JPS6036473A - オキシランの製法 - Google Patents
オキシランの製法Info
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Classifications
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D301/00—Preparation of oxiranes
- C07D301/02—Synthesis of the oxirane ring
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、液相中でエポキシ化触媒の存在下に、オレフ
ィン性不飽和化合物を何機過酸化物と反応させることに
よる、オキシランの新規な製法に関する。
ィン性不飽和化合物を何機過酸化物と反応させることに
よる、オキシランの新規な製法に関する。
液相中でオレフィン性不飽和化合物を有機過酸化物及び
エポキシ化触媒と、次式 (式中R及びR′は有機基を意味する)に、Lり反応さ
せて、対応するオキシラン及びヒドロキシル化合物に変
えることは、多数の刊行物によりすでに知られている。
エポキシ化触媒と、次式 (式中R及びR′は有機基を意味する)に、Lり反応さ
せて、対応するオキシラン及びヒドロキシル化合物に変
えることは、多数の刊行物によりすでに知られている。
その場合原則として二種の操作技術−1の作業方向、す
なわち均一触媒反応のそれと不均一触媒反応のそれとを
区別することがてきる。両方の場合に酸素運搬体として
働くエポキシ化触媒として、金属特にタングステン、モ
リブデン及びチタンの可溶性又は不溶性の化合物が役立
つ。
なわち均一触媒反応のそれと不均一触媒反応のそれとを
区別することがてきる。両方の場合に酸素運搬体として
働くエポキシ化触媒として、金属特にタングステン、モ
リブデン及びチタンの可溶性又は不溶性の化合物が役立
つ。
この種のoJ溶性エポキシ化触媒を含有する反応混合物
は、その金属化合物が蒸留による仕上げ処理に際して沈
殿するか又は不活性化するため操作技術上の困難を与え
る。不均一触媒反応(」、その場合触媒を容易に分別し
うる利点があるが、この種の操作は原則的に、工業上操
業の1?擦のない流れを妨害する。
は、その金属化合物が蒸留による仕上げ処理に際して沈
殿するか又は不活性化するため操作技術上の困難を与え
る。不均一触媒反応(」、その場合触媒を容易に分別し
うる利点があるが、この種の操作は原則的に、工業上操
業の1?擦のない流れを妨害する。
さしに多くの過酸化物状化合物が、エポキシ化触媒の助
けを侶りなくてもスレフィン性不飽和化合物のエポキシ
化に適することもすでに知られていイ)。例えば次式 %式% (式中〕く1及びx2は高度に弗素化及び7/又は塩素
化さ」[)、−アルギル基を意味すイ))の型のケトン
過酸化物がそれである3、 エポキシ化の1−1的のため、例えばフランス特a′F
2201287号明細店及び西ドイツ特許出願公告22
39681号明細書から既知であるこの酸素運搬体は、
別個に対応するケトン)Jl−co−x2特にヘキザフ
ルオルア十トン及び過酸化水素から調製されねばならな
い3、このためには過酸化水素を用いる操作は、特(・
てそねが高(濃度で用いるときに危険でないと[〜だと
しても、当然工業的エポキシ1し方法の経済性が損なわ
れ4)。。
けを侶りなくてもスレフィン性不飽和化合物のエポキシ
化に適することもすでに知られていイ)。例えば次式 %式% (式中〕く1及びx2は高度に弗素化及び7/又は塩素
化さ」[)、−アルギル基を意味すイ))の型のケトン
過酸化物がそれである3、 エポキシ化の1−1的のため、例えばフランス特a′F
2201287号明細店及び西ドイツ特許出願公告22
39681号明細書から既知であるこの酸素運搬体は、
別個に対応するケトン)Jl−co−x2特にヘキザフ
ルオルア十トン及び過酸化水素から調製されねばならな
い3、このためには過酸化水素を用いる操作は、特(・
てそねが高(濃度で用いるときに危険でないと[〜だと
しても、当然工業的エポキシ1し方法の経済性が損なわ
れ4)。。
本発明の課題は、tiJ溶性金属化合物の場合における
ような仕上げ処理の困)111性を与えなし・技術を、
均一液相中でのエボギン1ヒ方法に関して富化すること
であった。
ような仕上げ処理の困)111性を与えなし・技術を、
均一液相中でのエボギン1ヒ方法に関して富化すること
であった。
本発明はこの課題を解決するものて、有機過酸化物とし
て、それ自体単独てはオレフィン性不飽和化合物と認め
つる程度には反応しないグー・ン過酸化物(1,)を使
用し、そしてエポキシ化触媒として次式 %式% (式中χ1及びX2は高度に弗素化及び/又は塩素化さ
れたアルキル基を意味する)で表わされるケトンを使用
することを特徴とする、液相中で均一エポキシ化触媒の
存在下に対応するオレフィン性不飽和化合物を有(浅鍋
酸化物と反応さ七ることによる、オキ7ランの製法であ
る。
て、それ自体単独てはオレフィン性不飽和化合物と認め
つる程度には反応しないグー・ン過酸化物(1,)を使
用し、そしてエポキシ化触媒として次式 %式% (式中χ1及びX2は高度に弗素化及び/又は塩素化さ
れたアルキル基を意味する)で表わされるケトンを使用
することを特徴とする、液相中で均一エポキシ化触媒の
存在下に対応するオレフィン性不飽和化合物を有(浅鍋
酸化物と反応さ七ることによる、オキ7ランの製法であ
る。
ケトン過酸化物1としてにし、次式
応するアントラヒドロキノンを簡単に空気又は酸素によ
り酸化して得ら41ろ、特にアントラキノンならびにそ
のモノ−、ジー及びトIJ −C。
り酸化して得ら41ろ、特にアントラキノンならびにそ
のモノ−、ジー及びトIJ −C。
〜(−:n−アルキル訪ツノ1体の、y、)、>酸化物
が適している。
が適している。
アントシギノンバーオギシドが前記構造を有することは
確実でないが、この構造に対応して挙動する。エポキシ
化反応で過酸化物はアントラキノンに移行し、次いてそ
れが普通の31、うに他の段階でハイドロキノンに水素
化され、それによってアントラキノン循環か終了される
。
確実でないが、この構造に対応して挙動する。エポキシ
化反応で過酸化物はアントラキノンに移行し、次いてそ
れが普通の31、うに他の段階でハイドロキノンに水素
化され、それによってアントラキノン循環か終了される
。
非置換アントラキノンも本発明の方法に適するが、通常
はそのアルギル誘嗜体の方が溶解性が良好であるため優
れている。アルギル基は特にエチル基、イソプロピル基
、二級ブチル基、−1級ブチル基、二級アミル基及び二
級アミル基で、これら置換基の1〜6個がアントラキノ
ン核に結合てぎイ)。!t!+Kif:♂4J足てきる
結束は、容易に人手できる2−三級ブチルアントラキノ
ンを用いC得られる。
はそのアルギル誘嗜体の方が溶解性が良好であるため優
れている。アルギル基は特にエチル基、イソプロピル基
、二級ブチル基、−1級ブチル基、二級アミル基及び二
級アミル基で、これら置換基の1〜6個がアントラキノ
ン核に結合てぎイ)。!t!+Kif:♂4J足てきる
結束は、容易に人手できる2−三級ブチルアントラキノ
ンを用いC得られる。
優れたアントラキノンパーオキシドのほか、オレフィン
性不飽和化合物のエポキシ化のためにそれ自体単独では
適しないか又はわずかな範囲でしか適1〜な℃・ケトン
過酸化物が一般に用いらねる。これら過酸化物は、オギ
ソ基に対してα位の炭素原子に強い電気陰性の置換基例
えば弗素原子又は塩素原子を冶しない脂肪族そして!1
4に脂肪族のケトンから誘導される。
性不飽和化合物のエポキシ化のためにそれ自体単独では
適しないか又はわずかな範囲でしか適1〜な℃・ケトン
過酸化物が一般に用いらねる。これら過酸化物は、オギ
ソ基に対してα位の炭素原子に強い電気陰性の置換基例
えば弗素原子又は塩素原子を冶しない脂肪族そして!1
4に脂肪族のケトンから誘導される。
脂肪族ケトンは6個な見・し約12個の炭素原−rをイ
〕してよく、そして脂」1n族ゲトンは5〜8個の環負
子を有(−2てよい。そのうちブタロヘキーリノンバー
オギンドが優れている。なぜならば)1成才るシクロヘ
キザノンをカップリング生成は 物どして利用でき、すなわらこの場合−級アルハー コールハ・のりトンの水素化二[程を省略できるかむ−
)でバりる。ケトン過酸化物は、アントラギノン過酸化
物と同様に、対応する二級アルコールの空気又は酸素に
よる酸化により得られる。
〕してよく、そして脂」1n族ゲトンは5〜8個の環負
子を有(−2てよい。そのうちブタロヘキーリノンバー
オギンドが優れている。なぜならば)1成才るシクロヘ
キザノンをカップリング生成は 物どして利用でき、すなわらこの場合−級アルハー コールハ・のりトンの水素化二[程を省略できるかむ−
)でバりる。ケトン過酸化物は、アントラギノン過酸化
物と同様に、対応する二級アルコールの空気又は酸素に
よる酸化により得られる。
エボギン化触媒■は、主として6〜8個の炭素原子を有
する過弗素化ケトンてあって、!侍にその水素化物の形
でも用いうる人手容易てノ時に活性なヘキザフルオルア
セトンでt)る、。
する過弗素化ケトンてあって、!侍にその水素化物の形
でも用いうる人手容易てノ時に活性なヘキザフルオルア
セトンでt)る、。
他の適当な化合物■は、対応する塩素化合物又は混合弗
素7/塩素化合物である6、一般に、約80%以上であ
るへきハロゲン化度が噌加するにつれてHのと占・円、
が」曽カ目するといえるが、その場合弗素が℃・ずれに
せよ強い効果をもた1:)才3、さらにケトンのα位炭
メ5原子か仝部て6細身−1の弗素原子を有することが
有利てあり、残りの結合は塩素て゛もそして場合により
水素7原子てもよい。
素7/塩素化合物である6、一般に、約80%以上であ
るへきハロゲン化度が噌加するにつれてHのと占・円、
が」曽カ目するといえるが、その場合弗素が℃・ずれに
せよ強い効果をもた1:)才3、さらにケトンのα位炭
メ5原子か仝部て6細身−1の弗素原子を有することが
有利てあり、残りの結合は塩素て゛もそして場合により
水素7原子てもよい。
化合物■は1人小動力学的には酸素連搬体1)−シて作
用するが、巨大動力学的には不変化の庄1゛である。し
たが−って理論上は■のわずかな任意)1ヤで足りる。
用するが、巨大動力学的には不変化の庄1゛である。し
たが−って理論上は■のわずかな任意)1ヤで足りる。
しかし反応速度が■の濃度の減少につJlで自然に減少
するので、■の1モル当り■を0.5モル以1り−fま
しく(コ0.5〜5モル用いる方がよい。そのほか操作
技術上の簡単化のため、■を溶剤として使用ずろことが
411奨され、その場合Iに対し■がモル過剰であり、
それは約5モルないし50モルである。
するので、■の1モル当り■を0.5モル以1り−fま
しく(コ0.5〜5モル用いる方がよい。そのほか操作
技術上の簡単化のため、■を溶剤として使用ずろことが
411奨され、その場合Iに対し■がモル過剰であり、
それは約5モルないし50モルである。
他の溶剤どしては、原則として反応条件下に不活性であ
って、装入物質と均質な液相を形成する有機液体がすべ
て用℃・られる。例えば下記液体があげられる。C1〜
C+r−アルカノール、シクロヘキサノール、ペンシル
アルコール、これらアルコールと低級カルボン酸例えば
耐酸との又は例えばフタル酸とのエステル、燐酸エステ
ル例えばトリクレグルホスフエート、炭化水素例エバベ
ンソール、l・ルオール、キジロール、アルキルナフタ
リン、テトラヒトロナフタリンゾ 及び、ノエニル、塩素化炭化水素例えば三基ILエチレ
ン、エーテル例えばi、2− ジットキシエタン、1.
2−ジットキシエタン、ジエチレンクリコールジノチル
エーテル及びアニソール及び環状エーテル例えばジ刈ギ
ザ/及びテトラヒドロフラン。
って、装入物質と均質な液相を形成する有機液体がすべ
て用℃・られる。例えば下記液体があげられる。C1〜
C+r−アルカノール、シクロヘキサノール、ペンシル
アルコール、これらアルコールと低級カルボン酸例えば
耐酸との又は例えばフタル酸とのエステル、燐酸エステ
ル例えばトリクレグルホスフエート、炭化水素例エバベ
ンソール、l・ルオール、キジロール、アルキルナフタ
リン、テトラヒトロナフタリンゾ 及び、ノエニル、塩素化炭化水素例えば三基ILエチレ
ン、エーテル例えばi、2− ジットキシエタン、1.
2−ジットキシエタン、ジエチレンクリコールジノチル
エーテル及びアニソール及び環状エーテル例えばジ刈ギ
ザ/及びテトラヒドロフラン。
化合物■を含めて溶剤量は、すべての反応関体
r−、八が均一相を形成するように泪吊されるべきであ
る。それは一般に過酸化物■の基礎となるケトン1にg
当り2〜8 k&である。
る。それは一般に過酸化物■の基礎となるケトン1にg
当り2〜8 k&である。
本方法は、使用ずろオレフィン性不ス・1す相比合物の
種頓に原則として依存せず、したが′)て原則として任
7石、のオキシラ/の製造に適すイ)。当/ゝ 然のこと−Cあるが、茗しい副反応を起こす置換基、す
なわち酸11゛基又は塩基性基なf1才イ)オレフィン
性令飽和化合物のツメが制約さね又は不適当て゛ある。
種頓に原則として依存せず、したが′)て原則として任
7石、のオキシラ/の製造に適すイ)。当/ゝ 然のこと−Cあるが、茗しい副反応を起こす置換基、す
なわち酸11゛基又は塩基性基なf1才イ)オレフィン
性令飽和化合物のツメが制約さね又は不適当て゛ある。
オレフィン性不飽和化合物はさらに2個又はそれ以上の
−(==(゛−原子団を含r〕シても、l−<、この場
合は対応するビス−及びポリオギンランが生成する。
−(==(゛−原子団を含r〕シても、l−<、この場
合は対応するビス−及びポリオギンランが生成する。
オレフィン性不飽和化合物と1−では、第一しこC2〜
C2o−オレフィンがあげられて)。その場合(゛。
C2o−オレフィンがあげられて)。その場合(゛。
〜(ツ2゜−オレフィンは直鎖状でも分岐状ても」、く
、ぞして二重結合は内側にあっても末グI、iにあって
もよい。二に粟的蜆模において必要なプロピレンオキシ
ドの前段物質として、プロピレンが特(・こ重要である
。
、ぞして二重結合は内側にあっても末グI、iにあって
もよい。二に粟的蜆模において必要なプロピレンオキシ
ドの前段物質として、プロピレンが特(・こ重要である
。
そのほか下記のものも用いられる。
シクロオレフィン例えばシクロペンテン、シクロドデセ
ン、シクロオクテン及びシクロドデセン ビスオレフィン例えばブタジェン−1,6、イソプレン
及びヘキサジエ、/−1,5 芳香脂肪族オレフィン例えばスチロール及びスチルベン ビニルアルキルエーテル例エハヒニルエチルエーテル及
びビニルエステル例えば西′1酸ビニルアリルアルキル
エーテル例えばアリルメチルエーテル及びアリルエステ
ル例えば11′I酸アリルならびに アクリル酸及びメタクリル酸。
ン、シクロオクテン及びシクロドデセン ビスオレフィン例えばブタジェン−1,6、イソプレン
及びヘキサジエ、/−1,5 芳香脂肪族オレフィン例えばスチロール及びスチルベン ビニルアルキルエーテル例エハヒニルエチルエーテル及
びビニルエステル例えば西′1酸ビニルアリルアルキル
エーテル例えばアリルメチルエーテル及びアリルエステ
ル例えば11′I酸アリルならびに アクリル酸及びメタクリル酸。
一般にオレフィン性不飽和化合物は、置換基例えばハロ
ゲン原子、ニトロ基、シアン基、アルコキシ基及びカル
ボアルコギゾ基を有してよい。アルデヒド又はケトンの
機能原子団中の水酸基及びオギソ基の場合は、反応条件
下で副反応が起こされるかどうが、またそれがどの程度
かを、予備実験により確認すべきである。
ゲン原子、ニトロ基、シアン基、アルコキシ基及びカル
ボアルコギゾ基を有してよい。アルデヒド又はケトンの
機能原子団中の水酸基及びオギソ基の場合は、反応条件
下で副反応が起こされるかどうが、またそれがどの程度
かを、予備実験により確認すべきである。
オレフィン性不飽和化合物と過酸化物lは、好ましくは
0.5: 1〜1o:1特に好ましくば1:1〜5:1
0モル比で用℃・られる3、反応は一般K 20〜15
0 ’C’jfましくは4o〜12゜°Cの温度、なら
びに常圧で行われる61.1、り高い圧力例えば5oバ
ールまての圧力もD」能であるが、オレフィン性不飽和
化合物が反応温度で気体でないときは一般にそれは必要
でム゛い3、本発明の方法は、固体物質を分離しないで
よく、かつ沈殿固体物質による障害も間;但てフロ1−
いから、特に連続操作法に好適である。
0.5: 1〜1o:1特に好ましくば1:1〜5:1
0モル比で用℃・られる3、反応は一般K 20〜15
0 ’C’jfましくは4o〜12゜°Cの温度、なら
びに常圧で行われる61.1、り高い圧力例えば5oバ
ールまての圧力もD」能であるが、オレフィン性不飽和
化合物が反応温度で気体でないときは一般にそれは必要
でム゛い3、本発明の方法は、固体物質を分離しないで
よく、かつ沈殿固体物質による障害も間;但てフロ1−
いから、特に連続操作法に好適である。
連続法は例えば次のように行われる。
6))水素化反応器内での水素と八木化触媒による、過
酸化物■の基礎となイ)ケトンの水素化は、自体既知の
手段により好まし2(は溶剤としてのHの中で、■が認
めつる程度に水素化されない条件下で行われろ。次の段
階てケトンの形態が11Tび形成されるので、■の水素
化は妨げにならない。この反応イ」L合物?、 b)吹込塔、充填体格又は棚段塔に導入し7、そこで酸
素又は酸素含有ガス混合物例えば空気と接触させ、その
場合過酸化物■が生ずる。この反応混合物を C)充填体H1゛又は棚段塔に導入し、そこで塔内に導
入されたオレフィン性不飽和化合物と反応させる。
酸化物■の基礎となイ)ケトンの水素化は、自体既知の
手段により好まし2(は溶剤としてのHの中で、■が認
めつる程度に水素化されない条件下で行われろ。次の段
階てケトンの形態が11Tび形成されるので、■の水素
化は妨げにならない。この反応イ」L合物?、 b)吹込塔、充填体格又は棚段塔に導入し7、そこで酸
素又は酸素含有ガス混合物例えば空気と接触させ、その
場合過酸化物■が生ずる。この反応混合物を C)充填体H1゛又は棚段塔に導入し、そこで塔内に導
入されたオレフィン性不飽和化合物と反応させる。
d)段階(C)て得られた反応混合物を、オキシラン、
オレフィン性不飽和化合物及び場合により■から成る留
分、ならびに過酸化物■の基礎となるケトン及び場合に
より■から成る留分に分留し、そして (・)最後にあげた留分な段階(C)又は段階(1,i
)に再供給する。
オレフィン性不飽和化合物及び場合により■から成る留
分、ならびに過酸化物■の基礎となるケトン及び場合に
より■から成る留分に分留し、そして (・)最後にあげた留分な段階(C)又は段階(1,i
)に再供給する。
他の溶剤を01川する場合、才ブよりち■だけが溶剤と
されるのでないときも、操作工程は原則として変わりは
ない1、過酸化物Iの基礎となろケトンをカップリング
生成物として得たいときは、水素化段階を省略する。ま
た一般に段階(b)と(C)を一工程にまとめることも
屯要である。
されるのでないときも、操作工程は原則として変わりは
ない1、過酸化物Iの基礎となろケトンをカップリング
生成物として得たいときは、水素化段階を省略する。ま
た一般に段階(b)と(C)を一工程にまとめることも
屯要である。
本発明方法は、一般に使用過酸化物Iに対し90〜99
%のオキシラン収率な提供する。
%のオキシラン収率な提供する。
実施例1〜15
種々のオキ/ランの製造
イソブチルアセテート各769及び(アントラキノン溶
液の接触水素化とAンtくアントジヒドロキノンの酸素
による酸化により製造された)2−三級プチルアントシ
キノンバーオキ7ド596g(20ミリモル)カシらの
溶l夜を、(中々の条件下にオクテン−1又はシクロヘ
キセン及びスチロールト、ヘキザフルオルアセト)のセ
スギ水和物(npA・1.5 +−120)の存在下に
反応させる。個々の条件とガスクロマトグラフィにより
めた試験結果を後記表に示す。
液の接触水素化とAンtくアントジヒドロキノンの酸素
による酸化により製造された)2−三級プチルアントシ
キノンバーオキ7ド596g(20ミリモル)カシらの
溶l夜を、(中々の条件下にオクテン−1又はシクロヘ
キセン及びスチロールト、ヘキザフルオルアセト)のセ
スギ水和物(npA・1.5 +−120)の存在下に
反応させる。個々の条件とガスクロマトグラフィにより
めた試験結果を後記表に示す。
実施例16
ンクロヘギーリーノンパーオキシド2.6.!/(20
ミリモル)及びシクロヘキザノール(7りI:Jへギサ
ノールの酸素酸化により製造された)5゜の gかもの溶液に、オクテン−122,4、ゾ(0,2モ
ル)及ヒヘキサフルオルアセトンのセスギ水和物3.8
6.!9(20ミリモル)を添加し、6゜°Cで24時
間攪拌する。25係のバーオギシド変化率においてオク
テンオキシドの選択率は64係である。
ミリモル)及びシクロヘキザノール(7りI:Jへギサ
ノールの酸素酸化により製造された)5゜の gかもの溶液に、オクテン−122,4、ゾ(0,2モ
ル)及ヒヘキサフルオルアセトンのセスギ水和物3.8
6.!9(20ミリモル)を添加し、6゜°Cで24時
間攪拌する。25係のバーオギシド変化率においてオク
テンオキシドの選択率は64係である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 有機過酸化物として、それ自体単独ではオレフィ
ン性不飽和化合物と認めうる程度には反応し2ないグー
・ン過酸化物(■)を使用し、そしてエポキシ化触媒と
して次式 %式% (式中x1及びX2は高度に弗素化及び/又は塩素化さ
れたプルキル基を意味−1−ろ)で表わされるケトンを
使用することを特徴とする、液相中で均一エポキシ化触
媒の存在下に対応するオレ化 フィンM’lユ不飽和化合物なイ」機′J1□1酸A′
4勿と反応させることによる、オキシランの製法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19833323329 DE3323329A1 (de) | 1983-06-29 | 1983-06-29 | Verfahren zur herstellung von oxiranen |
| DE3323329.2 | 1983-06-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6036473A true JPS6036473A (ja) | 1985-02-25 |
Family
ID=6202623
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59133449A Pending JPS6036473A (ja) | 1983-06-29 | 1984-06-29 | オキシランの製法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0130568B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6036473A (ja) |
| DE (2) | DE3323329A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63235483A (ja) * | 1987-03-24 | 1988-09-30 | Nippon Parkerizing Co Ltd | 鉄鋼材料の化成処理用表面調整液 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6534621B2 (en) | 2000-05-18 | 2003-03-18 | Dow Global Technologies Inc. | Process for manufacturing a hydroxyester derivative intermediate and epoxy resins prepared therefrom |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2436817B2 (de) * | 1974-07-31 | 1976-05-26 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zur herstellung von oxiranen |
| US4177196A (en) * | 1976-01-16 | 1979-12-04 | Interox Chemicals Limited | Epoxidation |
| US4024165A (en) * | 1976-06-29 | 1977-05-17 | Shell Oil Company | Process for the epoxidation of olefins |
| FR2423486A1 (fr) * | 1978-04-19 | 1979-11-16 | Roussel Uclaf | Nouveau reactif d'epoxydation |
| US4344887A (en) * | 1979-12-28 | 1982-08-17 | General Electric Company | Method for epoxidizing olefins |
| US4389529A (en) * | 1981-05-15 | 1983-06-21 | General Electric Company | Method for epoxidizing olefins |
-
1983
- 1983-06-29 DE DE19833323329 patent/DE3323329A1/de not_active Withdrawn
-
1984
- 1984-06-28 DE DE8484107462T patent/DE3465991D1/de not_active Expired
- 1984-06-28 EP EP84107462A patent/EP0130568B1/de not_active Expired
- 1984-06-29 JP JP59133449A patent/JPS6036473A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63235483A (ja) * | 1987-03-24 | 1988-09-30 | Nippon Parkerizing Co Ltd | 鉄鋼材料の化成処理用表面調整液 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0130568A1 (de) | 1985-01-09 |
| EP0130568B1 (de) | 1987-09-09 |
| DE3323329A1 (de) | 1985-01-03 |
| DE3465991D1 (en) | 1987-10-15 |
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