JPS603041B2 - 歯科用高分子材 - Google Patents
歯科用高分子材Info
- Publication number
- JPS603041B2 JPS603041B2 JP49141253A JP14125374A JPS603041B2 JP S603041 B2 JPS603041 B2 JP S603041B2 JP 49141253 A JP49141253 A JP 49141253A JP 14125374 A JP14125374 A JP 14125374A JP S603041 B2 JPS603041 B2 JP S603041B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dental
- dextranase
- plaque
- dental polymer
- enzyme
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Dental Preparations (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は歯垢の分離並に生成付着を抑征する作用を有す
る歯科用高分子材に関する。
る歯科用高分子材に関する。
函歯（虫歯）は歯の小遼、裂簿等のように、食物の残律
が滞留しやすく、自浄作用および清掃のおこないにくい
個所に好発する。
が滞留しやすく、自浄作用および清掃のおこないにくい
個所に好発する。
この虫歯の予防対策として、歯の小橋や裂溝については
、メチルメタアクリレート、シアノアクリレート、グリ
レジルメタアクリレートの単独重合体および／または共
重合体、ウレタン樹脂、ェポキシ樹脂等の高分子材から
なる填塞剤をつめることが一般に行なわれている。しか
し上記填姿剤は製作時に重合収縮をおこし、また口腔内
の温度変化によって膨張収縮するため、填塞後に於いて
隙間を生じやすく、細菌や歯垢等の蟹蝕因子の侵入をゆ
るして二次藤蝕を生じやすい欠点がある。上記の高分子
材は歯科分野に於いて填塞剤以外にコーティング材、充
填剤、義歯床用材料、暫間充填剤、接着剤等に広く用い
られるが、汚れや歯垢の付着に対して無防備であったた
め上記欠点は一層大きくなる。上記以外の虫歯予防対策
としては、ガムや歯磨等に有効成分を配合して口腔内に
作用させたり、弗化ナトリウム等を歯に塗布することが
行なわれているが、ガム等の場合は有効成分は一過性で
せいぜい数十分しか効果を持続し得ず、歯磨に於いては
他成分による有効成分の失活等の問題があって配合に制
約があり、また弗化ナトリウムの場合は唾液によって流
出させられるなど、それぞれ欠点があり、結局、歯垢に
起因する虫歯の予防を満足し得なかった。
、メチルメタアクリレート、シアノアクリレート、グリ
レジルメタアクリレートの単独重合体および／または共
重合体、ウレタン樹脂、ェポキシ樹脂等の高分子材から
なる填塞剤をつめることが一般に行なわれている。しか
し上記填姿剤は製作時に重合収縮をおこし、また口腔内
の温度変化によって膨張収縮するため、填塞後に於いて
隙間を生じやすく、細菌や歯垢等の蟹蝕因子の侵入をゆ
るして二次藤蝕を生じやすい欠点がある。上記の高分子
材は歯科分野に於いて填塞剤以外にコーティング材、充
填剤、義歯床用材料、暫間充填剤、接着剤等に広く用い
られるが、汚れや歯垢の付着に対して無防備であったた
め上記欠点は一層大きくなる。上記以外の虫歯予防対策
としては、ガムや歯磨等に有効成分を配合して口腔内に
作用させたり、弗化ナトリウム等を歯に塗布することが
行なわれているが、ガム等の場合は有効成分は一過性で
せいぜい数十分しか効果を持続し得ず、歯磨に於いては
他成分による有効成分の失活等の問題があって配合に制
約があり、また弗化ナトリウムの場合は唾液によって流
出させられるなど、それぞれ欠点があり、結局、歯垢に
起因する虫歯の予防を満足し得なかった。
本発明の目的は、長期間銭蝕予防効果を発揮し得る歯科
用高分子材を提供することにある。
用高分子材を提供することにある。
本発明は、上記目的を達成するものであって、歯科用高
分子基材に歯垢分解酵素を含有せしめたことを特徴とす
る歯科用高分子材に関するものである。本発明に用いら
れる歯垢分解酵素とは、歯垢の分解並びに生成付着を抑
制する能力を有する酵素のことであり、例えば、デキス
トラナーゼ、ムタナーゼ、溶菌酵素等が挙げられる。
分子基材に歯垢分解酵素を含有せしめたことを特徴とす
る歯科用高分子材に関するものである。本発明に用いら
れる歯垢分解酵素とは、歯垢の分解並びに生成付着を抑
制する能力を有する酵素のことであり、例えば、デキス
トラナーゼ、ムタナーゼ、溶菌酵素等が挙げられる。
本発明に用いられる歯科用高分子基材としては、メチル
メタアクリレート、シアノアクリレート、グリシジルメ
タアクリレートの単独重合体および／または共重合体、
ウレタン樹脂、ェポキシ樹脂等が代表例として挙げられ
る。
メタアクリレート、シアノアクリレート、グリシジルメ
タアクリレートの単独重合体および／または共重合体、
ウレタン樹脂、ェポキシ樹脂等が代表例として挙げられ
る。
本発明における歯科用高分子材とは、渡塞剤、コーティ
ング剤、充填剤、暫間充填剤、歯科用接着剤、義歯床用
材料等の総称名である。
ング剤、充填剤、暫間充填剤、歯科用接着剤、義歯床用
材料等の総称名である。
本発明の歯科用高分子材の特徴は、歯科用高分子基材に
歯垢分解酵素を配合したことを特徴とするものであるが
、その配合割合は、歯科用高分子材に対し、歯垢分解酵
素を０．１重量％以上配合する。
歯垢分解酵素を配合したことを特徴とするものであるが
、その配合割合は、歯科用高分子材に対し、歯垢分解酵
素を０．１重量％以上配合する。
通常は０．１〜２の重量％，好ましくは１．０〜１の重
量％を配合する。配合量の上限は、本発明の欧蝕予防効
果を得るうえでは特に定められないが、２０重量％を超
えると基材となる高分子材の機械的強度等が低下して不
都合となり、また０．１重基％未満では上記麹蝕予防効
果が十分に得られない。なお、歯垢分解酵素としてデキ
ストラナーゼを用いる場合５０００〜１００万単位／夕
，ムタナーゼを用いる場合１．０００〜２０方単位／夕
，溶菌酵素の場合５００〜２０万単位／夕のものを用い
るのが合理的である。なお、上記の単位は、リン酸バッ
ファー、柵７．０，３ｙＣにおいてデキストラナーゼの
場合はデキストランを、またムタナーゼの場合は、ムタ
ンを分解して１分間当り１ムタの還元糠を生産する酵素
量を、また溶菌酵素の場合は、１分間当り菌の濁度を０
．００１減少させる酵素量を各々１単位としている。歯
垢分解酵素を歯科用高分子基材に配合するに当り、これ
と一緒に、プロテアーゼ、アミラーゼ、リゾチーム等の
酵素や、クロロヘキシジン等の殺菌剤、エチルパラベン
、ブチルパラベン等の防腐剤を配合することは効果的で
ある。
量％を配合する。配合量の上限は、本発明の欧蝕予防効
果を得るうえでは特に定められないが、２０重量％を超
えると基材となる高分子材の機械的強度等が低下して不
都合となり、また０．１重基％未満では上記麹蝕予防効
果が十分に得られない。なお、歯垢分解酵素としてデキ
ストラナーゼを用いる場合５０００〜１００万単位／夕
，ムタナーゼを用いる場合１．０００〜２０方単位／夕
，溶菌酵素の場合５００〜２０万単位／夕のものを用い
るのが合理的である。なお、上記の単位は、リン酸バッ
ファー、柵７．０，３ｙＣにおいてデキストラナーゼの
場合はデキストランを、またムタナーゼの場合は、ムタ
ンを分解して１分間当り１ムタの還元糠を生産する酵素
量を、また溶菌酵素の場合は、１分間当り菌の濁度を０
．００１減少させる酵素量を各々１単位としている。歯
垢分解酵素を歯科用高分子基材に配合するに当り、これ
と一緒に、プロテアーゼ、アミラーゼ、リゾチーム等の
酵素や、クロロヘキシジン等の殺菌剤、エチルパラベン
、ブチルパラベン等の防腐剤を配合することは効果的で
ある。
また、モノフルオロリン酸ソーダ、弗化第一錫或いはリ
ン酸ソーダのような歯質増強剤を配合することもできる
。次に、本発明による歯科用高分子材を用いて、ストレ
プトコツカスミユータンス（ＳＶｅｐｔｏｃ比ｃ瓜ｍ山
ａｎｓ）の生育及び歯垢形成に関する実験について説明
する。
ン酸ソーダのような歯質増強剤を配合することもできる
。次に、本発明による歯科用高分子材を用いて、ストレ
プトコツカスミユータンス（ＳＶｅｐｔｏｃ比ｃ瓜ｍ山
ａｎｓ）の生育及び歯垢形成に関する実験について説明
する。
５０叫ビーカーに、メチルメタクリレート（１２０の、
ジメチルパラトルイジン（０．０６の、ポリメチルメタ
クリレート粉末（４．８夕）を加え、よく燈拝した。
ジメチルパラトルイジン（０．０６の、ポリメチルメタ
クリレート粉末（４．８夕）を加え、よく燈拝した。
液が透明で粘鋼になったところでデキストラナーゼ（松
方単位／夕）を技終重量％で０．１・０．５・１．０・
５０・１０．０％になるように加え、技後にペンゾィル
バーオキシド（０．０６夕）を加えてよく燈辞した。こ
れを直径１４脇，高さＩＱ舷のポリエチレン製の型に入
れ、２独時間放直した後、厚さ０．８風に切断し、８０
巧電の研磨紙で仕上げて試料として用いた。なお、コン
トロールはデキストラナ−ゼを加えることなしに同様の
操作でディスクを作ったものを用いた。実験用菌株とし
ては、ストレブトコッカスミュータンス、ＯＭＺ−６１
株を用いた。
方単位／夕）を技終重量％で０．１・０．５・１．０・
５０・１０．０％になるように加え、技後にペンゾィル
バーオキシド（０．０６夕）を加えてよく燈辞した。こ
れを直径１４脇，高さＩＱ舷のポリエチレン製の型に入
れ、２独時間放直した後、厚さ０．８風に切断し、８０
巧電の研磨紙で仕上げて試料として用いた。なお、コン
トロールはデキストラナ−ゼを加えることなしに同様の
操作でディスクを作ったものを用いた。実験用菌株とし
ては、ストレブトコッカスミュータンス、ＯＭＺ−６１
株を用いた。
培地はシュークロース５％を加えたトリブチケースソイ
ブロースを用いた。〔実験方法〕 上記製法で作成した試料（ディスク）に２個の穴をあげ
、この一方にステンレス線を通して固定した。
ブロースを用いた。〔実験方法〕 上記製法で作成した試料（ディスク）に２個の穴をあげ
、この一方にステンレス線を通して固定した。
次に他一方の穴に歯科用ワイヤ一を通し、そのワイヤ一
をほぼ中央で二つ折りにした。これを滅菌水で洗糠後試
験管に挿入し、上方に出たワイヤ一を折り曲げて試験管
の口にひっかけ下に落ちないようにした。このように準
備された試験管に一定量のＯＭＺ−６１株を接種して、
窒素９５％，二酸化炭素５％中３７０で培養し、菌の生
育およびこの菌によって作られる歯垢様物質の付着を観
察した。〔実験結果〕上記の観察結果を次表に示す。
をほぼ中央で二つ折りにした。これを滅菌水で洗糠後試
験管に挿入し、上方に出たワイヤ一を折り曲げて試験管
の口にひっかけ下に落ちないようにした。このように準
備された試験管に一定量のＯＭＺ−６１株を接種して、
窒素９５％，二酸化炭素５％中３７０で培養し、菌の生
育およびこの菌によって作られる歯垢様物質の付着を観
察した。〔実験結果〕上記の観察結果を次表に示す。
なお、表中Ａ欄は菌の生育状態、Ｂ欄は試験管（ガラス
）に対する菌の付着度、Ｃ欄はディスクに対する菌の付
着度を示す。
）に対する菌の付着度、Ｃ欄はディスクに対する菌の付
着度を示す。
またこの表に於ける−・土等の記号は菌の付着度を示す
もので、一菌の付着なし、±；ほとんどなし、十：わず
かにあり、十十：あり、十十十；かなりあり、を表わす
。上表から理解されるように本発明の作用効果は非常に
顕著で、高分子材の充填、鶏塞後生じた隙間に侵入する
麹蝕因子（歯垢）に、樹脂より溶出又は樹脂に結合した
有効成分（酵素）が、溶解除去や付着阻止など、有効に
働き、隙間の発生に起因する二次麹蝕から歯を守ること
ができる。
もので、一菌の付着なし、±；ほとんどなし、十：わず
かにあり、十十：あり、十十十；かなりあり、を表わす
。上表から理解されるように本発明の作用効果は非常に
顕著で、高分子材の充填、鶏塞後生じた隙間に侵入する
麹蝕因子（歯垢）に、樹脂より溶出又は樹脂に結合した
有効成分（酵素）が、溶解除去や付着阻止など、有効に
働き、隙間の発生に起因する二次麹蝕から歯を守ること
ができる。
また、二次欧蝕が防止されるため、これにより生じる填
塞材等の剥離脱落を防止できると共に、藩出した有効成
分がその部分にとどまらず別の部分の麹蝕予防に働くこ
とも期待できる。更にまた、歯垢分解酵素を高分子基材
に含ませた場合、作用の持続性がたかめられる効果も得
られ、歯垢の付着性並に汚れを抑制できて不快感も解消
されるため、特に入れ歯の場合効果が期待できる。歯垢
分解酵素は樹脂に配合、結合せしめられることによりそ
の安定化の増加がみられ、また、歯磨などと違って、酵
素を長期間不安定な状態にしておことがなく、使用直前
まで酵素を安定な状態に保っておくことが可能なことも
長所といえる。以上説明したように、本発明によれば顔
蝕予防効果を有する優れた歯科用高分子材を提供するこ
とができる。
塞材等の剥離脱落を防止できると共に、藩出した有効成
分がその部分にとどまらず別の部分の麹蝕予防に働くこ
とも期待できる。更にまた、歯垢分解酵素を高分子基材
に含ませた場合、作用の持続性がたかめられる効果も得
られ、歯垢の付着性並に汚れを抑制できて不快感も解消
されるため、特に入れ歯の場合効果が期待できる。歯垢
分解酵素は樹脂に配合、結合せしめられることによりそ
の安定化の増加がみられ、また、歯磨などと違って、酵
素を長期間不安定な状態にしておことがなく、使用直前
まで酵素を安定な状態に保っておくことが可能なことも
長所といえる。以上説明したように、本発明によれば顔
蝕予防効果を有する優れた歯科用高分子材を提供するこ
とができる。
次に本発明の実施例を示す。
（実施例１）
シーラント
メチルメタクリレート ６２ポ
リメチルメタクリレート ３０デキ
ストラナーゼ（５０方単位／夕） ５クロルヘ
キシジン塩酸塩 １ジメチルパラト
ルイジン １ペンゾイル／ぐーオキ
シド １１００．０（重量％）ジメ
チルパラトルィジンを溶解させたメチルメタクリレート
溶液に、ポリメチルメタクリレ−ト、デキストラナーゼ
、クロルヘキシジン塩酸塩、ペンゾィルパーオキシドを
混合した粉末を加え、粉末が液に充分に浸った後気泡が
混入しないように静かに礎拝する。
リメチルメタクリレート ３０デキ
ストラナーゼ（５０方単位／夕） ５クロルヘ
キシジン塩酸塩 １ジメチルパラト
ルイジン １ペンゾイル／ぐーオキ
シド １１００．０（重量％）ジメ
チルパラトルィジンを溶解させたメチルメタクリレート
溶液に、ポリメチルメタクリレ−ト、デキストラナーゼ
、クロルヘキシジン塩酸塩、ペンゾィルパーオキシドを
混合した粉末を加え、粉末が液に充分に浸った後気泡が
混入しないように静かに礎拝する。
次いで塗布用の小刷毛を用いて、予めリン酸でエッチン
グ処理した歯面にペースト状の本組成物を塗布し、充分
に硬化するまで約５分間乾燥状態を保つ。（実施例２） シーラント エチルシアノアクリレート ８４．
５シ リ 力 １０デキ
ストラナーゼ（５０方単位／夕） ５ジメチル
アニリン ０．５１００
．０（重量％）エチルシアノアクリレートを液部、ジメ
チルア混合物を粉部とし、実施例１と同様に塗布する。
グ処理した歯面にペースト状の本組成物を塗布し、充分
に硬化するまで約５分間乾燥状態を保つ。（実施例２） シーラント エチルシアノアクリレート ８４．
５シ リ 力 １０デキ
ストラナーゼ（５０方単位／夕） ５ジメチル
アニリン ０．５１００
．０（重量％）エチルシアノアクリレートを液部、ジメ
チルア混合物を粉部とし、実施例１と同様に塗布する。
（実施例３）コンポジツトレジン
メチルメタクリレート ５ポリメチル
メタクリレート ２ガラスパウダー
２６デキストラナーゼ（５
０万単位／夕） ２ジメチル／ぐラトルイジン
０．ペンゾイルパーオキシド
１１００．０（重量％）ジメチルパ
ラトルィジンを溶解させたメチルメタクリレート溶液に
、ポリメチルメタクリレート、ガラスパウダー、デキス
トラナーゼ、ペンゾィルパーオキシドを混合した粉末を
加え、粉末が液で充分に漏れた後、鏡洞に充填し、充分
に硬化するまで約５分間乾燥状態を保つ。
メタクリレート ２ガラスパウダー
２６デキストラナーゼ（５
０万単位／夕） ２ジメチル／ぐラトルイジン
０．ペンゾイルパーオキシド
１１００．０（重量％）ジメチルパ
ラトルィジンを溶解させたメチルメタクリレート溶液に
、ポリメチルメタクリレート、ガラスパウダー、デキス
トラナーゼ、ペンゾィルパーオキシドを混合した粉末を
加え、粉末が液で充分に漏れた後、鏡洞に充填し、充分
に硬化するまで約５分間乾燥状態を保つ。
（実施例４）
シーラント
４，４′一ジフエニルメタンジイソシアナート ７６デ
スモ−へン−１２００（バイエル社製ポリウレタン用ポ
リオール） ２０デキストラ
ナーゼ（５０万単位／夕） ３オクタン酸錫
１１００．０（重量％）４
，４′ージフエニルメタンジイソシアナートにデキスト
ラナーゼ、オクタン酸錫を混合し、次いでデスモ−へン
−１２００を加えて静かに礎辞し、後は実施例１と同様
に塗布する。
スモ−へン−１２００（バイエル社製ポリウレタン用ポ
リオール） ２０デキストラ
ナーゼ（５０万単位／夕） ３オクタン酸錫
１１００．０（重量％）４
，４′ージフエニルメタンジイソシアナートにデキスト
ラナーゼ、オクタン酸錫を混合し、次いでデスモ−へン
−１２００を加えて静かに礎辞し、後は実施例１と同様
に塗布する。
（実施例５）
コンポジツトレジン
グリシジルメタクリレート ２０メ
チルメタクリレート １５ポリメチ
ルメタクリレート １０ガラスパウダー
５０デキストラナ
ーゼ（４０万単位ノタ） ３．５モノフルオロ
リン酸ソーダ ０．５ジメチル／ぐラ
トルイジン ０．５ペンゾイ
ル／ゞーオキシド ０．５１０
０．０（重量％）ジメチルパラトルイジン、グリシジル
メタクリレート、メチルメタクリレートからなる溶液を
液「部、ポリメチルメタクリレート、ガラスパウダー、
デキストラナーゼ、モノフルオロリン酸ソーダ、ペンゾ
ィルパーオキシドの混合物を粉部とし、実施例３と同様
に充填する。
チルメタクリレート １５ポリメチ
ルメタクリレート １０ガラスパウダー
５０デキストラナ
ーゼ（４０万単位ノタ） ３．５モノフルオロ
リン酸ソーダ ０．５ジメチル／ぐラ
トルイジン ０．５ペンゾイ
ル／ゞーオキシド ０．５１０
０．０（重量％）ジメチルパラトルイジン、グリシジル
メタクリレート、メチルメタクリレートからなる溶液を
液「部、ポリメチルメタクリレート、ガラスパウダー、
デキストラナーゼ、モノフルオロリン酸ソーダ、ペンゾ
ィルパーオキシドの混合物を粉部とし、実施例３と同様
に充填する。
（実施例６）
シ−ラント
メチルメタクリレート ６２
ポリメチルメタクリレート ３０デ
キストラナーゼ（４０方単位／夕） ４溶菌酵
素（１方単位／夕） ２ジメチルパラ
トルイジン １ペンゾイルパーオキ
シド １１００．０（重量％）ジメ
チルパラトルィジンを溶解したメチルメタクリレート溶
液を液部、ポリメチルメタクリレ−ト、デキストラナー
ゼ、溶菌酵素、ペンゾィルバーオキシドの混合物を粉部
とし、実施例１と同様に塗布する。
ポリメチルメタクリレート ３０デ
キストラナーゼ（４０方単位／夕） ４溶菌酵
素（１方単位／夕） ２ジメチルパラ
トルイジン １ペンゾイルパーオキ
シド １１００．０（重量％）ジメ
チルパラトルィジンを溶解したメチルメタクリレート溶
液を液部、ポリメチルメタクリレ−ト、デキストラナー
ゼ、溶菌酵素、ペンゾィルバーオキシドの混合物を粉部
とし、実施例１と同様に塗布する。
（実施例７）
暫間充填剤
ｉ酢酸ビニル ２０ヱ
タノール ５ｉ酢酸グリコー
ル ５硫酸亜鉛セメント
２０焼石管
４５・デキストラナーゼ（４０万
単位ノタ） ３リゾチーム（１万単位／の
２１００．０（重量％）ヱタノ−ル、酢酸
グリコールに酢酸ビニルを溶解させた溶液に、硫酸亜鉛
セメント、焼石管、デキストラナーゼ、リゾチームを混
合した粉末を加え、気泡が混入しないように静かに燈拝
した後窓洞に充填する。
タノール ５ｉ酢酸グリコー
ル ５硫酸亜鉛セメント
２０焼石管
４５・デキストラナーゼ（４０万
単位ノタ） ３リゾチーム（１万単位／の
２１００．０（重量％）ヱタノ−ル、酢酸
グリコールに酢酸ビニルを溶解させた溶液に、硫酸亜鉛
セメント、焼石管、デキストラナーゼ、リゾチームを混
合した粉末を加え、気泡が混入しないように静かに燈拝
した後窓洞に充填する。
以上の各実施例に示した組成物をヒト抜去歯牙に塗布又
は腐洞を設けて充填し、前記実験方法に準じて菌の付着
状態を観察した。
は腐洞を設けて充填し、前記実験方法に準じて菌の付着
状態を観察した。
１２日間培養した結果、未処理のヒト抜去歯牙表面に比
較し、塗布又は充填された本歯科用高分子材表面及び歯
牙表面には歯の付着がほとんど見られなかつた。
較し、塗布又は充填された本歯科用高分子材表面及び歯
牙表面には歯の付着がほとんど見られなかつた。
Claims (1)
- １ 歯科用高分子基材に、デキストラナーゼ、ムタナー
ゼ、溶菌酵素等の歯垢分解酵素を０．１重量％以上含有
せしめたことを特徴とする歯科用高分子基材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP49141253A JPS603041B2 (ja) | 1974-12-09 | 1974-12-09 | 歯科用高分子材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP49141253A JPS603041B2 (ja) | 1974-12-09 | 1974-12-09 | 歯科用高分子材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5167346A JPS5167346A (ja) | 1976-06-10 |
| JPS603041B2 true JPS603041B2 (ja) | 1985-01-25 |
Family
ID=15287613
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP49141253A Expired JPS603041B2 (ja) | 1974-12-09 | 1974-12-09 | 歯科用高分子材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS603041B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2517374B2 (ja) * | 1988-12-21 | 1996-07-24 | 誠吾 永目 | 歯科用填塞材 |
| DE19955746B4 (de) * | 1999-11-19 | 2004-01-29 | 3M Espe Ag | Oberflächenbehandlungsmittel für Hartgewebe und Verwendung von die Enzymaktivität begrenzenden Mitteln zu dessen Herstellung |
-
1974
- 1974-12-09 JP JP49141253A patent/JPS603041B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5167346A (ja) | 1976-06-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5041280A (en) | Toothpaste composition for stain removal | |
| CN1043955C (zh) | 低粘性牙膏 | |
| US7563833B2 (en) | Caries preventive desensitizing and fluoridizing dental varnishes | |
| EP3166692B1 (en) | Oral care formulation system providing amorphous calcium phosphate | |
| Coli et al. | The marginal adaptation of four different bonding agents in Class II composite resin restorations applied in bulk or in two increments. | |
| KR20150090130A (ko) | 벤질 알코올 또는 벤조산 및 알킬렌 글리콜을 기반으로 하는 보존제 시스템과 탄산칼슘을 함유하는 구강 관리 조성물 | |
| US4690776A (en) | Method of manufacture of a toothpaste composition | |
| CN111163744B (zh) | 具有改善的牙本质小管渗透力和涂覆保持力的氟涂覆剂及其制备方法 | |
| JP3816999B2 (ja) | 生体活性ガラス含有口腔用塗布剤 | |
| Ganesh et al. | Clinical evaluation of FUJI VII sealant material | |
| JPS603041B2 (ja) | 歯科用高分子材 | |
| EP3445454B1 (en) | Oral care product | |
| EP3319581B1 (en) | Dental compositions | |
| McLean | The clinical use of glass-ionomer cements—Future and current developments | |
| JP3623086B2 (ja) | 生体活性ガラス含有口腔用組成物 | |
| WO1998017236A1 (en) | Oral preparations containing biologically active crystallized glass | |
| Sonoda et al. | Pulpal response to a fluoride-releasing all-in-one resin bonding system | |
| AU7622298A (en) | Barrier to plaque formation | |
| US5548002A (en) | Provisional luting materials | |
| EP2630944A1 (en) | Silicon-based particle composition | |
| Tung et al. | Use of a compomer in Class V restoration: a microleakage study. | |
| JPS5811927B2 (ja) | 口腔組成物 | |
| JP7594347B2 (ja) | 口腔用組成物 | |
| JP2002003354A (ja) | ヒノキチオール含有口腔用組成物 | |
| JP4158002B2 (ja) | 液体口腔用組成物 |