JPS6031323B2 - 水溶性ビニルポリマ−の製造方法 - Google Patents

水溶性ビニルポリマ−の製造方法

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JPS6031323B2
JPS6031323B2 JP55039958A JP3995880A JPS6031323B2 JP S6031323 B2 JPS6031323 B2 JP S6031323B2 JP 55039958 A JP55039958 A JP 55039958A JP 3995880 A JP3995880 A JP 3995880A JP S6031323 B2 JPS6031323 B2 JP S6031323B2
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polymer
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ionizing radiation
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次郎 岡本
功 石垣
裕延 福崎
昭三 新保
清明 吉川
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NIPPON GENSHIRYOKU KENKYUSHO
TAKI KAGAKU KK
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NIPPON GENSHIRYOKU KENKYUSHO
TAKI KAGAKU KK
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F6/00Post-polymerisation treatments
    • C08F6/006Removal of residual monomers by chemical reaction, e.g. scavenging
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S522/00Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
    • Y10S522/903Removal of residual monomer

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は残留モノマー濃度の低い水溶性ビニルポリマー
の新規な重合方法に関する。
水溶性ビニルボリマー殊に、アクリルアミド系ポリマー
は水処理剤、紙力増強剤、土壌改良剤として近年急激に
多用され始めているが、ポリマー中の残留モノマーが有
害であることから問題視され、その規制も一段と厳しく
なり、この種業界では重合率を高めるか、重合後残留モ
ノマーを除去することに最も研究努力がはらわれている
。かかる研究の結果、重合率を高める方法として■ 低
温分解触媒と高温分解触媒を併用する方法、■ プロビ
オン酸アミドを使用する方法、残留モノマーを除去する
方法としては■ 重合後、残留モノマ−をメタノール、
ァセトン等の有機溶媒で抽出する方法、■ 重合後、残
留モノマーを微生物で分解する方法、■ 重合後残留モ
ノマーとアンモニア又はアミン類を反応させる方法が開
発されているが操作が複雑であったり、モノマー除去に
長時間を要したり、除去効果が充分でない等の問題があ
り、工業的に有利な解決策は見し、出されていない。
そこで本発明者らは水落・性ビニルモノマーの重合率を
高めると共に残留モノマー濃度の低い重合方法について
研究し、同時に水処理剤としても適切な性能を有するポ
リマーを得る方法について検討した結果、以下に詳記す
る本発明を完成したものである。
即ち、本発明は水溶性ビニルモノマ−を触媒重合法また
は紫外線重合法によって重合し、重合率を少なくとも9
5%とした後、水分15〜30%に調整し、次いで電離
性放射線を照射することからなる水潟性ビニルモノマー
の重合方法に関する。
この方法によって製造した水溶性ビニルモノマーは、特
に水処理剤として優れた性能を有していることが確認さ
れた。本発明に使用するビニルモノマーとしては、ジメ
チルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミ
ノエチル(メタ)アクリレート、これらの塩酸塩、硫酸
塩、酢酸塩等の第三級塩および塩化メチル、ジメチル硫
酸あるいはジェチル硫酸等で四級化された第四級塩、ア
クリル酸、メタクリル酸またはこれらのェステル化合物
、アクリルアミドメタクリルアミド等が例示され、これ
らのビニルモノマーの単独または共重合を触媒たは紫外
線の作用により行ない少なくとも重合率95%まで重合
せしめる。
ここで少なくとも95%まで重合する理由は触媒重合法
または紫外線重合法により95%まで重合率を高めるこ
とは比較的容易であること及び重合率95%以下の重合
体に電離性放射線を照射し残留モノマーを重合させる場
合、ポリマーの分解ないしは一部橋かけが起こるためで
あり、特に水処理剤として適切な性能を有する重合体が
得られないことによる。
触媒重合法または紫外線重合法により少なくとも重合率
95%まで高められた重合体は次いで水分15〜30%
に調整される。
この様な水分の調整方法としては、反応中の水分の若干
の蒸発、輝散を考慮してモノマ−濃度約60〜80%の
範囲で重合を行なってもよいし、さらに高濃度で重合さ
せて、水を添加してもよい。また、例えば30〜50%
のような低モノマー濃度で重合を行い、乾燥等の任意の
方法により水分を除去し、水分15〜30%に調整して
もよい。
別法としては一旦粉末化した後水を添加することにより
調整してもよい。この様にして水分調整された重合体は
、次いで電離性放射線照射に供せられる。電離性放射線
としてはガンマ一線、加速電子線、X線等を使用するこ
とができ、照射線量率としては1時間当り500〜20
000仇adの範囲、殊に5000〜10000仇ad
の範囲が好ましい。今、水分と重合率の関係について具
体的に示せば次の通りである。実施例 1 アクリルアミドモノマー216g、ジメチルアミノエチ
ルメタクリレート285g、ブロピレングリコール5g
、およびペンゾインイソプロピレンエーテル0.賭を水
500gに溶解し、次いで塩酸でpH2.81こ調整し
バットに入れ400W高圧水銀ランプで紫外線を3粉ご
間照射し、水分44.6%、重合率97.4%の重合体
を得た。
この重合体を6000で乾燥することにより、下表の様
に水分を調整した後、大気雰囲気下または窒素ガス雰囲
気下でコバルト6のy線を線量率10000仇ad/h
rで30分間照射し、残留モノマー濃度を測定した。そ
の結果は次表の通りである。第1表 注) 重合体に対する残留モノマーの割合上表から明ら
かな様に水分濃度15〜30%の時残留モノマー濃度は
最も4・さくなり特に水分約20%のときに良好な結果
が得れ、かつ殊に窒素雰囲気下で行えば効果は一段と向
上する。
而して、本発明方法により得られた重合体は優れた凝集
性能を示す。以下に本発明の実施例を挙げて更に説明す
る。
実施例 2アクリルアミド100gにQ,Q′ーアゾビ
ス(2−アミジノプロパン)二塩酸塩0.0酸、水40
0gを添加し、窒素ガスにより充分脱気した後温度45
00で1.5時間重合させた。
得られた重合体の重合率は96.81%、水分79.2
%であった。このものを60℃で乾燥し、水分17.3
%とした後コバルト60のy線を線量率5000仇ad
/hrで1時間照射し、残留アクリルアミド濃度(重合
体に対する割合)を測定した結果、0.013%であっ
た。参考例 1 アクリルアミド100gにQ,Q′−アゾビス(2−ア
ミジノプロパン)二塩酸塩0.05g、水40雌を添加
し、窒素ガスにより充分脱気した後、温度45℃で1時
間重合させた。
得られた重合体の重合率は92.3%、水分79.0%
であった。このものを60℃で乾燥し、水分17.3%
とした後、コバルト60のy線を線量率5000仇ad
/hrで3時間照射し、残留アクリルアミド濃度(重合
体に対する割合)を測定した結果0.012%であった
。水処理テスト 水道水500ccに局方カオリナィト繁を加え懸濁させ
、これに実施例2及び参考例1のアクリルアミド重合体
濃度0.1%溶液1私を加えて15仇pmで1分間急速
灘拝し、次いで5仇pmで3分間の緩速塊拝を行った後
、フロックの沈降速度及び5分間静置後の上燈水濁度を
測定した結果、実施例2の場合沈降速度49弧/min
、濁度1.8ppmであり、参考例1の場合沈降速度2
6弧/min、濁度21ppmであった。
実施例 3 ジメチルアミノェチルメタクリレート塩化メチル塩20
0gにQ,Q′ーァゾビス(2−アミジノプロパン)二
塩酸塩0.2g、水300gを添加し窒素ガスにより充
分脱気した後、温度5000で1時間重合させた。
得られた重合体の重合率は95.97%、水分は58.
9%であった。このものを60℃で乾燥し水分18.9
%とした後コバルト60のy線を線量率5000仇ad
/hrで4び分間照射し、残留ジメチルアミノェチルメ
タクリレート塩化メチル塩濃度(重合体に対する割合)
を測定した結果0.018%であった。実施例 4 アクリル酸10雌に過硫酸カリウム0.1g、水40咳
を添加し、窒素ガスにより充分脱気した後、温度500
0で3時間重合させた。
得られた重合体の重合率は97.37%、水分は79.
1%であった。このものを6000で乾燥し、水分22
.7%とした後、窒素脱気したものにコバルト60のy
線を線量率750仇ad/hrで1時間照射し残留アク
リル酸濃度(重合体に対する割合)を測定した結果検出
されなかった。実施例 5ピニルスルホン酸ナトリウム
300gにペンゾィンプロピルヱーテル0.3g、水2
00gを添加し、窒素ガスにより充分脱気した後、バッ
トに入れ400W高圧水銀ランプで紫外線を30分間照
射し、重合を行なった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 水溶性ビニルモノマーを触媒重合法または紫外線重
    合法によつて重合することにより、重合率が少なくとも
    95%の重合体をつくり、該重合体を含な系の水分が1
    5〜30%となるように調整した後、該系に電離性放射
    線を照射することからなる水溶性ビニルポリマーの製造
    方法。 2 前記水溶性ビニルモノマーが、ジメチルアミノエチ
    ルアクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート
    、ジエチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノ
    エチルメタクリレート;これらの塩酸塩、硫酸塩、酢酸
    塩等の第三級塩;塩化メチル、ジメチル硫酸あるいはジ
    エチル硫酸等で四級化された第四級塩;アクリル酸、メ
    タクリル酸およびこれらのエステル化合物;アクリルア
    ミドおよびメタクリルアミドから成る群より選ばれるモ
    ノマーであることを特徴とする特許請求の範囲第1項に
    記載の方法。 3 前記系の水分を約20%に調整した後、電離性放射
    線を照射することを特徴とする特許請求の範囲第1項ま
    たは第2項に記載の方法。 4 前記電離性放射線照射を窒素雰囲気中で行なうこと
    を特徴とする特許請求の範囲第1〜3項のいずれかに記
    載の方法。 5 前記電離性放射線がガンマー線であることを特徴と
    する特許請求の範囲第1〜4項のいずれかに記載の方法
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