JPS6036657A - 浸炭焼入方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は＋１炭焼入方法に関し、詳しくは、被浸炭焼入
部品を、送入工程、浸炭工程、拡散・焼入工程に分けて
処理し、おのおのの処理工程をそれぞれ異なった雰囲気
とし、ネット状セメンタイトの析出のない、正常な浸炭
焼入組織とすることができる浸炭焼入方法にかかる。

従来、浸炭焼入方法の１つとして、高温短時間で浸炭焼
入がｉＪ能な、高周波浸炭焼入が行なわれている。

これは、被浸炭焼入部品を、プロパン等の炭化水素ガス
と窒素ガスとの、混合ガスからなる浸炭雰囲気中にて、
高周波加熱により、約１１００　Ｃの高温に加熱し、浸
炭させた後、同一雰囲気中で所定の焼入温度まで徐冷し
、焼入を行なうものである。

このような、高周波高温浸炭処理では、浸炭ノーが第１
図の顕微鏡組織写真のような、ネット状セメンタイトと
マルテンサイトの混合組織となる。

耐摩耗性のみが要求される部品に対しては、この組織の
ものでも十分適用できるが９強度特性が要求される部品
に対しては、ネット状セメンタイトの析出のない組織の
ものに比較して１強度が劣り、適用部品が限定される欠
点がある。

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、（部品全。

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の浸炭層を拡１枚させ４つづいて、ｌニン１［シ拡散室
内で、彼ｌ訟炭焼入部品の１術定の１７７戊ｅ１１ｅ、
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以下９添１せし１（萌１〔基づい“Ｃ３本？１言明の実
、′１１ハ１シ１ｊ４・説明ずろ２ ２本発明の一実１Ｉｉｌｉ例として用い？四′ψ炭焼人
装！ｈ′を第　２図　１こ示　ず。

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品１営送入室２ｉこ装着し・。窒索勾゛スを１０−ｂ７
・べ・、・θζ〜１〕、ニー１分間ガスを４映ずδ４゜ ついＣ，シーン）・仮１１（９開放１．・。１皮と３炭
・ｂｐ人部品また・エアシリ゛、グ１０で、υ炭室：３
内にＧＷ設さ１−Ｌ　ｆ（：高周波コ（＃　１２の中央
部まで搬・べし、プロ・〈］　屋窒素合ガス（ガス流＠
　１０　ｔｌ、（・Ｃ）中で。

、〃１波故；　１　Ｏ０Ｋ’、［４ｚ　、シレーｌ−電
圧（Ｅｐ）；ｚ６■、プレー；・電流（ＩＢ））８０．
８０Ａで、１１００℃ｆ−ｉ’３０４４！＋でＩＪＩｉ
ｉ’ｌ！ｌＬノｆ、＝９．−ゾｖ−−ｈ杆ｆＥＥ（ＥＴ
’）；１．６ＫＶ、つ１・−１・′ｌ↓Ｃｉ’＆（ＩＰ
）二〇、コ３２Ａの条１′牛で。

１１００’Ｃにてｔ虻炭り・行なう。

所定の時間ｄ、ｌ炭しｔコら７ｔ「【ちに。波Ｓ炭焼入
部　４− 品１を６エアシリンダ１　（１１こまって。４Ｅ　ｆＩ
ｕ・ｘｘ　入室・Ａ内１こ配、１役されｔこ、高周波コ
イル３６の中央部に（＠送１／　、　１０１２．Ａｉ＋
の滝川の窒永力゛ス雰囲気中にて、シレーｌ−電圧（Ｅ
ｉｉ　）　；　１６に’ｊ　、プレ　Ｉ−電流（Ｉｐ）
；　０．３二？ノＮの条ｆ’ｔで、ｌり炭温度と同一温
度Ｊｊ　’、ｊｉｊｌ熱し・　拡ｉｌｌ已νＶ　ｉＪｌ
　ｆ行なう。

つぎに、被浸炭焼入部品ｊの所定の焼（温度まで徐冷ｉ
Ｑ、−ｒアシリング２０によつ−（＋　ｆｌｔ浸炭焼入
部品１を１焼入槽２１・＼送入（／、曝ｌ六焼入を行な
うものである。

ｉ−述Ｌ／　ｊ、：実範例Ｉこより浸炭焼入ｌ］ＬＷ炭
層の。

顕微鏡５川織は第３図のＦ−ｆ真に承す５ＪミうＩｎ　
、　ｉＥ常な浸炭焼入組１！、ｓＩを呈１／ている、ま
ｆ二、　ＣＩ力実施例の浸炭焼入方法におげろ、処理４
ノイクルの模式図分画４図にボす。

図中Ａ１人泥炭工程、Ｂは拡散工程を示し６ともに、同
−加熱箭件・同一加熱温度であるが、前述０）５１、う
に。浸炭１−程Ａでは窒素−）「」パン混合ガス、拡散
」工程［３は窒素ガスのみのに８囲気でＪ）る。

まｆ−１？炭室３．拡散・焼入室４のガス分配日５− １４埼び１８は。両処理室の境界部に設（Ｊられており
、それぞ寸１のガスがｈｉ人しないように９浸炭−裡３
では上面からド万へ、ま１．−９拡散・焼入室・其１−
°は＋ｕＩｊ心）らト方へ流出さ］ンでいる。

なお。謙炭至、３は、使用ガスの比＠を考慮し。

Ｕ入数・焼入室４のド方に配置している。

ｊｕ　ｌ二により明らかなように、本発明にかかる浸炭
焼入ｆｆｆ′法によれば、被、１４炭焼入部品を、法人
工程、浸炭工程、拡１枚・焼入−［程に分υて処理し。

おのｔＪのの処理−Ｔ１程を、頴なった雰囲気とするこ
とにより、拡散二Ｉ′、程における浸炭の進ｎを防ｔに
して、浸炭層内にネット状セメンタイ）・の析出のない
、マルテン→３イトー相からなる。正常な浸炭焼入組織
と１−２．もって、高周波焼入部品の適用範囲を拡大す
るに、！ができる利点がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は。従来の高周波高温浸炭焼入処理１イ二よる。 浸炭層の顕鍛境組織写真。第２図は３本発明の−・実施
例と１．・て用い１′ｖ浸炭焼入装置。第３図はξの実
施例により浸炭焼入しノコ浸炭層の顕微鏡組−〇− 織″ｌ−５頁、第・１図は、この実施例の浸炭腕・（）
）法における、処νｉ１田・イクルの）りＬＯ図で７÷
）る。 １　・ｆ皮　ン゛又す　炭　大７７１．　べ　ン；１３
　品　、２　・・六　入、室　、３　浸炭　ζイ）４　
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　λ　糺ン、　べ　１−１　、（ｉデ＝＋ス！；ｉｐＨ
ｊＬ］、、、・九・）ζ＋−ｉ１．Ｅ１、’ＡＩ”号’
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ｌター１イル。 １；（＝／、Ｔス送紛１ｉ、１４・〕ｉノ゛：！、ゴノ
ｈｉｔｉｋｌ。 １５−　Ｌｒ　：＜　；Ｊｌ出１’、１　、　’ｉ　５
　ａ　炉１［％、ｈ’ａ　ＩＮ　汀＋］（）　高周波コ
イル、１７　ゾｆ　Ｘ　ｊぺ八にｌ。 １８　ノｉス号配Ｑ、１９−Ｊｉ’六ｊＪＩ川口。 １９１、禿−・ｒｒｚ′、＋客Ｘ！−：ｆｉ″、２（）
・Ｘ、す・レリニ・ｊイ。 ２１　′組′、　匁＋ｕ　、　Ａ　／、手　炭工程　、
ｌ−ネ　・　１ノ入　ｔｉ（、「！！、Ｈ出　１諒　入 トヨタ自動中、株式、会社 ７− 煎・：ｉ（テ、ｙ＜４ＣＸ） −・’ｌ（’：ｊｐ ）［ペタミ　イ３　Ｂ、ｚ− 第４図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）浸炭雰囲気中にて被浸炭焼入部品を、高温で高周
   波加熱する浸炭焼入方法であって、まず。 非酸化性雰囲気の送入室に、被浸炭焼入部品を搬入し、
   ついで、浸炭性雰囲気の浸炭室にて、被浸炭焼入部品を
   、高周波加熱によって高温浸炭し。 つぎに、非酸化性雰囲気の拡散・焼入室にて、浸炭温度
   近傍の温度で、被浸炭焼入部品の浸炭層を拡散させ、つ
   づいて、−上記拡散・焼入室内で、被浸炭焼入部品の所
   定の焼入温度まで徐冷した後。 焼入することによって、ネット状セメンタイトの析出の
   ない、正常な浸炭焼入組織とすることを特徴とする浸炭
   焼入方法。