JPS602959B2 - レ−ザ加工装置 - Google Patents
レ−ザ加工装置Info
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- JPS602959B2 JPS602959B2 JP56025022A JP2502281A JPS602959B2 JP S602959 B2 JPS602959 B2 JP S602959B2 JP 56025022 A JP56025022 A JP 56025022A JP 2502281 A JP2502281 A JP 2502281A JP S602959 B2 JPS602959 B2 JP S602959B2
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- assist gas
- nozzle assembly
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- laser processing
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- 239000007789 gas Substances 0.000 description 64
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
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Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、ワーク(被加工材)の加工部にレーザビー
ムを照射して加工する際、その加工部にアシストガスを
噴出させる加工ヘッドのノズルの改良に係わり、更に詳
しくは、ワークの加工時に発生する溶融物、蒸発物を除
去し、更に加工部周辺の冷却効果も兼ねて混合アシスト
ガスを噴出させるための噴射ノズルを備えたレーザ加工
装置に関するものである。
ムを照射して加工する際、その加工部にアシストガスを
噴出させる加工ヘッドのノズルの改良に係わり、更に詳
しくは、ワークの加工時に発生する溶融物、蒸発物を除
去し、更に加工部周辺の冷却効果も兼ねて混合アシスト
ガスを噴出させるための噴射ノズルを備えたレーザ加工
装置に関するものである。
一般に、レーザ加工時に使用されるアシストガスは、酸
化反応を促進しうる酸素(02)である。
化反応を促進しうる酸素(02)である。
しかし、アシストガスとしての酸素は、高価であるため
、そのままでは使用されず、空気と混合して使用される
。そして、この空気と酸素との混合比は、夫々ワークの
種類により選定され、その混合比のガスボンベを予め用
意して、ワークの種類が変るごとに交換しているのが現
状であった。
、そのままでは使用されず、空気と混合して使用される
。そして、この空気と酸素との混合比は、夫々ワークの
種類により選定され、その混合比のガスボンベを予め用
意して、ワークの種類が変るごとに交換しているのが現
状であった。
ところで、従来酸素の必要量は、ワークの材質、加工速
度およびークの厚さ等の加工条件により調整できること
が、混合ガスの種類および混合比は、あらかじめ業者に
指定したガスボンベを使用するため、このガスボンベに
封入された混合ガスの混合比を必要に応じて自由に調整
することは、業者以外には不可能で、しかもコスト高で
あるという問題があった。
度およびークの厚さ等の加工条件により調整できること
が、混合ガスの種類および混合比は、あらかじめ業者に
指定したガスボンベを使用するため、このガスボンベに
封入された混合ガスの混合比を必要に応じて自由に調整
することは、業者以外には不可能で、しかもコスト高で
あるという問題があった。
この発明は、かかる従来の問題点に鑑み、これを有効に
解決したもので、その目的とするところはアシストガス
の混合が調整自在で、しかも精度良く加工を行なうこと
ができるレーザ加工装置を提供するものである。
解決したもので、その目的とするところはアシストガス
の混合が調整自在で、しかも精度良く加工を行なうこと
ができるレーザ加工装置を提供するものである。
タ このような目的は、この発明によれば、アシストガ
スを主アシストガスと副アシストガスとに2分して、主
ァシストガスをワークの加工部へ噴射する際、主ァシス
トガスの噴射通路に設けた吸引通路から副ァシストガス
を吸引して所望の混合比に調整自在とすることにより達
成される。
スを主アシストガスと副アシストガスとに2分して、主
ァシストガスをワークの加工部へ噴射する際、主ァシス
トガスの噴射通路に設けた吸引通路から副ァシストガス
を吸引して所望の混合比に調整自在とすることにより達
成される。
以下、添付図面に基いてこの発明の好適な実施例を説明
する。
する。
第1図、第2図はこの発明を実施したNC制御されるレ
ーザ加工装置の正面図と平面図とを示し、このレーザ加
工装置1は、主としてレーザ加工機3と、炭酸ガスレー
ザを使用したレーザ発振器5と、このレーザ発振器5の
電源装置7と、レーザ発振器5における発振用混合ガス
を冷却するための図示しない冷却システムとから構成さ
れ、このレーザ加工機3に敦暦されたワークWは、NC
制御により位置決めされる。
ーザ加工装置の正面図と平面図とを示し、このレーザ加
工装置1は、主としてレーザ加工機3と、炭酸ガスレー
ザを使用したレーザ発振器5と、このレーザ発振器5の
電源装置7と、レーザ発振器5における発振用混合ガス
を冷却するための図示しない冷却システムとから構成さ
れ、このレーザ加工機3に敦暦されたワークWは、NC
制御により位置決めされる。
前記レーザ加工機3には、レーザ発振器5から発振され
たレーザ発線4(レーザビーム)9を、テーブルで言う
ところの固定テーブル11上に戦層されたワークWに照
射させる複数のミラー13a,13b,13cが調整自
在に取付けられている。
たレーザ発線4(レーザビーム)9を、テーブルで言う
ところの固定テーブル11上に戦層されたワークWに照
射させる複数のミラー13a,13b,13cが調整自
在に取付けられている。
また、上託しーザビーム9は、加工ヘッド15内に設け
られた集光レン15a及びノズル15bを通って、ワー
クWの表面、もしくは表面より僅かに下部の加工部にZ
に集光照射される。
られた集光レン15a及びノズル15bを通って、ワー
クWの表面、もしくは表面より僅かに下部の加工部にZ
に集光照射される。
これによりワークWは、レーザビーム9の光ェネルギを
吸収し、ワークWの加工部Zが溶融、蒸発して溝加工、
切断加工、溶接加工等が行なわれる。
吸収し、ワークWの加工部Zが溶融、蒸発して溝加工、
切断加工、溶接加工等が行なわれる。
前記固定テ−ブルー1の長手方向の一側部には、板状の
ワークWを把持する位置決め装置17が設けられており
、この位置決め装置17には、図示しないワークWのY
方向の基準ストツパが具備されるとともに、X軸ガイド
レール19に沿って第2図において前後方向に移動する
×鞠キャリツジ21が取付けられている。
ワークWを把持する位置決め装置17が設けられており
、この位置決め装置17には、図示しないワークWのY
方向の基準ストツパが具備されるとともに、X軸ガイド
レール19に沿って第2図において前後方向に移動する
×鞠キャリツジ21が取付けられている。
X軸ガイドレール19は、固定テーブル11の長手方向
(第2図において左右方向)に敷設された図示しないY
軸ガイドレールに沿って移動するY軸キャリッジ23上
に敷設されている。
(第2図において左右方向)に敷設された図示しないY
軸ガイドレールに沿って移動するY軸キャリッジ23上
に敷設されている。
なお、×軸ガイドレール19と、図示しないY軸ガイド
レールとは直交して敷設されるとともに、上記×軸ガイ
ドレール19にガイドされるX軸キャリッジ21は、サ
ーボモータ25により駆動され、またガイドレールにガ
イドされるY軸キヤリツジ23は、図示しないサーボモ
ータにより駆動されるものである。
レールとは直交して敷設されるとともに、上記×軸ガイ
ドレール19にガイドされるX軸キャリッジ21は、サ
ーボモータ25により駆動され、またガイドレールにガ
イドされるY軸キヤリツジ23は、図示しないサーボモ
ータにより駆動されるものである。
また27は、Y軸キャリッジ23と一体的に設けられた
移動テーブルであってこの移動テーフル27上には、ワ
ークWを支承する複数のフリーストロークベアリング2
9が回転自在に埋設されている。
移動テーブルであってこの移動テーフル27上には、ワ
ークWを支承する複数のフリーストロークベアリング2
9が回転自在に埋設されている。
また前記移動テーブル27の−側部には、X軸方向の基
準ストッパ31が設けてあって、この基準ストッパ31
は、ワークWの通過する面(バスラィン)に対して出没
自在に設けられている。
準ストッパ31が設けてあって、この基準ストッパ31
は、ワークWの通過する面(バスラィン)に対して出没
自在に設けられている。
前記固定テーブル11の下方には、レーザ加工によって
発生するスラツグ、ガス等を吸引する集塵装置33が設
置してあり、この集塵装置33は、図示しないバキュー
ムポンプ等に接続されている。前記加工ヘッド15の先
端に取付けられたノズル15bは、前述のようにレーザ
ピーム9の照射ノズルとアシストガスの噴射ノズルとを
共用する、所謂混合ノズル35を構成するものである。
上記混合ノズル35は、第3図に示すように円筒状の基
準ノズルアッシ−37と、可動ノズルアッシー39とか
ら構成され、基準ノズルアッシー37は、上端と中央側
壁とにじ部41a,410が形成され、また下部にテー
パ状のノズル部43が形成されている。基準ノズルアッ
シー37は、その上端のねじ部41aを介して加工ヘッ
ド15の下端部に気密的に螺合され、また外部からはロ
ックねじ45により固定保持されている。
発生するスラツグ、ガス等を吸引する集塵装置33が設
置してあり、この集塵装置33は、図示しないバキュー
ムポンプ等に接続されている。前記加工ヘッド15の先
端に取付けられたノズル15bは、前述のようにレーザ
ピーム9の照射ノズルとアシストガスの噴射ノズルとを
共用する、所謂混合ノズル35を構成するものである。
上記混合ノズル35は、第3図に示すように円筒状の基
準ノズルアッシ−37と、可動ノズルアッシー39とか
ら構成され、基準ノズルアッシー37は、上端と中央側
壁とにじ部41a,410が形成され、また下部にテー
パ状のノズル部43が形成されている。基準ノズルアッ
シー37は、その上端のねじ部41aを介して加工ヘッ
ド15の下端部に気密的に螺合され、また外部からはロ
ックねじ45により固定保持されている。
また前記可動ノズルアッシー39は、基純ノズルアッシ
ー37の外周部に、前記ねじ部41bを介して螺隊され
、この基準/ズルアツシ−39には、その中央部に混合
噴射ノズル部47が形成されるとともに、側壁には副ア
シストガスの導入口49が形成されている。
ー37の外周部に、前記ねじ部41bを介して螺隊され
、この基準/ズルアツシ−39には、その中央部に混合
噴射ノズル部47が形成されるとともに、側壁には副ア
シストガスの導入口49が形成されている。
前記基準ノズルアッシー37に可動ノズルァッシー39
を螺鼓した際、基準ノズルアッシー37の先端部と可動
ノズルアッシー39の内壁面との間には、レーザビーム
9及び主アシストガスG,が噴出する噴出通路51と、
この噴出通路51から分岐し、前記副アシストガスG2
の導入口49と達通接続するアシストガスG2の吸引通
路53とが形成される。
を螺鼓した際、基準ノズルアッシー37の先端部と可動
ノズルアッシー39の内壁面との間には、レーザビーム
9及び主アシストガスG,が噴出する噴出通路51と、
この噴出通路51から分岐し、前記副アシストガスG2
の導入口49と達通接続するアシストガスG2の吸引通
路53とが形成される。
なお、この実施例では主アシストガスG,として圧縮空
気が使用され、また副アシストガスG2としては酸素が
使用される。
気が使用され、また副アシストガスG2としては酸素が
使用される。
また基準ノズルアッシー37と可動ノズルアッシー39
との間には、0リングの如きシール部材55が介装され
、アシストガスの気密を保持するようにしている。
との間には、0リングの如きシール部材55が介装され
、アシストガスの気密を保持するようにしている。
また前記副アシストガスG2の吸引通路53 Zは、基
準ノズルアッシー37のねじ部41bに対して可動ノズ
ルアッシ−39を回転させることにより、通路面積を適
宜調整することができる。
準ノズルアッシー37のねじ部41bに対して可動ノズ
ルアッシ−39を回転させることにより、通路面積を適
宜調整することができる。
前記圧縮空気等の主アシストガスC.は、第3図に示す
ように大気を圧縮機57を介して圧縮さZれ、この圧縮
空気をフィルター59を通すことによって集光レンズ1
5aをいためるような粉塵を除去し、また流量計61を
通すことによって常時流量を計測するとともに、その他
の必要な装置(図示せず)を介してノズル部43から噴
出される。また、酸素等の副アシストガスG2は、酸素
ボンベ等の圧力供給源63からフィルター65を通して
圧力調整弁67に送られ、ここで主アシストガスG,よ
り低い圧力に設定される。
ように大気を圧縮機57を介して圧縮さZれ、この圧縮
空気をフィルター59を通すことによって集光レンズ1
5aをいためるような粉塵を除去し、また流量計61を
通すことによって常時流量を計測するとともに、その他
の必要な装置(図示せず)を介してノズル部43から噴
出される。また、酸素等の副アシストガスG2は、酸素
ボンベ等の圧力供給源63からフィルター65を通して
圧力調整弁67に送られ、ここで主アシストガスG,よ
り低い圧力に設定される。
そして絞り弁等の流量調整装置69によって酸素流量の
調整を可能とするとともに、流量計71によって常時副
ァシストガスG2の流量を計測し、また流路73に設け
たチェック弁75によって圧縮空気の進入を防止する。
副アシストガスの導入口49から吸引通路53に噴出し
た副アシストガスG2は、噴出通路51を通ってノズル
部43及び混合噴射ノズル部47から噴射する主アシス
トガスG,の噴出圧力によって吸引され、主アシストガ
スG,と混合してワークWの加工文へ噴出される。
調整を可能とするとともに、流量計71によって常時副
ァシストガスG2の流量を計測し、また流路73に設け
たチェック弁75によって圧縮空気の進入を防止する。
副アシストガスの導入口49から吸引通路53に噴出し
た副アシストガスG2は、噴出通路51を通ってノズル
部43及び混合噴射ノズル部47から噴射する主アシス
トガスG,の噴出圧力によって吸引され、主アシストガ
スG,と混合してワークWの加工文へ噴出される。
なお、主アシストガスG,に対する副アシストガスG2
の割合を増減できるよつに流路53中に図示しない切換
弁を設けて、主ァシストガスG,と副アシストガスG2
を入れからる状態にすることも可能であり、更に主アシ
ストガスG,の流量と、副アシストガスG2の流量、及
び加工条件等を図示しないNC装置に入力することによ
って、NC装置自体で両アシストガスG,,G2の混合
比の管理を行なわせることも可能である。
の割合を増減できるよつに流路53中に図示しない切換
弁を設けて、主ァシストガスG,と副アシストガスG2
を入れからる状態にすることも可能であり、更に主アシ
ストガスG,の流量と、副アシストガスG2の流量、及
び加工条件等を図示しないNC装置に入力することによ
って、NC装置自体で両アシストガスG,,G2の混合
比の管理を行なわせることも可能である。
このような装置によって、副アシストガスG2の混合割
合を20%〜100%まで自由に設定することができる
。
合を20%〜100%まで自由に設定することができる
。
以上のようにこの実施例によれば、レーザ加工時におけ
る主アシストガスG,の噴射時に、副アシストガスG2
を適量吸引してアシストガスとし、これをワークWの加
工部に噴射させるものであるから、ワークWの加工材に
適応した混合アシストガスを噴射させることができるの
である。
る主アシストガスG,の噴射時に、副アシストガスG2
を適量吸引してアシストガスとし、これをワークWの加
工部に噴射させるものであるから、ワークWの加工材に
適応した混合アシストガスを噴射させることができるの
である。
以上のようにこの発明は、特許請求の範囲に記載したよ
うに、レーザビーム及び主アシストガスの噴出通路に、
この噴出通路から分岐して副ァシストガスの吸気通路を
蓮通接続し、主アシストガスの噴出時に副アシストガス
を吸引混合させて混合ノズル35から噴射させるもので
あるから、従来のように高価なアシストガスのみを使用
しなくても容易に、かつ安価にレーザ加工を行なうこと
ができる効果がある。また副アシストガスの吸引通路は
、その閉口面積が調整自在であるため、ワークの加工条
件や材質等に対応してアシストガスの混合比が調整自在
であるとともに流量も調整することができ、従って精度
の良い加工を行うことができるとともに、高速加工を行
なうことができる。
うに、レーザビーム及び主アシストガスの噴出通路に、
この噴出通路から分岐して副ァシストガスの吸気通路を
蓮通接続し、主アシストガスの噴出時に副アシストガス
を吸引混合させて混合ノズル35から噴射させるもので
あるから、従来のように高価なアシストガスのみを使用
しなくても容易に、かつ安価にレーザ加工を行なうこと
ができる効果がある。また副アシストガスの吸引通路は
、その閉口面積が調整自在であるため、ワークの加工条
件や材質等に対応してアシストガスの混合比が調整自在
であるとともに流量も調整することができ、従って精度
の良い加工を行うことができるとともに、高速加工を行
なうことができる。
なお、上記の実施例によれば主アシストガスに空気を、
副アシストガスに酸素を使用しているが、これには限定
されず、例えば酸素と窒素のように2つの浪合ガスであ
れば、どのような気体でも可能である。
副アシストガスに酸素を使用しているが、これには限定
されず、例えば酸素と窒素のように2つの浪合ガスであ
れば、どのような気体でも可能である。
なお、この発明は上記の実施例に限定されず、他の実施
態様により行なうことも可能であり、また特許請求の範
囲に付した番号は技術的範囲を限定するものではない。
態様により行なうことも可能であり、また特許請求の範
囲に付した番号は技術的範囲を限定するものではない。
図面の簡単な説明第1図はこの発明を実施したレーザ加
工装置の正面図、第2図は第1図の平面第3図はこの発
明の要部拡大断面図である。
工装置の正面図、第2図は第1図の平面第3図はこの発
明の要部拡大断面図である。
図面中に表わされた主要な符号の説明、W・・・ワーク
、15…加工ヘッド、15b…ノズル、9…レーザビー
ム、1・・・レーザ加工装置、15b・・・ノズル、3
7・・・基準ノズルアッシー、39・・・可動ノズルア
ツシー、G,…主アシストガス、51・・・噴出通路、
Gな・・副アシストガス。
、15…加工ヘッド、15b…ノズル、9…レーザビー
ム、1・・・レーザ加工装置、15b・・・ノズル、3
7・・・基準ノズルアッシー、39・・・可動ノズルア
ツシー、G,…主アシストガス、51・・・噴出通路、
Gな・・副アシストガス。
繁り図
第2図
図
M
舷
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 テーブル上に載置されたワークWの加工部Zに、加
工ヘツド15に着脱自在に取付けられたノズル15bか
らレーザビーム9を照射しつつ、アシストガスを噴射さ
せてレーザ加工を行なうレーザ加工装置1において、前
記ノズル15bを基準ノズルアツシー37と、可動ノズ
ルアツシー39とから構成し、この基準ノズルアツシー
37と可動ノズルアツシー39の内部に、前記レーザビ
ーム9及び主アシストガスG_1の噴出通路51と、こ
の噴出通路51の途中に副アシストガスG_2を吸引噴
出されるための吸引通路53とを連通接続して設けたこ
とを特徴とするレーザ加工装置。 2 前記可動ノズルアツシー39を基準ノズルアツシー
37に対して移動させることにより、副アシストガスG
_2の吸引通路53の開口面積を調整自在にしたことを
特徴とする特許請求の範囲第1項に記載のレーザ加工装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56025022A JPS602959B2 (ja) | 1981-02-24 | 1981-02-24 | レ−ザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56025022A JPS602959B2 (ja) | 1981-02-24 | 1981-02-24 | レ−ザ加工装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57139490A JPS57139490A (en) | 1982-08-28 |
| JPS602959B2 true JPS602959B2 (ja) | 1985-01-24 |
Family
ID=12154278
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56025022A Expired JPS602959B2 (ja) | 1981-02-24 | 1981-02-24 | レ−ザ加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS602959B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6297789A (ja) * | 1985-10-24 | 1987-05-07 | Toshiba Corp | レ−ザ加工用混合気体供給装置 |
| JPS63138990U (ja) * | 1987-03-06 | 1988-09-13 |
-
1981
- 1981-02-24 JP JP56025022A patent/JPS602959B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57139490A (en) | 1982-08-28 |
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