JPS6029868B2 - 太陽熱選択吸収膜の連続的形成処理方法 - Google Patents
太陽熱選択吸収膜の連続的形成処理方法Info
- Publication number
- JPS6029868B2 JPS6029868B2 JP57176844A JP17684482A JPS6029868B2 JP S6029868 B2 JPS6029868 B2 JP S6029868B2 JP 57176844 A JP57176844 A JP 57176844A JP 17684482 A JP17684482 A JP 17684482A JP S6029868 B2 JPS6029868 B2 JP S6029868B2
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- Japan
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- selective absorption
- solar heat
- plate
- aluminum plate
- absorption film
- Prior art date
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
- C25D11/18—After-treatment, e.g. pore-sealing
- C25D11/20—Electrolytic after-treatment
- C25D11/22—Electrolytic after-treatment for colouring layers
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Electrochemical Coating By Surface Reaction (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、太陽熱選択吸収膜の連続的形成処理方法、
特に、アルミニウムまたはその合金を基板として、その
表面に二次電解着色法により太陽熱選択吸収膜を連続的
に形成する電解処理方法に関する。
特に、アルミニウムまたはその合金を基板として、その
表面に二次電解着色法により太陽熱選択吸収膜を連続的
に形成する電解処理方法に関する。
アルミニウム材を基板とする太陽熱集熱板は、浅田法と
も称される二次電解着色法によって基板の表面に太陽熱
選択吸収膜を形成せしめたものが一般的であり、最も多
く用いられている。
も称される二次電解着色法によって基板の表面に太陽熱
選択吸収膜を形成せしめたものが一般的であり、最も多
く用いられている。
即ち先ずアルミニウム板を陽極酸化処理してその表面に
多孔性の酸化皮膜を形成し、次いでこれを金属塩を含む
水溶液中で電解処理して前記皮膜の微細孔に金属を析出
充填せしめ、もって表面に黒色化された太陽熱選択吸収
膜を形成したものが多く用いられている。ところで、太
陽熱集熱板の性能は、主としてその選択吸収膜の有する
吸収率ばと放射率ルこ依存するものであり、このため従
来からこの選択吸収膜の改善については種々の研究がな
されている。
多孔性の酸化皮膜を形成し、次いでこれを金属塩を含む
水溶液中で電解処理して前記皮膜の微細孔に金属を析出
充填せしめ、もって表面に黒色化された太陽熱選択吸収
膜を形成したものが多く用いられている。ところで、太
陽熱集熱板の性能は、主としてその選択吸収膜の有する
吸収率ばと放射率ルこ依存するものであり、このため従
来からこの選択吸収膜の改善については種々の研究がな
されている。
ところが、集熱板の裏面側の性質に基づく影響について
は従来からほとんど無関Ｄであり、何ら格別の配慮が払
われることがなかった。集熱板の裏面は、元来太陽光の
吸収には全く寄与しない面であるが、放射による熱損失
を生じる点は表面側と同様に全体としての選択吸収性能
に影響をもつものであり、従って裏面側の放射率ごはで
きるだけ小さく抑制される方が好ましい。
は従来からほとんど無関Ｄであり、何ら格別の配慮が払
われることがなかった。集熱板の裏面は、元来太陽光の
吸収には全く寄与しない面であるが、放射による熱損失
を生じる点は表面側と同様に全体としての選択吸収性能
に影響をもつものであり、従って裏面側の放射率ごはで
きるだけ小さく抑制される方が好ましい。
ところが実際上、金属基板の表面に前記の如き電解着色
法によって選択吸収膜を形成する場合、その裏面側にも
不可避的に生成皮膜の一部がまわり込んで黒化膜の形成
が行なわれることが殆んどであり、結果としてこの黒化
膜の存在が集熱板の裏面から放射率を増大せしめ、コレ
クターの集熱効率を低下させる一要因になっていること
が判明した。この発明はこのような知見のもとに、選択
吸収板の裏面側の放射率をできるだけ小さくおさえるこ
とにより、集熱効率を一層向上した太陽熱選択吸収板を
提供するべく、陽極酸化および電解着色の一連の処理工
程において基板の裏面側に皮膜の生成を行なわせないも
のとする太陽熱選択吸収膜の連続的形成処理方法を提供
しようとするものである。
法によって選択吸収膜を形成する場合、その裏面側にも
不可避的に生成皮膜の一部がまわり込んで黒化膜の形成
が行なわれることが殆んどであり、結果としてこの黒化
膜の存在が集熱板の裏面から放射率を増大せしめ、コレ
クターの集熱効率を低下させる一要因になっていること
が判明した。この発明はこのような知見のもとに、選択
吸収板の裏面側の放射率をできるだけ小さくおさえるこ
とにより、集熱効率を一層向上した太陽熱選択吸収板を
提供するべく、陽極酸化および電解着色の一連の処理工
程において基板の裏面側に皮膜の生成を行なわせないも
のとする太陽熱選択吸収膜の連続的形成処理方法を提供
しようとするものである。
この発明に係る太陽熱選択吸収膜の連続的形成処理方法
は、コイル状のアルミニウム板を陽極酸化処理したのち
続いて金属塩を含む水溶液中で電解処理してアルミニウ
ム板面に連続的に太陽熱選択吸収膜を形成するに際し、
上記各処理工程の電解処理槽内に非電導性のマスキング
板を配設し、前記コイル状アルミニウム板を該マスキン
グ板面に摺俵状態に導きつつ所定の電解処理を施すこと
を特徴とするものである。
は、コイル状のアルミニウム板を陽極酸化処理したのち
続いて金属塩を含む水溶液中で電解処理してアルミニウ
ム板面に連続的に太陽熱選択吸収膜を形成するに際し、
上記各処理工程の電解処理槽内に非電導性のマスキング
板を配設し、前記コイル状アルミニウム板を該マスキン
グ板面に摺俵状態に導きつつ所定の電解処理を施すこと
を特徴とするものである。
図示実施例において、１はコイル状のアルミニウム板、
２は電解処理層、３はそる内部に水平状に設置された非
電導性マヌキング板、４は対極であり、アルミニウム板
１を上記マスキング板３面上に摺鞍状態に導きつつ、そ
の過程で所定の電解処理を施すものである。
２は電解処理層、３はそる内部に水平状に設置された非
電導性マヌキング板、４は対極であり、アルミニウム板
１を上記マスキング板３面上に摺鞍状態に導きつつ、そ
の過程で所定の電解処理を施すものである。
この電解処理工程中において、アルミニウム板１から発
生するガスがマスキング板３との間に溜ってアルミニウ
ム板１が持ち上げられ、マスキング板から浮上遊離する
と、発明の所期する効果を充分に実現し難い。このため
、アルミニウム板１のマスキング板３に対する情薮状態
を常良好に保つべく、該アルミニウム板１上に非電導性
の棒状抑圧部材５を所定間隔置きにかつ回転自在に数本
軟遣し、その重量によってアルミニウム板１の上記浮き
上りを防止するものとなすことが好ましい。マスキング
板３及び棒状抑圧部材５に非電導性材料が要求されるの
は、これらが導電性であるとそれに電気が流れてアルミ
ニウム材１に良好な皮膜の形成が行われず、また腐食の
発生するおそれがあるためである。
生するガスがマスキング板３との間に溜ってアルミニウ
ム板１が持ち上げられ、マスキング板から浮上遊離する
と、発明の所期する効果を充分に実現し難い。このため
、アルミニウム板１のマスキング板３に対する情薮状態
を常良好に保つべく、該アルミニウム板１上に非電導性
の棒状抑圧部材５を所定間隔置きにかつ回転自在に数本
軟遣し、その重量によってアルミニウム板１の上記浮き
上りを防止するものとなすことが好ましい。マスキング
板３及び棒状抑圧部材５に非電導性材料が要求されるの
は、これらが導電性であるとそれに電気が流れてアルミ
ニウム材１に良好な皮膜の形成が行われず、また腐食の
発生するおそれがあるためである。
また、マスキング板３および棒状抑圧部材５は、電解液
の種類に対応して、耐酸性または耐アルカリ性のものが
要求されることはもちろんである。而して、マスキング
板３としては例えばＦＲＰ板を、また棒状抑圧部村５と
して例えば塩化ビニルパィプ等を好適に使用しうる。ア
ルミニウム板１をマヌキング板３に摺接させつつ行うこ
との発明による処理は、アルミニウム板の二次電解着色
処理において、その陽極酸化処理工程およびそれに続い
て行われる着色電解処理工程のいずれにも適用されるも
のである。
の種類に対応して、耐酸性または耐アルカリ性のものが
要求されることはもちろんである。而して、マスキング
板３としては例えばＦＲＰ板を、また棒状抑圧部村５と
して例えば塩化ビニルパィプ等を好適に使用しうる。ア
ルミニウム板１をマヌキング板３に摺接させつつ行うこ
との発明による処理は、アルミニウム板の二次電解着色
処理において、その陽極酸化処理工程およびそれに続い
て行われる着色電解処理工程のいずれにも適用されるも
のである。
この発明によれば上述のように、コイル状のアルミニウ
ム板に二次電解着色法によって連続的に太陽熱選択吸収
膜を形成せしめるに際し、該アルミニウム板を電解処理
槽内に設置した非導電性マスキング板に這わせ裏面を該
マスキング板に摺接させながら所定の電解処理を施すの
で、アルミニウム材の裏面側における皮膜生成が防止さ
れ、表面側のみに所期する選択吸収膜を備えた太陽熱集
熱板を得ることができる。
ム板に二次電解着色法によって連続的に太陽熱選択吸収
膜を形成せしめるに際し、該アルミニウム板を電解処理
槽内に設置した非導電性マスキング板に這わせ裏面を該
マスキング板に摺接させながら所定の電解処理を施すの
で、アルミニウム材の裏面側における皮膜生成が防止さ
れ、表面側のみに所期する選択吸収膜を備えた太陽熱集
熱板を得ることができる。
従って、該集熱板は、裏面側の放射率がアルミニウム板
自身のもつ放射率ごに依存してご＝０．０４陸度のもの
となり、従来の無配慮な選択吸収膜形成処理によって裏
面側にもその一部に皮膜形成が行われたものでは、その
放射率が良好なものでもど＝０．１２〜０．２の重度の
値を示すのに対し、裏面側からの放射による熱損失の少
ない集熱効率に一層優れた太陽熱集熱板を得ることがで
きる。かつ又アルミニウム材の表面側のみに限定して選
択吸収膜の形成を行うため、その表面処理コストの節減
をはかることができる。
自身のもつ放射率ごに依存してご＝０．０４陸度のもの
となり、従来の無配慮な選択吸収膜形成処理によって裏
面側にもその一部に皮膜形成が行われたものでは、その
放射率が良好なものでもど＝０．１２〜０．２の重度の
値を示すのに対し、裏面側からの放射による熱損失の少
ない集熱効率に一層優れた太陽熱集熱板を得ることがで
きる。かつ又アルミニウム材の表面側のみに限定して選
択吸収膜の形成を行うため、その表面処理コストの節減
をはかることができる。
図面はこの発明の実施態様を例示する電解処理槽の概略
縦断面図である。 １・・・・・・アルミニウム板、２・・・・・・電解処
理層、３・・・・・・マスキング板、４・・・・・・対
極、５・・・・・・棒状抑圧部材。
縦断面図である。 １・・・・・・アルミニウム板、２・・・・・・電解処
理層、３・・・・・・マスキング板、４・・・・・・対
極、５・・・・・・棒状抑圧部材。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ コイル状のアルミニウム板を陽極酸化処理したのち
続いて金属塩を含む水溶液中で電解処理してアルミニウ
ム板面に連続的に太陽熱選択吸収膜を形成するに際し、
上記各処理工程の電解処理槽内に非電導性のマヌキング
板を配設し、前記コイル状アルミニウム板を該マスキン
グ板面に摺接状態に導きつつ所定の電解処理を施すこと
を特徴とする太陽熱選択吸収膜の連続的形成処理方法。 ２ 電解処理槽内においてコイル状アルミニウム板上に
非電導性の棒状抑圧部材を所定間隔置きに載置すること
により、アルミニウム板のマスキング板からの浮上遊離
を防止した状態のもとで電解処理を施すことを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の太陽熱選択吸収膜の連続
的形成処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57176844A JPS6029868B2 (ja) | 1982-10-06 | 1982-10-06 | 太陽熱選択吸収膜の連続的形成処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57176844A JPS6029868B2 (ja) | 1982-10-06 | 1982-10-06 | 太陽熱選択吸収膜の連続的形成処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5966660A JPS5966660A (ja) | 1984-04-16 |
| JPS6029868B2 true JPS6029868B2 (ja) | 1985-07-12 |
Family
ID=16020813
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57176844A Expired JPS6029868B2 (ja) | 1982-10-06 | 1982-10-06 | 太陽熱選択吸収膜の連続的形成処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6029868B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03108768U (ja) * | 1990-02-22 | 1991-11-08 |
-
1982
- 1982-10-06 JP JP57176844A patent/JPS6029868B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03108768U (ja) * | 1990-02-22 | 1991-11-08 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5966660A (ja) | 1984-04-16 |
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