JPS6033794B2 - 摺動部材 - Google Patents

摺動部材

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JPS6033794B2
JPS6033794B2 JP13401480A JP13401480A JPS6033794B2 JP S6033794 B2 JPS6033794 B2 JP S6033794B2 JP 13401480 A JP13401480 A JP 13401480A JP 13401480 A JP13401480 A JP 13401480A JP S6033794 B2 JPS6033794 B2 JP S6033794B2
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JP
Japan
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silicon carbide
coating layer
sliding member
alumina
base
Prior art date
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Expired
Application number
JP13401480A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5757873A (en
Inventor
三郎 田畑
安博 阿久根
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Pillar Packing Co Ltd
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
Nippon Pillar Packing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Agency of Industrial Science and Technology, Nippon Pillar Packing Co Ltd filed Critical Agency of Industrial Science and Technology
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Publication of JPS5757873A publication Critical patent/JPS5757873A/ja
Publication of JPS6033794B2 publication Critical patent/JPS6033794B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/024Deposition of sublayers, e.g. to promote adhesion of the coating
    • C23C14/025Metallic sublayers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Sliding-Contact Bearings (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、基体の表面部に、炭化ケイ素を物理蒸着によ
って被覆させた摺動部材に関するものである。
従来、メカニカルシール、軸受、タービン、ポンプ部品
等の機械産業分野に供せられ、摺動する部分に用いられ
る摺動部村として、カーボン基体上に直接炭化ケイ素の
皮膜を形成せしめたものがある。
しかしながら基体はカーボンを用いているため、皮膜で
ある炭化ケイ素に比して機械的強度(特にヤング率)が
小さいので、過酷な条件下において使用するとき、カー
ボン基体に歪等の不都合を生じる。このため皮膜として
形成された炭化ケイ素の皮膜を形成せしめたものが摺動
部村として広く産業用途に供せられようとするとき、負
荷条件等の適用範囲面から目づと制約される実状があっ
た。また近年、カーボン素材の価格アップにより、安価
な摺動部材を産業市場へ供することを鑑みると不適切に
なりつつある。そこで、発明者らは、価格安なアルミナ
(Aそ203)を基体として用いることに着目し、アル
ミナ基体上に炭化ケイ素を被覆する事により、機械的強
度の高い、価格安な炭化ケイ素複合体からなる摺動部材
が期待できる。しかし従釆の化学蒸着法では、蒸着温度
が高い事、およびキャリャ−ガスである水素の還元作用
によるアルミナ基体組織の破壊等により炭化ケイ素を被
覆することは技術的に困難であった。本発明は、係る事
情に鑑みなされたもので、アルミナ基体と炭化ケイ素被
覆層とが非常に強固に接合された構成となり、炭化ケイ
素被覆層に内部応力が生じなく、しかも優れた摺動特性
を有する摺動部材を提供しようとするものである。以下
に、本発明を詳細に説明する。アルミナ基体上に炭化ケ
イ素被覆層を形成せしめるにあたって、この異質な材料
どうしを接合するには熱風彰張差によって生じる欠陥を
出来るだけなくせる構成としなければならずまた内部応
力の生じない構成としなければらない。
このため炭化ケイ素被覆層が施こされるべきアルミナ基
体の表面部に予め金属被覆層を設ければ非常に良好であ
り、つまりァルミナ基体の表面にいわゆるメタライジン
グを施こす。このメタライズ材としては、鉄とニッケル
との合金、モリブデン、マンガン、或いはこれらの合金
等を意図するものである。特に本発明では炭化ケイ素の
結晶系が同じであるモリブデンやマンガンとモリブデン
の合金等を用いることが好ましい。そしてこのメタライ
ジングを施こしたアルミナ基体に、階動部材として好適
な炭化ケイ素被覆層をを物理蒸着によって形成したもの
である。この物理蒸着には、イオンプレーティング法、
真空蒸着法、スパッタリング法等があり、これらの物理
蒸着手段を用いても本発明に係る摺動部材を得ることは
可能かも知れないが、低温蒸着ができ、制御性の良いス
パック法が好適であり「特に蒸着速度が通常の5〜1M
音速し、マグネトロン型スパッタ法が最適である。この
スバッタ蒸着に従えば、酒動部材として必要な厚さが5
0仏m以上の炭化ケイ素被覆層をも自由に形成でき、し
かも500〜1000ooという極めて低温状態にて蒸
着できるので、炭化ケイ素被覆層に内部応力の発生や歪
を生じさせない。従って安定した繊密な炭化ケイ素被覆
層が出来る。しかもメタラィジングを施こしたアルミナ
基体上に蒸着するので、炭化ケイ素と金属がうまく接合
し、例えば、アルミナに直接炭化ケイ素を蒸着させた場
合のような剥離現象は全くなくすることができ、優れた
摺動部材が得られた。次に本発明を例示図面に基づきさ
らに説明する。
第1図は、本発明に係る摺動部材であり、メカニカルシ
ールの密封環を意図した一例である。
この情動部村1の基体2はアルミナ(Aそ203)から
なるものである。
3は金属被覆層であり、炭化ケイ素の被覆が施こされる
べきアルミナ基体の表面部を金属化いわゆるメタラィジ
ングを施こすことによって設けたものである。
4は炭化ケイ素被覆層である。
この炭化ケイ素被覆層4は、繊密でノンポーラスであり
、かつ均質的なものを得ることができるスバッタ蒸着に
よる。このような構成となす摺動部材1は、金属被覆層
3によって、アルミナ基体2と炭化ケイ素被覆層4とが
強固に接合され、しかも熱膨張差や熱歪等が金属被覆層
3によって緩和解消される構造となしたものである。そ
して、本発明に係る摺動部材を得るためのスバッタ蒸着
の好適な装置例を第2図で示した。この第2図において
、5は真空槽、6はケイ素ターゲット、7は永久磁石、
8はヒーター「9はメタラィジングを施こしたアルミナ
基体、10‘まを甫助電極、1 1と12は高周波電源
、13は直流電源、14はメインバルブ、15は自動圧
力調節装置、16はピコアンメータ、17は質量分析装
置、】8はアルゴンガス導入バルフ、19はアセチレン
ガス導入バルブを各々示すものである。このスパッタ装
置は形態上、マグトロン型スパッタ装置と称せられよう
。そしてこのスパッタ装置によって、第1図で示した摺
動部村を如何にして得られるかを説明すれば、まずアル
ミナ基体2に予め金属被覆層3を設けた素材則ちメタラ
ィジングを施こしたアルミナ基体9を真空槽5内に入れ
ておき、真空槽5を10‐6のrrオーダーまで真空に
引き、ヒーター8を500〜100000の範囲内にま
で昇温し「バルブ19よりアセチレンを10‐4〜10
‐5オーダ−まで導入し、さらにバルブ18よりアルゴ
ンを10‐3オーダーまで導入する。次に高周波電源竃
1または、直流電源13によってケイ素ターゲット6に
電力を印加し、スバッタ蒸着を開始する。このようにし
てメタラィジングを施こしたアルミナ基体9の金属被覆
層3の上に炭化ケイ素被覆層4が形成されてゆく。そし
て第1図の摺動部材1が出来る。尚、第2図のスパッタ
装置を用いれば、摺動部材1の炭化ケイ素被覆層4の炭
化ケイ素の組成を都合よく連続的に変えることが出来る
。例えば、最初過剰の遊離ケイ素を含む炭化ケイ素を蒸
着させつつ、次第に正規量論組成の炭化ケイ素へと連続
的に組成を変える事が出来る。つまりト第2図において
、質量分析計17により真空槽5内のアセチレン分圧を
検知し、その電気信号をピコアンメーター16に導き、
このピコアンメーター16の電流値がアセトン分圧に対
応するようになしている。従ってピコアンメーター16
の出力電流を任意に設定しておけば、自動圧力調節装置
15が、その出力電流に応じて作動し、自圧力調節装置
15に付いているバルブが開閉し、アセチレン分圧が低
圧から高圧へと自動制御され、過剰のケイ素を含む炭化
ケイ素から正規量論組成の炭化ケイ素へと炭化ケイ素被
覆層4を連続的にかつ精度良く、制御出来る。
このような炭化ケイ素被覆層4となせば遊離ケイ素と金
属被覆層3の金属とが接合されやすくなり、密着性が一
層上昇した摺動部材1を得ることができた。次に実施例
を示す。実施例 基体として外径30脚×内径20帆×厚さ8肌のアルミ
ナ(Aそ203)の基体の一端面に通常行なわれている
手段によってモリブデン(Mo)メタライジングを施こ
した。
そしてこのモリブデンからなる金属被覆層の上に炭化ケ
イ素の被覆を形成すべくスバッタ蒸着の操作条件として
、高周波電力:500W、アセチレン分圧:3×10‐
4のrr、アルゴン分圧:3×10‐3ton、アルミ
ナ基体温度:−‐50000、保持時間:180分にて
行った結果11.5〃m厚サの炭化ケイ素被覆層が得ら
れた。炭化ケイ素の表面は鏡面となしており、ビッカー
ス硬度値は3100kg/のあった。さらに得られた摺
動部材を鈴木式摩耗試験機にて相手村としてカーボンを
選び、100Hrのドライ摩耗試験をした結果、1/1
0000肌まで測定できる表面測定機で測定したが、摩
耗量はゼロであった。そして摺動部材の剥離強度をみる
ために引張強度200k9/地のェポキシ樹脂にて沼動
部材の両端面同志を接着し、引張り試験を行ったところ
ェポキシ樹脂部より破断した。この事から被覆層の剥離
強度は200kg/の以上と思われる。以上の如く、詳
述したように本発明に係る情動部材は、アルミナ基体と
炭化ケイ素被覆層とが金属被覆層を介して強固剥離強度
として200k9/雌以上に援合されており、同時にヤ
ングモジュラスの高い構成材のみを一体化せしめた構成
なので、高負荷(一般に2000kg/c材・m/s以
上)に耐え、かつスバッタ蒸着によって繊密な炭化ケイ
素被覆層のものが得られた。
しかも安価なアルミナを基体として用いており、簡便に
製造出来るので、産業市場へ直ちに供することの出来る
摺動部材である。
また、この摺動部材は耐摩耗性が極めて優れているので
、メカニカルシールの密封環、軸受のすべり面、タービ
ン、ポンプ等の摺動部分や他の一般キカィ部品に適用す
れば前述した種々の効果を発揮できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明に係る摺動部材の部分斜視図、第2図
は、第1図の摺動部材を製造するためのスパッタ装置の
概略断面図である。 1・・・摺敷部材、2・・・アルミナ基体、3・・・金
属被覆層、4・・・炭化ケイ素被覆層。 第1図 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 スパツタ蒸着によつて、炭化ケイ素の被覆が施こさ
    れるべき、アルミナ基体の表面部に金属被覆層を設けて
    炭化ケイ素を形成させてなる摺動部材。
JP13401480A 1980-09-25 1980-09-25 摺動部材 Expired JPS6033794B2 (ja)

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JP13401480A JPS6033794B2 (ja) 1980-09-25 1980-09-25 摺動部材

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JP13401480A JPS6033794B2 (ja) 1980-09-25 1980-09-25 摺動部材

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JPS5757873A JPS5757873A (en) 1982-04-07
JPS6033794B2 true JPS6033794B2 (ja) 1985-08-05

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JPS60245829A (ja) * 1984-05-21 1985-12-05 Sankyo Kasei Kk 複合摺動部材
JPH0679992B2 (ja) * 1987-06-17 1994-10-12 日本碍子株式会社 金属・セラミック複合体
JPS6413280U (ja) * 1987-07-15 1989-01-24

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JPS5757873A (en) 1982-04-07

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