JPS603428B2 - 反応性キサンテン染料の製法 - Google Patents
反応性キサンテン染料の製法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B62/00—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves
- C09B62/44—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves with the reactive group not directly attached to a heterocyclic ring
- C09B62/443—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves with the reactive group not directly attached to a heterocyclic ring the reactive group being alternatively specified
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Description
特許第687986号の対象は下記一般式〔式中R及び
R′は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシルー、低級
アルコキシ−、カルボキシルー又はスルホン酸基、R,
及びR2は水素原子又は場合によりヒドロキシル−、カ
ルボキシルー、スル3ホン酸−又はフェニル基又は−O
S03日基により置換されたアルキル基を示し、R,及
びR2は窒素原子と一緒になって場合により異種原子を
含有するァルキレンィミン環の構成員であることが出来
、R3は水素原子又はアルキル基、Aは単核状3又は2
核状の芳香族残基、例えばフェニレンー又はナフチレン
基又はジフェニル−、ジフヱニルアミンー、ジフエニル
スルフイド一、ジフエニルスルホンー又はァゾベンゾー
ル残基を表わし、これらは芳香族核においてハロゲン原
子、低級アルキタル基、低級アルコキシ基、カルボキシ
ルー又はニトロ基について置換されていることが出来、
Wは2価の架橋因子、例えば一C弘一、一CH2一C&
なる基を意味し、Yは式 なる基を表わし、ここでZは無機又は有機のアルカリ性
で脱離しうる残基を表わし、R4は水素原子又はアルキ
ル基、m、n及びqは0又は1を、pは1又は2を意味
する。 〕なる反応性キサンテン染料の製法であり、この方法は
下記一般式 Z(式中置換
基Bはクロル−又はプロム原子を表わし、R及びR′は
前記の意味を有する。 )なるジハロゲンキサンチリウム化合物1モルを下記一
般式(式中R3、W、A、R4、m、n、p及びqは前
記の意味を有する。 )なるァミノ化合物又は次式 (式中R,及びR2は前記の意味を有する。 )なるァミン少くとも1モルと、純水性、水性−有*性
又は有機性媒質中約0〜約120℃、好ましくは約20
午C〜約80℃にて、場合により酸結合剤の存在下に反
応せしめ、得られたモノ縮合生成物を次いで前記式HN
R,R2のアミン若くは前記の8−ヒドロキシェチルス
ルホニル基含有アミノ化合物少くとも1モルと純水性、
水性一有機性又は有機性媒質中約70℃〜約200℃、
好ましくは約9000〜約160℃にて酸結合剤の存在
下に反応せしめ、得られた下記一般式〔式中R,、R2
、R、R、R3、R4、W、A、m、n、q及びpは前
記の意味を有する。 )なるキサンチリウム化合物を硫酸化剤、リン酸化剤、
ハロゲン化剤、アルキル−又はアリールスルホン酸ハロ
ゲニド又は−カルボン酸ハロゲニド又はーカルボン酸無
水物で処理することによって、前記式においてZが基一
○−S03日、一○−P032日2、一ハロゲン又は−
○−アシルを意味するキサンチリウム染料に導き、この
ようにして得られた染料を、場合によりアルカリ性作用
剤、例えば水酸化アルカリ又は炭酸アルカリ、例えば水
酸化ナトリウム又は炭酸ナトリウムで処理することによ
って、Yが基を意味する反応する染料に導き、このよう
にして得られた染料を場合によりチオ硫酸塩、ジアルキ
ルァミン又はフェノールと反応(付加)させることによ
ってZが残基−S−S03日、一N(アルキル)2又は
一を意味する対応染料 に導くことによって実施される。 しかしこの公知の方法では中間段階における縮合の際に
得られた反応生成物を後続処理の前に中間単離すること
が必要である。 本発明者は特定の溶剤を使用して純有機性媒質中で操作
すると、この公3印方法の操作法において上記の欠点、
即ち反応生成物の中間単離という付加的操作段階を除去
することが出釆、本方法自体を一般的操作技術的に、ま
た経済的に改善出来ることを見出した。 すなわち本発明は下記一般式{1) (式中R及びRは水素原子、ハロゲン原子、例えばフル
オル−、クロルー又はブロム原子、又はヒドロキシー、
アルキルー、アルコキシ−、力ルボキシー又はスルホン
酸基を表わし、R,及びR2は水素原子、シクロヘキシ
ル基、又は場合によりハロゲン原子又はヒドロキシ−、
カルボキシー、スルホン酸−又はフェニル基又は一OS
QH基又は一日N−アシル基によって置換されたァルキ
ル基、又は窒素原子と一緒になって場合により異種原子
を含有するアルキレンイミン環、例えばピベリジンー又
はモルホリン環の構成員であることが〆×出来、R3は
水素原子又はアルキル基、Aは単核状又は2後状の芳香
銭基、例えばフェニレン−又はナフチレン残基又はジフ
ェニルー、ジフェニルエーテル−、ジフエニルアミン−
、ジフエニルスフイドー、ジフエニルスルホン−又はア
ゾベンゾール残基を意味し、これらは芳香族核において
ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ0基、
ヒドロキシ−、カルボキシ−、スルホ−又はニトロ基に
よって置換されていることが出釆、Yは次式なる基を表
わし、ここでZはハロゲン原子、スルファト基(一OS
03H)、ホスフアト基(一OP03日2)又は−○−
アシル基、R4は水素原子又はアルキル基を表わし、m
及びnは0、1又は2、qは0又は1、pは1又2を意
味する。 )なる反応性キサンテン染料を製造するための新規な方
法に関し、この方法は中間体を単離することないこ下記
一般式
R′は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシルー、低級
アルコキシ−、カルボキシルー又はスルホン酸基、R,
及びR2は水素原子又は場合によりヒドロキシル−、カ
ルボキシルー、スル3ホン酸−又はフェニル基又は−O
S03日基により置換されたアルキル基を示し、R,及
びR2は窒素原子と一緒になって場合により異種原子を
含有するァルキレンィミン環の構成員であることが出来
、R3は水素原子又はアルキル基、Aは単核状3又は2
核状の芳香族残基、例えばフェニレンー又はナフチレン
基又はジフェニル−、ジフヱニルアミンー、ジフエニル
スルフイド一、ジフエニルスルホンー又はァゾベンゾー
ル残基を表わし、これらは芳香族核においてハロゲン原
子、低級アルキタル基、低級アルコキシ基、カルボキシ
ルー又はニトロ基について置換されていることが出来、
Wは2価の架橋因子、例えば一C弘一、一CH2一C&
なる基を意味し、Yは式 なる基を表わし、ここでZは無機又は有機のアルカリ性
で脱離しうる残基を表わし、R4は水素原子又はアルキ
ル基、m、n及びqは0又は1を、pは1又は2を意味
する。 〕なる反応性キサンテン染料の製法であり、この方法は
下記一般式 Z(式中置換
基Bはクロル−又はプロム原子を表わし、R及びR′は
前記の意味を有する。 )なるジハロゲンキサンチリウム化合物1モルを下記一
般式(式中R3、W、A、R4、m、n、p及びqは前
記の意味を有する。 )なるァミノ化合物又は次式 (式中R,及びR2は前記の意味を有する。 )なるァミン少くとも1モルと、純水性、水性−有*性
又は有機性媒質中約0〜約120℃、好ましくは約20
午C〜約80℃にて、場合により酸結合剤の存在下に反
応せしめ、得られたモノ縮合生成物を次いで前記式HN
R,R2のアミン若くは前記の8−ヒドロキシェチルス
ルホニル基含有アミノ化合物少くとも1モルと純水性、
水性一有機性又は有機性媒質中約70℃〜約200℃、
好ましくは約9000〜約160℃にて酸結合剤の存在
下に反応せしめ、得られた下記一般式〔式中R,、R2
、R、R、R3、R4、W、A、m、n、q及びpは前
記の意味を有する。 )なるキサンチリウム化合物を硫酸化剤、リン酸化剤、
ハロゲン化剤、アルキル−又はアリールスルホン酸ハロ
ゲニド又は−カルボン酸ハロゲニド又はーカルボン酸無
水物で処理することによって、前記式においてZが基一
○−S03日、一○−P032日2、一ハロゲン又は−
○−アシルを意味するキサンチリウム染料に導き、この
ようにして得られた染料を、場合によりアルカリ性作用
剤、例えば水酸化アルカリ又は炭酸アルカリ、例えば水
酸化ナトリウム又は炭酸ナトリウムで処理することによ
って、Yが基を意味する反応する染料に導き、このよう
にして得られた染料を場合によりチオ硫酸塩、ジアルキ
ルァミン又はフェノールと反応(付加)させることによ
ってZが残基−S−S03日、一N(アルキル)2又は
一を意味する対応染料 に導くことによって実施される。 しかしこの公知の方法では中間段階における縮合の際に
得られた反応生成物を後続処理の前に中間単離すること
が必要である。 本発明者は特定の溶剤を使用して純有機性媒質中で操作
すると、この公3印方法の操作法において上記の欠点、
即ち反応生成物の中間単離という付加的操作段階を除去
することが出釆、本方法自体を一般的操作技術的に、ま
た経済的に改善出来ることを見出した。 すなわち本発明は下記一般式{1) (式中R及びRは水素原子、ハロゲン原子、例えばフル
オル−、クロルー又はブロム原子、又はヒドロキシー、
アルキルー、アルコキシ−、力ルボキシー又はスルホン
酸基を表わし、R,及びR2は水素原子、シクロヘキシ
ル基、又は場合によりハロゲン原子又はヒドロキシ−、
カルボキシー、スルホン酸−又はフェニル基又は一OS
QH基又は一日N−アシル基によって置換されたァルキ
ル基、又は窒素原子と一緒になって場合により異種原子
を含有するアルキレンイミン環、例えばピベリジンー又
はモルホリン環の構成員であることが〆×出来、R3は
水素原子又はアルキル基、Aは単核状又は2後状の芳香
銭基、例えばフェニレン−又はナフチレン残基又はジフ
ェニルー、ジフェニルエーテル−、ジフエニルアミン−
、ジフエニルスフイドー、ジフエニルスルホン−又はア
ゾベンゾール残基を意味し、これらは芳香族核において
ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ0基、
ヒドロキシ−、カルボキシ−、スルホ−又はニトロ基に
よって置換されていることが出釆、Yは次式なる基を表
わし、ここでZはハロゲン原子、スルファト基(一OS
03H)、ホスフアト基(一OP03日2)又は−○−
アシル基、R4は水素原子又はアルキル基を表わし、m
及びnは0、1又は2、qは0又は1、pは1又2を意
味する。 )なる反応性キサンテン染料を製造するための新規な方
法に関し、この方法は中間体を単離することないこ下記
一般式
【3’(式中Bはクロルー又はブロム原子を表わ
し、R及びRは前記の意味を有し、R5は下記一般式‘
4’iro*なる残基、 又は下記一般式(5)なる残
基 を表わし、ここでR,、R2、R3、R4、A、m「n
、p及びqは前記の意味を有する。 )なるモノハロゲンキサンチリウム化合物1モルを下記
一般式‘61(式中R3、A、R4、m、n、p及びq
は前記の意味を有する。 )なるアミノ化合物又は次式〔7} (式中R,及びR2は前記の意味を有する。 )なるアミン少くとも1モルと純有機性煤性中、有利に
はカルボンァミド基を含有する溶剤、特に閉鎖状又は環
状脂肪族カルボン酸の酸アミド又はNーアルキル化酸ア
ミド中で又は場合により有機残基を含有する無機酸の酸
アミド又はこれらのN−アルキル誘導体中、約70〜約
200oo、好ましくは約90〜約160qoにて、酸
結合剤の存在下に反応せしめ、得られた下記一般式■(
式中R,、R2、R、R′、R3、R4、A、m、n、
q及びpは前記の意味を有する。 )なるキサンチリウム化合物を中間単離することなく、
硫酸化剤、リン酸化剤、ハロゲン化剤、アルキル−又は
アリールーカルポン酸ハロゲニド又はzカルボン酸無水
物で処理することによってェステル化し、前記式{11
1こおいてZが基一0603日、一OP03日2、ーハ
ロゲン又は−0−アシルを意味するキサンテン染料に導
くことを特徴とするものである。 2残基R、R′、R,
、R2、R3及びR4のためのアルキル−及びァルコキ
シ基としては特にアルキル残基中に1〜5個のC原子を
含むものが挙げられる。 残基R,及びR2に含まれるハロゲン原子及びァシルア
ミノ基は特にクロルー及びブロム原子若2しくは低級ア
ルカンー又はアルケンカルボニルアミノー又は芳香族の
、例えばフェニル−又はペンゾィルー又は核中でクロル
−、メチル−、エチル、ニトロ−、シアン一、スルホー
、力ルボキシ−、メトキシー、エトキシー、力ルボンア
ミドー3又はスルホンァミド基により置換されたフェニ
ルスルホニルアミノー又はペンゾィルアミ/基である。
Zで表わされる−○ーアシル残基は特に低級アルキルカ
ルボニルオキシー、アルキルスルホニルオキシー、芳香
族カルボニルオキシ−又はスルホニルオキシー残基例え
ばペンゾイルオキシ、フェニルスルホニルオキシー又は
クロル、メチル−又はスルホ基によって置換されたフェ
ニルスルホニルー又はペンゾィルオキシ残基である。こ
の新規方法によって製造された化合物のうち、前記一般
式【1’‘こおいて置換基及び残基が下記の如く定義さ
れているものが好ましいものとして挙げることが出来る
。 R及びRは同一又は異なり、水素原子、フルオル、クロ
ル、ブロム、ヒドロキシー、力ルボキシー、スルホン酸
−、低級アルキルー又は低級アルコキシ基、特にメトキ
シー又はェトキシ基を意味する。 R,及びR2は同一又は異なり、水素原子、1〜3個の
炭素原子を有するアルキル基で、これはフェニル残基又
はヒドロキシー、カルボキシー、スルホン酸−又はスル
フアト基によって置換されていることが出来、或いはシ
クロヘキシル残基を意味し、又はR,とR2はN原子と
一緒にピベリジンー又はモルホリン環を形成する。 R3は水素原子又は低級アルキル基、特にメチル一又は
エチル基を表わす。 R4は水素原子又は1〜4個の炭素原子を有するアルキ
ル基を表わす。 Aはフェニレンー又はナフチレンー又はナフチレン残基
又はジフェニル−、ジフェニルェーテル−、ジフエニル
アミンー、ジフエニルスルフイド−、ジフェニルスルホ
ン−、又はアゾベンゾール残基を意味し、その際Aは芳
香族核においてハロゲン、ヒドロキシー、低級アルキル
−、低級アルコキシ−、カルボキシー、スルホン酸一又
はニトロ基によって置換されていることが出来る。 Zはヒドロキシ基、低級アルキルー又はアルキルフェニ
ル−又はフェニルスルホン酸又はーカルボン酸のアシル
オキシ残基、例えばp−トルィルスルホニルオキシー又
はアセトキシ残基、低級ジアルキルアミノ残基、例えば
ジメチルー又はジェチルアミノ基、フェノキシー、ホス
フアトー、スルフアトー又はチオスルフアト残基又はハ
ロゲン原子、例えばクロル又はブロムを意味する。 r低級」なる記載は1〜4個の炭素原子を有するアルキ
ル残基に係るものである。 本発明により改良せられた方法において、式{31のモ
ノハロゲンキサンチリウム化合物と式■若くは{7}な
るアミンとの縮合の際並びに続いて得られた式棚なるキ
サンチIJウム化合物を式{11の化合物に導く際に反
応媒質として使用される有機溶剤のうち、酸アミド例え
ばホルムアミド、N−メチル−及びNーェチルホルムア
ミド、Nーメチル及びNーェチルアセトアミド、N・N
ージメチルー及びN・N−ジエチルホルムアミド、N・
Nージメチルー及びN・N−ジェチルアセトアミド、N
−メチルピロリドン、テトラメチル尿素、その上へキサ
メチルリン酸トリアミドが特に有利であり、その際特に
N−メチルピロリドンを挙げることが出来る。 本発明による方法に従って実施される反応のための出発
化合物としての特に次のものが挙げられる:式糊のモノ
ハロゲンキサンチリウム化合物に対しては例えばDT−
PS(ドイツ特許明細書)第915128号及び日本特
許第粥7繋6号に挙げられているもの若くはそこの記載
に従って製造しうる物質が挙げられる。 本方法に適している式{61のアミンとしては例えば次
のものが挙げられる。 4−アミノフエニルーB−ヒドロキシーエチルスルホン
、4ーアミノベンジルー8ーヒドロキシーエチルスルホ
ン、4−アミノフエネチルー8ーヒドロキシーエチルス
ルホン、4−(のーアミノメチル)−フエニル−8−ヒ
ドロキシーエチルスルホン、4−(山一アミノエチル)
ーフエニルー6−ヒドロキシーエチルスルホン、3ーヒ
ドロキシー4−アミノフエニル−8ーヒドロキシーエチ
ルスルホン、3・6ージメトキシー4−アミノーフエニ
ル−8−ヒドロキシーエチルスルホン、3−メトキシ−
4−アミノ−6−メチルーフエニルー8−ヒドロキシー
エチルスルホン、3−アミノフエニルー8−ヒドロキシ
ーエチルスルホン、3−アミノベンジル−8ーヒドロキ
シーエチルスルホン、3ーアミノ−6ーメトキシーフエ
ニル一8−ヒドロキシーエチルスルホン、3−アミノー
4ーメトキシーフエニル−3ーヒドロキシーエチルスル
ホン、3ーアミノー4ーヒドロキシーフエニルー8−ヒ
ドロキシ−エチルスルホン、3ーアミノー4ーカルポキ
シーフヱニルー8−ヒドロキシーエチルスルホン、3−
アミノー4ーメトキシーベンジル一8−ヒドロキシーエ
チルースルホン、2−メチル−5ーアミノ’−ペンジル
ー8−ヒドロキシーエチルスルホン、5−アミノ−2ー
メチル−m−キシリリル−QI。 Q3ービスースルホニルエタノール、4−アミノビフエ
ニリル−41ー(3ーヒドロキシーエチルスルホン)、
5ーアミノーナフチル−4ーメチリレンー8ーヒドロキ
シーエチルスルホン、5−アミノーナフチルー1一3−
ヒドロキシーエチルスルホン、6ーアミノナフチルー1
−(8ーヒドロキシーエチルースルホン)、4−アミノ
ー2′ーニトロージフエニルアミノー4′−(8ーヒド
ロキシターエチルスルホン)、2−メチル−4ーアミノ
ーアゾベンゾールー4′−(3−ヒドロキシエチルスル
ホン)、2・4−ジメチルー3ーアミノフエニル−8ー
ヒドロキシーエチルスルホン、3・5ージメチル−4ー
アミノフヱニルー3−ヒドロキシ)エチルスルホン、2
ーメチル−5一tーブチル−3−アミノフエニルー3ー
ヒドロキシエチルスルホン、3−クロルー及び3ーブロ
ム−4ーアミノフヱニルーGーヒドロキシエチルスルホ
ン、4ークロル及び4ーフロムー3ーアミノフェニル−
8;−ヒドロキシエチルスルホン、3ースルホー4ーア
ミノフエニル−及び4ースルホ−3−7ミノフエニルー
3−ヒドロキシヱチルスルホン。本方法に適している式
HNR,R2あるアミンは特にnープロピルアミン、ジ
エチルアミン、シクロ’へキシルアミン、ピベリジン、
モルホリン、ベンジルアミン、フエネチルアミン、8ー
アミノエタノール、ァミノ酢酸、ィミィジ酢酸、タウリ
ン又はNーメチルタウリンである。 縮合の際の酸結合剤としては好ましくは無機化「合物、
例えば苛性ソーダ溶液、重炭酸ナトリウム又は炭酸ナト
リウム並びに対応するカリウム化合物、特に粉末化され
た形のものが使用される。 適当な硫酸化剤は例えば濃硫酸、種々の濃度の発煙硫酸
、無CK硫酸、クロルスルホン酸、アミドlスルホン酸
又は他の熱水硫酸供与化合物である。適当なリン酸化剤
は例えば濃リン酸、ピロー、メター又はポリリン酸、ポ
リリン酸アルキルェステル又はリン酸と酸化リン(V)
の混合物である。ハロゲン化剤としては例えばばチオニ
ルク。リド又はチオニルブロミドを使用することが出来
る。アシル化剤としては例えば無水酢酸又はアセチルク
ロリドが使用される。上記方法に従って得られた一般式
‘1’のキサンテン染料の単離は、場合により反応混合
物をアルカリ作用剤、例えば苛性ソーダ溶液、炭酸ナト
リウム、重炭酸ナトリウム、酢酸ナトリウム又は対応す
るカリウム化合物により中和した後、他の溶剤を用いて
析出させることによって行われる。 沈澱剤としては例えば四塩化炭素、クロロホルム、メチ
レンクロリド、アセトン、メタノール、エタノール、ブ
タノール及びベンゾールを使用することが出来る。特許
第解7965号の方法に比してこの新規方法は下記の利
点を与える:本発明の新規方法においては縮合も並びに
後続のェステル化反応若くは対応する式‘1}の染料へ
導く残基Yにおける後続反応も中間単離を行うことなく
実施されるので、式{81のキサンチリウム化合物の分
離及び乾燥が省略される。 これは著しい時間の節約を意味する。更に純有機反応煤
質に有機溶剤を使用することにより、式■の染料を式{
11の染料に導くために必要なェステル化剤、例えば硫
*均酸化−、リン酸化一、ハロゲン化−及びアシル化剤
の量が著しく減少される。従って後処理の際に多量の硫
酸塩、リン酸塩、塩化物、臭化物及び酢酸塩はもはや生
成しない。更にもう一つの利点は夕新規方法においては
著しく小さい反応容積で操作することが出釆、従って空
時収率をかなり高めることが出来ることである。更に本
発明の方法においては反応煤質又は沈澱剤として使用さ
れる溶剤−炉液は主として或いは0ほとんど例外なくこ
れにより成っている−を蒸留によって好収率で回収する
ことが出来、上記の目的に再使用することが出来る。 式【8}の化合物を塩折によって単離するために、塩含
量の高い廃水が生ずる特許第脇7986号に記載の方法
に比し、このタ新規方法においてはこのような廃水も、
上記の如き無機塩も生じないので、通常必要とされる環
境保護のための対策が不要となる。更にこの新規方法は
公知の方法に比して収率の改善をもたらす。 ひ例1 ドイツ特許第915128号の記載に従って製造された
次式なるモノハロゲンキサンチリウム化合物50重量部
をNーメチルピロリドン又はN・N−ジメチルホルムァ
ミド16の重量部中でソーダ5.3重量部の存在下にN
ーメチルタウリンーナトリウム16.1重量部と共に1
10℃にて3時間縄拝する。 続いてクロルスルホン酸3の重量部を用いて45qoで
2時間ェステル化し、冷却し、形成された染料をメタノ
ールで稀釈し、メタノール性苛性ソーダ及び苛性カリ液
で中和することによって単離する。 ナトリウム一又はカリウム塩として析出した染料は遊離
酸の形が次式に相当する。 これを炉取し、メタノールで洗浄し乾燥する。赤紫色粉
末として生成した染料は水に帯青赤色に溶解し、重炭酸
ナトリウムの存在下に木綿上に帯青赤色の濃厚な、非常
に輝かしい染色及び捺染**を与える。 例2 ドイツ特許第915128号の記載に従って製造された
次式なるモノハロゲンキサンチリウム化合物61.4重
量部をN−メチルアセトアミド20の重量部中でソ−ダ
5.丸重量部の存在下にN−メチルタウリンーナトリゥ
ム16.1重量部と共に115ooで3時間反応せ※※
しめ、得られた縮合生成物を無水硫酸22重量部に「よ
り4500でェステル化する。 冷却後氷冷したメタノールで稀釈し、酢酸カリウム11
0重量部で中和する。析出した染料は遊温酸として次式
に相当する。 これを炉取し、メタノールで洗浄する。乾燥後日音紫色
粉末が得られ、これは水に紫色に溶解し、木綿織物上に
高い光輝及び良好な洗濯堅牢性を有する赤紫色捺染を与
える。例3 次式 なるモノハロゲンキサンチリウム化合物59.母重量部
をN・N−ジメチルアセトアミド17の重量部中でソー
ダ5.紅重量部の存在下にN−メチルタウリンーナトリ
ウム16.1重量部と共に11T○で3時間*鰭宿合さ
せ、続いてクロルスルホン酸2槌重量部を50℃2時間
反応せしめる。 次に冷却下にェタ/ールで稀釈し、酢酸カリウムで中和
する。析出した染料のカリウム塩は遊離酸の形が次式に
相当する。 これを炉収し、エタノールで洗浄する。乾燥後赤色粉末
が得られ、これは水に黄色の蟹光を発しながら帯青赤色
に溶解し、木綿上に非x対戦こ高い光輝を有する帯青赤
色の染色を与える。例4次式 なるモノハロゲンキサンチリウム化合物のナトリウム塩
5箱重量部をへキサメチルーリン酸−トリアミド19の
重量部中でソーダ5.5重量部の存在下に4ーアミノフ
エニル−8ーヒドロキシエチルスルホ〇ン20.1重量
部と共に140℃で3時間縮合される。 続いて例1に記載の如くェステル化し、後処理する。単
藤ごれた染料は遊離酸の形が次式に相当し、赤紫色粉末
として生成し、例1に記載 の染料と類似の性質を有
する。 例5例1に記載の8−スルフアトェチルスルホニル染料
を例1に記載の方法で製造し、但し反応混合物をェステ
ル化終了後にソーダで中和し、次にソーダ6重量部を添
加し、温度を55o0に30分保持す*】ち。 次に過剰のソーダを酢酸で中和し、アセトンで析出させ
、炉過し、アセトンで洗浄し乾燥する。遊離酸の形が次
式 に相当する染料が赤紫色粉末として生成する。 これは水に帯青赤色に溶解し、木綿織物上に良好な洗濯
堅牢性を有する非常に輝かしい捺染模様を与える。
※山6 ドイツ特許第915128号の記載に従って製造された
次式なるモノクロルキサンチリウム譲導体6の重量部を
、例1に記載の操作法の反応条件下でN−メチルタゥリ
ンーナトリウムと反応させる。 次に反応★合物に酢酸無水物44重量部を添加し、これ
を10500でいまら〈縄拝する。形成された染料は遊
離酸の形が次式に相当し、階紫色粉末として生成し、水
に紫色に溶解し、木綿上に良好な洗濯堅牢性及び高い光
輝を有する帯青赤色の染色を与える。 例7 ドイツ特許第915128号に記載の次式なる生成物5
9.紅重量部を例1に記載の如くN−メチルタウリンー
ナトリウムと縮合させ、続いてチ*オニルクロリド34
重量部と50qoにて反応せしめる。 生成した染料は遊離酸の形が次式に相等し、赤色粉末と
して生成し、黄色の蟹光を発しながら水に帯青赤色に溶
解し、木綿上に良好な洗濯堅牢性を有する高い光輝の帯
青赤色の捺染を与える。 前記各例の記載と同様の方法で下記の表に挙げられてい
る染料を製造することが出来る。
し、R及びRは前記の意味を有し、R5は下記一般式‘
4’iro*なる残基、 又は下記一般式(5)なる残
基 を表わし、ここでR,、R2、R3、R4、A、m「n
、p及びqは前記の意味を有する。 )なるモノハロゲンキサンチリウム化合物1モルを下記
一般式‘61(式中R3、A、R4、m、n、p及びq
は前記の意味を有する。 )なるアミノ化合物又は次式〔7} (式中R,及びR2は前記の意味を有する。 )なるアミン少くとも1モルと純有機性煤性中、有利に
はカルボンァミド基を含有する溶剤、特に閉鎖状又は環
状脂肪族カルボン酸の酸アミド又はNーアルキル化酸ア
ミド中で又は場合により有機残基を含有する無機酸の酸
アミド又はこれらのN−アルキル誘導体中、約70〜約
200oo、好ましくは約90〜約160qoにて、酸
結合剤の存在下に反応せしめ、得られた下記一般式■(
式中R,、R2、R、R′、R3、R4、A、m、n、
q及びpは前記の意味を有する。 )なるキサンチリウム化合物を中間単離することなく、
硫酸化剤、リン酸化剤、ハロゲン化剤、アルキル−又は
アリールーカルポン酸ハロゲニド又はzカルボン酸無水
物で処理することによってェステル化し、前記式{11
1こおいてZが基一0603日、一OP03日2、ーハ
ロゲン又は−0−アシルを意味するキサンテン染料に導
くことを特徴とするものである。 2残基R、R′、R,
、R2、R3及びR4のためのアルキル−及びァルコキ
シ基としては特にアルキル残基中に1〜5個のC原子を
含むものが挙げられる。 残基R,及びR2に含まれるハロゲン原子及びァシルア
ミノ基は特にクロルー及びブロム原子若2しくは低級ア
ルカンー又はアルケンカルボニルアミノー又は芳香族の
、例えばフェニル−又はペンゾィルー又は核中でクロル
−、メチル−、エチル、ニトロ−、シアン一、スルホー
、力ルボキシ−、メトキシー、エトキシー、力ルボンア
ミドー3又はスルホンァミド基により置換されたフェニ
ルスルホニルアミノー又はペンゾィルアミ/基である。
Zで表わされる−○ーアシル残基は特に低級アルキルカ
ルボニルオキシー、アルキルスルホニルオキシー、芳香
族カルボニルオキシ−又はスルホニルオキシー残基例え
ばペンゾイルオキシ、フェニルスルホニルオキシー又は
クロル、メチル−又はスルホ基によって置換されたフェ
ニルスルホニルー又はペンゾィルオキシ残基である。こ
の新規方法によって製造された化合物のうち、前記一般
式【1’‘こおいて置換基及び残基が下記の如く定義さ
れているものが好ましいものとして挙げることが出来る
。 R及びRは同一又は異なり、水素原子、フルオル、クロ
ル、ブロム、ヒドロキシー、力ルボキシー、スルホン酸
−、低級アルキルー又は低級アルコキシ基、特にメトキ
シー又はェトキシ基を意味する。 R,及びR2は同一又は異なり、水素原子、1〜3個の
炭素原子を有するアルキル基で、これはフェニル残基又
はヒドロキシー、カルボキシー、スルホン酸−又はスル
フアト基によって置換されていることが出来、或いはシ
クロヘキシル残基を意味し、又はR,とR2はN原子と
一緒にピベリジンー又はモルホリン環を形成する。 R3は水素原子又は低級アルキル基、特にメチル一又は
エチル基を表わす。 R4は水素原子又は1〜4個の炭素原子を有するアルキ
ル基を表わす。 Aはフェニレンー又はナフチレンー又はナフチレン残基
又はジフェニル−、ジフェニルェーテル−、ジフエニル
アミンー、ジフエニルスルフイド−、ジフェニルスルホ
ン−、又はアゾベンゾール残基を意味し、その際Aは芳
香族核においてハロゲン、ヒドロキシー、低級アルキル
−、低級アルコキシ−、カルボキシー、スルホン酸一又
はニトロ基によって置換されていることが出来る。 Zはヒドロキシ基、低級アルキルー又はアルキルフェニ
ル−又はフェニルスルホン酸又はーカルボン酸のアシル
オキシ残基、例えばp−トルィルスルホニルオキシー又
はアセトキシ残基、低級ジアルキルアミノ残基、例えば
ジメチルー又はジェチルアミノ基、フェノキシー、ホス
フアトー、スルフアトー又はチオスルフアト残基又はハ
ロゲン原子、例えばクロル又はブロムを意味する。 r低級」なる記載は1〜4個の炭素原子を有するアルキ
ル残基に係るものである。 本発明により改良せられた方法において、式{31のモ
ノハロゲンキサンチリウム化合物と式■若くは{7}な
るアミンとの縮合の際並びに続いて得られた式棚なるキ
サンチIJウム化合物を式{11の化合物に導く際に反
応媒質として使用される有機溶剤のうち、酸アミド例え
ばホルムアミド、N−メチル−及びNーェチルホルムア
ミド、Nーメチル及びNーェチルアセトアミド、N・N
ージメチルー及びN・N−ジエチルホルムアミド、N・
Nージメチルー及びN・N−ジェチルアセトアミド、N
−メチルピロリドン、テトラメチル尿素、その上へキサ
メチルリン酸トリアミドが特に有利であり、その際特に
N−メチルピロリドンを挙げることが出来る。 本発明による方法に従って実施される反応のための出発
化合物としての特に次のものが挙げられる:式糊のモノ
ハロゲンキサンチリウム化合物に対しては例えばDT−
PS(ドイツ特許明細書)第915128号及び日本特
許第粥7繋6号に挙げられているもの若くはそこの記載
に従って製造しうる物質が挙げられる。 本方法に適している式{61のアミンとしては例えば次
のものが挙げられる。 4−アミノフエニルーB−ヒドロキシーエチルスルホン
、4ーアミノベンジルー8ーヒドロキシーエチルスルホ
ン、4−アミノフエネチルー8ーヒドロキシーエチルス
ルホン、4−(のーアミノメチル)−フエニル−8−ヒ
ドロキシーエチルスルホン、4−(山一アミノエチル)
ーフエニルー6−ヒドロキシーエチルスルホン、3ーヒ
ドロキシー4−アミノフエニル−8ーヒドロキシーエチ
ルスルホン、3・6ージメトキシー4−アミノーフエニ
ル−8−ヒドロキシーエチルスルホン、3−メトキシ−
4−アミノ−6−メチルーフエニルー8−ヒドロキシー
エチルスルホン、3−アミノフエニルー8−ヒドロキシ
ーエチルスルホン、3−アミノベンジル−8ーヒドロキ
シーエチルスルホン、3ーアミノ−6ーメトキシーフエ
ニル一8−ヒドロキシーエチルスルホン、3−アミノー
4ーメトキシーフエニル−3ーヒドロキシーエチルスル
ホン、3ーアミノー4ーヒドロキシーフエニルー8−ヒ
ドロキシ−エチルスルホン、3ーアミノー4ーカルポキ
シーフヱニルー8−ヒドロキシーエチルスルホン、3−
アミノー4ーメトキシーベンジル一8−ヒドロキシーエ
チルースルホン、2−メチル−5ーアミノ’−ペンジル
ー8−ヒドロキシーエチルスルホン、5−アミノ−2ー
メチル−m−キシリリル−QI。 Q3ービスースルホニルエタノール、4−アミノビフエ
ニリル−41ー(3ーヒドロキシーエチルスルホン)、
5ーアミノーナフチル−4ーメチリレンー8ーヒドロキ
シーエチルスルホン、5−アミノーナフチルー1一3−
ヒドロキシーエチルスルホン、6ーアミノナフチルー1
−(8ーヒドロキシーエチルースルホン)、4−アミノ
ー2′ーニトロージフエニルアミノー4′−(8ーヒド
ロキシターエチルスルホン)、2−メチル−4ーアミノ
ーアゾベンゾールー4′−(3−ヒドロキシエチルスル
ホン)、2・4−ジメチルー3ーアミノフエニル−8ー
ヒドロキシーエチルスルホン、3・5ージメチル−4ー
アミノフヱニルー3−ヒドロキシ)エチルスルホン、2
ーメチル−5一tーブチル−3−アミノフエニルー3ー
ヒドロキシエチルスルホン、3−クロルー及び3ーブロ
ム−4ーアミノフヱニルーGーヒドロキシエチルスルホ
ン、4ークロル及び4ーフロムー3ーアミノフェニル−
8;−ヒドロキシエチルスルホン、3ースルホー4ーア
ミノフエニル−及び4ースルホ−3−7ミノフエニルー
3−ヒドロキシヱチルスルホン。本方法に適している式
HNR,R2あるアミンは特にnープロピルアミン、ジ
エチルアミン、シクロ’へキシルアミン、ピベリジン、
モルホリン、ベンジルアミン、フエネチルアミン、8ー
アミノエタノール、ァミノ酢酸、ィミィジ酢酸、タウリ
ン又はNーメチルタウリンである。 縮合の際の酸結合剤としては好ましくは無機化「合物、
例えば苛性ソーダ溶液、重炭酸ナトリウム又は炭酸ナト
リウム並びに対応するカリウム化合物、特に粉末化され
た形のものが使用される。 適当な硫酸化剤は例えば濃硫酸、種々の濃度の発煙硫酸
、無CK硫酸、クロルスルホン酸、アミドlスルホン酸
又は他の熱水硫酸供与化合物である。適当なリン酸化剤
は例えば濃リン酸、ピロー、メター又はポリリン酸、ポ
リリン酸アルキルェステル又はリン酸と酸化リン(V)
の混合物である。ハロゲン化剤としては例えばばチオニ
ルク。リド又はチオニルブロミドを使用することが出来
る。アシル化剤としては例えば無水酢酸又はアセチルク
ロリドが使用される。上記方法に従って得られた一般式
‘1’のキサンテン染料の単離は、場合により反応混合
物をアルカリ作用剤、例えば苛性ソーダ溶液、炭酸ナト
リウム、重炭酸ナトリウム、酢酸ナトリウム又は対応す
るカリウム化合物により中和した後、他の溶剤を用いて
析出させることによって行われる。 沈澱剤としては例えば四塩化炭素、クロロホルム、メチ
レンクロリド、アセトン、メタノール、エタノール、ブ
タノール及びベンゾールを使用することが出来る。特許
第解7965号の方法に比してこの新規方法は下記の利
点を与える:本発明の新規方法においては縮合も並びに
後続のェステル化反応若くは対応する式‘1}の染料へ
導く残基Yにおける後続反応も中間単離を行うことなく
実施されるので、式{81のキサンチリウム化合物の分
離及び乾燥が省略される。 これは著しい時間の節約を意味する。更に純有機反応煤
質に有機溶剤を使用することにより、式■の染料を式{
11の染料に導くために必要なェステル化剤、例えば硫
*均酸化−、リン酸化一、ハロゲン化−及びアシル化剤
の量が著しく減少される。従って後処理の際に多量の硫
酸塩、リン酸塩、塩化物、臭化物及び酢酸塩はもはや生
成しない。更にもう一つの利点は夕新規方法においては
著しく小さい反応容積で操作することが出釆、従って空
時収率をかなり高めることが出来ることである。更に本
発明の方法においては反応煤質又は沈澱剤として使用さ
れる溶剤−炉液は主として或いは0ほとんど例外なくこ
れにより成っている−を蒸留によって好収率で回収する
ことが出来、上記の目的に再使用することが出来る。 式【8}の化合物を塩折によって単離するために、塩含
量の高い廃水が生ずる特許第脇7986号に記載の方法
に比し、このタ新規方法においてはこのような廃水も、
上記の如き無機塩も生じないので、通常必要とされる環
境保護のための対策が不要となる。更にこの新規方法は
公知の方法に比して収率の改善をもたらす。 ひ例1 ドイツ特許第915128号の記載に従って製造された
次式なるモノハロゲンキサンチリウム化合物50重量部
をNーメチルピロリドン又はN・N−ジメチルホルムァ
ミド16の重量部中でソーダ5.3重量部の存在下にN
ーメチルタウリンーナトリウム16.1重量部と共に1
10℃にて3時間縄拝する。 続いてクロルスルホン酸3の重量部を用いて45qoで
2時間ェステル化し、冷却し、形成された染料をメタノ
ールで稀釈し、メタノール性苛性ソーダ及び苛性カリ液
で中和することによって単離する。 ナトリウム一又はカリウム塩として析出した染料は遊離
酸の形が次式に相当する。 これを炉取し、メタノールで洗浄し乾燥する。赤紫色粉
末として生成した染料は水に帯青赤色に溶解し、重炭酸
ナトリウムの存在下に木綿上に帯青赤色の濃厚な、非常
に輝かしい染色及び捺染**を与える。 例2 ドイツ特許第915128号の記載に従って製造された
次式なるモノハロゲンキサンチリウム化合物61.4重
量部をN−メチルアセトアミド20の重量部中でソ−ダ
5.丸重量部の存在下にN−メチルタウリンーナトリゥ
ム16.1重量部と共に115ooで3時間反応せ※※
しめ、得られた縮合生成物を無水硫酸22重量部に「よ
り4500でェステル化する。 冷却後氷冷したメタノールで稀釈し、酢酸カリウム11
0重量部で中和する。析出した染料は遊温酸として次式
に相当する。 これを炉取し、メタノールで洗浄する。乾燥後日音紫色
粉末が得られ、これは水に紫色に溶解し、木綿織物上に
高い光輝及び良好な洗濯堅牢性を有する赤紫色捺染を与
える。例3 次式 なるモノハロゲンキサンチリウム化合物59.母重量部
をN・N−ジメチルアセトアミド17の重量部中でソー
ダ5.紅重量部の存在下にN−メチルタウリンーナトリ
ウム16.1重量部と共に11T○で3時間*鰭宿合さ
せ、続いてクロルスルホン酸2槌重量部を50℃2時間
反応せしめる。 次に冷却下にェタ/ールで稀釈し、酢酸カリウムで中和
する。析出した染料のカリウム塩は遊離酸の形が次式に
相当する。 これを炉収し、エタノールで洗浄する。乾燥後赤色粉末
が得られ、これは水に黄色の蟹光を発しながら帯青赤色
に溶解し、木綿上に非x対戦こ高い光輝を有する帯青赤
色の染色を与える。例4次式 なるモノハロゲンキサンチリウム化合物のナトリウム塩
5箱重量部をへキサメチルーリン酸−トリアミド19の
重量部中でソーダ5.5重量部の存在下に4ーアミノフ
エニル−8ーヒドロキシエチルスルホ〇ン20.1重量
部と共に140℃で3時間縮合される。 続いて例1に記載の如くェステル化し、後処理する。単
藤ごれた染料は遊離酸の形が次式に相当し、赤紫色粉末
として生成し、例1に記載 の染料と類似の性質を有
する。 例5例1に記載の8−スルフアトェチルスルホニル染料
を例1に記載の方法で製造し、但し反応混合物をェステ
ル化終了後にソーダで中和し、次にソーダ6重量部を添
加し、温度を55o0に30分保持す*】ち。 次に過剰のソーダを酢酸で中和し、アセトンで析出させ
、炉過し、アセトンで洗浄し乾燥する。遊離酸の形が次
式 に相当する染料が赤紫色粉末として生成する。 これは水に帯青赤色に溶解し、木綿織物上に良好な洗濯
堅牢性を有する非常に輝かしい捺染模様を与える。
※山6 ドイツ特許第915128号の記載に従って製造された
次式なるモノクロルキサンチリウム譲導体6の重量部を
、例1に記載の操作法の反応条件下でN−メチルタゥリ
ンーナトリウムと反応させる。 次に反応★合物に酢酸無水物44重量部を添加し、これ
を10500でいまら〈縄拝する。形成された染料は遊
離酸の形が次式に相当し、階紫色粉末として生成し、水
に紫色に溶解し、木綿上に良好な洗濯堅牢性及び高い光
輝を有する帯青赤色の染色を与える。 例7 ドイツ特許第915128号に記載の次式なる生成物5
9.紅重量部を例1に記載の如くN−メチルタウリンー
ナトリウムと縮合させ、続いてチ*オニルクロリド34
重量部と50qoにて反応せしめる。 生成した染料は遊離酸の形が次式に相等し、赤色粉末と
して生成し、黄色の蟹光を発しながら水に帯青赤色に溶
解し、木綿上に良好な洗濯堅牢性を有する高い光輝の帯
青赤色の捺染を与える。 前記各例の記載と同様の方法で下記の表に挙げられてい
る染料を製造することが出来る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R及びR′は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキ
シ−、アルキル−、アルコキシ−、カルボキシ−又はス
ルホン酸基、R_1およびR_2は水素原子、シクロヘ
キシル基又は場合によりハロゲン原子又はヒドロキシ−
、カルボキシ−、スルホン酸−又はフエニル基又は−O
SO_3H−又は−NH−アシル−基によって置換され
たアルキル基、又は窒素原子と一緒になって、場合によ
り異種原子を含有するアルキレンイミン環の構成員であ
り、R_3は水素原子又はアルキル基、Aは単核状又は
2核状の芳香族残基であり、これは芳香族核においてハ
ロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒド
ロキシ−、カルボキシ−、スルホ−又はニトロ基によっ
て置換されていることが出来、Yは次式▲数式、化学式
、表等があります▼ なる基を表わし、ここでZはハロゲン原子、スルフアト
基(OSO_3H)、ホスフアト基(−OPO_3H_
2)又は−O−アシル基、R_4は水素原子又はアルキ
ル基を表わし、m及びnは0、1又は2、qは0又は1
、Pは1又は2を意味する。 〕なる反応性キサンテン染料を純有機性媒質中で製造す
る際、中間体を単離することなく、下記一般式(3)▲
数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Bはクロル−又はブロム原子を表わし、R及びR
′は前記の意味を有し、R_5は下記一般式(4)▲数
式、化学式、表等があります▼なる残基を表わし、ここ
でR_3、R_4、A、m、n、p及びqは前記の意味
を有する。 〕なるモノハロゲンキサンチリウム化合物1モルを次式
(7)▲数式、化学式、表等があります▼(式中R_1
及びR_2は前記の意味を有する。 )なるアミン少くとも1モルと、カルボンアミド基含有
の溶剤中酸結合剤の存在下に約70℃〜約200℃にて
反応せしめ、得られた下記一般式(8)▲数式、化学式
、表等があります▼(式中R_1、R_2、R、R′、
R_3、R_4、A、m、n、q及びpは前記の意味を
有する。 )なるキサンチリウム化合物を中間単離することなく硫
酸化剤、リン酸化剤、ハロゲン化剤、アルキル−又はア
リール−カルボン酸ハロゲニド又は−カルボン酸無水物
で処理することによってエステル化し、前記式(1)に
おいてZが基−OSO_3H、−OPO_3H_2、−
ハロゲン又は−O−アシルを意味するキサンテン染料に
導くことを特徴とする方法。 2 下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R及びR′は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキ
シ−、アルキル−、アルコキシ−、カルボキシ−又はス
ルホン酸基、R_1及びR_2は水素原子、シクロヘキ
シル基又は場合によりハロゲン原子又はヒドロキシ−、
カルボキシ−、スルホン酸−又はフエニル基又は−OS
O_3H−又は−HN−アシル−基によって置換された
アルキル基、又は窒素原子と一緒になって、場合により
異種原子を含有するアルキレンイミン環の構成員であり
、R_3は水素原子又はアルキル基、Aは単核状又は2
核状の芳香残基であり、これは芳香族核においてハロゲ
ン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキ
シ−、カルボキシ−、スルホ−又はニトロ基によって置
換されていることが出来、Yは次式▲数式、化学式、表
等があります▼なる基を表わし、ここでZはハロゲン原
子、スルフアト基(OSO_3H)、ホスフアト基(−
OPO_3H_2)又は−O−アシル基、R_4は水素
原子又はアルキル基を表わし、m及びnは0、1又は2
、qは0又は1、Pは1又は2を意味する。 〕なる反応性キサンテン染料を純有機性媒質中で製造す
る際、中間体を単離することなく、下記一般式(3)▲
数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Bはクロル−又はブロム原子を表わし、R及びR
′は前記の意味を有し、R_5は下記一般式(4)▲数
式、化学式、表等があります▼なる残基を表わし、ここ
でR_3、R_4、A、m、n、p及びqは前記の意味
を有する。 〕なるモノハロゲンキサンチリウム化合物1モルを▲数
式、化学式、表等があります▼(式中R_1及びR_2
は前記の意味を有する。 )なるアミン少くとも1モルと、ヘキサメチルリン酸ト
リアミド中酸結合剤の存在下に約70℃〜約200℃に
て反応せしめ、得られた下記一般式(8)▲数式、化学
式、表等があります▼(式中R_1、R_2、R、R′
、R_3、R_4、A、m、n、q及びpは前記の意味
を有する。 )なるキサンチリウム化合物を中間単離することなく硫
酸化剤、リン酸化剤、ハロゲン化剤、アルキル−又はア
リール−カルボン酸ハロゲニド又は−カルボン酸無水物
で処理することによってエステル化し、前記式(1)に
おいてZが基−OSO_3H、−OPO_3H_2、−
ハロゲン又は−O−アシルを意味するキサンテン染料に
導くことを特徴とする方法。 3 下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R及びR′は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキ
シ−、アルキル−、アルコキシ−、カルボキシ−又はス
ルホン酸基、R_1及びR_2は水素原子、シクロヘキ
シル基又は場合によりハロゲン原子又はヒドロキシ−、
カルボキシ−、スルホン酸−又はフエニル基又は−OS
O_3H−又は−HN−アシル−基によって置換された
アルキル基、又は窒素原子と一緒なって、場合により異
種原子を含有するアルキレンイミン環の構成員であり、
R_3は水素原子又はアルキル基、Aは単核状又は2核
状の芳香族残基であり、これは芳香族核においてハロゲ
ン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキ
シ−、カルボキシ−、スルホ−又はニトロ基によって置
換されていることが出来、Yは次式▲数式、化学式、表
等があります▼なる基を表わし、ここでZはハロゲン原
子、スルフアト基(OSO_3H)、ホスフアト基(−
OPO_3H_2)又は−O−アシル基、R_4は水素
原子又はアルキル基を表わし、m及びnは0、1又は2
、9は0又は1、Pは1又は2を意味する。 〕なる反応性キサンテン染料を純有機性媒質中で製造す
る際、中間体を単離することなく、下記一般式(3)▲
数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Bはクロル−又はブロム原子を表わし、R及びR
′は前記の意味を有し、R_5は下記一般式(5)▲数
式、化学式、表等があります▼なる残基を表わし、ここ
でR_1及びR_2は前記の意味を有する。 〕なるモノハロゲンキサンチリウム化合物1モルを下記
一般式(6)▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_3、A、R_4、m、n、p及びqは前記の
意味を有する。 )なるアミノ化合物少なくとも1モルと、カルボンアミ
ド基含有の溶剤中酸結合剤の存在下に約70℃〜約20
0℃にて反応せしめ、得られた下記一般式(8)▲数式
、化学式、表等があります▼ (式中R_1、R_2、R、R′、R_3、R_4、A
、m、n、q及びpは前記の意味を有する。 )なるキサンチリウム化合物を中間単離することなく硫
酸化剤、リン酸化剤、ハロゲン化剤、アルキル−又はア
リール−カルボン酸ハロゲニド又は−カルボン酸無水物
で処理することによってエステル化し、前記式(1)に
おいてZが基−OSO_3H、−OPO_3H_2、−
ハロゲン又は−O−アシルを意味するキサンテン染料に
導くことを特徴とする方法。 4 下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R及びR′は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキ
シ−、アルキル−、アルコキシ−、カルボキシ−又はス
ルホン酸基、R_1及びR_2は水素原子、シクロヘキ
シル基又は場合によりハロゲン原子又はヒドロキシ−、
カルボキシ−、スルホン酸−又はフエニル基又は−OS
O_3H−又は−NH−アシル基によって置換されたア
ルキル基、又は窒素原子と一緒になって、場合により異
種原子を含有するアルキレンイミン環の構成員であり、
R_3は水素原子又はアルキル基、Aは単核状又は2核
状の芳香族残基であり、これは芳香族核においてハロゲ
ン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキ
シ−、カルボキシ−、スルホ−又はニトロ基によって置
換されていることが出来、Yは次式▲数式、化学式、表
等があります▼なる基を表わし、ここでZはハロゲン原
子、スルフアト基(OSO_3H)、ホスフアト基(−
OPO_3H_2)又は−O−アシル基、R_4は水素
原子又はアルキル基を表わし、m及びnは0、1又は2
、qは0又は1、Pは1又は2を意味する。 〕なる反応性キサンテン染料を純有機性媒質中で製造す
る際、中間体を単離することなく、下記一般式(3)▲
数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Bはクロル−又はブロム原子を表わし、R及びR
′は前記の意味を有し、R_5は下記一般式(5)▲数
式、化学式、表等があります▼なる残基を表わし、ここ
でR_1及びR_2は前記の意味を有する。 〕なるモノハロゲンキサンチリウム化合物1モルを下記
一般式(6)▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_3、A、R_4、m、n、p及びqは前記の
意味を有する。 )なるアミノ化合物少くとも1モルと、ヘキサメチルリ
ン酸トリアミド中酸結合剤の存在下に約70℃〜約20
0℃にて反応せしめ、得られた下記一般式(8)▲数式
、化学式、表等があります▼ (式中R_1、R_2、R、R′、R_3、R_4、A
、m、n、q及びpは前記の意味を有する。 )なるキサンチリウム化合物を中間単離することなく硫
酸化剤、リン酸化剤、ハロゲン化剤、アルキル−又はア
リール−カルボン酸ハロゲニド又は−カルボン酸無水物
で処理することによってエステル化し、前記式(1)に
おいてZが基−OSO_3H、−OPO_3H_2、−
ハロゲン又は−O−アシルを意味するキサンテン染料に
導くことを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE23374892 | 1973-07-24 | ||
| DE19732337489 DE2337489C2 (de) | 1973-07-24 | 1973-07-24 | Verfahren zur Herstellung von reaktiven Xanthenfarbstoffen |
Publications (2)
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| JPS603428B2 true JPS603428B2 (ja) | 1985-01-28 |
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|---|---|---|---|
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| JP11452381A Expired JPS603428B2 (ja) | 1973-07-24 | 1981-07-23 | 反応性キサンテン染料の製法 |
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|---|---|---|---|
| JP8384374A Pending JPS5070426A (ja) | 1973-07-24 | 1974-07-23 |
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| DE3029383A1 (de) * | 1980-08-01 | 1982-03-18 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Wasserloesliche, faserreaktive verbindungen, ihre herstellung und verwendung sowie neue (beta) -chloraethylsulfonylmethyl-benzoesaeurehalogenide und deren verwendung als faserreaktive anker |
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