JPS6035429B2 - スパツタリング装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はスパッタリング装置に関するものである。

特に本発明は陽極が回転し、可操基板を陽極の上方に導
き、基板上に材料を堆積する形式のスパッタリング装置
に関するものである。本発明による装置は、内部に少な
くとも１個の陰極ターゲットを取り付けた圧力容器、こ
の容器内に回転するよう取り付けられた回転陽極、容器
内に取り付けられたポリエステルフィルムのような可榛
基板の供給手段、および同じく容器内に取り付けられた
被覆基板の巻取機構を具える。

装置を作動するため適当な制御部材を設ける。基板を陽
極および容器内に形成されるスパッタリングプラズマの
上方に導かれるよう配置する。ターゲットを構成する材
料は陽極でスパッタリングされるが、基板は陽極の表面
上に支持されているから材料は基板上に被覆される。イ
オン化ガスおよびその混合成分を供給するためおよび室
への供給量を監視制御するために、電気ェネルギを装置
に供給するとともにこれを監視してその効果を制御する
ため、速度、温度、堆積の厚さおよび多くの他のパラメ
ータを制御監視するため、基板をその通路内で駆動する
とともにその張力を監視制御するために補助装置、給電
手段および制御部村を設ける。

ある材料、特に光導電体を薄くて透明な可榛基板上に堆
積するための堆積条件は次のようなものがある。

｛ａ｝ 陽極を回転させる必要がある。

‘ｂ｝ 供給する電力を容器内の陰極、陽極およびシー
ルド‘こ電気回路で接続し、この回路内で陰極は最大員
電圧にし、シールドは接地電位にし、陽極は大地に対し
て負であるが陰極よりは遥かに高い程度の電位にする。

【ｃ｝ 陽極表面はスパッタリング中熱の過度の損失を
防止するために温度する必要がある。装置の他の条件は
上記条件の達成を極めて困難にするものがあり、これら
には以下のようなものがある。

（ｄ’室壁を含む装置の支持構体を全て実用性および安
全性のために接地電位に維持すること。

‘ｅー 過度の堆積を防止するためにドラムの端部を遮
蔽状態に維持すること。‘ｆ’スパッタリングが完了し
たら装置の基板支持搬送部分または送り部分を室内にお
よび室外に移動させること。

最後に述べた条件は基板を大量にスパッタリングするス
パッタリング装置の場合には必要であると思われており
、これは必然的に大型で障害になる結果となる。

この問題に対して提案された一つの解決法は装置の基板
搬送部分をキャリジ上に多くの制御および測定装置とと
もに取り付け、室および室の全ての補助装置を静止して
いる支持体に固定することである。この場合ターゲット
を室の内部に取り付け、高電圧接続部材を室並びに室用
の制御部村および装置と関連させているが、この構成は
陽極を大地とは異つた電圧に維持する必要があるという
とを考慮に入れていない。従って、本発明は、金属性容
器と、密封手段としての金属性カバーと、この容器の内
部に配設された少なくとも１個のターゲット電極と、カ
バーに回転可能に配設されカバーを閉止した時にターゲ
ット電極に対向しターゲット電極との間にスパッタリン
グプラズマを形成する、外皮が金属被覆されたドラム陽
極と、スパッタリングプラズマの間を通りドラム陽極と
、スパッタリングプラズマの間を通りドラム陽極を覆う
可操性基板部材を搬送するコンベア装置と、ドラム陽極
及びターゲット電極に接続され制御可能な高周波ェネル
ギ源とを具えるスパッタリング装置において、ターゲッ
ト電極を図綾するシールドされた電極装置と同じ電圧に
カバー及び容器を維持し、ドラム陽極の金属被覆部分を
カバー及び容器から電気的に絶縁して電極装置の電圧と
は異なる電圧を与え、接地電位とした内部ドラム本体で
金属被覆部分を支持すると共に電気的に絶縁し、さりこ
この内部ドラム本体をカバーを介して固着すると共に接
地し、内部ドラム本体と金属被覆部分との間に絶縁隙間
を設け金属被覆部分を絶縁してなるスパッタリング装置
を提供する。

本発明を図面につき説明する。

以下には本発明の所望の２実施例につき説明する。

一つはコーティングをポリエステルフィルムの相対的に
幅広の細条上に安価にスパッタリングするのに適当であ
る。他のものは低生産量で実験的にコーティングを狭い
細条上にスパッタリングするのに適当である。両スパッ
タリング装置の大きさは相当異り、装置を開くことなく
被覆することのできる材料の長さも異なる。一例では細
条は幅が約５０伽位で、他の例では１０伽位である。最
初に詳細に説明する装置は大型でより複雑な方であるが
、小さい方の装置の構成および作動の原理と共通の原理
により作動し構成されている。第１〜８図にはスパッタ
リング装置全体を１０で示し、この装置は上端縁に沿っ
てトラック１４を形成した固定ベースまたは支持フレィ
ムワーク１２、トラック１４に掛合するローラまたはホ
イール１８上に取り付けられた構成素子キャビネット１
６、フレィムワーク１２から固定支柱２２によって支持
された圧力容器または室２０、および後述する種々の他
の部分および礎体を具える。キャビネット１６の左端に
は搬送装置２４を取り付け、この装置をキャビネット１
６の前壁２８に取り付けた適当な片持サブフレィム２６
上に支持する。 ‐壁
２８には円形のシール座３０および搬送装置２４を取り
付け、これらのためのサブフレイム２６を適切に構成配
置してシール座３０の突出部によって限定される円筒体
内にはまるようにする。

圧力室または容器２０の全ての側部を閉止するもフラン
ジ３２を設ける右端は座３０‘こ対して密封状態に雛合
し得るすうにする。第１図には装置を閉止状態で示し、
キャビネット１６は前方（左方）に転動し、これにより
搬送装置２４を室または容器２０内に挿入し、フランジ
３２およびシール座３０で示すジョイントを適当なガス
ケットおよびロック装置で密封している。第２図には装
置を開放状態で示し、キャビネット１６および室または
容器２０は分離され、搬送装置２４およびこの上に支持
された任意の基板をすなわち室２０の内部に手入れでき
る。図示の搬送装置にはキャビネット１６内にある駆動
および制御機構を示していず、これらの機構は大部分壁
２８の後部に取り付けられている。

これらは広範なる変形を加えられ、その詳細は装置の作
動には必要ではあるが本発明に密接には関係しない。キ
ャビネット内にはまた装置の全作動に必要な相当な装置
および機体、例えば、速度制御部材、駆動機構、熱交換
液を処理するためのポンプおよび導管、および温度、圧
力、電流、電圧等の多数の測定器具がある。キャビネッ
ト１６の外壁には多数の測定器具がある。キャビネット
１６の外壁には多数の押ボタン、メータ−、ライト等を
設けてあるが、単なる例示にすぎない。室または容器２
川まガス接続部材３４および３６、電気パネル３８、管
および導管４０、導電線４２、押ボタン、メーター等を
具える。

監視窓を４４で示す。これらも単なる例示にすぎない。
装置１川ま従来既知の相当数の制御部材および監視手段
を必要とするが、測定、作動および制御装贋はこの装置
の条件により変化する。スパッタリング装置を作動する
に際しては供給し、制御し、計測し、時には記録する必
要がある。

また測定し観察しなければならない現象がある。パラメ
ータは多岐に亘る。高周波ェネルギはマッチングを行い
つつターゲットに、並びに制御回路、導管および時には
冷却装置に供給する必要がある。ターゲットは室または
容器２０内にあるから、ターゲットの冷却剤を室内に供
給する必要があり、冷却剤を運送循環させる必要がある
。この室は真空ポンプで調節、制御および測定を行いつ
つ真空にしてイオン化およびバックグラウンドガスを調
節、制御、計測および均衡を見つつ導入する必要がある
。上述のスパッタリング装置の機能を達成するに必要な
機体が設けられているが、ここでは詳細には図示も説明
もしない。

片持サプフレィム２６は第２図にのみ図示され、他の図
面には示されていないがこれは搬送装置２４の支持体を
なすものである。

柱４８を外板４６と連結し、更に座３０の範囲内で壁２
８に連結する。全てのローラおよびドラムを板４６と壁
２８との間で被動回転または遊転し得るよう支承する。
第３および４図には搬送装置２４を示すが、ジャーナル
も取付部材も示していず、これらとともに用いられる駆
動、クラッチおよび制御機構も示していない。

これらは全て上述のキャビネット１６内にある。被覆す
る基板を５０で透明体として示す。この装置の好適例に
おいては、基板５０は無機コーティングをスパッタリン
グした電子写真フィルムのベースを構成する。この例に
おいて基板５０は厚さが０．００５〜０．０１０インチ
のポリエステルのような合成樹脂のシートである。数百
メートルのこの材料をスプールまたはリール上に巻いて
装置の全長に亘つてスパッタＩＪングしながら装置１０
内に導入することができる。このスプールまたはリール
５２を装置内に装着する。これを軸５４上に取り付け、
この軸を適当な駆動モータによって駆動し、キャビネッ
ト１６内にある速度測定および制御装置からのフィード
バック情報を受ける引張クラッチによって制御する。基
板紬条５川まアィドラローラ５６上を通り、このローラ
が細条部分をスパッタリング装置１０の陽極を具えるド
ラム５８に案内する。

第８図から明らかなように、基板５０は後述するように
室または容器２０の底部に位置させたターゲット６０お
よび６２に密接して回転、通常は遊転しているドラム５
８のまわりを通り、次いで、他方のアィドローラ６４に
向けて上方に送られる。基板はこのローラから巻取ロー
ラ６６のまわりに導かれ、このローラをキャビネット１
６の内部から適当な駈動モータによって駆動する。供給
リール５２および巻取ローラ６６上の基板のロールの直
径はスパッタリング中逆に変化するから、基板５ｏのタ
ーゲットに対する運動速度を均一に注意深く制御するこ
とが重要であり、このため適当な可変駆動部材を設ける
必要がある。ターゲット６０，６２を第５，６および８
図に示す。

室または容器２川ま円筒状の殻６８の形状をなし、これ
は導管３６と連結するエンドベル７０を具える。室また
は容器２０の全ての他の部分はステンレス鋼で構成され
、安全のため接地電位に維持する。この材料から容器を
製造することはガラスまたは他の絶縁材料から製造する
に比して相対的に簡単である。ターゲット６０および６
２は金属シールド７６を具えるターゲット装置７２およ
び７４内にそれぞれ取り付け、これらのシールドをブラ
ケット７８によって殻６８の底部に機械的に取り付ける
とともにシールド７６の壁を循環させている冷却剤によ
って冷却する。冷却剤用の導管はハウジング８０を経て
殻６８に挿通し、これらのハウジングはまたターゲット
を電源に接続するための電気接続素子の通路ともなる。
ターゲットのドラム５８に対する位置はターゲットの消
耗とともに調節することができる。このような調節を行
うことができる調節可能な横体はハウジング８０内に収
納するかまたはブラケット７８上の調節部材によって行
うことができる。各ターゲット６２は第６図に８２です
ような複数個の板または小板で構成され、これらを適当
な金属裏板通常はステンレス鋼上に接着する。

夕−ゲット板８２のドラム５８に向いた表面は平坦な平
面状にまたは轡曲した平面状にすることができる。これ
はドラムがターゲットに隣接する位置にあって装置１０
が閉止された際ドラム５８と同軸をなす円筒状表面を限
定するよう配置される。各ターゲット６０および６２を
シールド７６からシールドを形成する空間だけ離間する
。バックグラウンドガスを管８４を経て各ターゲットの
後方の中空都内に導入し、これらの管は殻６８の壁に通
ってターゲットのまわりの空間から出、ターゲットの表
面に対向する。ターゲット板はスパッタリングを行う材
料の燐結部材で構成するのが好適である。

ターゲット装置間には支柱８６を設け、この支柱にブラ
シまたはワィパ接点または援点装置８８を取り付ける。

これらは後述するように殻６８を挿適する電線により電
源回路の一部接続する。これらの接点はこれらを第２お
よび７図で見て右方にばね押圧する弾性支持体で取り付
ける。これらはターゲット６０および６２のように殻６
８から絶縁する必要がある。ドラム５８の構造の詳細は
装置１０で使用される電源の回路の動作を説明するため
に後で説明する。

第８図につき電源回路の説明を行う。ドラム５８の構造
は電源回路の説明の処で説明する。第８図には装置１０
のための電源またはェネルギ源を線図的に示す。高電圧
源を左方にブロック９０として示す。電圧源９０をマッ
チング回路９２を経て装置１０に接続し、この回路９２
は出力として２本の線９４および９６を有する。線９４
には３０００ボルト、１３．５６メガヘルツの最高電圧
がかかり、接地されているターゲット６０および６２に
供給される。線９６は接地電位である。（ドラム５８、
シールド７６およびドラムシールドだけで示されている
）装置１０の全てのシールドは接地電位であるが、ドラ
ム自体はそうではない。マッチング回路９２からの出力
は分圧器に供給され、この簡単な例では分圧器は線９４
および９６を跨いで接続された２個のインピーダンスＺ
，およびＺを有する。実際の例ではこれらはコンデンサ
であり、分圧器の一部はこの周波数で重要性を持つ寄生
コンデンサ通路とみなすことができる。これらの線は高
周波管、同軸ケーブル、シールドリード線管とすること
ができる。電圧は２個のインピーダンスＺおよびＺのそ
れぞれのリアクタンスにより分圧される。ドラム５８は
線９８を経てインピーダンスＺ，およびＺ２間の端子１
０川こ接続する。ドラム５８を回転させ得るよう、前述
の接点８８をドラムが接地電位とはならないよう設ける
。装置１０での電子効果はダイオードによるもので、有
効整流作用である。陰極はターゲット６０および６２で
あり、これらは極めて高い負電圧に維持され、これはこ
の例では−３０００ボルトである。これはこの系での最
大正電圧、ゼロボルトをとる大地電位以下である。陽極
は接地電位とし、基板をこの上に載せるのが好適である
。ここでは、シ−ルドだけが接地電位である。陽極はド
ラム５８であり、ターゲット」６０および６２と同じ程
度ではないが接地電位より低い電圧に維持される。実際
の例では、ドラム電圧は大地電位より約５０ボルト位低
く、すなわち、約一５０ボルトに維持した。これは適当
な構成の分圧器ＺおよびＺ並びに回路の他の部分で行っ
た。当業者にはこの形式の回路およびその性質は自明で
ある。ドラム５８は回転する必要があり、製造が容易な
よう且つスパッタリング装置の条件に耐える必要強度を
有するよう金属で構成し、機械的に丈夫な軸受、軸およ
び支持体を用いて支承し、しかも少なくともドラムの外
皮を周囲とは異る電圧にする必要がある。

ドラムの他の要件は外皮が熱交換液によって温度制御を
受け得るということである。このため、本発明の実際の
例では、ドラムの外皮をオイルによって加熱して約１５
０ｑｏの温度に維持することが必要であった。これら全
ての要件は第７図に示すドラムを用いて達成される。ド
ラム５８の本体を内方金属シリンダ１０２およびこれに
溶接されたエンドフランジまたはリング１０４で構成す
る。金属製エンドキャップまたはディスク１０６を円周
方向に離間したねじ１０８によってシリンダ１０２に取
り付ける。外方の同軸をなす金属シリンダ１１０がドラ
ム５８の円周方向外皮を構成し、これを小径の抜差自在
に配置された同軸金属シリンダ１１２に溶援してこれら
の間に室１１４を形成する。シリンダＨＩＯおよび１１
２を所定位置に溶接した金属製エンドリング１１６によ
って連結し、金属の左端を図示のように露出する。室１
１４には熱交換液１１８を全室を満たす塊状でまたは室
の内部のまわりに巻回したコイル（図示せず）により供
給する。

これらを１２０で示す適当な導管を経て中空軸１２２に
連結し、この軸を経て導管を液体源に接続する。導管を
１２０′で示す。液体はオイルまたは他の絶縁液体とす
るのが普通であるから、外皮１１０をドラム５８、軸１
２２等から電気的に絶縁するよう導管１２０または１２
０′に対しては絶縁継手を設ける問題は生じない。リン
グ１１６およびディスク１０６を半径方向に離間して１
２４で示すようにドラム５８の各端部に環状の空間を設
ける。

ポリテトラフルオロェチレンまたは他の適当な絶縁材料
製のシリンダ１２６を例えば切削によって形成し、シＩ
Ｊンダ１０２とシリンダ１１２との間に位置させる。そ
の端部を本体より薄くして肩部１２８および１３０を形
成する。得られる軸線方向端部１３２の厚さを環状空間
１２４と同じにし、シリンダー２６の軸線方向長さをド
ラム５８の全長と同じにしてディスク１０６およびリン
グ１１６と同一平面になるようにする。このようにして
外皮１１０がドラム５８の残りの部分から絶縁した複合
円筒状部材が得られる。ドラムを複数個のねじ１３４に
よって組立体に保持し、これらのねじを同じ絶縁材料の
座金１３６を経て掛合ごせ、ドラムの端部の周囲に円周
方向に離間する。座金１３６をドラム５８の端部に形成
して深い窪み１３８内にセットし、各窪みの一部をディ
スク１０６、リング１１６および軸線方向端部１３２の
それぞれに形成する。このようにして、座金１３６およ
びねじ１３４により部分を一緒に鞠線方向にクランンプ
するとともに、部分を円周方向に相対運動しないようロ
ックする。ドラム５８の左端のリング１１６を装置１０
が閉止状態にある場合には接点８８がこれにワィブ頚合
してこれらの間に電気接触が行われるよう位置させる。

ドラム５８の端部を１４０，１４２，１４４で示すよう
にシールドして基板５０が外皮１１０の底部のまわりを
通ってここで補給される間にドラムの他の部分に材料が
スパッタリングされるのを防止する。

スパッタリングプラズマを１４６で示す。これらのシー
ルドは例えば第２，３および４図に１４７で示す連結ブ
ラケットによって壁２８およびサブフレィム４６から支
持する。第７図から明らかなように、シールド部材１４
０，１４２および１４４はドラム５８の端部を閉止する
が、基板紬条５０を通過させることができ、接点８８が
リング１１６をワィブするだけの開□を提供することは
できる。また、これらのシールド部材は接地電位であり
、どこもドラム外皮１１川こ接触しない。特に小型設備
に有益な本発明の好適例を第９図に示す。

このスパッタＩＪング装置２００の室２１０はカバー部
材２１２を具え、この部材は室２１０のフランジ２１４
に掛合して所定位置にロックするためのものである。フ
ランジ２１４とフランジ２１８との間にガスケット２１
６を掛合させてシーリングを行う。カバー部材は軸２２
４および２２６上にそれぞれ取り付けた供給リール２２
０およ巻取りール２２２を支持する。

これらの軸を装置２００の外部からそれぞれ制御される
モータ２２８および２３０によって駆動する。カバー２
１２にはドラム２３６を懸垂する継手２３２を取り付け
る。

この場合ドラムは金属であり、ドラム全体を室２１０お
よびカバー２１２から継手２３２内に設けた適当な絶縁
体によって絶縁する。ドラムを軸２３８上に取り付け、
この軸をカバー２１２の頂部に取り付けられたモータ２
４０によって駆動される継手２３２に挿通する。２４２
で示すようなスプロケツトチヱーンおよびスプロケット
ホィールによりドラムを大地に短絡することなく軸２３
８に連結する。

このため適当な絶縁体を設ける。藤２３８上のりング２
４４はドラム２３６に電気的に接続し、装置２００の他
のすべての部分から分離される。接点２４８との電気接
続部材２４６は第８図の線９８および接点８８に対応す
る。ドラムは中空で、中央の中空導管２５０が管２５６
と連結する同軸の室２５２および２５４を与え、この管
をドラム２３６の外皮２５８の周囲にその内部で通す。

熱交換液は室２５２および２５４を経て循環する。頂部
には適当な継手を取り付けて回転流体継手を用いること
により藤２５０を回転させ得るようにする。これらは図
示していない。この装置２００内のターゲット２６川ま
ホルダー２６２上に取り付けた光導電材料の簡単なディ
スクであり、このホルダーを部材２６４を経て室２１０
の壁を介して高周波ラジオ周波数源２６６に接続する。

これは装置２００と関連して用いられるから第８図の回
路を示す必要はない。大地電位のシールド２６８，２７
０および２７２を軸２３８上に取り付けたドラム２３６
およびターゲット２６川こ隣接して設ける。

スパッタリングプラズマでは適当な高周波ェネルギおよ
びドラム２３６の外皮２５８とターゲット２６０の面と
の間の隙間２７６内に例えば導管２７４によって導入さ
れる適当なバックグラウンドガスを用いて装置１０にお
けると同じようにして生成される。なお、本発明の好適
実施態様は以下の通りである。

■ 夕−ゲットを最大負電圧に、陽極を前記夜大負電圧
の分数の負電圧に維持するよう構成する。

■ 基板を陽極の回転につれて移動させて陽極の外皮と
掛合し得るよう構成する。

■ ドラム陽極を少なくとも３個の伸縮自在に組み立て
たシリンダ、すなわち、ドラム陽極の支持体となり、密
封手段上に取り付けられた内方金属シリンダ、前記外皮
を有する外方金属シリンダ、および絶縁材料製の中間シ
リンダで構成し、３個のシリンダを全て一緒にクランプ
して一体の組立体をなすよう構成する。

■ ばね押圧部材を前記接点に連結して前記ドラム陽極
の鞠線に平行な運動を行い得るようにし、前記外皮には
軸線方向に向いたりングを設けて密封手段を着座させる
際このリングが前記ばね押圧部材と掛合するようにし、
これにより陽極に分数の負電圧を供給するよう緩成する
。

■ 前記陽極によって支持され、前記外皮と電気的に接
続された同軸配置の接点リングと、少なくとも密封手段
を着座させた際前記リングと電気的にすべり接触し、前
記ェネルギ源に接続されたワイパー接点とを設ける。■
前記接点をワイパー式として容器の内側に位置させ、
同軸配置の接点リングを陽極の鞄線方向端部に位置させ
、前記接点のＩＪングに対する寸法および位置を、密封
手段を完全に着座させた際リングおよび接点が電気的に
接触するよう構成する。■ ドラムの内部本体を前記密
封手段上に取付けて接地し、内部本体と外皮との間に同
軸の絶縁空間を形成する。

■ 密封手段を着座させた際前記接点および前記リング
が容器内に位置するよう構成する。

■ 前記接点およびリングを容器の外部上に位置させ、
密封手段を着座させない場合にも互いに電気接触するよ
う構成する。

■ 前記ドラムと密封手段との間には縦糸粛継手を設け
て前記密封手段から電気的に絶縁したままでドラムを回
転させ得るよう構成する。

■ ターゲットは表面がアーチ状の平坦な少なくとも１
個の部材を具え、前記表面の面積の相当な部分を前記ス
パッタリング関口によって露出し、陽極の外皮から離間
し、これにより得られる隙間内にスパッタリングプラズ
マ状態を形成し、前記表面を前記外皮とほぼ同軸をなす
よう轡曲させ、アーチ状平坦表面を金属髪坂上に取り付
けた複数個のスパッタすべき材料の平坦な板で構成する
。

■ ドラム陽極を少なくとも３個の伸縮自在に組み立て
たシリンダ、すなわち、ドラム陰極の支持体をなし、密
封手段上に取り付けられた内方金属シリンダ、外皮を有
する外方金属シリンダ、および絶縁材料製の中間シリン
ダで構成し、３個のシリンダ全てを一緒にクランプして
一体の組立体を形成し、外方シリンダには熱交換液を入
れるための室を内部に形成し、前記熱交換液を前記室か
ら前記装置の外部に前記密封手段を経て送るための導管
を設ける。

■ 回転陽極の取付部材が、密封手段を貫通する中空軸
、陽極の回転中熱交換液を外皮の近傍に通すための分配
器、および中空軸を貫通し、熱交換液を室の外部の源か
ら導管を経て循環させて前記外皮との熱交換によりスパ
ッタリング中基板に影響するよう分配器と連結された導
管を具える。

■ シールドを外皮およびリングの鞄線方向端部に対す
るマスクで構成し、ドラムシールドには基板を外皮上に
載せて外皮を離れ、前記接点を前記リングに通し得るよ
うな開口を設ける。

本発明は上述した処に限定されることなく、本発明の範
囲内で種々の変更を加えることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のスパッタリング装置を閉止状態で、並
びに外部装置への接続部材を線図的にスパッタリング装
置に関連させて示すスパッタリング装置の側面図、第２
図はスパッタリング装置を開放状態で示す第１図と同様
の図、第３図は第２図の３一３線で断面とし、搬送装置
上の基板の運動通路を示す方向に見た線図的断面図、第
４図は搬送装置の線図的斜視図、第５図は第２図の５−
５線に沿って装置の室を経て見た部分断面図、第６図は
第５図に示す室の同じ部分の部分斜視図、第７図は接触
が行われる状態を示すため第１図の装置のドラム陽極の
下方部分を経て見た詳細な断面図、第８図は第１図のス
パッタリング装置の亀気回路のブロック線図、第９図は
変形例の部分断面図である。 １０…・・・スパッタリング装置、１２・・・・・・フ
ィルムワーク、１４……トラック、１６……キヤビネツ
ト、１８・・・…ローラ、２０…・・・圧力容器または
室、２２・…・・支柱、２４・・・・・・搬送装置、２
６・・・・・・片持フィルムワーク、２８・・・・・・
壁、３０・・・・・・シール座、３２……フランジ、３
４，３６……ガス接続部材、３８・・・・・・電気パネ
ル、４０・・・・・・導管、４２・・・…電線、４４・
・・・・・観視窓、４６・・・・・・外板、４８・・・
・・・柱、５０…・・・基板、５２・・・スプールまた
はリール、５４……軸、５６，６４……アィドラローラ
、５８……ドラム、６０，６２……ターゲット、６６・
・・・・・巻取ローラ、６８・・・・・・殻、７０・・
…・エンドベル、７２，７４・・・・・・ターゲット装
置、７６……シールド、７８……ブラケツト、８０……
ハウジング、８２……ターゲット板、８４……管、８６
・…・・支柱、８８・・・・・・フランジまたはワィパ
接点、９０・・・・・・高電圧源、９２・・・・・・ス
イッチング回路、９４，９６……出力線、１０２，１１
０，１１２……シリング、１０４……フランジまたはリ
ング、１０６……デイスク、１０８……ねじ、１１４…
…室、１１６……エンドリング、１１８…・・・熱交換
液、１２０，１２０′・・・・・・導管、１２２・・…
・中空軸、１２４・・・・・・環状空間、１２６…・・
・シリンダ、１２８，１３０……肩部、１３２・・・・
・・端部、１３４…・・・ねじ、１３６・・…・座金、
１３８……窪み、１４０，１４２，１４４……シールド
、１４６・・・…プラズマ、１４７・…・・連結ブラケ
ット、２００・・・・・・スパッタリング装置、２１０
・・・・・・室、２１２・…・・カバー部材、２１４，
２１８……フランジ、２１６……ガスケツト、２２０…
・・・供給ＩＪール、２２４，２２６・・・・・・軸、
２２８，２３０・・・・・・モータ、２３２・・・・・
・継手、２３６・・・・・・ドラム、２３８……軸、２
４０……モータ、２４２……スプロケツトチエーン、２
４４……リング、２４６・・・・・・電気接続部材、２
４８・・・・・・接点、２５０・…・・導管、２５２，
２５４・・・・・・同軸の室、２５６・・・・・・管、
２５８・・・・・・外皮、、２６ｏ．．．．．．ターゲ
ット、２６２・・・・・・ホルダー、２６４・・・・・
・部材、２６６・・・・・・周波数源、２６８，２７０
，２７２・・・．・・シールド、２７４・・・・・・導
管、２７６．．．．．．隙間。 り俗．′力／６．２ 力／Ｇ．Ｊ． り伯．夕． 力／６．４． りノ６．０． 力／６．ス 力／Ｇ．８． 力／Ｇ．○

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 金属性容器と、密封手段としての金属性カバーと、
   この容器の内部に配設された少なくとも１個のターゲツ
   ト電極と、前記カバーに回転可能に配設され前記カバー
   を閉止した時に前記ターゲツト電極に対向し前記ターゲ
   ツト電極との間にスパツタリングプラズマを形成する、
   外皮が金属被覆されたドラム陽極と、前記スパツタリン
   グプラズマの間を通り前記ドラム陽極を覆う可撓性基板
   部材を搬送するコンベア装置と、前記ドラム陽極及び前
   記ターゲツト電極に接続され制御可能な高周波エネルギ
   源とを具えるスパツタリング装置において、前記ターゲ
   ツト電極を囲繞するシールドされた電極装置と同じ電圧
   に前記カバー及び容器を維持し、前記ドラム陽極の前記
   金属被覆部分を前記カバー及び前記容器から電気的に絶
   縁して前記電極装置の電圧とは異なる電圧を与え、接地
   電位として内部ドラム本体で前記金属被覆部分を支持す
   ると共に電気的に絶縁し、さらにこの内部ドラム本体を
   前記カバーを介して固着すると共に接地し、前記内部ド
   ラム本体と前記金属被覆部分との間に絶縁隙間を設け前
   記金属被覆部分を絶縁してなることを特徴とするスパツ
   タリング装置。 ２ 前記金属被覆部分にエンドリングを連結し、このエ
   ンドリングに作用するワイパ接点が前記ドラム陽極の前
   記金属被覆部分に前記シールドされた電極装置の電圧と
   異なる電圧を与えるよう構成してなる特許請求の範囲第
   １項記載のスパツタリング装置。