加速装置運転パルスと
タイミングが一致したパルスあるいは一定の時間遅れの
あるパルスが発生する。タイミングトリガ発生回路35
からは△tの周期でし,t2のタイミングにトリガパル
スが発生している。勿論、S3用にt3のタイミングで
更にトリガパルスがここから発生してもよい。36a,
36bはフリツプフoツプ回路、37a,37bはゲー
ト回路であるが、これらは夫々S,,S2用に設けられ
ている。
ルス発生回路34により線形電子加速装置運転パルスと
タイミングが一致したパルスあるいは一定の時間遅れの
あるパルスが発生する。タイミングトリガ発生回路35
からは△tの周期でし,t2のタイミングにトリガパル
スが発生している。勿論、S3用にt3のタイミングで
更にトリガパルスがここから発生してもよい。36a,
36bはフリツプフoツプ回路、37a,37bはゲー
ト回路であるが、これらは夫々S,,S2用に設けられ
ている。
tlのタイミングでタイミングトリガ発生回路35から
発生したトリガパルスはフリツプフロツプ36aに印加
されて、これを動作させ、ゲート回路37aのゲートを
開く信号が発生する。ゲート回路37aのゲートが開か
れている時にトリガパルス発生回路34からパルスが入
力するとこれは出力側に伝達されてパルスS,となる。
パルスS,は同時にフリツプフロツプ36aに帰還され
、パルスS,の終了時にフリップフロップ36aはゲー
トを閉じる様に動作させる。したがって周期△tの間に
唯一のパルスがS,として発生する。一方t2のタイミ
ングでタイミングトリガ発生回路35から発生したトリ
ガパルスは以上と同様な機能を持ったフリップフロツプ
36b、ゲート回路37bによりS2が発生する。以上
の様にして周期△t間に線形電子加速装置の運転パルス
に周期したS,,S2が得られる。
発生したトリガパルスはフリツプフロツプ36aに印加
されて、これを動作させ、ゲート回路37aのゲートを
開く信号が発生する。ゲート回路37aのゲートが開か
れている時にトリガパルス発生回路34からパルスが入
力するとこれは出力側に伝達されてパルスS,となる。
パルスS,は同時にフリツプフロツプ36aに帰還され
、パルスS,の終了時にフリップフロップ36aはゲー
トを閉じる様に動作させる。したがって周期△tの間に
唯一のパルスがS,として発生する。一方t2のタイミ
ングでタイミングトリガ発生回路35から発生したトリ
ガパルスは以上と同様な機能を持ったフリップフロツプ
36b、ゲート回路37bによりS2が発生する。以上
の様にして周期△t間に線形電子加速装置の運転パルス
に周期したS,,S2が得られる。
S3に関しては同様に同期させても良いし、S2に適宜
の△らだけ遅れたパルスであっても良い。第8図でPは
トリガパルス発生回路34の出力パルス、○,,G2は
各々フリッブフロップ36a,36bの出力ゲート信号
で第8図により以上の動作が理解できる。又、この発明
による回路は放射線強度の最大値を求めるばかりでなく
、所定の線量を得るためにパルス繰り返し周波数、パル
ス中、ビーム電流等を最低にする様な制御を行う場合の
制御機構にも応用できる。この場合求める制御点が最大
点であるものを最低点にする様にフリップフロップ32
が反転出力となる時を増中器29cの出力が正となった
時とすれば良い。以上の様にこの発明によれば線形電子
加速装置を用いた放射線発生装置の放射線出力を正規化
して、その値の最大値(又は最小値)を求める制御回路
を備え、かつ微分回路を用いずパルス発生回路、増中器
サンプリングホールド回路等の通常使用している構成で
これと同等の機能を得る様に構成したため、微分回路特
有のノイズによる誤動作が防止でき、安定した動作を行
うため、電子ビームエネルギー放射線出力が安定で信頼
度の高い装置を提供できる効果が得られる。
の△らだけ遅れたパルスであっても良い。第8図でPは
トリガパルス発生回路34の出力パルス、○,,G2は
各々フリッブフロップ36a,36bの出力ゲート信号
で第8図により以上の動作が理解できる。又、この発明
による回路は放射線強度の最大値を求めるばかりでなく
、所定の線量を得るためにパルス繰り返し周波数、パル
ス中、ビーム電流等を最低にする様な制御を行う場合の
制御機構にも応用できる。この場合求める制御点が最大
点であるものを最低点にする様にフリップフロップ32
が反転出力となる時を増中器29cの出力が正となった
時とすれば良い。以上の様にこの発明によれば線形電子
加速装置を用いた放射線発生装置の放射線出力を正規化
して、その値の最大値(又は最小値)を求める制御回路
を備え、かつ微分回路を用いずパルス発生回路、増中器
サンプリングホールド回路等の通常使用している構成で
これと同等の機能を得る様に構成したため、微分回路特
有のノイズによる誤動作が防止でき、安定した動作を行
うため、電子ビームエネルギー放射線出力が安定で信頼
度の高い装置を提供できる効果が得られる。
第1図は従来の線形電子加速装置の一例を示すフロック
図、第2図は電子ビームエネルギーを定めるパラメー外
こ対する放射線出力の関係を示す説明図、第3図は本発
明の基本となる装置のブロック図、第4図はこの発明の
一実施例による装置を示すブロック図、第5図は第4図
の装置の通常の動作を示すタイミングチャート、第6図
は第4図の制御機構の初期条件を定める動作のタイミン
グチャート、第7図はこの発明の装置の一部の変形例を
示すブ。 ック図、第8図は第7図による回路の動作を示すタイミ
ングチャートである。図に於て、1・・・・・・加速部
、6…・・・放射線検出器、8…・・・増中器、15…
…放射線強度調整機構、16・・・・・・正規化回路、
26・・・・・・照射開始信号ゲート発生回路、27・
・・・・・タイミングパルス発生回路、28a,28b
,28c…・・・サンプリングホールド回路、29a,
29b,29c・・…・増中器、30…・・・差動増中
器、31・・・・・・絶対値回路、32・・・・・・フ
リップフロツプ、33・・・・・・制御部、34……運
転パルス用のトリトリガパルス発生回路、35・・・・
・・タイミングトリガ発生回路、36a,36b……フ
リツプフoツプ、37a,37b・・・・・・ゲート回
路である。尚、図中同一符号は同一又は相当部分を示す
。第1図 第2図 第7図 第3図 第5図 第4図 第6図 第8図
図、第2図は電子ビームエネルギーを定めるパラメー外
こ対する放射線出力の関係を示す説明図、第3図は本発
明の基本となる装置のブロック図、第4図はこの発明の
一実施例による装置を示すブロック図、第5図は第4図
の装置の通常の動作を示すタイミングチャート、第6図
は第4図の制御機構の初期条件を定める動作のタイミン
グチャート、第7図はこの発明の装置の一部の変形例を
示すブ。 ック図、第8図は第7図による回路の動作を示すタイミ
ングチャートである。図に於て、1・・・・・・加速部
、6…・・・放射線検出器、8…・・・増中器、15…
…放射線強度調整機構、16・・・・・・正規化回路、
26・・・・・・照射開始信号ゲート発生回路、27・
・・・・・タイミングパルス発生回路、28a,28b
,28c…・・・サンプリングホールド回路、29a,
29b,29c・・…・増中器、30…・・・差動増中
器、31・・・・・・絶対値回路、32・・・・・・フ
リップフロツプ、33・・・・・・制御部、34……運
転パルス用のトリトリガパルス発生回路、35・・・・
・・タイミングトリガ発生回路、36a,36b……フ
リツプフoツプ、37a,37b・・・・・・ゲート回
路である。尚、図中同一符号は同一又は相当部分を示す
。第1図 第2図 第7図 第3図 第5図 第4図 第6図 第8図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 電子ビームを加速する加速装置を備え、この加速装
置により加速された電子ビームにより放射線を発生する
ようにした装置に於て、放射線の出力強度を調整する調
整機構と、発生した放射線の強度を検出する放射線検出
器と、上記調整機構により設定された量に応じた値を基
準値として上記放射線検出器により検出された出力放射
線強度を正規化する正規化手段と、この正規化手段の出
力の任意の時点における値とその時点より前の時点にお
ける値との差分を検出し、この差分を用いて上記正規化
された量が最大値又は最小値となるように上記加速装置
を制御する制御装置とを備えたことを特徴とする放射線
発生装置。 2 正規化された量が最大値又は最小値となるように加
速装置を制御する制御装置は、正規化手段の任意の時点
における出力値を保持する第1のサンプリング・ホール
ド回路と、正規化手段の上記時点より後の時点における
出力値を保持する第2のサンプリング・ホールド回路と
、上記第1及び第2のサンプリング・ホールド回路の出
力の差に応じた出力を生ずる差動増巾器と、この差動増
巾器の出力値をサンプリングして保持する第3のサンプ
リング・ホールド回路とを有し、この第3のサンプリン
グ・ホールド回路の出力値が正となるよう加速装置を制
御するものであることを特徴とする特許請求の範囲第1
項に記載の放射線発生装置。 3 正規化された量が最大値又は最小値となるように加
速装置を制御する制御装置は、第1、第2、及び第3の
サンプリング・ホールド回路にサンプリング動作を行な
わせるタイミングパルスを与えるタイミングパルス発生
回路を有することを特徴とする特許請求の範囲第2項に
記載の放射線発生装置。 4 放射線発生の初期において第1又は第2のサンプリ
ング・ホールド回路が新たに正規化出段の出力をサンプ
リングしないように動作する手段を制御装置に備えたこ
とを特徴とする特許請求の範囲第2項又は第3項に記載
の放射線発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13808878A JPS6029199B2 (ja) | 1978-11-07 | 1978-11-07 | 放射線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13808878A JPS6029199B2 (ja) | 1978-11-07 | 1978-11-07 | 放射線発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5564400A JPS5564400A (en) | 1980-05-15 |
| JPS6029199B2 true JPS6029199B2 (ja) | 1985-07-09 |
Family
ID=15213667
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13808878A Expired JPS6029199B2 (ja) | 1978-11-07 | 1978-11-07 | 放射線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6029199B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61175189U (ja) * | 1985-04-18 | 1986-10-31 | ||
| JPS6241005U (ja) * | 1985-08-29 | 1987-03-11 | ||
| JPH03161597A (ja) * | 1989-11-20 | 1991-07-11 | Chuetsu Pulp Kogyo Kk | 消臭体 |
-
1978
- 1978-11-07 JP JP13808878A patent/JPS6029199B2/ja not_active Expired
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61175189U (ja) * | 1985-04-18 | 1986-10-31 | ||
| JPS6241005U (ja) * | 1985-08-29 | 1987-03-11 | ||
| JPH03161597A (ja) * | 1989-11-20 | 1991-07-11 | Chuetsu Pulp Kogyo Kk | 消臭体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5564400A (en) | 1980-05-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6178226B1 (en) | Method for controlling the electron current in an x-ray tube, and x-ray system operating according to the method | |
| US9117622B2 (en) | Miniaturized high-speed modulated X-ray source | |
| US5504796A (en) | Method and apparatus for producing x-rays | |
| EP3809444A2 (en) | Pulsed cpb electron source with fast blanker for ultrafast tem applications | |
| US6366641B1 (en) | Reducing dark current in a standing wave linear accelerator | |
| JPS6029199B2 (ja) | 放射線発生装置 | |
| US4761199A (en) | Shutter device for ion beam etching apparatus and such etching apparatus using same | |
| ATE257276T1 (de) | Röntgenröhre mit variabler abbildungs-fleckgrösse | |
| Brukhnevitch et al. | Picosecond X-ray plasma radiation measurements | |
| US4845365A (en) | Process and apparatus for producing electrons using a field coupling and the photoelectric effect | |
| JPH03190044A (ja) | 電子線加速器 | |
| CN115046631B (zh) | 一种选通型大动态探测范围光电探测器及其控制方法 | |
| JPH0822786A (ja) | 電子線形加速器およびそのエネルギ安定化方法 | |
| GB1351689A (en) | Apparatus for and method of controlling relativistic charged particle beam distribution and transport | |
| JPS61140040A (ja) | X線ストリ−ク管の時間較正方法 | |
| TWI856579B (zh) | X射線產生裝置、標靶之調整方法,以及x射線產生裝置之使用方法 | |
| Chang | 3-ns flash X-radiography | |
| US5164582A (en) | Method for operating an image intensifier tube by generating high frequency alternating electric field between cathode and channel plate thereof | |
| Schelev | Image-converter diagnostics of laser and laser plasma in pico-femtosecond region | |
| US5097178A (en) | RF electron gun with cathode activating device | |
| JP2778227B2 (ja) | イオン源 | |
| JPS6048880B2 (ja) | 放射線発生装置 | |
| EP3561850A1 (en) | Electron emitting apparatus and method for emitting electrons | |
| JPH10332897A (ja) | イオン・プラズマ型電子銃とその制御方法 | |
| Dashevsky et al. | An X-ray streak tube with demountable photocathodes |