JPS6034082A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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Publication number
JPS6034082A
JPS6034082A JP58143523A JP14352383A JPS6034082A JP S6034082 A JPS6034082 A JP S6034082A JP 58143523 A JP58143523 A JP 58143523A JP 14352383 A JP14352383 A JP 14352383A JP S6034082 A JPS6034082 A JP S6034082A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
type
light
potential
layers
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58143523A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsuhiko Oimura
老邑 克彦
Tomiyoshi Yoshida
吉田 富省
Naotake Nagao
長尾 尚武
Yuji Ogawa
小川 裕士
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Omron Corp
Original Assignee
Tateisi Electronics Co
Omron Tateisi Electronics Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tateisi Electronics Co, Omron Tateisi Electronics Co filed Critical Tateisi Electronics Co
Priority to JP58143523A priority Critical patent/JPS6034082A/ja
Publication of JPS6034082A publication Critical patent/JPS6034082A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F55/00—Radiation-sensitive semiconductor devices covered by groups H10F10/00, H10F19/00 or H10F30/00 being structurally associated with electric light sources and electrically or optically coupled thereto
    • H10F55/18—Radiation-sensitive semiconductor devices covered by groups H10F10/00, H10F19/00 or H10F30/00 being structurally associated with electric light sources and electrically or optically coupled thereto wherein the radiation-sensitive semiconductor devices and the electric light source share a common body having dual-functionality of light emission and light detection

Landscapes

  • Photo Coupler, Interrupter, Optical-To-Optical Conversion Devices (AREA)
  • Led Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の分野) この発明は1個のチップで発光と受光の両方ができるよ
うにした半導体装置に関する。
(従来技術とその問題点) 発光ダイオード(LED)のpa1接合はフA(−ダイ
オード(P D )と同様の受光機能も持っているため
、LEDを発光兼受光素子として用い得ることが既に知
られており、これを利用づ−れば1本のいる(N子通信
学会技術研究報告、ED79−82 1979年11月
4日)。
一般にLEDと光ファイバとの結合効率は、LEDの発
光面が小さいほど良く、PDと光ファイバとの結合効率
はPDの受光面が大きいほど良い。
従って、LEDを発光兼受光素子として用いるとぎ、発
光時の結合効率を良くするために発光面の小さいLED
を使用すると受光時の結合効率が悪くなり、受光時の結
合効率を良くするために受光面の大きいLEDを使用す
ると発光時の結合効率が悪くなるという欠点があった。
(発明の目的) この発明の目的は、LEDモード、PDモード何れの場
合にも効率良く光ファイバと結合できる受光・発光兼用
ダイオードを得ることにある。
(発明の構成と効果) この発明は、n型半導体層とn型半導体層とを接合して
なる発光・受光兼用ダイオードと、前記n型半導体層ま
たはn型半導体層内に形成され、1〜層とからなること
を特徴とする半導体装置にある。
このような半導体装置によれば、発光時には前記電流路
を狭搾することによって発光面積を縮少化し、他方受光
時には前記電流路を狭搾しないことによって発光面積を
増大させ、もって発光、受光何れの場合にも光ファイバ
との結合効率を良好ならしめることができる。
(実施例の説明) 第1図において、1はn型Ga As基板、2はn型G
a AfAs層、3はn型Ga As ff!1.4G
Jp型Qa AfAS層、5はn型Ga As ffI
T、これらの各層2〜5はエピタキシャル成長にて形成
されている。
6はn型Ga AfAS層4の形成途中で網目形状に選
択拡散された11型GaA、e△Sによるゲート層であ
る。
ここで、中央部の格子間隔d1は周辺部の格子S隔d 
2より広くなっている。そして、各層2〜4が2重へテ
ロ接合の発光素子を形成しており、n型Ga As層3
がLEDモード時の活性層となるとともに、PDモモ一
時には受光面として11 fluする。
アルミ蒸着によりカソード電極7.ゲート電極8、アノ
ード電極9が設()られており、またアノード電極9は
リング状に形成されている。
次に、第2図を参照してL]ヨDモード時の動作を説明
する。カソード電l′fX7の電位V++J:りも高い
電位V+ 2 (Vl + <Vl 2 >がアノード
電極9に加えられると、この実施例素子はLED素子と
して機能する。このとき、グー1〜電極8にVl2より
高い電位V+ 3 (Vl 2 <Vl 3 )を加え
ると、層4と層6が逆バイアスになり、層6の回りに空
乏層21が広がる。このとき、Vl3が充分高いどきに
は、第2図のように相隣接づる空乏層同士がつながって
順電流22が狭搾され、実効発光面積が小さくなり、発
光部が局部化される。
従って、光ファイバ23の端面に対して発光面積は充分
に縮少化され、効率の良い光結合が達成される。
次に、第3図を参照してPDモモ一時の動作を説明する
。カソード電極の電位V21よりも低い電位V22 (
V2 + >V22 ) ヲ7/−ト電極9に加えると
、本実施例素子はPDとして機能する。
このとき、グーl−電極8を開放またはアノード電極9
と短絡させてお(プば、層6の回りに空乏層が太き(広
がることはなく、格子の隙間にはチャンネルができ、光
ファイバ23から光が入用されたとき、光電流31はカ
ソードからアノードに向かって広範囲にかつ均一に流れ
、PDモモ一時には実効受光面積が大きくなる。従って
、光ファイバ23の端面に対して発光面積は充分に増大
され、効率の良い光結合が達成される。
第4図はグー1一層を形成する場合の他の実施例を示す
もので、このようにn型QaΔfAs層2内にn型Ga
 AfAs層41層設1ノるようにしても良い。なお、
42はゲート電極である。
このように、発光・受光兼用ダイオードを構成するpま
たは11型層の何れかにゲート層を設ける面積を縮少し
、他方PDモード時の実効受光面積を増大して、光ファ
イバとの結合効率を良好にならしめることができる。
なお、前記実施例においては、ゲート層としてノーマリ
オン型を採用したが、これに代えてノーマリオフ型を用
いることもできる。また、グー1ル月料としては、Ga
 As 、Ga AfAS系の他に、GaInAS系、
Ga As 3b系、QalnASP系等を用いること
ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例を示す半導体装置の断面図
、第2図はLEDモード時の動作説明図、第3図はPD
モモ一時の動作説明図、第4図はゲート層の他の実施例
を示す断面図である。 1・・・n型Ga As基板 2 ・n型Ga Al1As層 3・・・p型GaAS活性層 4・・・p型層aΔ℃AS層 5・・・p型QaΔS層 7・・・カソード電極 8.42・・・ゲート電極 9・・・リング状アノード電極 23・・・光ファイバ 41・・・p型Ga A、gAsゲート層特許出願人 立石電機株式会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)n型半導体層とn型半導体層とを接合してなる発
    光受光兼用ダイオードと; 前記n型半導体層またはn型半導体層内に形成され、か
    つpn半導体層間の電流路を狭搾制御可能なゲート層と
    からなることを特徴とJる半導体装置。
JP58143523A 1983-08-05 1983-08-05 半導体装置 Pending JPS6034082A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58143523A JPS6034082A (ja) 1983-08-05 1983-08-05 半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58143523A JPS6034082A (ja) 1983-08-05 1983-08-05 半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6034082A true JPS6034082A (ja) 1985-02-21

Family

ID=15340715

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58143523A Pending JPS6034082A (ja) 1983-08-05 1983-08-05 半導体装置

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