JPS6030920B2 - 表面照射装置 - Google Patents
表面照射装置Info
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- JPS6030920B2 JPS6030920B2 JP54043400A JP4340079A JPS6030920B2 JP S6030920 B2 JPS6030920 B2 JP S6030920B2 JP 54043400 A JP54043400 A JP 54043400A JP 4340079 A JP4340079 A JP 4340079A JP S6030920 B2 JPS6030920 B2 JP S6030920B2
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
- G02B19/0095—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with ultraviolet radiation
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0004—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
- G02B19/0019—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having reflective surfaces only (e.g. louvre systems, systems with multiple planar reflectors)
- G02B19/0023—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having reflective surfaces only (e.g. louvre systems, systems with multiple planar reflectors) at least one surface having optical power
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/24—Curved surfaces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2008—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the reflectors, diffusers, light or heat filtering means or anti-reflective means used
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Treatment Of Fiber Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は表面照射装置に関する。
細長い表面をその全長にわたって放射線にさらすために
は、一連の放射ェネルギ源を個々の表面部分を照射する
ように配置することが必要である。
は、一連の放射ェネルギ源を個々の表面部分を照射する
ように配置することが必要である。
特に、放射ェネルギ管を放射ェネルギ源として用いた場
合、放射ェネルギ管は、その利用できる最大長さに限度
があるので、表面をその全長にわたって照射するにはこ
の表面いっぱいに配置しなければならなかった。公3由
の管・反射鏡配置を用いた場合、表面の一部が各管の端
(端連結が行なわれる)の区域にさらされるという点で
問題が生じる。これらの「無効」(戊ad)区域がある
ために、表面の長さ方向に照射強度の変化が生じる。多
くの分野で、細長い表面を放射線に、ほぼ全長にわたっ
てほぼ均一に照射されるようにさらすことが要求されて
いるが、本発明の目的はこれを容易にする装置を提供す
ることにある。
合、放射ェネルギ管は、その利用できる最大長さに限度
があるので、表面をその全長にわたって照射するにはこ
の表面いっぱいに配置しなければならなかった。公3由
の管・反射鏡配置を用いた場合、表面の一部が各管の端
(端連結が行なわれる)の区域にさらされるという点で
問題が生じる。これらの「無効」(戊ad)区域がある
ために、表面の長さ方向に照射強度の変化が生じる。多
くの分野で、細長い表面を放射線に、ほぼ全長にわたっ
てほぼ均一に照射されるようにさらすことが要求されて
いるが、本発明の目的はこれを容易にする装置を提供す
ることにある。
本発明によれば、細長い表面に、そのほぼ全長に沿って
照射強度がほぼ均一であるように放射ェネルギを与える
のに用いる表面照射装置は、複数個のユニットを有し、
それぞれのユニットが細長い放射ェネルギ源を取付ける
ための取付装置と、前記放射ェネルギ源からの放射ェネ
ルギを、表面照射装置の長手軸線の方へかつ前記長手軸
線を含む共通平面にほぼ平行に、ほぼ均一な強さの帯と
して方向付ける反射鏡と、前記放射ェネルギ帯を前記表
面に向けてほぼ90度にわたって反射するほぼ平らな鏡
系とを有し、2つの隣接するユニットの放射ェネルギ源
の中心線が前記共通平面にあり、前記2つの隣接するユ
ニットの放射ェネルギ源が前記長手軸線の両側に位置し
かつ軸線方向において部分的に重なり合っており、前記
2つの隣接するユニットの一方のほぼ平らな鏡系が前記
共通平面に対してほぼ45度に延在しておりかつ他方の
ユニットのほぼ平らな鏡系が前記一方のユニットのほぼ
平らな鏡系に対してほぼ90度に延在しており、前記2
つの隣接するユニットのほぼ平らな鏡系の隣接端が前記
長手軸線上で接触しており、前記一方のユニットの取付
装置の、前記放射ェネルギ源の一端を取付ける部分が前
記他方のユニットのほぼ平らな鏡系の背面によって前記
一方のユニットのほぼ平らな鏡系から遮蔽してあり、か
つ前記他方のユニットの取付装置の、前記放射ェネルギ
源の一端を取付ける部分が前記一方のユニットのほぼ平
らな鏡系の背面によって前記他方のユニットのほぼ平ら
な鏡系から遮蔽してあることを特徴とする。
照射強度がほぼ均一であるように放射ェネルギを与える
のに用いる表面照射装置は、複数個のユニットを有し、
それぞれのユニットが細長い放射ェネルギ源を取付ける
ための取付装置と、前記放射ェネルギ源からの放射ェネ
ルギを、表面照射装置の長手軸線の方へかつ前記長手軸
線を含む共通平面にほぼ平行に、ほぼ均一な強さの帯と
して方向付ける反射鏡と、前記放射ェネルギ帯を前記表
面に向けてほぼ90度にわたって反射するほぼ平らな鏡
系とを有し、2つの隣接するユニットの放射ェネルギ源
の中心線が前記共通平面にあり、前記2つの隣接するユ
ニットの放射ェネルギ源が前記長手軸線の両側に位置し
かつ軸線方向において部分的に重なり合っており、前記
2つの隣接するユニットの一方のほぼ平らな鏡系が前記
共通平面に対してほぼ45度に延在しておりかつ他方の
ユニットのほぼ平らな鏡系が前記一方のユニットのほぼ
平らな鏡系に対してほぼ90度に延在しており、前記2
つの隣接するユニットのほぼ平らな鏡系の隣接端が前記
長手軸線上で接触しており、前記一方のユニットの取付
装置の、前記放射ェネルギ源の一端を取付ける部分が前
記他方のユニットのほぼ平らな鏡系の背面によって前記
一方のユニットのほぼ平らな鏡系から遮蔽してあり、か
つ前記他方のユニットの取付装置の、前記放射ェネルギ
源の一端を取付ける部分が前記一方のユニットのほぼ平
らな鏡系の背面によって前記他方のユニットのほぼ平ら
な鏡系から遮蔽してあることを特徴とする。
2つの隣接のユニットの放射ェネルギ源のそれぞれの一
端を、その対応したほぼ平らな鏡系から、他方の放射ェ
ネルギ源と組合ったほぼ平らな鏡系の背面によって遮蔽
するように配置することによって、これらの端の「無効
」区域が被照射表面から遮ぎられることになることは明
らかであろう。
端を、その対応したほぼ平らな鏡系から、他方の放射ェ
ネルギ源と組合ったほぼ平らな鏡系の背面によって遮蔽
するように配置することによって、これらの端の「無効
」区域が被照射表面から遮ぎられることになることは明
らかであろう。
こうして、表面は、鏡系の全長に沿って連続した放射ェ
ネルギ帯にさらされ、そして、系の各鏡かほぼ均一に放
射するェネルギ源の長さ方向にさらされるので、当然、
表面の照射が個々の放射ェネルギ源の出力の均一性の公
差内でほぼ均一となる。ただし、表面の端区域にはこれ
は当らない。これら端区域を確実に均一に照射するには
、放射ェネルギ源の他端をそれぞれのほぼ平らな鏡系か
ら任意適当なデザインのシールドによって遮蔽するか、
あるいは、反射した放射ェネルギ帯が、共通平面に対し
て平行な平面に延在し、表面照射装置の長手軸線に対し
て平行でありかつ共通平面に対して直角な平面において
この長手麹線と同じ平面にある長手軸線を有する共通ス
。ットを通って表面に達するように配置し、このスロッ
トの鯛線方向長さをほぼ平らな鏡系の合計軸線方向長さ
よりも小さくして末端を表面からおおうのである。本発
明の1つの実施例では、ユニットは2つしか用いられて
いない。
ネルギ帯にさらされ、そして、系の各鏡かほぼ均一に放
射するェネルギ源の長さ方向にさらされるので、当然、
表面の照射が個々の放射ェネルギ源の出力の均一性の公
差内でほぼ均一となる。ただし、表面の端区域にはこれ
は当らない。これら端区域を確実に均一に照射するには
、放射ェネルギ源の他端をそれぞれのほぼ平らな鏡系か
ら任意適当なデザインのシールドによって遮蔽するか、
あるいは、反射した放射ェネルギ帯が、共通平面に対し
て平行な平面に延在し、表面照射装置の長手軸線に対し
て平行でありかつ共通平面に対して直角な平面において
この長手麹線と同じ平面にある長手軸線を有する共通ス
。ットを通って表面に達するように配置し、このスロッ
トの鯛線方向長さをほぼ平らな鏡系の合計軸線方向長さ
よりも小さくして末端を表面からおおうのである。本発
明の1つの実施例では、ユニットは2つしか用いられて
いない。
別の実施例では、表面照射装置は、前記一方のユニット
と反対の前記他方のユニットの端に配置された第3のユ
ニットを有し、前記第3のユニットの放射ェネルギ源の
中心線が前記共通平面にあり、前記他方のユニット及び
第3のユニットの放射ェネルギ源が前記長手軸線の両側
に位置しかつ軸線方向において部分的に重なり合ってお
り、前記第3のユニットのほぼ平らな鏡系が前記一方の
ユニットのほぼ平らな鏡系から軸線方向に隔たってほぼ
同一の平面にあり、かつその一端が前記他方のユニット
のほぼ平らな鏡系の他端に隣接しかつ表面照射装置の長
手軸線上でそれと接触しており、前記第3のユニットの
取付装置の、放射ェネルギ源の一端を取付ける部分が前
記他方のユニットのほぼ平らな鏡系の背面によって前記
第3のユニットのほぼ平らな鏡系から遮蔽してあり、か
つ前記他方のユニットの放射ヱネルギ源の他端を取付け
る部分が前記第3のユニットのほぼ平らな鏡系の背面に
よって前記他方のユニットのほぼ平らな鏡系から遮蔽し
てあることを特徴とする。同様の遮蔽効果が3つのユニ
ットのほぼ平らな鏡系のそれぞれの隣接区域で生じる。
3つの放射ェネルギ源を用いることによってより大きな
表面を照射することが可能となる。
と反対の前記他方のユニットの端に配置された第3のユ
ニットを有し、前記第3のユニットの放射ェネルギ源の
中心線が前記共通平面にあり、前記他方のユニット及び
第3のユニットの放射ェネルギ源が前記長手軸線の両側
に位置しかつ軸線方向において部分的に重なり合ってお
り、前記第3のユニットのほぼ平らな鏡系が前記一方の
ユニットのほぼ平らな鏡系から軸線方向に隔たってほぼ
同一の平面にあり、かつその一端が前記他方のユニット
のほぼ平らな鏡系の他端に隣接しかつ表面照射装置の長
手軸線上でそれと接触しており、前記第3のユニットの
取付装置の、放射ェネルギ源の一端を取付ける部分が前
記他方のユニットのほぼ平らな鏡系の背面によって前記
第3のユニットのほぼ平らな鏡系から遮蔽してあり、か
つ前記他方のユニットの放射ヱネルギ源の他端を取付け
る部分が前記第3のユニットのほぼ平らな鏡系の背面に
よって前記他方のユニットのほぼ平らな鏡系から遮蔽し
てあることを特徴とする。同様の遮蔽効果が3つのユニ
ットのほぼ平らな鏡系のそれぞれの隣接区域で生じる。
3つの放射ェネルギ源を用いることによってより大きな
表面を照射することが可能となる。
また大きな表面を照射したいならば、本発明の範囲内で
、ユニットを追加して各放射ェネルギ源および反射鏡が
それぞれ軸線方向に隣接した放射ェネルギ源、反射鏡か
ら長手軸線を間にして反対側に位直し、各ほぼ平らな鏡
系がその対応した放射ェネルギ源に対面し、それぞれの
すぐ隣のほぼ平らな鏡系に対してほぼ90度で位置し、
表面照射装置の長手軸線上でそれと隣接するように配置
することができることは明らかであろう。好ましくは、
取付装置は放射ェネルギ源の中心線を表面照射装置の長
手軸線から均等に隔てるようになっており、反射鏡は鯛
線方向に対して穣方向に同じ寸法であり、反射率(re
flectame)が同じであり、それぞれの放射ヱネ
ルギ源から均等に隔たっており、また、ほぼ平らな鏡系
は軸線方向に対して横方向に同じ寸法であり、反射率が
同じであり、それぞれの放射ェネルギ源から均等に隔た
っている。
、ユニットを追加して各放射ェネルギ源および反射鏡が
それぞれ軸線方向に隣接した放射ェネルギ源、反射鏡か
ら長手軸線を間にして反対側に位直し、各ほぼ平らな鏡
系がその対応した放射ェネルギ源に対面し、それぞれの
すぐ隣のほぼ平らな鏡系に対してほぼ90度で位置し、
表面照射装置の長手軸線上でそれと隣接するように配置
することができることは明らかであろう。好ましくは、
取付装置は放射ェネルギ源の中心線を表面照射装置の長
手軸線から均等に隔てるようになっており、反射鏡は鯛
線方向に対して穣方向に同じ寸法であり、反射率(re
flectame)が同じであり、それぞれの放射ヱネ
ルギ源から均等に隔たっており、また、ほぼ平らな鏡系
は軸線方向に対して横方向に同じ寸法であり、反射率が
同じであり、それぞれの放射ェネルギ源から均等に隔た
っている。
この配置を用いることにより、各放射ヱネルギ帯に対し
て等しい光学路、光学特性を得ることができ、その結果
、個々の放射ェネルギの出力の均一性の公差内で表面を
均一に照射することができる。放射ェネルギ帯の光学路
および光学特性を変えれば、異なった放射ェネルギ源を
用いることができるが、これは好ましくない。各鏡系は
ただ1枚の平面鏡でもよいし、隣合わせて同一平面に配
置してほぼ連続した平らな反射面を構成する多数の平面
鏡から成るものであってもよい。本発明による表面照射
装置では、任意の波長の放射ェネルギを用いることがで
き、放射ェネルギ源は細長い形状、たとえば管状で用い
ることができる。
て等しい光学路、光学特性を得ることができ、その結果
、個々の放射ェネルギの出力の均一性の公差内で表面を
均一に照射することができる。放射ェネルギ帯の光学路
および光学特性を変えれば、異なった放射ェネルギ源を
用いることができるが、これは好ましくない。各鏡系は
ただ1枚の平面鏡でもよいし、隣合わせて同一平面に配
置してほぼ連続した平らな反射面を構成する多数の平面
鏡から成るものであってもよい。本発明による表面照射
装置では、任意の波長の放射ェネルギを用いることがで
き、放射ェネルギ源は細長い形状、たとえば管状で用い
ることができる。
本発明の或る特定の応用例としては、光重合印刷ロール
を照射してロール表面を選択的に硬化させ、後処理によ
って凸版表面を得ることがある。この応用例では、紫外
線にロールをさらさなければならず、細長い放射ェネル
ギ源は紫外線管となる。この実施例において、反射鏡お
よび平らな鏡系は特別に処理してなんら実質的な強度損
失なしに紫外線を反射できるようにしてある。以下、添
付図面を参照しながら本発明を実施例によって一層詳し
く説明する。第1図乃至第3図に概略的に示した装置は
表面1を照射するものとして設計してあり、端を突き合
わせて設置した、全体的に2,3,4で示した3つのユ
ニットを包含する。
を照射してロール表面を選択的に硬化させ、後処理によ
って凸版表面を得ることがある。この応用例では、紫外
線にロールをさらさなければならず、細長い放射ェネル
ギ源は紫外線管となる。この実施例において、反射鏡お
よび平らな鏡系は特別に処理してなんら実質的な強度損
失なしに紫外線を反射できるようにしてある。以下、添
付図面を参照しながら本発明を実施例によって一層詳し
く説明する。第1図乃至第3図に概略的に示した装置は
表面1を照射するものとして設計してあり、端を突き合
わせて設置した、全体的に2,3,4で示した3つのユ
ニットを包含する。
各ユニットの構造は同じであり、紫外線管と、パラボラ
式反射鏡と、平面鏡系とを包含する。すなわち、ユニッ
ト2は管5、パラボラ式反射鏡6および平面鏡系7から
成り、ユニット3は管8、パラボラ式反射鏡9および平
面鏡系10から成り、ユニット4は管11、パラボラ式
反射鏡12および平面鏡系13から成る。各菅5,8,
11はその端を、第2図及び第3図に14,15で示す
ような普通のホルダに装着してある。管8のための2つ
のホルダ14は支え16に連結してあり、この支えには
反射鏡9も取付けてある。他の管の各々にも同様の配置
がなされている。このような組立ては、3つの管5,8
,11の中心線が表面照射装置の長手軸線B−Bを含む
共通平面A−A内に位置するように行なわれる。パラボ
ラ式反射鏡6,9,12の各々は、管5,8,11から
の放射ェネルギを、長手軸線に向いかつ共通平面にほぼ
平行な、ほぼ均一な強度の帯として方向付けるように配
置してある。平面鏡系7,10,13の各々はそれぞれ
の中心で一緒に取付けた2つの鏡7a,7b:10a,
10b;13a,13bを包含し、各系の鏡は共に共通
平面A−Aに対して45度をなす平面内にあってそれぞ
れのパラボラ式反射鏡から受け取った放射ェネルギ帯を
90度にわたって表面1に向けて反射するようになって
いる。管8およびパラボラ式反射鏡9は、管5、反射鏡
6および管11、反射鏡12から見て鞠線B一Bの反対
側に位置する。鏡系10の平面は2つの隣接ユニットの
鏡系7,13の平面に対して90度の角度をなす。鏡系
7,10の隣接端は接触しており、鏡系10,13の隣
接様も接触しているが、いずれの場合でも、表面照射装
置の軸線B一Bの区域でのみ接触が生じる。
式反射鏡と、平面鏡系とを包含する。すなわち、ユニッ
ト2は管5、パラボラ式反射鏡6および平面鏡系7から
成り、ユニット3は管8、パラボラ式反射鏡9および平
面鏡系10から成り、ユニット4は管11、パラボラ式
反射鏡12および平面鏡系13から成る。各菅5,8,
11はその端を、第2図及び第3図に14,15で示す
ような普通のホルダに装着してある。管8のための2つ
のホルダ14は支え16に連結してあり、この支えには
反射鏡9も取付けてある。他の管の各々にも同様の配置
がなされている。このような組立ては、3つの管5,8
,11の中心線が表面照射装置の長手軸線B−Bを含む
共通平面A−A内に位置するように行なわれる。パラボ
ラ式反射鏡6,9,12の各々は、管5,8,11から
の放射ェネルギを、長手軸線に向いかつ共通平面にほぼ
平行な、ほぼ均一な強度の帯として方向付けるように配
置してある。平面鏡系7,10,13の各々はそれぞれ
の中心で一緒に取付けた2つの鏡7a,7b:10a,
10b;13a,13bを包含し、各系の鏡は共に共通
平面A−Aに対して45度をなす平面内にあってそれぞ
れのパラボラ式反射鏡から受け取った放射ェネルギ帯を
90度にわたって表面1に向けて反射するようになって
いる。管8およびパラボラ式反射鏡9は、管5、反射鏡
6および管11、反射鏡12から見て鞠線B一Bの反対
側に位置する。鏡系10の平面は2つの隣接ユニットの
鏡系7,13の平面に対して90度の角度をなす。鏡系
7,10の隣接端は接触しており、鏡系10,13の隣
接様も接触しているが、いずれの場合でも、表面照射装
置の軸線B一Bの区域でのみ接触が生じる。
各平面鏡系の長さは対応したパラボラ式反射鏡の長さよ
りも短く、この反射鏡の長さは対応した管の長さよりも
小さい。これを例示すべく、第3図が、鏡系10の一端
と管8の取付装置14の端との間の距離をd,で、鏡系
7の一端と管5の敬付装置15の端との間の距離をd2
で示してあり、d,ともは等しい。同様の配置が鏡系1
0,13の結合部にもあり、表面照射装置の一端におい
て、管5の、第3図に示す端とは反対の端はd2に等し
い距離だけ鏡7の反対端を越えており、また、表面照射
装置の反対端において、管11の端は同じ距離だけ鏡系
13の端を越えている。第3図に示す鏡系7,10の結
合部を再び参照して、管8の様およびその取付装置14
は隣接ユニット2の平面鏡系7の背面によって対応した
平面鏡系10から遮蔽されている。同様に、管5の端お
よびその取付装置15はユニット2に対応した平面鏡系
7から、ユニット3の平面鏡系10の背面によって遮蔽
されている。明らかに、同様の遮蔽が平面鏡系10,1
3の結合部でも行なわれている。表面照射装置の各端に
別体の遮蔽片を取付けて管のそれぞれの端およびその取
付装置を鏡系7,13の端から遮蔽してもよい。管の端
およびその取付装置を対応した鏡系から遮蔽するという
この配置は、管の「無効」区域を効果的に穏し、実質的
に均一な放射ェネルギ強度を与える管部分のみを対応し
た鏡系にさらすのである。
りも短く、この反射鏡の長さは対応した管の長さよりも
小さい。これを例示すべく、第3図が、鏡系10の一端
と管8の取付装置14の端との間の距離をd,で、鏡系
7の一端と管5の敬付装置15の端との間の距離をd2
で示してあり、d,ともは等しい。同様の配置が鏡系1
0,13の結合部にもあり、表面照射装置の一端におい
て、管5の、第3図に示す端とは反対の端はd2に等し
い距離だけ鏡7の反対端を越えており、また、表面照射
装置の反対端において、管11の端は同じ距離だけ鏡系
13の端を越えている。第3図に示す鏡系7,10の結
合部を再び参照して、管8の様およびその取付装置14
は隣接ユニット2の平面鏡系7の背面によって対応した
平面鏡系10から遮蔽されている。同様に、管5の端お
よびその取付装置15はユニット2に対応した平面鏡系
7から、ユニット3の平面鏡系10の背面によって遮蔽
されている。明らかに、同様の遮蔽が平面鏡系10,1
3の結合部でも行なわれている。表面照射装置の各端に
別体の遮蔽片を取付けて管のそれぞれの端およびその取
付装置を鏡系7,13の端から遮蔽してもよい。管の端
およびその取付装置を対応した鏡系から遮蔽するという
この配置は、管の「無効」区域を効果的に穏し、実質的
に均一な放射ェネルギ強度を与える管部分のみを対応し
た鏡系にさらすのである。
それ故、放射ェネルギの帯が鏡系によって表面1に向け
られ、すべての管が同じ放射出力を持つならば、累積的
な一定の放射ヱネルギ強さが表面1にそそがれる。図示
した実施例では、3つの隣接したユニットに依存してい
るが、ユニットが2つだけでもよいし、4つまたはそれ
以上のユニットがあってもよいことは了解されたい。
られ、すべての管が同じ放射出力を持つならば、累積的
な一定の放射ヱネルギ強さが表面1にそそがれる。図示
した実施例では、3つの隣接したユニットに依存してい
るが、ユニットが2つだけでもよいし、4つまたはそれ
以上のユニットがあってもよいことは了解されたい。
ユニットが2つだけの場合、ユニット2,3と同じ要領
で軸線B−Bの両側に配置しなければならない。4つま
たはそれ以上のユニットを用いるのであれば、隣接のュ
ニットが鞠線B−Bの両側に交互にあるようにしなけれ
ばならない。
で軸線B−Bの両側に配置しなければならない。4つま
たはそれ以上のユニットを用いるのであれば、隣接のュ
ニットが鞠線B−Bの両側に交互にあるようにしなけれ
ばならない。
管パラボラ式反射鏡および平面鏡のためのホルダの取付
けについての詳細は第1図乃至第3図に示さなかった。
けについての詳細は第1図乃至第3図に示さなかった。
それが本発明の原理を説明するためだけのものであって
、本装置を用いる設備に適した種々の形態のうちの任意
の形態を探りうるからである。さて、第4図乃至第6図
を参照して、ここに示す装置は、全体的に20で示すケ
ーシングを包含する。
、本装置を用いる設備に適した種々の形態のうちの任意
の形態を探りうるからである。さて、第4図乃至第6図
を参照して、ここに示す装置は、全体的に20で示すケ
ーシングを包含する。
このケーシングは、側壁21,22、端整23,24、
ケーシングの長手方向に延びるスロット27を構成する
底壁部25,26、および頂壁28を包含する。これら
の壁は任意適当な要領で組立てられ、固定されてケーシ
ングを形成する。ケーシングは照射すべき表面の上方に
設置される。この取付けも任意普通の要領で行いうるの
で、その詳細は図に示さない。ただ、照射されるべき表
面が第4図に.矢印Aの方向においてケーシングの下方
に位置するということを言えば充分であろう。ケーシン
グ内には、全体的に29で示すランプ兼反射鏡ユニット
が設置してある。
ケーシングの長手方向に延びるスロット27を構成する
底壁部25,26、および頂壁28を包含する。これら
の壁は任意適当な要領で組立てられ、固定されてケーシ
ングを形成する。ケーシングは照射すべき表面の上方に
設置される。この取付けも任意普通の要領で行いうるの
で、その詳細は図に示さない。ただ、照射されるべき表
面が第4図に.矢印Aの方向においてケーシングの下方
に位置するということを言えば充分であろう。ケーシン
グ内には、全体的に29で示すランプ兼反射鏡ユニット
が設置してある。
このユニットは、ケーシングのほぼ全長にわたって延び
る主ハウジング部材30を包含する。この主ハウジング
部材は上方壁31、パラボラ式側壁32,33および下
方壁部34,35を構成しており、これらの下方壁部は
ハウジング30の全長にわたって延びるスロット36を
形成している。ハウジング30は、また、端整137,
138を包含し、この端壁137は明確さを意図して第
4図からは省いてある。ハウジング30はステンレス鋼
で作ってあり、パラボラ式側壁の内面は鏡面仕上げまで
みがき上げてある。各側壁の外面には、それぞれ、長手
方向のストリップ37,38が溶接してあり、これらの
ストリップはハウジング30の全長にわたって延在して
いる。ケーシング20内でハウジング30を支えるため
に、ストリップ37,38は山形鉄榛の水平ゥェブ39
,40の上に載っており、この山形鉄棒の垂直ウェプ4
1,42はそれぞれ43,44で示すようなボルトによ
ってケーシング21,22に取付けてある。ストリップ
37.38とそれぞれの山形鉄棒支えとの間には断熱材
のシート45,46が挿設してあり、これらのシートも
側壁21,22の内面を上方に延びている。ハウジング
30内には、2つの紫外線管47,48が設置してある
。
る主ハウジング部材30を包含する。この主ハウジング
部材は上方壁31、パラボラ式側壁32,33および下
方壁部34,35を構成しており、これらの下方壁部は
ハウジング30の全長にわたって延びるスロット36を
形成している。ハウジング30は、また、端整137,
138を包含し、この端壁137は明確さを意図して第
4図からは省いてある。ハウジング30はステンレス鋼
で作ってあり、パラボラ式側壁の内面は鏡面仕上げまで
みがき上げてある。各側壁の外面には、それぞれ、長手
方向のストリップ37,38が溶接してあり、これらの
ストリップはハウジング30の全長にわたって延在して
いる。ケーシング20内でハウジング30を支えるため
に、ストリップ37,38は山形鉄榛の水平ゥェブ39
,40の上に載っており、この山形鉄棒の垂直ウェプ4
1,42はそれぞれ43,44で示すようなボルトによ
ってケーシング21,22に取付けてある。ストリップ
37.38とそれぞれの山形鉄棒支えとの間には断熱材
のシート45,46が挿設してあり、これらのシートも
側壁21,22の内面を上方に延びている。ハウジング
30内には、2つの紫外線管47,48が設置してある
。
管47はハウジング30の側壁32に取付けた普通の管
ホルダ49,5川こよって保持されている。管48はハ
ウジング30の側壁33に取付けた普通の管ホルダ51
,52によって保持されている。各管ホルダは同じ要領
でそれぞれの側壁に取付けてあり、管ホルダ49の取付
手段のみを詳しく説明するが、他のものもほぼ同じであ
ることは理解されたい。管ホルダ49を収容するために
、充分な大きさの孔が側壁32に切ってあり、それぞれ
の山形鉄棒の水平ゥェプ39にくぼみ53が切ってある
。側壁32の切取部分の片側に取付板54が設置してあ
り、壁の材料に溶接してある。取付板54を貫いてねじ
55が管ホルダ49内に遮っていて、この管ホルダを側
壁32の孔内の所定位置に固着している。管ホルダのこ
の取付構造によれば、それぞれの管の中心線が側壁の内
側のパラボラ式反射面の,焦点軸線に沿って延び、管か
らの放射ェネルギがほぼ平行な帯としてハウジング30
の中心に向けられるようにしてある。管47と組合わせ
て第1の平面鏡56があり、第2の管48と組合わせて
第2の平面鏡57がある。
ホルダ49,5川こよって保持されている。管48はハ
ウジング30の側壁33に取付けた普通の管ホルダ51
,52によって保持されている。各管ホルダは同じ要領
でそれぞれの側壁に取付けてあり、管ホルダ49の取付
手段のみを詳しく説明するが、他のものもほぼ同じであ
ることは理解されたい。管ホルダ49を収容するために
、充分な大きさの孔が側壁32に切ってあり、それぞれ
の山形鉄棒の水平ゥェプ39にくぼみ53が切ってある
。側壁32の切取部分の片側に取付板54が設置してあ
り、壁の材料に溶接してある。取付板54を貫いてねじ
55が管ホルダ49内に遮っていて、この管ホルダを側
壁32の孔内の所定位置に固着している。管ホルダのこ
の取付構造によれば、それぞれの管の中心線が側壁の内
側のパラボラ式反射面の,焦点軸線に沿って延び、管か
らの放射ェネルギがほぼ平行な帯としてハウジング30
の中心に向けられるようにしてある。管47と組合わせ
て第1の平面鏡56があり、第2の管48と組合わせて
第2の平面鏡57がある。
平面鏡56は上下にフランジ58,59を有し、これら
のフランジはハウジングの上下の肇部分31,35のそ
れぞれにボルト60,61によって取付けてある。鏡5
7は上下のフランジ62,63を有し、これらのフラン
ジはハウジング30の上下壁部分30,34にボルト6
4,65によって取付けてある。鏡56,57も、それ
ぞれの管に向いた研磨反射面を持ったようにステンレス
鋼で作ってもよい。これら2つの鏡は、第5図ですぐわ
かるように、ハウジング30の中心線上で接触している
。管47のホルダ50‘ま、それと管47の端部とが平
面鏡57の背面の後に位置するように位置決めしてあり
、管48のホルダ51は、それとこの管の端部とが反射
鏡56の背面の後になるように位暦決めしてある。この
ようにして、管47の無効区域がその対応した鏡56か
ら遮蔽され、管48の無効区域が対応した鏡57から遮
蔽される。したがって、管47の有効長さ部分からの放
射ェネルギが反射鏡32から平面鏡56上に向けられ、
スロット36,27を通して被照射面に向けて矢印Aの
方向に下向きに方向付けられることになる。同様にして
、管48からの放射ェネルギは反射鏡33から平面鏡5
7に向って反射され、それから表面に向って下向きに反
射されることになる。管ホルダおよび放射ェネルギが不
均一になりがちな管の端区域を遮蔽することによって、
ほぼ均一な強さの放射ェネルギがスロットを通して平面
鏡56,57の全長(ただし、その末端区域を除く)に
沿って方向付けられるということは了解できよう。ハウ
ジング30の上方でケーシング20内に、管47,48
に必要な電気装置、制御装置が設置されているが、これ
は発明の構成要素でないから図示してない。
のフランジはハウジングの上下の肇部分31,35のそ
れぞれにボルト60,61によって取付けてある。鏡5
7は上下のフランジ62,63を有し、これらのフラン
ジはハウジング30の上下壁部分30,34にボルト6
4,65によって取付けてある。鏡56,57も、それ
ぞれの管に向いた研磨反射面を持ったようにステンレス
鋼で作ってもよい。これら2つの鏡は、第5図ですぐわ
かるように、ハウジング30の中心線上で接触している
。管47のホルダ50‘ま、それと管47の端部とが平
面鏡57の背面の後に位置するように位置決めしてあり
、管48のホルダ51は、それとこの管の端部とが反射
鏡56の背面の後になるように位暦決めしてある。この
ようにして、管47の無効区域がその対応した鏡56か
ら遮蔽され、管48の無効区域が対応した鏡57から遮
蔽される。したがって、管47の有効長さ部分からの放
射ェネルギが反射鏡32から平面鏡56上に向けられ、
スロット36,27を通して被照射面に向けて矢印Aの
方向に下向きに方向付けられることになる。同様にして
、管48からの放射ェネルギは反射鏡33から平面鏡5
7に向って反射され、それから表面に向って下向きに反
射されることになる。管ホルダおよび放射ェネルギが不
均一になりがちな管の端区域を遮蔽することによって、
ほぼ均一な強さの放射ェネルギがスロットを通して平面
鏡56,57の全長(ただし、その末端区域を除く)に
沿って方向付けられるということは了解できよう。ハウ
ジング30の上方でケーシング20内に、管47,48
に必要な電気装置、制御装置が設置されているが、これ
は発明の構成要素でないから図示してない。
作動時、かなりの熱が発生するが、ケーシングの側壁2
1,22に放射熱66,67が設けてあり、吸引ファン
を接続することのできる、68aのような敬付具が1つ
またはそれ以上ケーシングの頂壁28の孔に取付けてあ
る。表面に向けられた放射ェネルギ帯の幅、長さの両方
を変えうるようにすることが望ましいが、このような調
節を行うことのできる一方法が第4図及び第6図に詳細
に示してある。第6図は、また、実際に断面線の上方に
位置する管・反射鏡組立体の一部を鎖線で示している。
放射ェネルギ帯の幅は、2つのシャツ夕68,69を表
面照射装置に対して前後に動かすことによって調節する
ことができる。
1,22に放射熱66,67が設けてあり、吸引ファン
を接続することのできる、68aのような敬付具が1つ
またはそれ以上ケーシングの頂壁28の孔に取付けてあ
る。表面に向けられた放射ェネルギ帯の幅、長さの両方
を変えうるようにすることが望ましいが、このような調
節を行うことのできる一方法が第4図及び第6図に詳細
に示してある。第6図は、また、実際に断面線の上方に
位置する管・反射鏡組立体の一部を鎖線で示している。
放射ェネルギ帯の幅は、2つのシャツ夕68,69を表
面照射装置に対して前後に動かすことによって調節する
ことができる。
これらのシャツ夕は長手軸線の両側に等しく隔たってお
り、各シャツ夕はハウジングの全長にわたって延びてい
る。シャツ夕の取付け・駆動機構はハウジングの各端で
ほぼ同一であり、端23における機構のみを詳しく説明
する。ハウジングの端24における同一の部分は追加文
字aを付けた同じ参照番号で示す。シャツ夕68,69
は、その端を、ナイロンその他の低摩擦材料で作ったパ
ッド70,71のそれぞれに載せている。
り、各シャツ夕はハウジングの全長にわたって延びてい
る。シャツ夕の取付け・駆動機構はハウジングの各端で
ほぼ同一であり、端23における機構のみを詳しく説明
する。ハウジングの端24における同一の部分は追加文
字aを付けた同じ参照番号で示す。シャツ夕68,69
は、その端を、ナイロンその他の低摩擦材料で作ったパ
ッド70,71のそれぞれに載せている。
これらのパッドは、それぞれ、ねじ72,73と74,
75によって底壁部25,26の内面に取付けてある。
シャツ夕68の上面には逆サドル状部材76が取付けて
あり、この部材はベース77と直立部78,79とを有
し、部分的にナット80を囲んでいる。ナット8川ま外
方に突出したフランジ81,82を有し、フランジ間に
直立部78,79が鉄合していて部村76をナットと共
に鞠線方向に動くように拘束している。直立部78,7
9の間隔はナットの主体部の外径よりも大きくて、シャ
ツ夕68の熱による長手方向の膨張の際に、都材76が
ナットに相対的に横方向に動けるようにしている。ナッ
ト80の内ねじは軸84の外ねじ部83と噛み合ってお
り、この軸はケーシングの側壁21,22にそれぞれ敬
付けた軸受85,86内に支えられている。シャツ夕6
9の上面には、部材76と同様の逆サドル状部材87が
設けてあり、これは部材76がナット80と係合してい
るのと同じやり方で別のナット88に係合している。
75によって底壁部25,26の内面に取付けてある。
シャツ夕68の上面には逆サドル状部材76が取付けて
あり、この部材はベース77と直立部78,79とを有
し、部分的にナット80を囲んでいる。ナット8川ま外
方に突出したフランジ81,82を有し、フランジ間に
直立部78,79が鉄合していて部村76をナットと共
に鞠線方向に動くように拘束している。直立部78,7
9の間隔はナットの主体部の外径よりも大きくて、シャ
ツ夕68の熱による長手方向の膨張の際に、都材76が
ナットに相対的に横方向に動けるようにしている。ナッ
ト80の内ねじは軸84の外ねじ部83と噛み合ってお
り、この軸はケーシングの側壁21,22にそれぞれ敬
付けた軸受85,86内に支えられている。シャツ夕6
9の上面には、部材76と同様の逆サドル状部材87が
設けてあり、これは部材76がナット80と係合してい
るのと同じやり方で別のナット88に係合している。
ナット88は内ねじが切ってあって、軸84の別のねじ
山部分89と係合し、部分83,89のねじ山は互に逆
に切ってある。幅84の一端に鎖車90が取付けてあり
、そこから上方へスタブ軸93に装着した別の鎖車92
まで鎖91が延びている。
山部分89と係合し、部分83,89のねじ山は互に逆
に切ってある。幅84の一端に鎖車90が取付けてあり
、そこから上方へスタブ軸93に装着した別の鎖車92
まで鎖91が延びている。
このスタブ軸93はねじ95によって側壁21に取付け
た軸受94内に回転自在に装着してあり、その自由端で
区画マークを付けた手動輪96を支えている。これらの
区画マークは側壁21に取付けたィンジケータに隣接し
て位置しているが、図示してない。軸84の他端にはか
さ歯車97が取付けてあり、これはケーシング20のほ
ぼ全長にわたって延びる鞠99に取付けた別のかさ歯車
98と噛み合っている。
た軸受94内に回転自在に装着してあり、その自由端で
区画マークを付けた手動輪96を支えている。これらの
区画マークは側壁21に取付けたィンジケータに隣接し
て位置しているが、図示してない。軸84の他端にはか
さ歯車97が取付けてあり、これはケーシング20のほ
ぼ全長にわたって延びる鞠99に取付けた別のかさ歯車
98と噛み合っている。
軸99はケーシングの両端にある同じ軸受で支持されて
おり、この軸受の1つを第6図に100で示す。軸99
は、軸受100と反対の端で、かさ歯車98aを支えて
おり、このかさ歯車はナット80a,88aを支えてい
る軸84a上のかさ歯車97aと噛み合っている。こう
して、シャツ夕68はその両端でナット80,80aと
共に動けるように連結してあり、シャツ夕69はその両
端でナット88,88aと共に動けるように連結してあ
る。このような運動は、手動輪96の回転によって行な
われ、その際、鎖91が軸84を回転させかっかさ歯車
、鞠89を介して軸84aを回転させる。この回転は表
面照射装置の中心線に対して前後にシャツ夕68,69
を互に逆の方向に同時に動かすことになる。中心線に向
う運動は放射ェネルギ帯の有効幅を減らし、中心線から
離れる運動はその幅を増すことになる。放射ェネルギ帯
の有効長さは、ハウジングの両端でリール組立体102
.102aに巻いた不透明な可榛性カーテン101,1
01aによって調節することができる。これらリール組
立体は逆巻きであることを除いて同じなので、リール組
立体102のみを詳しく説明する。リール組立体102
はブラケツト104,105およびねじ106によって
ケーシング20の端壁23に取付けたハウジング103
を包含する。ハウジングの端壁107,108には、リ
ール113の両端から突出したスピンドル111,11
2を支えている軸受109,110が装着してあり、リ
ール113上にはカーテン101が巻いてある。リール
113を回転させるために手動輪114がスピンドル1
12に取付けてある。カーテン101はスロット(図示
せず)を通ってハウジング102から現われ、その両緑
がそれぞれ案内溝115,116に入っている。これら
の案内溝115,116はねじ73,75によって下方
壁部25,26に取付けてあり、ケーシング20の全長
にわたって延びるストリップの組立体によって形成され
ている。ねじおよびストリップ組立体は、また、ケーシ
ング20の下方壁にあるスロット27の下方でガラス板
117を支えるのにも役立っている。カーテン101は
、それぞれのリールに巻き付けるに充分な可榛・性を持
ち、しかも案内溝115,116内を動くときにほぼ平
らな形状を保った充分な剛性も持った材料で作ってある
。カーテン101,101aは、表面照射装置の側方中
心線に向って案内溝に沿って移動するようにそれぞれの
リールから繰り出され、放射ェネルギ帯の有効長さを減
じることができる。リールに巻きもどされたときには、
スロットの有効長さが増大することになる。使用に当っ
ては、カーテン101の限界位置が第6図に破線101
bによって示すようになるのが望ましい。その場合、カ
ーテンが管47のホルダ49を遮蔽する効果を有し、管
端からの不均一な放射ェネルギの伝達を防ぐ。カーテン
101aは、望ましくは、管ホルダ52に対して同様の
遮蔽機能を果すように位置決めされる。放射ェネルギが
通るスロットの幅、長さを限定するために、別のシャツ
タ構造を容易に設計しうろことは了解されたい。
おり、この軸受の1つを第6図に100で示す。軸99
は、軸受100と反対の端で、かさ歯車98aを支えて
おり、このかさ歯車はナット80a,88aを支えてい
る軸84a上のかさ歯車97aと噛み合っている。こう
して、シャツ夕68はその両端でナット80,80aと
共に動けるように連結してあり、シャツ夕69はその両
端でナット88,88aと共に動けるように連結してあ
る。このような運動は、手動輪96の回転によって行な
われ、その際、鎖91が軸84を回転させかっかさ歯車
、鞠89を介して軸84aを回転させる。この回転は表
面照射装置の中心線に対して前後にシャツ夕68,69
を互に逆の方向に同時に動かすことになる。中心線に向
う運動は放射ェネルギ帯の有効幅を減らし、中心線から
離れる運動はその幅を増すことになる。放射ェネルギ帯
の有効長さは、ハウジングの両端でリール組立体102
.102aに巻いた不透明な可榛性カーテン101,1
01aによって調節することができる。これらリール組
立体は逆巻きであることを除いて同じなので、リール組
立体102のみを詳しく説明する。リール組立体102
はブラケツト104,105およびねじ106によって
ケーシング20の端壁23に取付けたハウジング103
を包含する。ハウジングの端壁107,108には、リ
ール113の両端から突出したスピンドル111,11
2を支えている軸受109,110が装着してあり、リ
ール113上にはカーテン101が巻いてある。リール
113を回転させるために手動輪114がスピンドル1
12に取付けてある。カーテン101はスロット(図示
せず)を通ってハウジング102から現われ、その両緑
がそれぞれ案内溝115,116に入っている。これら
の案内溝115,116はねじ73,75によって下方
壁部25,26に取付けてあり、ケーシング20の全長
にわたって延びるストリップの組立体によって形成され
ている。ねじおよびストリップ組立体は、また、ケーシ
ング20の下方壁にあるスロット27の下方でガラス板
117を支えるのにも役立っている。カーテン101は
、それぞれのリールに巻き付けるに充分な可榛・性を持
ち、しかも案内溝115,116内を動くときにほぼ平
らな形状を保った充分な剛性も持った材料で作ってある
。カーテン101,101aは、表面照射装置の側方中
心線に向って案内溝に沿って移動するようにそれぞれの
リールから繰り出され、放射ェネルギ帯の有効長さを減
じることができる。リールに巻きもどされたときには、
スロットの有効長さが増大することになる。使用に当っ
ては、カーテン101の限界位置が第6図に破線101
bによって示すようになるのが望ましい。その場合、カ
ーテンが管47のホルダ49を遮蔽する効果を有し、管
端からの不均一な放射ェネルギの伝達を防ぐ。カーテン
101aは、望ましくは、管ホルダ52に対して同様の
遮蔽機能を果すように位置決めされる。放射ェネルギが
通るスロットの幅、長さを限定するために、別のシャツ
タ構造を容易に設計しうろことは了解されたい。
管・反射鏡組立体はここに説明したものと異なったもの
としてもよく、この組立体を別のやり方でハウジング内
に設置してもよい。ハウジングそのものを図示のものと
は別の構造としてもよい。
としてもよく、この組立体を別のやり方でハウジング内
に設置してもよい。ハウジングそのものを図示のものと
は別の構造としてもよい。
第1図は本発明による装置の概略斜視図、第2図は第1
図のローロ線に沿った断面図、第3図は第2図の矢印m
の平面図、第4図は第6図のN−W線に沿った横断面図
で、本発明の生産型実施例を示す図、第5図は第4図の
V−V線に沿った縮小断面図、第6図は第4図のW−の
線に沿った断面図である。 1……表面、2,3,4……ユニット、5,8,11・
・・・・・紫外線管、6,9,12・・・・・・反射鏡
、7,10,13・・・・・・平面鏡系、14,15・
・・…ホルダ、16……支え、20……ケーシング、2
9.・・・・・ランプ・反射鏡ユニット、30・・・・
・・ハウジング、36……スロット、37,38……ス
トリップ、47,48・・・・・・紫外線管、49,5
0・・・…ホルダ、54・・・・・・取付板、56,5
7・・・・・・平面鏡、68,69……シャツ夕、10
1,101a”””カーテン。 、 ぶ ト ざ 夕/多.Z んZ.ク クノタ〆 ん多グ
図のローロ線に沿った断面図、第3図は第2図の矢印m
の平面図、第4図は第6図のN−W線に沿った横断面図
で、本発明の生産型実施例を示す図、第5図は第4図の
V−V線に沿った縮小断面図、第6図は第4図のW−の
線に沿った断面図である。 1……表面、2,3,4……ユニット、5,8,11・
・・・・・紫外線管、6,9,12・・・・・・反射鏡
、7,10,13・・・・・・平面鏡系、14,15・
・・…ホルダ、16……支え、20……ケーシング、2
9.・・・・・ランプ・反射鏡ユニット、30・・・・
・・ハウジング、36……スロット、37,38……ス
トリップ、47,48・・・・・・紫外線管、49,5
0・・・…ホルダ、54・・・・・・取付板、56,5
7・・・・・・平面鏡、68,69……シャツ夕、10
1,101a”””カーテン。 、 ぶ ト ざ 夕/多.Z んZ.ク クノタ〆 ん多グ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 細長い表面をほぼその全長にわたつて強さがほぼ均
一であるように放射エネルギで照射する表面照射装置に
おいて、複数個のユニツトを有し、それぞれのユニツト
が細長い放射エネルギ源を取付けるための取付装置と、
前記放射エネルギ源からの放射エネルギを、表面照射装
置の長手軸線の方へかつ前記長手軸線を含む共通平面に
ほぼ平行に、ほぼ均一な強さの帯として方向付ける反射
鏡と、前記放射エネルギ帯を前記表面に向けてほぼ90
度にわたつて反射するほぼ平らな鏡系とを有し、2つの
隣接するユニツトの放射エネルギ源の中心線が前記共通
平面にあり、前記2つの隣接するユニツトの放射エネル
ギ源が前記長手軸線の両側に位置しかつ軸線方向におい
て部分的に重なり合つており、前記2つの隣接するユニ
ツトの一方のほぼ平らな鏡系が前記共通平面に対してほ
ぼ45度に延在しておりかつ他方のユニツトのほぼ平ら
な鏡系が前記一方のユニツトのほぼ平らな鏡系に対して
ほぼ90度に延在しており、前記2つの隣接するユニツ
トのほぼ平らな鏡系の隣接端か前記長手軸線上で接触し
ており、前記一方のユニツトの取付装置の、前記放射エ
ネルギ源の一端を取付ける部分が前記他方のユニツトの
ほぼ平らな鏡系の背面によつて前記一方のユニツトのほ
ぼ平らな鏡系から遮蔽してあり、かつ前記他方のユニツ
トの取付装置の、前記放射エネルギ源の一端を取付ける
部分が前記一方のユニツトのほぼ平らな鏡系の背面によ
つて前記他方のユニツトのほぼ平らな鏡系から遮蔽して
あることを特徴とする表面照射装置。 2 特許請求の範囲第1項記載の表面照射装置において
、前記一方のユニツトと反対の前記他方のユニツトの端
に配置された第3のユニツトを有し、前記第3のユニツ
トの放射エネルギ源の中心線が前記共通平面にあり、前
記他方のユニツト及び第3のユニツトの放射エネルギ源
が前記長手軸線の両側に位置しかつ軸線方向において部
分的に重なり合つており、前記第3のユニツトのほぼ平
らな鏡系が前記一方のユニツトのほぼ平らな鏡系から軸
線方向に隔たつてほぼ同一の平面にあり、かつその一端
が前記他方のユニツトのほぼ平らな鏡系の他端に隣接し
かつ表面照射装置の長手軸線上でそれと接触しており、
前記第3のユニツトの取付装置の、放射エネルギ源の一
端を取付ける部分が前記他方のユニツトのほぼ平らな鏡
系の背面によつて前記第3のユニツトのほぼ平らな鏡系
から遮蔽してあり、かつ前記他方のユニツトの放射エネ
ルギ源の他端を取付ける部分が前記第3のユニツトのほ
ぼ平らな鏡系の背面によつて前記他方のユニツトのほぼ
平らな鏡系から遮蔽してあることを特徴とする表面照射
装置。 3 特許請求の範囲第1項または第2項に記載の表面照
射装置において、各取付装置によつて、各放射エネルギ
源の中心線が表面照射装置の長手軸線から均等に隔たつ
ているようになつており、各反射鏡か軸線方向に対して
横方向の寸法で同じであり、反射率でも同じであり、そ
れぞれの放射エネルギ源から均等に隔たつており、各ほ
ぼ平らな鏡系が軸線方向に対して横方向の寸法で同じで
あり、反射率でも同じであり、それぞれの放射エネルギ
源から均等に隔たつていることを特徴とする表面照射装
置。 4 特許請求の範囲第1項、第2項、第3項のいずれか
に記載の表面照射装置において、各放射エネルギ帯が、
対応したほぼ平らな鏡系から、前記共通平面に対して平
行な平面内に延在し、かつ表面照射装置の長手軸線に平
行で共通平面に対して直角の平面内でそれと同一平面に
ある長手軸線を有する共通スロツト27を通つて表面に
達するように構成したことを特徴とする表面照射装置。 5 特許請求の範囲第4項記載の表面照射装置において
、共通スロツトの幅を調節する装置を包含することを特
徴とする表面照射装置。6 特許請求の範囲第4項記載
の表面照射装置において、共通スロツトの長手方向縁が
、その長手方向軸線の両側に均等に隔たつた1対のシヤ
ツタ68,69によつて構成してあることを特徴とする
表面照射装置。 7 特許請求の範囲第6項記載の表面照射装置において
、共通スロツトの幅を調節する装置が、共通スロツトの
長手軸線に対して前後に同時に前記シヤツタを動かす装
置96,91,84,89,84aを包含することを特
徴とする表面照射装置。 8 特許請求の範囲第4項記載の表面照射装置において
、共通スロツトの軸線方向長さが前記ほぼ平らな鏡系の
合計軸線方向長さよりも小さいことを特徴とする表面照
射装置。 9 特許請求の範囲第4項記載の表面照射装置において
、表面照射装置の両端から長手方向に移動して共通スロ
ツトの有効長さを調節するカーテン装置101,101
Aを包含することを特徴とする表面照射装置。 10 特許請求の範囲第1項、第2項、第3項のいずれ
かに記載の表面照射装置において、取付装置、反射鏡お
よびほぼ平らな鏡系のすべてが共通の囲い20内に収容
してあり、この共通囲いを冷却する装置68が設けてあ
ることを特徴とする表面照射装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| GB14132/78 | 1978-04-11 | ||
| GB1413278 | 1978-04-11 |
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