JPS6032125A - 磁気記録媒体製造法 - Google Patents
磁気記録媒体製造法Info
- Publication number
- JPS6032125A JPS6032125A JP13988683A JP13988683A JPS6032125A JP S6032125 A JPS6032125 A JP S6032125A JP 13988683 A JP13988683 A JP 13988683A JP 13988683 A JP13988683 A JP 13988683A JP S6032125 A JPS6032125 A JP S6032125A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- magnetic
- magnetic recording
- recording medium
- cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 44
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 26
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 abstract description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 6
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 abstract description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 abstract description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract 1
- 239000002173 cutting fluid Substances 0.000 abstract 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 abstract 1
- -1 perchloroethylene, trichloroethylene Chemical group 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 11
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 5
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 4
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010730 cutting oil Substances 0.000 description 3
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 3
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 description 1
- 210000003141 lower extremity Anatomy 0.000 description 1
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気記録媒体製造法に係り、磁気記録媒体基板
を、例えば脱脂溶剤、界面活性剤を含むエマルジョン水
溶液を用いて超音波洗浄した後、該磁気記録媒体基板を
乾燥し、その後肢磁気記録媒体表面に磁性層を設けると
いった工程を経て磁気記録媒体を製造することにより、
磁気記録媒体の製造に要する時間が短縮化でき、磁気記
録媒体製造能率が著しく一向上して低コストなものとな
り又、磁気記録媒体製造設備も簡単なものとなって設備
費も安いものとなり、さらには磁気記録媒体の製造に際
しての安全性も向上し、又出来た磁気記録媒体には、例
えば磁性層の厚みムラやピンホールがなく、欠陥のない
優れたもので′ある磁気記録媒体製造法を提供すること
を目的とする。
を、例えば脱脂溶剤、界面活性剤を含むエマルジョン水
溶液を用いて超音波洗浄した後、該磁気記録媒体基板を
乾燥し、その後肢磁気記録媒体表面に磁性層を設けると
いった工程を経て磁気記録媒体を製造することにより、
磁気記録媒体の製造に要する時間が短縮化でき、磁気記
録媒体製造能率が著しく一向上して低コストなものとな
り又、磁気記録媒体製造設備も簡単なものとなって設備
費も安いものとなり、さらには磁気記録媒体の製造に際
しての安全性も向上し、又出来た磁気記録媒体には、例
えば磁性層の厚みムラやピンホールがなく、欠陥のない
優れたもので′ある磁気記録媒体製造法を提供すること
を目的とする。
例えば磁気ディスク等の磁気記録媒体の特性向上の為に
、従来より基板上に設けられる磁性層の研究が行なわれ
、種々の提案により優れた磁気ディスクが提案されてい
る。
、従来より基板上に設けられる磁性層の研究が行なわれ
、種々の提案により優れた磁気ディスクが提案されてい
る。
しかし、磁気ディスクの特性は、基板上に設けられる磁
性層のみによるのではなく、磁性層が設けられる基板、
特に基板の表面性によっても影響を受けるものでちるこ
ともわかってきた。すなわち、アルミニウム合金等の磁
気ディスク基板上に磁気記録媒体を塗布する際、基板上
に微小な切削肩やホコリ等の異物が付いていると、これ
らの異物によって均一な磁性層の形成されるのが妨けら
れることになり、又、基板上に有機物の汚れや切削油と
いった残漬が付いていると、例えばスビ/コートによっ
て磁性塗膜層を形成する際に、基板表面のぬれ性が変化
する為、磁性塗料が均一に拡がらず、磁性塗膜の厚みム
ラやピンホールが起きることになり、これらによって磁
気ディスクの特性が大きく低下してしまう。
性層のみによるのではなく、磁性層が設けられる基板、
特に基板の表面性によっても影響を受けるものでちるこ
ともわかってきた。すなわち、アルミニウム合金等の磁
気ディスク基板上に磁気記録媒体を塗布する際、基板上
に微小な切削肩やホコリ等の異物が付いていると、これ
らの異物によって均一な磁性層の形成されるのが妨けら
れることになり、又、基板上に有機物の汚れや切削油と
いった残漬が付いていると、例えばスビ/コートによっ
て磁性塗膜層を形成する際に、基板表面のぬれ性が変化
する為、磁性塗料が均一に拡がらず、磁性塗膜の厚みム
ラやピンホールが起きることになり、これらによって磁
気ディスクの特性が大きく低下してしまう。
そこで、このような欠点を除去する為に、従来ではアル
ミニウム合金等のディスク基板を、例えばパークロルエ
チレン等の脱脂溶液中に浸漬して、ディスク基板表面に
付いている有機物や切削油等を溶解除去した後、蒸気乾
燥を行ない、そしてその後洗剤水溶液に浸漬してディス
ク基板を洗浄し、最終的に純水洗浄といった洗浄工程を
経た後、乾燥することによって、ディスク基板表面を清
浄にすることが図られている。
ミニウム合金等のディスク基板を、例えばパークロルエ
チレン等の脱脂溶液中に浸漬して、ディスク基板表面に
付いている有機物や切削油等を溶解除去した後、蒸気乾
燥を行ない、そしてその後洗剤水溶液に浸漬してディス
ク基板を洗浄し、最終的に純水洗浄といった洗浄工程を
経た後、乾燥することによって、ディスク基板表面を清
浄にすることが図られている。
しかし、このようなディスク基板清浄工程は、脱脂工程
と洗剤洗浄工程とが別々になっていることより、処理時
間もそれだけ長くなり、又処理設備もそれだけ大型化し
、さらには脱脂溶剤の蒸気による危険性が増し、安全性
の為の対処も要り、処理コストが著しく高く付き、磁気
ディスクのコスト高をもたらしている。
と洗剤洗浄工程とが別々になっていることより、処理時
間もそれだけ長くなり、又処理設備もそれだけ大型化し
、さらには脱脂溶剤の蒸気による危険性が増し、安全性
の為の対処も要り、処理コストが著しく高く付き、磁気
ディスクのコスト高をもたらしている。
本発明は上記欠点を除去したものであり、すなわちディ
スク基板表面に付着している切削油等の有機物を溶解す
る、例えばパークロルエチレン、トリクロルエチレン、
ケロシン、IPA、フッ素系溶剤等の脱脂溶剤と、ディ
スク基板表面に付着している切削層や塩類等の無機物を
除去する、例えば酸、アルカリあるいはビルダー等を含
む水溶液とを混合し、さらにこれに特に非イオン性の界
面活性剤を添加し、これをホモジナイザー等の攪拌装置
で乳化させたエマルジョン洗浄液で、超音波洗浄装置又
はバブリング洗浄装置を用いてディクス基板表面を洗浄
し、その後純水洗浄を行ない、そして乾燥した後、該デ
ィスク基板表面に磁性層を塗布し、この磁性塗膜を焼付
は硬化するといった工程によって磁気ディスクを作れば
、能率よく、かつ低コストで、しかも高性能な磁気ディ
スクを提供できることを見い出したのである。
スク基板表面に付着している切削油等の有機物を溶解す
る、例えばパークロルエチレン、トリクロルエチレン、
ケロシン、IPA、フッ素系溶剤等の脱脂溶剤と、ディ
スク基板表面に付着している切削層や塩類等の無機物を
除去する、例えば酸、アルカリあるいはビルダー等を含
む水溶液とを混合し、さらにこれに特に非イオン性の界
面活性剤を添加し、これをホモジナイザー等の攪拌装置
で乳化させたエマルジョン洗浄液で、超音波洗浄装置又
はバブリング洗浄装置を用いてディクス基板表面を洗浄
し、その後純水洗浄を行ない、そして乾燥した後、該デ
ィスク基板表面に磁性層を塗布し、この磁性塗膜を焼付
は硬化するといった工程によって磁気ディスクを作れば
、能率よく、かつ低コストで、しかも高性能な磁気ディ
スクを提供できることを見い出したのである。
岡、ディスク基板表面に蕪機物質の付着が多い場合には
、HLB7〜8の界面活性剤でo / w型に、有機物
質の付着が多い場合には、HLB3〜6の界面活性剤で
w10型に調整したエマルジョン洗浄液を用いることが
望ましい。
、HLB7〜8の界面活性剤でo / w型に、有機物
質の付着が多い場合には、HLB3〜6の界面活性剤で
w10型に調整したエマルジョン洗浄液を用いることが
望ましい。
以下、本発明に係る磁気記録媒体製造法の具体的実施例
について述べる。
について述べる。
実施例1
まず、例えばパークロルエチレン20重量%、NP−1
0(日光ケミカルス−製)4重量% 、op−IQ(日
光ケミカルズ■製)4重量%、ケイ酸ソーダ2重量係、
純水70重量%の組成よりなるo/w型のエマルジョン
洗浄液を作り、−このエマルジョン洗浄液によって超音
波洗浄装置を用いてアルミニウム又はアルミニウム合金
製の磁気ディスク基板表面を洗浄する。
0(日光ケミカルス−製)4重量% 、op−IQ(日
光ケミカルズ■製)4重量%、ケイ酸ソーダ2重量係、
純水70重量%の組成よりなるo/w型のエマルジョン
洗浄液を作り、−このエマルジョン洗浄液によって超音
波洗浄装置を用いてアルミニウム又はアルミニウム合金
製の磁気ディスク基板表面を洗浄する。
そして、エマルジョン洗浄液によって洗浄された磁気デ
ィスク基板を純水によって洗浄し、この後この磁気ディ
スク基板を乾燥する。
ィスク基板を純水によって洗浄し、この後この磁気ディ
スク基板を乾燥する。
次に、上記のようにして得られた清浄な磁気ディスク基
板に対して、磁性粉末、バインダー、その他の添加物の
混合された磁性塗料を塗布して乾燥し、その後焼付は硬
化工程、及び研磨等の工程を経て磁気ディスクを作る。
板に対して、磁性粉末、バインダー、その他の添加物の
混合された磁性塗料を塗布して乾燥し、その後焼付は硬
化工程、及び研磨等の工程を経て磁気ディスクを作る。
実施例2
フロンソルブ(旭硝子■製)10重量%、NP−10(
日光ケミカルズ■製)4重量%、NP−15(日光ケミ
カルズ■製)4重量%、ケイ酸ソーダ2重量%、純水8
0重量%の組成より々るo/w型のエマルジョン洗浄液
を作り、このエマルジョン洗浄液を用いて実施例1のエ
マルジョン洗浄液の代りに洗浄を行なう外は実施例1と
゛同様にして行ない、磁気ディスクを作る。
日光ケミカルズ■製)4重量%、NP−15(日光ケミ
カルズ■製)4重量%、ケイ酸ソーダ2重量%、純水8
0重量%の組成より々るo/w型のエマルジョン洗浄液
を作り、このエマルジョン洗浄液を用いて実施例1のエ
マルジョン洗浄液の代りに洗浄を行なう外は実施例1と
゛同様にして行ない、磁気ディスクを作る。
比較例
実施例1と同様々磁気ディスク基板を、フロンソルプを
用いて脱脂した後、このディスク基板表面に付いている
脱脂溶剤を乾燥除去し、そしてこのディスク基板をP3
T580(ヘンケル白水■製)5重量%の水溶液によっ
て超音波洗浄装置を用いて洗浄し、この洗浄後純水洗浄
を行ない、乾燥し、そして実施例1と同様にして磁性層
を設けて磁気ディスクを作る。
用いて脱脂した後、このディスク基板表面に付いている
脱脂溶剤を乾燥除去し、そしてこのディスク基板をP3
T580(ヘンケル白水■製)5重量%の水溶液によっ
て超音波洗浄装置を用いて洗浄し、この洗浄後純水洗浄
を行ない、乾燥し、そして実施例1と同様にして磁性層
を設けて磁気ディスクを作る。
そして、上記実施例と比較例とを比べると、例えば磁気
ディスク基板の洗浄時間を同じにすると、実施例1及び
2の工程による洗浄の方が比較例の工程による洗浄の場
合よりもより効果的に洗浄されて磁気ディスク基板表面
は一層清浄になっており、又、磁性層に悪影響を及ぼさ
ない程度にまで磁気ディスク基板表面を洗浄するに要す
る時間は、実施例のものでは3分弱にすぎないのに対し
、比較例のものでは6分強と実施例のようなエマルジョ
ン洗浄液を用いた場合の倍以上の時間が要り、磁気記録
媒体の製造に際して本発明のようなエマルジョン洗浄液
を用いて磁気記録媒体基板を洗浄することは極めて効果
的であることがわかる。
ディスク基板の洗浄時間を同じにすると、実施例1及び
2の工程による洗浄の方が比較例の工程による洗浄の場
合よりもより効果的に洗浄されて磁気ディスク基板表面
は一層清浄になっており、又、磁性層に悪影響を及ぼさ
ない程度にまで磁気ディスク基板表面を洗浄するに要す
る時間は、実施例のものでは3分弱にすぎないのに対し
、比較例のものでは6分強と実施例のようなエマルジョ
ン洗浄液を用いた場合の倍以上の時間が要り、磁気記録
媒体の製造に際して本発明のようなエマルジョン洗浄液
を用いて磁気記録媒体基板を洗浄することは極めて効果
的であることがわかる。
又、磁気ディスク基板の洗浄に要する設備も本発明の場
合には簡単であって、上記実施例と比較例とを比べると
、その設備費は比較例のものでは実施例の場合の倍も要
る。
合には簡単であって、上記実施例と比較例とを比べると
、その設備費は比較例のものでは実施例の場合の倍も要
る。
又、比較例の場合には、脱脂工程において蒸発する溶剤
蒸気の為に安全性に対する処置も要シ、それだけ設備も
大型化し、コスト高なものとなるのに対し、実施例1,
2のように本発明の場合には、脱脂溶剤の蒸発量が問題
にならず、安全性に富んでいて、又安全性の為に要する
特別な設備も要らず、それだけ簡単な設備で行なえる。
蒸気の為に安全性に対する処置も要シ、それだけ設備も
大型化し、コスト高なものとなるのに対し、実施例1,
2のように本発明の場合には、脱脂溶剤の蒸発量が問題
にならず、安全性に富んでいて、又安全性の為に要する
特別な設備も要らず、それだけ簡単な設備で行なえる。
さらには、超音波洗浄装置を用いた場合に、洗浄液とし
て脱脂溶剤及び界面活性剤を含むエマルジョン水溶液を
用いると、例えば単に界面活性剤水溶液を用いて超音波
洗浄する場合よりも、アルミニウム又はアルミニウム合
金よりなるディスク基板表面を損傷しないものと々す、
極めて望ましくなる。
て脱脂溶剤及び界面活性剤を含むエマルジョン水溶液を
用いると、例えば単に界面活性剤水溶液を用いて超音波
洗浄する場合よりも、アルミニウム又はアルミニウム合
金よりなるディスク基板表面を損傷しないものと々す、
極めて望ましくなる。
上述の如く、本発明に係る磁気記録媒体製造法は、磁気
記録媒体基板を、該磁気記録媒体基板表面に付いている
有機物質を除去する物質と無機物質を除去する物質とを
混合乳化した洗浄液で洗浄した後、該磁気記録媒体基板
表面に磁性層を設けるので、例えば磁性塗料が磁気記録
媒体基板表面に均一に塗布でき、磁性塗膜の厚みムラや
ピンホールの発生のない優れた磁気記録媒体ができるよ
うになり、又、磁気記録媒体の製造工程も少なくなり、
その製造に要する時間も短縮化され、製造能率は著しく
向上し、かつ製造設備も簡単なものとなって、設備費も
少なくてすみ、磁気記録媒体の製造コストが低摩なもの
となシ、さらには製造に際しての安全性にも富んでいる
等の特長を有する。
記録媒体基板を、該磁気記録媒体基板表面に付いている
有機物質を除去する物質と無機物質を除去する物質とを
混合乳化した洗浄液で洗浄した後、該磁気記録媒体基板
表面に磁性層を設けるので、例えば磁性塗料が磁気記録
媒体基板表面に均一に塗布でき、磁性塗膜の厚みムラや
ピンホールの発生のない優れた磁気記録媒体ができるよ
うになり、又、磁気記録媒体の製造工程も少なくなり、
その製造に要する時間も短縮化され、製造能率は著しく
向上し、かつ製造設備も簡単なものとなって、設備費も
少なくてすみ、磁気記録媒体の製造コストが低摩なもの
となシ、さらには製造に際しての安全性にも富んでいる
等の特長を有する。
特許出願人 日本ビクター株式会社−
Claims (1)
- 磁気記録媒体基板を、該磁気記録媒体基板表面に付いて
いる有機物質を除去する物質と無機物質を除去する物質
とを混合乳化した洗浄液で洗浄した後、該磁気記録媒体
基板表面に磁性層を設けることを特徴とする磁気記録媒
体製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13988683A JPS6032125A (ja) | 1983-07-30 | 1983-07-30 | 磁気記録媒体製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13988683A JPS6032125A (ja) | 1983-07-30 | 1983-07-30 | 磁気記録媒体製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6032125A true JPS6032125A (ja) | 1985-02-19 |
Family
ID=15255877
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13988683A Pending JPS6032125A (ja) | 1983-07-30 | 1983-07-30 | 磁気記録媒体製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6032125A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0658619A1 (en) * | 1993-11-01 | 1995-06-21 | Xerox Corporation | A method of cleaning a substrate |
-
1983
- 1983-07-30 JP JP13988683A patent/JPS6032125A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0658619A1 (en) * | 1993-11-01 | 1995-06-21 | Xerox Corporation | A method of cleaning a substrate |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5977041A (en) | Aqueous rinsing composition | |
| US3796602A (en) | Process for stripping polymer masks from circuit boards | |
| TWI393178B (zh) | 半導體基板處理用之組成物 | |
| US6635118B2 (en) | Aqueous cleaning of polymer apply equipment | |
| JP2007165935A (ja) | スクラバ中の金属を除去する方法 | |
| JP2010518230A (ja) | パーティクル除去方法及び組成物 | |
| JPH0336079B2 (ja) | ||
| JPS6032125A (ja) | 磁気記録媒体製造法 | |
| TWI425323B (zh) | 用以移除後蝕刻及灰化之光阻劑殘餘物及總體光阻劑之組合物 | |
| TWI855138B (zh) | 半導體處理用組成物及處理方法 | |
| JPS6356921A (ja) | 基板の処理方法 | |
| TW202244268A (zh) | 半導體清洗用組成物及清洗方法 | |
| JP4656308B2 (ja) | 反射防止剤固化物の除去用洗浄液および洗浄方法 | |
| US2381479A (en) | Method of providing matte surfaces upon glass | |
| US6394106B1 (en) | Cleaning solutions and methods for semiconductor wafers | |
| JPS6092621A (ja) | 精密洗浄方法 | |
| US2245052A (en) | Liquid cleaning composition | |
| JP3491657B2 (ja) | 金属の乾燥前処理剤および乾燥方法 | |
| WO2006125369A1 (fr) | Composition pour l’elimination d’une couche de photoresist et procede pour l'utiliser | |
| JP4758725B2 (ja) | 洗浄剤 | |
| JPH0712956B2 (ja) | ガラス基板の洗浄方法 | |
| JPH04335356A (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
| JPH03165872A (ja) | プラスチック成形品の塗装前処理方法および塗装前処理用脱脂洗浄剤 | |
| JP3835768B2 (ja) | 精密光学素子の洗浄方法 | |
| JP2025524576A (ja) | 洗浄組成物 |