JPS6035075A - 新規なセリウム系研磨組成物及びその製造法 - Google Patents
新規なセリウム系研磨組成物及びその製造法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/002—Use of waste materials, e.g. slags
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
- C09K3/1454—Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Catalysts (AREA)
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- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
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- Glass Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はセリウム系研磨組成物、その製造法およびガラ
ス、セラミック材料その他のガラス型材料の研磨への応
用に関する。
ス、セラミック材料その他のガラス型材料の研磨への応
用に関する。
ガラス工業において実際に使用されている研磨組成物の
うちで希土類元素とくにセリウムをベースとするものが
最も性能が良いことが証明されている。このような組成
物の製造法としては種々の方法が知られている。このよ
うに、西独特許公開公報第424110号明細書希土類
元素の硫酸塩の水溶液をモロカイト(molochlt
・)の存在下で水酸化ナトリウムにより沈澱させ、生成
物を炉取し、洗浄し、乾燥し、かつ焼成して所望の研磨
組成物を得る方法が提案されている。このような方法で
は、得られた製品が不均質であること、構造が一定して
いないこと及び再現性がないことから完全に満足できる
効果を有する研磨組成物を得ることができない。これら
の不都合は特に方法の操作条件に由来しており、それら
の条件に従えば反応中に反応体の濃度が上昇し、再現性
をもって一宇の製品を得ることができない。また、不都
合は異物(モロカイト)の存在と硫酸塩の存在に由来し
、硫酸塩が存在すると水酸化ナトリウムによる沈澱で反
応中に量と性質が変化し得る複硫酸塩、ヒドロキシ硫酸
塩および水酸化物が生じる。
うちで希土類元素とくにセリウムをベースとするものが
最も性能が良いことが証明されている。このような組成
物の製造法としては種々の方法が知られている。このよ
うに、西独特許公開公報第424110号明細書希土類
元素の硫酸塩の水溶液をモロカイト(molochlt
・)の存在下で水酸化ナトリウムにより沈澱させ、生成
物を炉取し、洗浄し、乾燥し、かつ焼成して所望の研磨
組成物を得る方法が提案されている。このような方法で
は、得られた製品が不均質であること、構造が一定して
いないこと及び再現性がないことから完全に満足できる
効果を有する研磨組成物を得ることができない。これら
の不都合は特に方法の操作条件に由来しており、それら
の条件に従えば反応中に反応体の濃度が上昇し、再現性
をもって一宇の製品を得ることができない。また、不都
合は異物(モロカイト)の存在と硫酸塩の存在に由来し
、硫酸塩が存在すると水酸化ナトリウムによる沈澱で反
応中に量と性質が変化し得る複硫酸塩、ヒドロキシ硫酸
塩および水酸化物が生じる。
また、セリウムを予め酸化した希土類元素硝酸塩水溶液
からアンモニアで水酸化セリウムを沈澱させることによ
りセリウムをベースとする研磨組成物を製造する方法が
提案されている(ケミカル・ガラストラクツ第80巻5
1688(1974年))。
からアンモニアで水酸化セリウムを沈澱させることによ
りセリウムをベースとする研磨組成物を製造する方法が
提案されている(ケミカル・ガラストラクツ第80巻5
1688(1974年))。
このような方法では硝酸セリウムアンモニウムを用いた
再沈澱による精製と希酸を用いた焼成酸化物の回収が必
要であるため、得られた製品は十分な研磨効果をもたな
い。さらに、このような組成物は満足な均質性、構造お
よび再現性をもっていない。
再沈澱による精製と希酸を用いた焼成酸化物の回収が必
要であるため、得られた製品は十分な研磨効果をもたな
い。さらに、このような組成物は満足な均質性、構造お
よび再現性をもっていない。
米国特許第4768.989号明細書から、希土類元素
炭酸塩−ウオラストナイト(wollamtonit*
)の沈澱を形成し、沈澱を分離・焼成することにより研
磨組成物を調製する方法が知られている。また、米国特
許第4262.766号明細書から、市販の希土類元素
炭酸塩水溶液をフルオケイ酸またはヒドロフルオケイ酸
で処理して製造された研磨組成物が知られている。上記
米国特許に記載されている方法により調製された研磨組
成物は上記西独特許公開第2.424110号明細書の
組成物について説明した欠点と同様の欠点をもっている
。
炭酸塩−ウオラストナイト(wollamtonit*
)の沈澱を形成し、沈澱を分離・焼成することにより研
磨組成物を調製する方法が知られている。また、米国特
許第4262.766号明細書から、市販の希土類元素
炭酸塩水溶液をフルオケイ酸またはヒドロフルオケイ酸
で処理して製造された研磨組成物が知られている。上記
米国特許に記載されている方法により調製された研磨組
成物は上記西独特許公開第2.424110号明細書の
組成物について説明した欠点と同様の欠点をもっている
。
これらの方法の欠点を改善するために本出願人は仏国特
許出願公開第2.472.6111号明細書において、
&)セリウム溶液、塩基溶液ならびにアニオンが希土類
元素の不溶性化合物を形成し得る一種以上の酸及び/又
は塩溶液を、使用する塩基の当量数がセリウムの当量数
以上であり、反応媒体のpHが6より大であるように連
続的に同時混合し、b)得られた沈澱を炉取し、C)乾
燥し、かつd)焼成する工程から成る研磨組成物の新し
い製造法を提案した。この方法によれば均質性と再現性
が良く、水への懸濁性が良く、かつ研磨効果の良い組成
物が得られる。しかしながら、この方法は通常使用され
るアニオンがフッ素イオンでありフッ素の使用に伴なう
日常的に起る諸問題、特に液状又はガス状流出物による
環境汚染問題に直面するため必ずしも十分満足のゆくも
のではない。
許出願公開第2.472.6111号明細書において、
&)セリウム溶液、塩基溶液ならびにアニオンが希土類
元素の不溶性化合物を形成し得る一種以上の酸及び/又
は塩溶液を、使用する塩基の当量数がセリウムの当量数
以上であり、反応媒体のpHが6より大であるように連
続的に同時混合し、b)得られた沈澱を炉取し、C)乾
燥し、かつd)焼成する工程から成る研磨組成物の新し
い製造法を提案した。この方法によれば均質性と再現性
が良く、水への懸濁性が良く、かつ研磨効果の良い組成
物が得られる。しかしながら、この方法は通常使用され
るアニオンがフッ素イオンでありフッ素の使用に伴なう
日常的に起る諸問題、特に液状又はガス状流出物による
環境汚染問題に直面するため必ずしも十分満足のゆくも
のではない。
従って、問題は、以下の必須条件を満たす新しい研磨組
成物を見出すことにある。
成物を見出すことにある。
効果的であること、すなわち下磨きしたガラスの表面を
可及的迅速に研磨できること。
可及的迅速に研磨できること。
きれいであること、すなわち研磨作業中にガラスにすし
をつけないこと。
をつけないこと。
表面に好ましくない反応を惹き起さないこと、すなわち
ガラスに対して化学的に反応性が高過ぎないとと;焼け
、オレンジ皮、水泡などの問題。
ガラスに対して化学的に反応性が高過ぎないとと;焼け
、オレンジ皮、水泡などの問題。
不都合なしに可及的に長期間使用できるように耐久性が
非常に高いこと。
非常に高いこと。
懸濁液の持続性が良く、液中に粉末が均一に分布でき沈
積が生じないこと。この分散液は懸濁液で使用するとき
から作業中ずつと有効でなければならない。
積が生じないこと。この分散液は懸濁液で使用するとき
から作業中ずつと有効でなければならない。
泡立たないこと。泡はあぶれを惹き起し、導管をつまら
せ、収率を低下させ、取扱い難い。
せ、収率を低下させ、取扱い難い。
長期間使用せずにおいてデカンテーションした後再び懸
濁するのが、液中に研磨されたガラスの元素が混入して
いる場合でさえも、容易であること。すなわち、[ケー
キングJ (caking )現象が起きないこと。
濁するのが、液中に研磨されたガラスの元素が混入して
いる場合でさえも、容易であること。すなわち、[ケー
キングJ (caking )現象が起きないこと。
皮ふ病その他の疾病のあらゆる問題を防止するために毒
性をもたないこと。
性をもたないこと。
均質で快適な色の使用し易い製品であること。
研磨後ガラスに固着せず迅速に清掃ができること。
工場の廃棄物をなくすために凝結し易いこと。
本発明の目的は上記の要求に答える新しい組成物と考え
られる技術分野を提供することである。
られる技術分野を提供することである。
本発明の別の目的は、ガラスやこれと同じ種類の材料を
研磨した後それらの成分に再利用し得るような組成物を
提供することにある。
研磨した後それらの成分に再利用し得るような組成物を
提供することにある。
以下の説明において「ガラス」という表現にはセラミッ
ク材料及びガラス型の他の材料のようなガラスも含まれ
るものと了解する。
ク材料及びガラス型の他の材料のようなガラスも含まれ
るものと了解する。
今、ガラスの組成と相溶性のないイオンを含まないこと
、及び酸化セリウムと、ランタニド及びイツトリウムか
ら成る群より選ばれる他の希土類元素の一種以上とを含
むことを特徴とするガラスに再利用し得る新しい研磨組
成物が見出され、本発明の主要な目的となっている。
、及び酸化セリウムと、ランタニド及びイツトリウムか
ら成る群より選ばれる他の希土類元素の一種以上とを含
むことを特徴とするガラスに再利用し得る新しい研磨組
成物が見出され、本発明の主要な目的となっている。
本発明の研磨組成物中に含まれる希土類元素の酸化物は
瑞色している必要はない。すなわち、α38〜Q、70
μ惜の可視光線を吸収しない製品であってもよい。
瑞色している必要はない。すなわち、α38〜Q、70
μ惜の可視光線を吸収しない製品であってもよい。
本発明において好適な希土類元素酸化物の例としては、
ランタン、サマリウム、ユーロピウム、ガドリウム、ジ
スプロシウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテシウム
及びイツトリウムの酸化物が挙げられる。これらの酸化
物は一般に三二酸化物の形をしている。これらの酸化物
の混合物も同様に使用できる。三二酸化ランタンを使用
するのが好ましい。
ランタン、サマリウム、ユーロピウム、ガドリウム、ジ
スプロシウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテシウム
及びイツトリウムの酸化物が挙げられる。これらの酸化
物は一般に三二酸化物の形をしている。これらの酸化物
の混合物も同様に使用できる。三二酸化ランタンを使用
するのが好ましい。
本発明の研磨組成物中の酸化セリウムと希土類元素酸化
物との側合は以下の範囲内で変えられる。
物との側合は以下の範囲内で変えられる。
酸化セリウム 40〜995重量%
希土類元紫酸化物 CL5〜60重量%好ましくは、以
下の組成の研磨組成物が選ばれる0 酸化セリウム 85〜98重量% 希土類元素酸化物 2〜15重量% 上記組成物は本発明の別の目的である製造法によって得
られる。この製造法は、 セリウム塩溶液、塩基溶液ならびにランタニド及びイツ
トリウムから成る群より選ばれる一種以上の三価の希土
類元素塩の溶液を、使用される塩基の当量数がセリウム
と希土数元素のそれぞれの当量数以上であり、反応媒体
のpHが6より大であるように連続的に同時混合し、 得られた沈澱を炉取し、 乾燥し、 焼成する ことから成ることを特徴とする。
下の組成の研磨組成物が選ばれる0 酸化セリウム 85〜98重量% 希土類元素酸化物 2〜15重量% 上記組成物は本発明の別の目的である製造法によって得
られる。この製造法は、 セリウム塩溶液、塩基溶液ならびにランタニド及びイツ
トリウムから成る群より選ばれる一種以上の三価の希土
類元素塩の溶液を、使用される塩基の当量数がセリウム
と希土数元素のそれぞれの当量数以上であり、反応媒体
のpHが6より大であるように連続的に同時混合し、 得られた沈澱を炉取し、 乾燥し、 焼成する ことから成ることを特徴とする。
この方法の第一工程で種々の反応体の混合をする。
本発明方法で使用するセリウム塩溶液は、本発明の条件
下で可溶性の第一七リウム及び/又は第二七リウムの状
態の塩の水溶液、特に塩化第一七リウム、第一七リウム
又は第二七リウムの状態の硝酸セリウム、あるいはこれ
らの混合物がすべて使用できる。焼成後、最終組成物中
に見出されるような不純物を含まないものからセリウム
塩が選ばれる。純度99%以上のセリウム塩を使用する
ので有利であろう。
下で可溶性の第一七リウム及び/又は第二七リウムの状
態の塩の水溶液、特に塩化第一七リウム、第一七リウム
又は第二七リウムの状態の硝酸セリウム、あるいはこれ
らの混合物がすべて使用できる。焼成後、最終組成物中
に見出されるような不純物を含まないものからセリウム
塩が選ばれる。純度99%以上のセリウム塩を使用する
ので有利であろう。
セリウム塩溶液の濃度は本発明では重要な因子ではなく
、広範囲に変えられるが、α2〜4 mob/lの濃度
が好ましい。
、広範囲に変えられるが、α2〜4 mob/lの濃度
が好ましい。
本発明方法の一つの好適な実施態様によれば、セリウム
を第一七リウムの状態で反応媒体に導入し、単独で、又
は塩基を含む溶液以外の溶液との混合物として媒体と相
溶性のある酸化剤を反応混合物に連続的に添加すること
によりこれを第二七リウムの状態に酸化する。適当な酸
化剤の例としては特にナトリウム、カリウム又はアンモ
ニウムの過塩素酸塩、塩素酸塩、次亜塩素酸塩、過硫酸
塩の溶液、過酸化水素水、空気、酸素、オゾンなどが挙
げられる。また、セリウムを電気化学的に酸化すること
もできる。過酸化水素水を使用するのが好ましい。
を第一七リウムの状態で反応媒体に導入し、単独で、又
は塩基を含む溶液以外の溶液との混合物として媒体と相
溶性のある酸化剤を反応混合物に連続的に添加すること
によりこれを第二七リウムの状態に酸化する。適当な酸
化剤の例としては特にナトリウム、カリウム又はアンモ
ニウムの過塩素酸塩、塩素酸塩、次亜塩素酸塩、過硫酸
塩の溶液、過酸化水素水、空気、酸素、オゾンなどが挙
げられる。また、セリウムを電気化学的に酸化すること
もできる。過酸化水素水を使用するのが好ましい。
酸化すべき第一七リウム塩に対する酸化剤の割合は広い
範囲で変えられる。一般に、理論量より大きく、10〜
40%過剰が好ましい。
範囲で変えられる。一般に、理論量より大きく、10〜
40%過剰が好ましい。
本発明の方法に従えば、反応混合物に単独で又はセリウ
ム塩溶液と混合して、ランタニド及びイツトリウムから
成る群より選ばれる三価の希土類元素の一種以上の塩で
無色の酸化物を形成する特徴を有する塩の水溶液を連続
的に添加する。この塩は本発明の条件下で可溶性でなけ
ればならない。
ム塩溶液と混合して、ランタニド及びイツトリウムから
成る群より選ばれる三価の希土類元素の一種以上の塩で
無色の酸化物を形成する特徴を有する塩の水溶液を連続
的に添加する。この塩は本発明の条件下で可溶性でなけ
ればならない。
適当な塩の例としてはランタン、サマリウム、ニー0ピ
ウム、ガドリニウム、ジスプ四シウム、ツリウム、イッ
テルビウム、ルテシウム及びイツトリウムの塩化物又は
硝酸塩が挙げられる。
ウム、ガドリニウム、ジスプ四シウム、ツリウム、イッ
テルビウム、ルテシウム及びイツトリウムの塩化物又は
硝酸塩が挙げられる。
本発明方法で使用する希土類元素塩溶液の濃度は重要な
因子ではなく広い範囲で変えられるが、0.2〜4mo
t/lの範囲が好ましい。
因子ではなく広い範囲で変えられるが、0.2〜4mo
t/lの範囲が好ましい。
セリウム塩溶液と希土類元素塩溶液の割合は、上記の各
構成成分の重量パーセントの所望の組成物が得られるよ
うにそれぞれの装入量をiW整することによって決めら
れる。
構成成分の重量パーセントの所望の組成物が得られるよ
うにそれぞれの装入量をiW整することによって決めら
れる。
本発明方法で使用する塩基溶液は特にアンモニア水溶液
、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液又は
炭酸ナトリウム水溶液でもよい。
、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液又は
炭酸ナトリウム水溶液でもよい。
アンモニア水溶液を使用するのが好ましい。使用する塩
基溶液の規定度は本発明では重要な因子ではなく、広い
範囲で変えられるが、1〜5Nが有利である。
基溶液の規定度は本発明では重要な因子ではなく、広い
範囲で変えられるが、1〜5Nが有利である。
塩基溶液とセリウム溶液と希土類溶液との間の割合は導
入される塩基の当量数が同時にセリウムの当量数と希土
類元素の当量数より大きいか等しくなるようにしなけれ
ばならない。セリウふと希土類元素の当量に対して塩基
の当量が5%以上過剰となるように使用するのが有利で
ある。6より大でなければならない反応媒体のpHは約
10を超過する必要はない。p H7−9が好適である
。
入される塩基の当量数が同時にセリウムの当量数と希土
類元素の当量数より大きいか等しくなるようにしなけれ
ばならない。セリウふと希土類元素の当量に対して塩基
の当量が5%以上過剰となるように使用するのが有利で
ある。6より大でなければならない反応媒体のpHは約
10を超過する必要はない。p H7−9が好適である
。
p)Iをこの範囲内でpH単位で±a1の一定値に調整
するのが特に有利である。
するのが特に有利である。
前記の種々の反応液の混合の実施は多数の変形例に従っ
て行なうことができる。例えば、セリウム塩溶液、場合
によって酸化剤、希土類元素塩溶液、および塩基溶液を
攪拌下戻々の経路で連続的に混合することができる。ま
た、セリウム塩溶液と希土類塩溶液の予備混合物を塩基
溶液と併行して反応媒体に連続添加することもできる。
て行なうことができる。例えば、セリウム塩溶液、場合
によって酸化剤、希土類元素塩溶液、および塩基溶液を
攪拌下戻々の経路で連続的に混合することができる。ま
た、セリウム塩溶液と希土類塩溶液の予備混合物を塩基
溶液と併行して反応媒体に連続添加することもできる。
酸化剤を使用する場合はセリウム塩溶液及び/又は希土
類元素塩溶液と混合して使用することができる。反応溶
液の導入の順序をどのように選んでも混合、は即時に行
なわれ、各瞬間にいろいろな種類の中で反応塊に応じて
よく決定された一つの濃度が得られる。このようにして
均質で、一定した安定な性質の組成物を得ることができ
る。
類元素塩溶液と混合して使用することができる。反応溶
液の導入の順序をどのように選んでも混合、は即時に行
なわれ、各瞬間にいろいろな種類の中で反応塊に応じて
よく決定された一つの濃度が得られる。このようにして
均質で、一定した安定な性質の組成物を得ることができ
る。
反応媒体の温度は重要ではなく、好ましくは10ν95
℃、さらに好ましくは20〜70℃の範囲でよい。
℃、さらに好ましくは20〜70℃の範囲でよい。
反応媒体中の混合物の滞留時間は本発明では重要な因子
ではなく広い範囲で変えられる。一般に、滞留時間は3
0分〜2時間の範囲で選ばれる。
ではなく広い範囲で変えられる。一般に、滞留時間は3
0分〜2時間の範囲で選ばれる。
本発明方法の別の変法によれば反応塊を濾過の前に一定
時間10〜95℃、好ましくは20〜80℃の温度で熟
成してもよい。この場合、熟成時間は重要な因子ではな
く広い範囲で変えられるが、50分〜2時間が一般に十
分である。熟成は攪拌下に行なわれる。
時間10〜95℃、好ましくは20〜80℃の温度で熟
成してもよい。この場合、熟成時間は重要な因子ではな
く広い範囲で変えられるが、50分〜2時間が一般に十
分である。熟成は攪拌下に行なわれる。
本発明の第二工程は反発後懸濁液の形を呈している反応
塊を炉取することから成る。このア取操作は場合によっ
ては連続的に周囲温度すなわち10〜25℃の温度で行
なわれる。
塊を炉取することから成る。このア取操作は場合によっ
ては連続的に周囲温度すなわち10〜25℃の温度で行
なわれる。
本発明方法の変形例に従えば、ア過ケー午はダ1き続き
水洗してもよい。この洗浄後ケーキの含水量は20〜8
0重量%であり、一般的には30〜50重量%である。
水洗してもよい。この洗浄後ケーキの含水量は20〜8
0重量%であり、一般的には30〜50重量%である。
ア過後及び場合によっては洗浄後得られた生成物は場合
によって連続的に乾燥する。乾燥温度は好ましくは10
0〜600℃であり、乾燥時間はこれらの条件下では好
ましくは30分〜2時間の範囲内で変えられる。
によって連続的に乾燥する。乾燥温度は好ましくは10
0〜600℃であり、乾燥時間はこれらの条件下では好
ましくは30分〜2時間の範囲内で変えられる。
乾燥生成物は次いで場合によって連続的に600〜12
00℃、好ましくは950〜1150℃の温度で一般に
30分〜10時間焼成する。
00℃、好ましくは950〜1150℃の温度で一般に
30分〜10時間焼成する。
次いで、焼成された生成物をα2〜5.0μmの粒径と
なるように粉砕する。一般に、平均粒径で表わされる塊
の嵩はα5〜15μである。平均粒径は塊の50重量%
が平均粒径より大又は小の粒径をもつような粒径として
定砂される。
なるように粉砕する。一般に、平均粒径で表わされる塊
の嵩はα5〜15μである。平均粒径は塊の50重量%
が平均粒径より大又は小の粒径をもつような粒径として
定砂される。
粉砕に伴なって同時に又は引続いて粒度測定により選別
操作を行なってもよい。
操作を行なってもよい。
本発明方法の別の変形例は第一工程で行なわれる混合を
反応温度に関する以外はすべて同じ二つの経路(1)及
び(2)に従って行なうことから成る。すなわち、経路
(1)は熱間で沈澱が得られるのに対して、経路(2)
では沈澱は冷間で得られる。次いで、経路(1)で得ら
れた沈澱と経路(2)で得られた沈澱とをア取の前文は
ア取の後に混合する。
反応温度に関する以外はすべて同じ二つの経路(1)及
び(2)に従って行なうことから成る。すなわち、経路
(1)は熱間で沈澱が得られるのに対して、経路(2)
では沈澱は冷間で得られる。次いで、経路(1)で得ら
れた沈澱と経路(2)で得られた沈澱とをア取の前文は
ア取の後に混合する。
さらに詳しくは、本発明方法のこの変形例は、次の工程
から成る。
から成る。
経路(1)に従い、セリウム塩溶液、塩基溶液ならびに
ランタニド及びイツトリウムから成る群より選ばれる三
価の希土類元素の一種以上の塩で酸化物が無色の塩の溶
液を、使用される塩基の当量数がセリウムと希土類元素
のそれぞれの当量数より大であり;反応媒体のpHが6
より大であるように、40〜95℃の温度で連続的に同
時混合し、経路(2)に従い、セリウム塩溶液、塩基溶
液ならびにランタニド及びイツトリウムから成る群より
選ばれる三価の希土類元素の一種以上の塩で酸化物が無
色の塩の溶液を、使用される塩基の当量数がセリウムと
希土類元素のそれぞれの当量数より大であり、反応媒体
のpnが6より大であるように、10〜25℃の温度で
連続的に同時混合するとと;経路(1)で得られた沈澱
と経路〈2)で得られた沈澱とを炉取の前又は炉取の後
に混合するとと;得られた混合物を乾燥するとと: この混合物を乾燥すること。
ランタニド及びイツトリウムから成る群より選ばれる三
価の希土類元素の一種以上の塩で酸化物が無色の塩の溶
液を、使用される塩基の当量数がセリウムと希土類元素
のそれぞれの当量数より大であり;反応媒体のpHが6
より大であるように、40〜95℃の温度で連続的に同
時混合し、経路(2)に従い、セリウム塩溶液、塩基溶
液ならびにランタニド及びイツトリウムから成る群より
選ばれる三価の希土類元素の一種以上の塩で酸化物が無
色の塩の溶液を、使用される塩基の当量数がセリウムと
希土類元素のそれぞれの当量数より大であり、反応媒体
のpnが6より大であるように、10〜25℃の温度で
連続的に同時混合するとと;経路(1)で得られた沈澱
と経路〈2)で得られた沈澱とを炉取の前又は炉取の後
に混合するとと;得られた混合物を乾燥するとと: この混合物を乾燥すること。
上記のように、経路(1)及び経路(2)で使用する試
剤は最初に説明した実施態様で使用するものと同じ性質
をもち同じ割合で使用される。
剤は最初に説明した実施態様で使用するものと同じ性質
をもち同じ割合で使用される。
方法のパラメータも反応温度の違いを除けば同じである
。
。
経路(1)の反応媒体の温度は約40〜95℃、好まし
くは約40〜60℃である。
くは約40〜60℃である。
経路(2)の温度は約10〜25℃の範囲から選ばれ、
好ましくは約20℃である。
好ましくは約20℃である。
経路(1)及び経路(2)により調製された混合物の反
応媒体中における滞留時間は本発明では重要な因子では
なく広い範囲で変えられるが、一般に30分〜2時間の
滞留時間が選ばれる。
応媒体中における滞留時間は本発明では重要な因子では
なく広い範囲で変えられるが、一般に30分〜2時間の
滞留時間が選ばれる。
経路(1)及び経路(2)により得られた沈澱を混合す
ることができる。水性懸濁液の形をしているときは熟成
前又は熟成後に、粉末の形をしているときは炉取後に混
合してもよい。
ることができる。水性懸濁液の形をしているときは熟成
前又は熟成後に、粉末の形をしているときは炉取後に混
合してもよい。
本発明方法の変形例に従えば、経路(1)及び経路(2
)により得られた反応塊の熟成を行なうが、熟成条件は
同じでも異なっていてもよいので、別々に行なっても一
緒に行なってもよい。経路(1)及び経路(2)により
得られた反応塊(あるいはそれらの混合物)は炉取操作
前に一定時間10〜95℃、好ましくは20〜70℃の
範囲内の同−又は異なる温度で熟成することができる。
)により得られた反応塊の熟成を行なうが、熟成条件は
同じでも異なっていてもよいので、別々に行なっても一
緒に行なってもよい。経路(1)及び経路(2)により
得られた反応塊(あるいはそれらの混合物)は炉取操作
前に一定時間10〜95℃、好ましくは20〜70℃の
範囲内の同−又は異なる温度で熟成することができる。
この場合、本発明では熟成時間は重要な因子ではなく広
い範囲で変えられるが、一般に30分〜2時間の時間が
十分テする。熟成操作は攪拌下に行なわれる。
い範囲で変えられるが、一般に30分〜2時間の時間が
十分テする。熟成操作は攪拌下に行なわれる。
本発明のこの実施態様に従えば、経路(1)により得ら
れた沈澱と経路(2)により得られた沈澱をそれぞれ懸
濁状態で含む二つの水溶液の混合物を形成する。この混
合は熟成前でも熟成後でも行なうことができる。次いで
得られた混合物を濾過する。
れた沈澱と経路(2)により得られた沈澱をそれぞれ懸
濁状態で含む二つの水溶液の混合物を形成する。この混
合は熟成前でも熟成後でも行なうことができる。次いで
得られた混合物を濾過する。
この濾過操作は場合によって連続的に周囲温度すなわち
一般に10〜25℃の温度で行なわれる。
一般に10〜25℃の温度で行なわれる。
場合によって、濾過ケーキを水洗してもよい。この洗浄
後、ケーキの含水量は20〜80重量%、一般に30〜
50重量%である。
後、ケーキの含水量は20〜80重量%、一般に30〜
50重量%である。
本発明の別の変形例に従えば、経路(1)と経路(2)
により得られた反応塊を場合によって熟成後に別々に濾
過することもできる。場合によって洗浄した後に行なう
ことができる濾過は上記と同じ条件下で実施される。次
いで、別個に得られた沈澱を混合する。
により得られた反応塊を場合によって熟成後に別々に濾
過することもできる。場合によって洗浄した後に行なう
ことができる濾過は上記と同じ条件下で実施される。次
いで、別個に得られた沈澱を混合する。
混合物の製造方法の如何によらず、その組成は重要では
ないが、一般に経路(2)により得られた沈澱の最終組
成物に占める割合は酸化セリウムを含む希土類元素酸化
物で表わした希土類元素の全重量の10〜75%であり
、好ましくは25〜75%である。
ないが、一般に経路(2)により得られた沈澱の最終組
成物に占める割合は酸化セリウムを含む希土類元素酸化
物で表わした希土類元素の全重量の10〜75%であり
、好ましくは25〜75%である。
経路(1)及び経路(2)により得られた生成物は戸数
し場合によって洗浄した後場合によって連続的に乾燥す
る。乾燥温度は好ましくは100〜600℃であり、乾
燥時間はこれらの条件下で好ましくは30分〜2時間で
ある。
し場合によって洗浄した後場合によって連続的に乾燥す
る。乾燥温度は好ましくは100〜600℃であり、乾
燥時間はこれらの条件下で好ましくは30分〜2時間で
ある。
乾燥生成物を次いで場合によって連続的に60ON12
00℃、好ましくは950.−1150℃の温度で一般
に30分〜2時間焼成する。
00℃、好ましくは950.−1150℃の温度で一般
に30分〜2時間焼成する。
次いで、上記と同じ条件下で焼成生成物の粉砕をする。
本発明方法は従来の装置で実施することができる。
試剤の混合工程は、温度II整加熱装置、慣用の反応調
節手段(温度計)、攪拌手段(6字又は螺旋攪拌)、試
剤導入手段及び反応器の出口に位置したpH調整ユニッ
トを備えた反応器内で行なわれる。熟成操作は試剤導入
手段とpH調整ユニットを備えていないことが異なるこ
とを除けば同じ型の装置で行なわれる。一つの反応器か
ら他の反応器への反応塊の通過は重力によって行なわれ
る。
節手段(温度計)、攪拌手段(6字又は螺旋攪拌)、試
剤導入手段及び反応器の出口に位置したpH調整ユニッ
トを備えた反応器内で行なわれる。熟成操作は試剤導入
手段とpH調整ユニットを備えていないことが異なるこ
とを除けば同じ型の装置で行なわれる。一つの反応器か
ら他の反応器への反応塊の通過は重力によって行なわれ
る。
得られた懸濁液の戸数を連続濾過装置、例えば、バーネ
イ(Vermay )型回転フィルター又はバンド式フ
ィルターで行なう。
イ(Vermay )型回転フィルター又はバンド式フ
ィルターで行なう。
濾過ケーキを何らかの適当な機械的手段(ノーツカ−)
を用いて乾燥−焼成装置に導入する。
を用いて乾燥−焼成装置に導入する。
乾燥及び焼成操作は二つの別個の装置で行なうこともで
きるが回転炉型の単一の装置で連続的に移行させること
もできる。軽く傾斜し材料の循環を許容するとともに、
第一の部分では生成物の乾燥を保証し、好ましくは天然
ガスで供給される炎に近いため温度勾配が高いことによ
り第二の部分では焼成を保証する回転炉を使用するのが
好ましい。
きるが回転炉型の単一の装置で連続的に移行させること
もできる。軽く傾斜し材料の循環を許容するとともに、
第一の部分では生成物の乾燥を保証し、好ましくは天然
ガスで供給される炎に近いため温度勾配が高いことによ
り第二の部分では焼成を保証する回転炉を使用するのが
好ましい。
焼成後、得られた組成物を同一の装置例えば一体型超粉
砕機で行なうことができる粉砕と粒度選別から成る仕上
げ操作に付すことができる。
砕機で行なうことができる粉砕と粒度選別から成る仕上
げ操作に付すことができる。
二つの異なる経路(1)及び経路(2)により得られた
沈澱を混合することから成る本発明の変形例の実施は、
焼成操作に先行する工程で専ら使用されている装置の適
合化を含むことができる。
沈澱を混合することから成る本発明の変形例の実施は、
焼成操作に先行する工程で専ら使用されている装置の適
合化を含むことができる。
経路(1)により達成される試剤の混合工程は温度調整
加熱装置、慣用の反応調節手段(温度計)、攪拌手段(
6字又は螺旋攪拌)、試剤導入手段及び反応器出口に位
置したpH調整ユニットを備えた反応器で行なわれる。
加熱装置、慣用の反応調節手段(温度計)、攪拌手段(
6字又は螺旋攪拌)、試剤導入手段及び反応器出口に位
置したpH調整ユニットを備えた反応器で行なわれる。
熟成操作は試剤導入手段とpH調整ユニットを備えてい
ないことが異なることを除けば同じ型の装置で行なわれ
る。一つの反応器から他の反応器への反応塊の通過は重
力によって行なわれる。
ないことが異なることを除けば同じ型の装置で行なわれ
る。一つの反応器から他の反応器への反応塊の通過は重
力によって行なわれる。
経路(2)により行なわれる混合は、加熱装置を備えて
いる必要が必ずしもない点が異なる以外は同様の反応器
で行なわれる。経路(2)で行なわれる熟成は経路(1
)に対して使用されるのと同じ反応器で行なわれる。
いる必要が必ずしもない点が異なる以外は同様の反応器
で行なわれる。経路(2)で行なわれる熟成は経路(1
)に対して使用されるのと同じ反応器で行なわれる。
本発明の一つの実施態様によれば、経路(1)及び経路
(2)により得られた沈澱の水性懸濁液の混合は経路(
1)及び(2)に共通の熟成反応器の段階又は濾過槽の
段階で行なわれる。
(2)により得られた沈澱の水性懸濁液の混合は経路(
1)及び(2)に共通の熟成反応器の段階又は濾過槽の
段階で行なわれる。
経路(1)及び(2)により得られた沈澱又は経路(1
)及び(2)に従い別々に得られた沈澱の水性懸濁液の
混合物の戸数は従来の濾過装置、例えばバーネイ(Ve
rmay )型回転フィルター又はバンド式フィルター
で場合によって連続的に行なわれる。
)及び(2)に従い別々に得られた沈澱の水性懸濁液の
混合物の戸数は従来の濾過装置、例えばバーネイ(Ve
rmay )型回転フィルター又はバンド式フィルター
で場合によって連続的に行なわれる。
濾過ケーキは何らかの適当な機械的手段(ノツカー)を
用いて乾燥−焼成装置に導入する。
用いて乾燥−焼成装置に導入する。
本発明を実施する別の変形例に従えば、濾過後経路(1
)及び(2)により得られた沈澱の混合は上記と同じ乾
燥装置及び/又は焼成装置の段階で行なわれる。
)及び(2)により得られた沈澱の混合は上記と同じ乾
燥装置及び/又は焼成装置の段階で行なわれる。
焼成後、得られた組成物は上記装置で実施される仕上げ
操作に付すことができる。
操作に付すことができる。
本発明の組成物のガラス研磨における使用は従来の方法
に従って行なわれる。一般に濡れた研磨系に関与してい
るので水に懸濁して使用される。
に従って行なわれる。一般に濡れた研磨系に関与してい
るので水に懸濁して使用される。
研磨浴の製造は単に組成物の粉末を水性媒体に手で又は
従来の攪拌手段(8字、螺旋又はタービン等)を使用し
て攪拌しつつ添加することにより行なわれる。
従来の攪拌手段(8字、螺旋又はタービン等)を使用し
て攪拌しつつ添加することにより行なわれる。
導入される組成物の量は、一般にC@02で表わされる
組成物の濃度が30〜200 t/を浴であるような量
である。
組成物の濃度が30〜200 t/を浴であるような量
である。
研磨浴の調製に関与する水の量は何ら重要な性質ではな
いが、本発明の組成物の懸濁液の持続性を良くするため
には軟水すなわち硬度が50’THより小さい水を使用
することが好ましい。
いが、本発明の組成物の懸濁液の持続性を良くするため
には軟水すなわち硬度が50’THより小さい水を使用
することが好ましい。
浴の温度は50℃より低くなるように選ばれる。
温度の上昇はすべて懸濁液のデカンテーションを促進す
るので20℃程度の低温で作業することが重要である。
るので20℃程度の低温で作業することが重要である。
本発明の研磨組成物は多数の利点をもつことが確められ
ている。
ている。
外観すなわち細かさ、粒度分布、色が改善されている。
均質性及び再現性が良好である。
比表面積がしばしば2〜1Q tn27f 、好ましく
は3〜13m”/fである。比表面積は[ザ・ジャー6
09頁(1938年)」に記載のBRUNAUER−E
MMET−置LER法により決定されるB、 L T。
は3〜13m”/fである。比表面積は[ザ・ジャー6
09頁(1938年)」に記載のBRUNAUER−E
MMET−置LER法により決定されるB、 L T。
比表面積である。
同様に改善された性質:密度及び懸濁持続性をもつ。
改善された性能:研磨効率、研磨迅速性、研磨品の屑の
量が少ないこと等。
量が少ないこと等。
本発明方法により得られる組成物はガラス又はこれと同
じ種類の材料に適用できる。
じ種類の材料に適用できる。
これらの組成物は大量生産及び注文生産の眼鏡製造分野
に使用することができる。
に使用することができる。
上記組成物の特権的応用分野はクリスタル・ガラス製造
、板ガラス・鏡製造、板ガラス特にガラス戸、二重ガラ
ス戸、バックミラー及びテレビのスクリーンを再編する
ガラス工業である。
、板ガラス・鏡製造、板ガラス特にガラス戸、二重ガラ
ス戸、バックミラー及びテレビのスクリーンを再編する
ガラス工業である。
本発明の組成物の使用は使用後研磨効果が低下した場合
にガラスに再利用できるために特に有利である。一般に
、外来性要素(けずり取られたガラス)の乾燥材料で表
わして10〜15重量%が混入している。
にガラスに再利用できるために特に有利である。一般に
、外来性要素(けずり取られたガラス)の乾燥材料で表
わして10〜15重量%が混入している。
研磨浴に懸濁している使用済研磨組成物をあらゆる固液
分離技術、例えば遠心分離又は凝集−濾過により回収す
る。凝集−濾過の場合は従来の好ましくは無機質の凝集
剤:硫酸鉄、ヒドロキシ塩酸アルミニウム等を挙げるこ
とができる。
分離技術、例えば遠心分離又は凝集−濾過により回収す
る。凝集−濾過の場合は従来の好ましくは無機質の凝集
剤:硫酸鉄、ヒドロキシ塩酸アルミニウム等を挙げるこ
とができる。
この再使用ができる能力により無視できない原材料の節
約が可能であり、下記の理由でガラス工業において酸化
第二七リウムの消費が止むことなく増大し続けているだ
けに益々無視できない。すなわち、ガラスの化学的装飾
はガラスにFeOの状態の鉄を着色の少ないF・203
の状態にさせる酸化剤を添加することから成る。酸化は
As2O5,5b2o、のような従来の脱色剤を用いて
行なわれる。
約が可能であり、下記の理由でガラス工業において酸化
第二七リウムの消費が止むことなく増大し続けているだ
けに益々無視できない。すなわち、ガラスの化学的装飾
はガラスにFeOの状態の鉄を着色の少ないF・203
の状態にさせる酸化剤を添加することから成る。酸化は
As2O5,5b2o、のような従来の脱色剤を用いて
行なわれる。
現実の傾向はこれらの代わりに酸化第二七リウムを使用
する傾向にあるが、それは酸化第二七リウムが毒性をも
たないという大きな利点を有するからである。
する傾向にあるが、それは酸化第二七リウムが毒性をも
たないという大きな利点を有するからである。
さらに、酸化第二セリウムの使用量はテレビ画面の製造
の際には非常に多い。実際、酸化第二七リウムはX線及
びα線に対して保護する役割を果たすことが知られてお
り、その結果ガラスの重量の(L5〜5%の割合で一般
に使用されている。従つて、テレビ画面における本発明
組成物の再使用により達成される利得は高く評価し得る
。
の際には非常に多い。実際、酸化第二七リウムはX線及
びα線に対して保護する役割を果たすことが知られてお
り、その結果ガラスの重量の(L5〜5%の割合で一般
に使用されている。従つて、テレビ画面における本発明
組成物の再使用により達成される利得は高く評価し得る
。
ガラスの組成に干渉し得るイオンは何も含んでいない本
発明組成物は次に酸化第二セリウム源として有利に使用
することができる。
発明組成物は次に酸化第二セリウム源として有利に使用
することができる。
以下の実施例により本発明の研磨組成物の調製をさらに
詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定され
ない。
詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定され
ない。
酸化第二七リウムと酸化ランタンをベースとする実施例
1及び2の研磨組成物は本発明の一般的な調製法の実施
態様に従って調製したが、実施例3に記載の実施態様は
第一工程に二つの経路(1)及び(2)による試剤の混
合を介在させた変形例を説明している。
1及び2の研磨組成物は本発明の一般的な調製法の実施
態様に従って調製したが、実施例3に記載の実施態様は
第一工程に二つの経路(1)及び(2)による試剤の混
合を介在させた変形例を説明している。
得られた種々の組成物をそれらの物理化学的性質及び研
磨効果を証明する後記の試験に付した。
磨効果を証明する後記の試験に付した。
実施例1
調製:
酸化第二セリウム 92%
三二酸化ランタン 8%
この組成物はフッ素イオンを含まず、着色した希土類元
素の量も非常にわずかである(希土類元素酸化物の重量
で表わして1%未満)。 ”この組成物は以下のように
調製される。
素の量も非常にわずかである(希土類元素酸化物の重量
で表わして1%未満)。 ”この組成物は以下のように
調製される。
a)攪拌系を備えた2つの250crR”予備混合ポッ
トにそれぞれ次のものを入れる。
トにそれぞれ次のものを入れる。
一方に、
・3Nアンモニア水溶液
他方に、
・希土類元素酸化物、すなわち酸化第二七リウム92%
と酸化ランタン8%が得られるような量の硝酸第二七リ
ウム及び硝酸ランタンを1mot/を含有する水溶液。
と酸化ランタン8%が得られるような量の硝酸第二七リ
ウム及び硝酸ランタンを1mot/を含有する水溶液。
・過酸化水素水溶液200容、過酸化水素の酸化第一七
リウム塩に対する割合は35%過剰。
リウム塩に対する割合は35%過剰。
攪拌系と出口に位置したpT(調整ユニツFとを備えた
2を容の熱調節反応器に同時にかつ連続的に調整ユニッ
トのpHがpH78に調整されるような流量で二つの溶
液を導入する。
2を容の熱調節反応器に同時にかつ連続的に調整ユニッ
トのpHがpH78に調整されるような流量で二つの溶
液を導入する。
上記反応器は50℃で機能し、滞留時間は1時間である
。
。
反応塊は重力により75℃の温度で滞留時間1時間で熟
成が行なわれている同様の反応器に移る。
成が行なわれている同様の反応器に移る。
b)得られた沈澱をバーネイ型回転フィルターを使用し
22℃でア遇する。
22℃でア遇する。
e)次いで、温度分布が入口温度100℃から出口温度
1090℃まで段階的に変化している回転炉内で沈澱の
乾燥及び焼成を行なう。乾燥は100〜600℃で約2
時間、焼成は600〜1090℃で3時間である。
1090℃まで段階的に変化している回転炉内で沈澱の
乾燥及び焼成を行なう。乾燥は100〜600℃で約2
時間、焼成は600〜1090℃で3時間である。
d)空気流を使用して粉砕と粒度選別を同時に達成する
超微粉砕機に通ずことにより仕上られた製品(ト)が得
られる。
超微粉砕機に通ずことにより仕上られた製品(ト)が得
られる。
実施例2
調製:
酸化第二七リウム 92%
三二酸化ランタン 8%
この組成物はフッ素イオンを含まず、着色した希土類元
素の量も非常にわずかである(希土類元素酸化物の重量
で表わして1−未満)。
素の量も非常にわずかである(希土類元素酸化物の重量
で表わして1−未満)。
この組成物は実施例1に記載の溶液を使用し以下の操作
態様に従って調製される。
態様に従って調製される。
a)上記のような反応器に同時にかつ連続的に二つの溶
液を調整ユニットのpHがpH7,6に調整されるよう
な流量で導入する。
液を調整ユニットのpHがpH7,6に調整されるよう
な流量で導入する。
反応器は20℃で機能し、滞留時間は1時間である。
反応塊は重力により20℃の温度で滞留時間1時間で熟
成が行なわれている同様の反応器に移る。
成が行なわれている同様の反応器に移る。
b)得られた沈澱をバーネイ型回転フィルターを使用し
22℃で濾過する。
22℃で濾過する。
C)次いで、温度分布が入口温度100℃から出口温度
1100℃まで段階的に変化している回転炉内で沈澱の
乾燥及び焼成を行なう。乾燥は100〜600℃で約2
時間、焼成は600〜1100℃で3時間である。
1100℃まで段階的に変化している回転炉内で沈澱の
乾燥及び焼成を行なう。乾燥は100〜600℃で約2
時間、焼成は600〜1100℃で3時間である。
d)空気流を使用して粉砕と粒度選別を同時に達成する
超微粉砕機に通すことにより仕上げられた製品rB)が
得られる。
超微粉砕機に通すことにより仕上げられた製品rB)が
得られる。
実施例3
調製:
酸化第二七リウム 92%
三二酸化ランタン 8イ
この組成物はフッ素イオンを含まず、着色した希土類元
素の量も非常にわずかである(希土類元素酸化物の重量
で表わして1%未満)。
素の量も非常にわずかである(希土類元素酸化物の重量
で表わして1%未満)。
この組成物は以下のようにして調製される。
a)経路(1)に従い熱間で沈澱を調製し、熟成し1取
する。
する。
このために、攪拌系を備えた2つの250crR”予備
混合ポットにそれぞれ次のものを入れる。
混合ポットにそれぞれ次のものを入れる。
一方に、
・3Nナンモニア水溶液
他方に
・希土類元素酸化物、すなわち酸化第二セリウム92%
と酸化ランタン8%が得られるような量の硝酸第二セリ
ウム及び硝酸ランタンを1mot/を含有する水溶液。
と酸化ランタン8%が得られるような量の硝酸第二セリ
ウム及び硝酸ランタンを1mot/を含有する水溶液。
・過酸化水素水溶液200容、過酸化水素の酸化第一七
リウム塩に対する割合は35%過剰。
リウム塩に対する割合は35%過剰。
攪拌系と出口に位置したpH調整ユニットとを備えた2
を容の熱調節反応器に同時にかつ連続箇に、調整ユニッ
トのpHがpH″18に調整されるような流量で二つの
溶液を導入する。
を容の熱調節反応器に同時にかつ連続箇に、調整ユニッ
トのpHがpH″18に調整されるような流量で二つの
溶液を導入する。
上記反応器は50℃で機能し、滞留時間は1時間である
。
。
反応塊は重力により、75℃の温度で滞留時間1時間で
熟成が行なわれている同様の反応器に移る。
熟成が行なわれている同様の反応器に移る。
経路(1)により得られた沈澱の炉取を22℃でバーネ
イ型回転フィルターを使用して行なう。
イ型回転フィルターを使用して行なう。
b)経路(2)により冷間で沈澱の調製を行ない、熟成
し1取する。
し1取する。
同様に、攪拌系を備えた2つの250cf11”予備混
合ポットにそれぞれ次のものを入れる。
合ポットにそれぞれ次のものを入れる。
一方に、
・3Nアンモニア水溶液
他方に、
・希土類元素酸化物、すなわち酸化第二七リウム92%
と酸化ランタン8%が得られるような量の硝酸第二七リ
ウム及び硝酸ランタンを1 mol/L含有する水溶液 Φ過酸化水素水溶液200容、過酸化水素の第一セリウ
ム塩に対する割合は35%過剰攪拌系と出口に位置した
pH1i整ユニツトとを備えた2を容の熱調節反応器に
調整ユニットのpHがp H7,6に調整されるような
流量で二つの溶液を同時にかつ連続的に導入する。
と酸化ランタン8%が得られるような量の硝酸第二七リ
ウム及び硝酸ランタンを1 mol/L含有する水溶液 Φ過酸化水素水溶液200容、過酸化水素の第一セリウ
ム塩に対する割合は35%過剰攪拌系と出口に位置した
pH1i整ユニツトとを備えた2を容の熱調節反応器に
調整ユニットのpHがp H7,6に調整されるような
流量で二つの溶液を同時にかつ連続的に導入する。
上記反応器の温度は20−22℃であり、滞留時間は1
時間である。
時間である。
反応塊は重力により70℃の温度で1時間の滞留時間で
熟成が行なわれている同様の反応器に移る。
熟成が行なわれている同様の反応器に移る。
次いで、経路(2)により得られた沈澱の1取を22℃
でバーネイ型回転フィルターを使用して行なう。
でバーネイ型回転フィルターを使用して行なう。
C)経路(1)及び(2)により得られた沈澱の混合を
乾燥−焼成装置の入口の段階で行なう。経路(2)によ
り得られた沈澱の最終組成物に占める割合は酸化セリウ
ムを含む希土類元素酸化物で表わした希土類元素の全重
量の25%である。
乾燥−焼成装置の入口の段階で行なう。経路(2)によ
り得られた沈澱の最終組成物に占める割合は酸化セリウ
ムを含む希土類元素酸化物で表わした希土類元素の全重
量の25%である。
d)次いで、温度分布が入口温度100℃から出口温度
1090℃まで段階的に変化している回転炉内で沈澱の
乾燥を行なう。乾燥は100〜600℃で約2時間、焼
成は600〜1090℃で3時間である。
1090℃まで段階的に変化している回転炉内で沈澱の
乾燥を行なう。乾燥は100〜600℃で約2時間、焼
成は600〜1090℃で3時間である。
e)空気流を使用して粉砕と粒度選別を同時に達成する
超微粉砕機に通すことにより仕上げられた製品(0が得
られる。
超微粉砕機に通すことにより仕上げられた製品(0が得
られる。
実施例1.2及び3によりそれぞれ得られた研磨組成物
囚、(B)及び(Qを下記の種々の物理化学的試験に付
してそれらの性質を明らかにした。
囚、(B)及び(Qを下記の種々の物理化学的試験に付
してそれらの性質を明らかにした。
DIN53194に従って決定される。この方法の原理
は既知量の粉末状製品を目盛付試験管に入れ所定の条件
下で圧縮することにある。
は既知量の粉末状製品を目盛付試験管に入れ所定の条件
下で圧縮することにある。
得られた結果を下表1に示す。
表1
2)真の密度
質量既知の被験組成物の絶対体積を与えるガス粉体工学
モデル1302型比重計を使用して測定する。
モデル1302型比重計を使用して測定する。
三つの組成物の真の密度はp = 7.2±α1f^3
である。
である。
3)粒度
各組成物の粒度を決定するために、11/1のへキサメ
タ燐酸ナトリウムを含有する蒸留水1を当り121Fの
割合の被験組成物の懸濁液4053を調製する。
タ燐酸ナトリウムを含有する蒸留水1を当り121Fの
割合の被験組成物の懸濁液4053を調製する。
次いで、超音波発生器ANNEMASSF (出力80
W1周波数26 KHz )により発生させた超音波で
塊の剥離をする。操作は5分間行なう。
W1周波数26 KHz )により発生させた超音波で
塊の剥離をする。操作は5分間行なう。
次いで、8EDIGRAPH5000D 装置を使用し
て粒度分析を行なう。
て粒度分析を行なう。
この装置は懸濁している粒子の沈降量を測定し、これら
の結果を球相当直径に対する累積百分率分布で自動的に
表わす(ストークスの法則に基く)。
の結果を球相当直径に対する累積百分率分布で自動的に
表わす(ストークスの法則に基く)。
この装置は非常に細いX線の束の媒介により、種々の沈
降高さの懸濁液に保持されている粒子の濃度を時間の関
数として決定する。X線の強度の対数は電気的に発生さ
れ、記録され、自記装置XYのY軸上に「累積百分率」
(もつと小さくして)で直線的に示される。分析に要す
る時間を制限するために沈降セルを連続的に、沈降セル
の深さが時間に反比例するように運動させる。このセル
の運動は与えられた沈降深さになるのに要する時間に相
当する球相当直径を直接示すように自記記録装置のX軸
と同期しており、寸法の情報は3モジユールの対数紙上
に示される。
降高さの懸濁液に保持されている粒子の濃度を時間の関
数として決定する。X線の強度の対数は電気的に発生さ
れ、記録され、自記装置XYのY軸上に「累積百分率」
(もつと小さくして)で直線的に示される。分析に要す
る時間を制限するために沈降セルを連続的に、沈降セル
の深さが時間に反比例するように運動させる。このセル
の運動は与えられた沈降深さになるのに要する時間に相
当する球相当直径を直接示すように自記記録装置のX軸
と同期しており、寸法の情報は3モジユールの対数紙上
に示される。
各組成物について得られた平均直径を下表2に示す。
表2
型偏差値は下表3の通りである。
表3
4)比表面積
研磨組成物のBET法により測定した比表面積は下表4
に示す通りである。
に示す通りである。
表4
5)懸濁持続性
250cWl’試験管に509/lの割合の被験組成物
の懸濁液、すなわち28°THの硬度をもち20℃の温
度の水250c1n’中に粉末12.5Fを導入する。
の懸濁液、すなわち28°THの硬度をもち20℃の温
度の水250c1n’中に粉末12.5Fを導入する。
懸濁液を完全に均質化した後、密度計(1000〜11
00の目盛)を使用してデカンテーションの速度を時間
の関数として追う。d=f 、(t)の曲線を引くこと
ができる。
00の目盛)を使用してデカンテーションの速度を時間
の関数として追う。d=f 、(t)の曲線を引くこと
ができる。
’rsoは懸濁持続能力について製品の挙動の数学的表
現である。これは、測定値が最初の密度と清澄な液の最
終密度との間の平均値となるような十進法表示による分
で表わされた時間である。
現である。これは、測定値が最初の密度と清澄な液の最
終密度との間の平均値となるような十進法表示による分
で表わされた時間である。
組成物(A)、(B)及び(QのTll0は3分±α5
に等しい。
に等しい。
6)初期密集度
この概念は年代学的には懸濁液の持続性に由来している
。実際、製品に助剤が入っているかどうかはつねにデカ
ンテーションによって片がつく。
。実際、製品に助剤が入っているかどうかはつねにデカ
ンテーションによって片がつく。
使用者はしばしば前もって所望の濃度で懸濁液を調製し
、機械で使用するまで貯蔵する。懸濁液の調製からその
使用までに数日に及ぶことのある時間が経過する。その
間にデカンテーションが起きる時間である。この場合、
二つの形態が生じる。
、機械で使用するまで貯蔵する。懸濁液の調製からその
使用までに数日に及ぶことのある時間が経過する。その
間にデカンテーションが起きる時間である。この場合、
二つの形態が生じる。
デカントされたものは広がった感知しにくい層を形成す
るか、 あるいは、容器の底に横たわっている部分が不鮮明な粘
着性の本物のコンクリートのような外観を与える。
るか、 あるいは、容器の底に横たわっている部分が不鮮明な粘
着性の本物のコンクリートのような外観を与える。
製品を再懸濁するのは第一の場合は瞬間的かつ完全であ
り、予定された濃度が得られる。これに対して、第二の
場のように製品を密集させると製品の一部だけが懸濁さ
れ、研磨組成物における浴の窮乏化が起きる。極端な場
合、密集は容器の底から製品を離すのが不可能な割合に
達する。これは利用できなくなった新しい製品の大量損
失につながる。
り、予定された濃度が得られる。これに対して、第二の
場のように製品を密集させると製品の一部だけが懸濁さ
れ、研磨組成物における浴の窮乏化が起きる。極端な場
合、密集は容器の底から製品を離すのが不可能な割合に
達する。これは利用できなくなった新しい製品の大量損
失につながる。
密集傾向の存否を評価するためにバケツに水道水1を当
り被験組成物100fを分散させて良く均質化した懸濁
液5tを調製することから成る次の試験を行なう。24
時間経過後デカントされた部分の状態を「手で評価」す
る。さらに48時間及び72時間経過後の2度測定をす
る。触感を数量化する能力がないので次の表に従って密
集度を評価する:密集していない、やや密集している、
密集している。
り被験組成物100fを分散させて良く均質化した懸濁
液5tを調製することから成る次の試験を行なう。24
時間経過後デカントされた部分の状態を「手で評価」す
る。さらに48時間及び72時間経過後の2度測定をす
る。触感を数量化する能力がないので次の表に従って密
集度を評価する:密集していない、やや密集している、
密集している。
三つの組成物(A)、(B)及び(C)は密集度が非常
に軽いことが認められる。
に軽いことが認められる。
効果が展開においてもそのもたらす不都合においても同
様であるとしても密集度をケーキングから分離すること
が便利である。密集度は新鮮な製品に対するものと了解
されている。ケーキングは、これに対して、製品が移動
している最中又は移動した後機械の中で生じる。
様であるとしても密集度をケーキングから分離すること
が便利である。密集度は新鮮な製品に対するものと了解
されている。ケーキングは、これに対して、製品が移動
している最中又は移動した後機械の中で生じる。
困難な条件(高速、高圧)下での研磨の場合は研磨組成
物は顕著な機械的摩擦にさらされる:塊の割れ、粒度分
布の微細側への傾斜が起きる。懸濁液はその上外来性の
粒子(剥れたガラスに由来するクイ酸塩)に富んでいる
。これら二つの因子の結合により、−日の終りに又は−
週間の終りに、しばしばそうであるように、機械を停止
し、製品を容器と管路に稠度と付着性をもつスラリーの
形でデカントされる。ケーキングが生じる。再運転時の
再懸濁がその場合悪いか、もつと悪い場合には不可能で
ある。
物は顕著な機械的摩擦にさらされる:塊の割れ、粒度分
布の微細側への傾斜が起きる。懸濁液はその上外来性の
粒子(剥れたガラスに由来するクイ酸塩)に富んでいる
。これら二つの因子の結合により、−日の終りに又は−
週間の終りに、しばしばそうであるように、機械を停止
し、製品を容器と管路に稠度と付着性をもつスラリーの
形でデカントされる。ケーキングが生じる。再運転時の
再懸濁がその場合悪いか、もつと悪い場合には不可能で
ある。
ケーキング指数を決定するために酸化されない鋤鉤に研
磨器の形にするのに用いた懸濁液を集める(下記の試験
参照)。24時間静置しデカントさせた後、調節された
機械的攪拌(250回転/分、5分間)により製品を再
懸濁する。上清を投棄し、次いで1m駒を炉に入れて再
懸濁しない分画を乾燥する。ケーキング指数(IC)は
出発時使用した組成物の量に対してこの分画を表わす百
分率である。
磨器の形にするのに用いた懸濁液を集める(下記の試験
参照)。24時間静置しデカントさせた後、調節された
機械的攪拌(250回転/分、5分間)により製品を再
懸濁する。上清を投棄し、次いで1m駒を炉に入れて再
懸濁しない分画を乾燥する。ケーキング指数(IC)は
出発時使用した組成物の量に対してこの分画を表わす百
分率である。
下表5に示すケーキング指数(IC)を得た。
表5
8)研磨効果
試験は種々の型の研磨器:ポリウレタン7オーム、フェ
ルト及びペロン(Pe1lon )を使用して行なった
。
ルト及びペロン(Pe1lon )を使用して行なった
。
a) ポリウレタンフォームでの効果
二つの棒と一つの凸状研磨ヘッドを備えた工業機械CM
VモデルI CM7を使用する。被験研磨組成物の懸濁
液を使用して研磨すべきガラスの表面にポンプで供給す
る。
VモデルI CM7を使用する。被験研磨組成物の懸濁
液を使用して研磨すべきガラスの表面にポンプで供給す
る。
操作条件は下記の通りである。
ヘッドの速度 1500回転/分
俸の速度 1000回転/回
転力 1201)IP/1M1雪
懸濁液の濃度 509/を
水の硬度 28°TH
温度 20℃
研磨器 ポリウレタンフォーム
MPU LP46(厚さ130)
研磨すべきガラス クラウンホワイト
直径 5511Jl
ポンプ流量 五8〜4t/分
試験時間 3分
線試験時間 60分
2本のガラス製試験管の凹表面を全体で3分間作業した
後材料の剥れを重量で測定する。試験を1時間の間繰り
返した。
後材料の剥れを重量で測定する。試験を1時間の間繰り
返した。
平均剥離重量は次のものに帰着する:
重量単位:岬
表面種単位 01
時間単位 分
作業時間の関数として研磨効果曲線を引く。
この曲線から最初の10例の平均として研磨効果を表わ
す。
す。
得られた結果は下表6の通りである。
表6
b)フェルトでの研磨効果
単一の棒を有しフェルト製研磨器を被験組成物で均一に
濡らしたC0BURN60!1機を使用して試験を行な
う。
濡らしたC0BURN60!1機を使用して試験を行な
う。
操作条件は下記の通りである。
研磨器の速度 550回転回転
棒の速度 俸は研磨器にσ1きすられているので同じ速
度 圧力 250 f 7cm” 懸濁液の濃度 509/を 水の硬度 28°TH 温度 20”C 研磨器 フェルト製(Btu−8tr@akタイプ) 研磨すべきガラス クラウンホワイト タービン流量 12ダt4L/分 試験時間 15分 線試験時間 1時間30分 研磨効果の表現はあらゆる点でCMV機について上記し
たのと同じである。
度 圧力 250 f 7cm” 懸濁液の濃度 509/を 水の硬度 28°TH 温度 20”C 研磨器 フェルト製(Btu−8tr@akタイプ) 研磨すべきガラス クラウンホワイト タービン流量 12ダt4L/分 試験時間 15分 線試験時間 1時間30分 研磨効果の表現はあらゆる点でCMV機について上記し
たのと同じである。
研磨効果は、効果のプラトーで、すなわち45分〜1時
間30分の試験の平均で決定される。
間30分の試験の平均で決定される。
下表7に示す研磨効果が得られる。
表7
C)ペロンでの研磨効果
前記のC0BURN機を使用して試験を行なう。
使用する研磨器はHARTFELT社製の自己接着ぺ四
ンであり平らな工具に貼りつけである。
ンであり平らな工具に貼りつけである。
操作条件は下記の通りである。
研磨器の速度 550回転回転
棒の速度 研磨器に7j1きずられているので同じ速度
圧力 250 f/、2
懸濁液の濃度 509/を
水の硬度 28°TH
温度 20”C
研磨器 ペロン
研磨すべきガラス クラウンホワイト
タービン流量 12〜t4t/分
試験時間 15分
線試験時間 3時間
30分、45分及び60分で得られた研磨効果の平均を
とって研磨効果を決定する。
とって研磨効果を決定する。
得られた研磨効果は下表8に示す通りである。
表8
研磨組成物の性質を比較しそれらの性能を評価するため
に下記の組成をもつ商品名セpツクス(Cerox)1
650で市販されている従来の研磨組成物の概観を説明
する。
に下記の組成をもつ商品名セpツクス(Cerox)1
650で市販されている従来の研磨組成物の概観を説明
する。
希土類元素酸化物 94%
酸化第二七リウム 66%
酸化ランタン 19襲
酸化ネオジム 9%
酸化プラセオジム <(LO001%
F−で表わされるフッ素 4%
p、o、で表わされる燐酸塩 4%
圧縮見掛密度 d =16±α2
真の密度 p=lh55±Q、 1 f 7cm”粒度
分布 d、、=15μ毒±1 懸濁液の持続性 T、0=3分 初期密集度 密集していない。
分布 d、、=15μ毒±1 懸濁液の持続性 T、0=3分 初期密集度 密集していない。
ケーキング指数 IC=40%
研磨効果
ポリウレタンフォームでの効果 370 my/m”7
分フェルトでの効果 5B119/脩2/分ぺpンでの
効果 44q/情鵞/分
分フェルトでの効果 5B119/脩2/分ぺpンでの
効果 44q/情鵞/分
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) ガラスの組成物と相溶性のないイオンを含まな
いこと及び酸化第二七リウムを含有するとともにランタ
ニド及びイツトリウムから成る群より選ばれる他の希土
類元素の無色の酸化物の一種以上を含有することを特徴
とする、ガラスに再利用し得る研磨組成物。 (2)希土類元素酸化物がランタン、サマリウム、ニー
ルビラム、ガドリニウム、ジスプロシウム、ツリウム、
イッテルビウム、ルテシウム及びイツトリウムの酸化物
、又はこれらの酸化物の混合物であることを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の組成物。 (3)希土類元素酸化物が三二酸化ランタンであること
を特徴とする特許請求の範囲第1項及び2項のいずれか
一つに記載の組成物。 (4)組成物が 酸化第二セリウム 40〜995重量%希土類元素酸化
物 0.5〜60重量%から成ることを特徴とする特許
請求の範囲第1項〜3項のいずれか−に記載の組成物。 (5)組成物が 酸化第二七リウム 85〜98重量% 希土類元素酸化物 2〜15重量% から成ることを特徴とする特許請求の範囲第4項記載の
組成物。 (6)(+) セリウム塩溶液、塩基溶液ならびにラン
タニド及びイツトリウムから成る群より選ばれる一種以
上の三価の希土類元素塩の溶液を、使用される塩基の当
量数がセリウムと希土類元素の当量数以上であり、反応
媒体のpHが6より大であるように連続的に同時混合す
ること、 (iD 得られた沈澱を炉取すること、(iil)沈澱
を乾燥すること、及び (X/)沈澱を焼成すること から成ることを特徴とする、ガラスの組成物と相溶性の
ないイオンを含まないこと及び酸化第二七リウムを含有
するとともにランタニド及びイツトリウムから成る群よ
り選ばれる他の希土類元素の無色の酸化物の一種以上を
含有するガラスに再利用し得る研磨組成物の製造法。 (7) セリウム塩溶液が塩化第一セリウム、硝酸第一
七リウム、硝酸第二七リウムまたはそれらの混合物の水
溶液であることを特徴とする特許請求の範囲第6項記載
の製造法。 (8) セリウム塩溶液の濃度が0.2〜4 moj/
lであることを特徴とする特許請求の範囲第6項及び7
項の一つに記載の製造法。 (9) セリウムを第一七リウムの状態で反応媒体に導
入し、単独で、又は塩基を含む溶液以外の溶液との混合
物として酸化剤を反応媒体に連続的に添加することによ
り第一七リウムを第二七リウムの状態に酸化することを
特徴とする特許請求の範囲第6〜8項の−に記載の製造
法。 (10)酸化剤が過塩素酸、塩素酸、次亜塩素酸、過硫
酸のナトリウム塩、カリウム塩又はアンモニウム塩の溶
液;過酸化水素水;空気、酸素、オゾンあるいは電気化
学的酸化から成る群より選ばれることを特徴とする特許
請求の範囲第9項記載の製造法。 (11)第一セリウム塩に対する酸化剤の割合が理論量
より約10〜40%過剰であることを特徴とする特許請
求の範囲第9項及び10項の−に記載の製造法。 (12)反応媒体に単独で又は他の溶液と混合して、ラ
ンタニド及びイツトリウムから成る群より選ばれる三価
の希土類元素一種以上の塩の水溶液を連続的に供給する
ことを特徴とする特許請求の範囲第6項記載の製造法。 (13)三価の希土類元素一種以上の塩の水溶液がラン
タン、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、ジス
プロシウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテシウム及
びイツトリウムの塩化物又は硝酸塩から成る群より選ば
れることを特徴とする特許請求の範囲第12項記載の製
造法。 (14)三価の希土類元素の塩の水溶液の濃度が0.2
〜4moL/lであることを特徴とする特許請求の範囲
第12項及び13項記載の製造法。 (15)塩基溶液がアンモニア水溶液、水酸化ナトリウ
ム水溶液、水酸化カリウム水溶液又は炭酸ナトリウム水
溶液であることを特徴とする特許請求の範囲第6項記載
の製造法。 (16)塩基溶液の規定度が1〜5Nであることを特徴
とする特許請求の範囲第15項記載の製造法。 (17)セリウふと希土類元素の当量数に対して塩基の
当量数が約5%以上過剰であることを特徴とする特許請
求の範囲第15項及び16項の一つに記載の製造法。 (18)反応媒体のpHが6〜10であることを特徴と
する特許請求の範囲第15〜17項の一つに記載の製造
法。 (19)反応媒体のpHが7〜9であることを特徴とす
る特許請求の範囲第18項記載の製造法。 (20)反応媒体のpHが上記範囲内でpH単位±a1
の一定値゛に調整されていることを特徴とする特許請求
の範囲第15〜19項の−に記載の製造法。 (21)混合物の反応媒体における滞留時間が約30分
〜2時間であることを特徴とする特許請求の範囲第6〜
20項の−に記載の製造方法。 (22)反応媒体の温度が10〜95℃であることを特
徴とする特許請求の範囲第6〜21項の−に記載の製造
法。 (23)反応媒体の温度が20〜70℃であることを特
徴とする特許請求の範囲第22項記載の製造法。 (24)反応塊の熟成を炉取操作前に10〜95℃の温
度で30分〜2時間の間行なうことを特徴とする特許請
求の範囲第6〜23項の−に記載の製造法。 (25)熟成温度が20〜80℃であることを特徴とす
る特許請求の範囲第24項記載の製造法。 (26)炉取を場合によって連続的に周囲温度で行なう
ことを特徴とする特許請求の範囲第6〜25項の−に記
載の製造法。 (27) 5濾過ケーキの洗浄を水で行ない、ケー午の
含水量が洗浄後約20〜80重置部であることを特徴と
する特許請求の範囲第6〜26項の−に記載の製造法。 (28)ケーキの含水量が30〜50重量−であること
を特徴とする特許請求の範囲第27項記載の製造法。 (29)(+ )経路(1)に従い、セリウム塩溶液、
塩基溶液ならびにランタニド及びイツトリウムから成る
群より選ばれる三価の希土類元素の塩の一種以上で酸化
物が無色の塩の溶液を、使用される塩基の当量数がセリ
ウムと希土類元素のそれぞれの当量数より大であり、反
応媒体のpHが6より大であるように、40〜95℃の
温度で連続的に同時混合すること、 (ii)経路(2)に従い、セリウム塩溶液、塩基溶液
ならびにランタニド及びイツトリウムから成る群より選
ばれる三価の希土類元素の一種以上の塩で酸化物が無色
の塩の水溶液を、使用される塩基の当量数がセリウムと
希土類元素のそれぞれの当量数より大であり、反応媒体
のpHが6より大であるように、10〜25℃の温度で
連続的に同時混合すること、 (iii)経路(1)で得られた沈澱と経路(2)で得
られた沈澱を炉取の前又は後で混合すること、(iv)
得られた混合物を乾燥すること、及び(V)混合物を焼
成すること、 から成ることを特徴とする特許請求の範囲第6〜21項
の−に記載の製造法。 (30)反応媒体の温度が経路(1)に従い40〜60
℃であることを特徴とする特許請求の範囲第6〜21及
び29項の−に記載の製造法。 (31)反応媒体の温度が経路(2)に従い約20℃で
あることを特徴とする特許請求の範囲第6〜21.29
及び30項の−に記載の製造法。 (32)経路(1)及び経路(2)で得られた反応塊又
はこれらの混合により得られた反応塊の熟成が10〜9
5℃の温度で30分〜2時間の時間で行なわれることを
特徴とする特許請求の範囲第6〜21及び29〜31項
の−に記載の製造法。 (33)熟成温度が20〜70℃であることを特徴とす
る特許請求の範囲第32項記載の製造法。 (34)経路(1)により得られた沈澱の水性懸濁液と
経路(2)により得られた沈澱の水性懸濁液の混合を、
熟成の前又は後に、経路(2)により得られた沈澱の最
終組成物に占める割合が酸化物で表わされた希土類元素
の全重量の10〜75%であるように行なうことを特徴
とする特許請求の範囲第6〜21及び29−33項の−
に記載の製造法。 (35)経路(1)により得られた沈澱の水性懸濁液と
経路(2)により得られた沈澱の水性懸濁液の混合を、
熟成の前又は後に、経路(2)により得られた沈澱の最
終組成物に占める割合が酸化物で表わされた希土類元素
の全重量の25〜75%であることを特徴とする特許請
求の範囲第34項記載の製造法。 (36)経路(1)及び(2)により得られた沈澱の水
性懸濁液の混合物を場合によって連続的に周囲温度で炉
取するか、又は経路(1)及び(2)により得られた沈
澱の水性懸濁液を別々にア取することを特徴とする特許
請求の範囲第6〜21及び29〜35項の−に記載の製
造法。 (57) F3過ケーキの洗浄を水で行ない、ケーキの
含水量が洗浄後約20〜8o]11量%であることを特
徴とする特許請求の範囲第36項記載の製造法。 (38)ケーキの含水量が30〜50重t%であること
を特徴とする特許請求の範囲第37項記載の製造法。 (39)別々に炉取し場合によって洗浄した経路(1)
により得られた沈澱と経路(2)により得られた沈澱を
、経路(2)により得られた沈澱の最終組成物に占める
割合が酸化物で表わされた希土類元素の全重量の10〜
75襲となるように混合することを特徴とする特許請求
の範囲第6〜21.29〜33及び36〜38項の−に
記載の製造法。 (40)別々に炉取し場合によって洗浄した経路(1)
により得られた沈澱と経路(2)により得られた沈澱を
、経路(2)により得られた沈澱の最終組成物に占める
割合が酸化物で表わされた希土類元素の全重量の25〜
75%であるように混合することを特徴とする特許請求
の範囲第39項記載の製造法。 (41)乾燥工程を場合によって連続的に100〜60
0℃の温度で30分〜2時間の時間で行なうことを特徴
とする特許請求の範囲第6〜40項の−に記載の製造法
。 (42)焼成工程を場合によって連続的に600〜12
00℃の温度で約30分〜10時間の時間行なうことを
特徴とする特許請求の範囲第6〜41項の−に記載の製
造法。 (43)焼成温度が950〜1150℃であることを特
徴とする特許請求の範囲第42項記載の製造法。 (44)焼成工程後にさらに粉砕及び粒度選別を行なう
ことを特徴とする特許請求の範囲第6〜43項の−に記
載の製造法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8308003A FR2545830B1 (fr) | 1983-05-13 | 1983-05-13 | Nouvelle composition de polissage a base de cerium et son procede de fabrication |
| FR83.08003 | 1983-05-13 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6035075A true JPS6035075A (ja) | 1985-02-22 |
| JPS6327389B2 JPS6327389B2 (ja) | 1988-06-02 |
Family
ID=9288843
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59093111A Granted JPS6035075A (ja) | 1983-05-13 | 1984-05-11 | 新規なセリウム系研磨組成物及びその製造法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4786325A (ja) |
| EP (1) | EP0126675B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6035075A (ja) |
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