JPS6037123B2 - 写真画像製造材料及びその使用方法 - Google Patents

写真画像製造材料及びその使用方法

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JPS6037123B2
JPS6037123B2 JP51072127A JP7212776A JPS6037123B2 JP S6037123 B2 JPS6037123 B2 JP S6037123B2 JP 51072127 A JP51072127 A JP 51072127A JP 7212776 A JP7212776 A JP 7212776A JP S6037123 B2 JPS6037123 B2 JP S6037123B2
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ハンス・ツヴアイフエル
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Ciba Geigy AG
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、電磁波の作用下に網状化(架橋結合)しうる
新規有機重合体を用いた写真画像製造材料及びその使用
方法に関する。
電磁波の作用下に絹状化した重合体部分は、その物理的
及びイG学的性質において、禾照射重合体部分とは著し
く異なるので、この新規重合体を使用して写真製版を実
施することができる。光の作用下に絹状化しうる多数の
重合体が既に公知になっている。
これらの感光性重合体のほとんどにおいて、光活性基が
側鎖置換分として重合体連鎖と結合している。この関連
で、特に下記の出願公開公報を参照することができる;
特開昭49一128991、同49−128992、同
49−128993同50−5370同50一5377
、同50−5379同50−537&同50−5380
。これらの特許出願は、重合体が感光性基として式(0
):(式中Rは芳香族基を表わし、R′は水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基又は−CNを表わす〕の基を含
む感光性重合体の製法に関する。
しかし、この種の公知重合体は、特別の光技術的用途に
は光イと学的感速度が極めて小さすぎるという欠点を有
する。この性貿は、特に、相応する写真製版を実施する
際に最終的に鮮明でない画像又はしりーフ像を生じ、ま
たかなり長い露光時間を必要とする点で、マイナスであ
る。これらの重合体の場合、この欠点は光イC学反応用
増感剤を使用することによっても排除されない。
即ち、この増感剤の作用の発現は、これらの公3由感光
性重合体によって極めて著しく減少することは明らかで
ある。本発明の目的は、前記の公決連合体の欠点を有さ
ず、電磁波に対して大きい繁渡を有し、更にこの感度は
増感剤と絹合せることにより著しく増強される。
光によって網状化される重合体を提供することにある。
本発明の対象は、平均分子量が少なくとも1000であ
り、1分子当り平均2個より多数の式(1); 〔式中R及びR,はそれぞれ独立して、最高4個の炭素
原子を有するアルキル基を表わすか、又はR及びR.は
一緒になって5員又は6員の炭素残を完成する〕のマレ
ィンィミド基を有する、電磁波の作用下に網状化(架橋
結合)しうる重合体である。
本発明による重合体は、特に、式(1)で表わされる下
記マレィンィミド基を含む;特に有利なものは、最初に
挙げたマレィンィミド基3個の含む重合体である。
本発明による重合体は、特にポリエステル、ポリエステ
ルアミド、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステルアミ
ドーイミド、ポリエステルーアミドーイミド、ポリエー
テル、ポリアミン(ポリイミンを含めて)、ポリウレタ
ン、フェノール−ホルムアルデヒド(ノボラック)を基
質とする軍縮合物、多糖類、ゼラチン、有機ポリシロキ
サン及び反応性C=C−二重結合を含む単量体のホモ重
合又は共重合により生じる重合体から成る重合体化合物
である。
本発明による重合体は、特に下記の7種(A〜G)の重
合体化合物である:A looO〜1000000の平
均分子量を有する、反応性C=C−二重結合を含む単量
体のホモ重合物又は共重合物であって、次式;(q=○
又は1) (x=1又は2) 〔式中MIは式(1)のマレインイミド基を表わし、Y
2は脂肪族又は脂環式又は炭素環式芳香族又は芳香脂肪
族又はへテロ環式芳香族基(それぞれ合計で最高18個
までの炭素原子を含む)を表わし、Y,はY2と同一の
ものを表わすか、又は基;PH (n=・‘ま2)を
表 −CH2−℃H−(CH2)n− わし、Y3はY2と同一のものを表わすか、又は基;を
表わし、Y4はY2と同一のものを表わすか、又は基:
を表わし、Y5はY2と同一のものを表わすか、又は基
;−C0一Y2− を表わし、Y6はY2と同一のもの、好ましくは脂肪族
又は炭素環式芳香族基を表わし、Y7はY2と同一のも
のを表わし、その際qは好ましくは0であり、R3はH
又は炭素原子数1なし・し6個でアルキル基を表わし、
R4はH又はアルキル基、好ましくはメチル基を表わし
、R5,R6及びR7はそれぞれ独立に日、ハロゲン、
シアノ基、アルキル基、アリール基、アルアルキル基、
特に日を表わし、R8は一日、一COO日又は一COO
(CH2)zCH3(z=0〜18)を表わす〕の分子
鎖成分中に式1のマレィンィミド基を含むホモ重合物又
は共重合物。
(本明細書中化学式については、原則として下記の規定
があるものとする;基本式の1部である、記号(例えば
“Y”)で示された2価の分子残笹を別の式で詳細に説
明する場合、これらの2価の基は、常に回転しないで基
本式中に結合されるように、立体的に示される。即ち、
基本式及びその都度詳細に説明される2個の分子残基の
式の右−左−配置は変化されないものである。)Aが共
重合物である場合、これはマレインイミド基を有する分
子鎖成分の他に、下記のマレィンィミド基を有しない共
単量体から譲導される分子鎖成分を有するのが有利であ
る;オレフィン、ハロゲン化ビニル、例えば臭化ピニル
、塩化ビニル及び弗化ビニル、ビニリデン、例えば塩化
ピニリデン、ひ,8一不飽和のニトリル、例えばアクリ
ロニトリル又はメタクリロニトリル、Q,6−不飽和酸
、そのェステル又はハロゲン導体、例えばアクリル酸、
メタクリル酸、クロトン酸、マレィン酸、メチルメタク
リレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート
、ブチルアクリレート、オクチルアクリレート、2−エ
チル一ヘキシルアクリレート、エチルメタクリレート、
イソプロピルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメ
タクリレ−ト、ジエチルアミノエチルアクリレート、グ
リシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート又は
クロルメチルメタクリレート、Q,B−不飽和カルボン
酸アミド及びその誘導体、例えばアクリルアミド、メタ
クリルアミド、芳香族ビニル化合物、例えばスチレン、
メチルスチレン、ビニルトルェン又はQ−クロルスチレ
ン、ビニルケトン、例えばメチルビニルケトン、ビニル
ェステル、例えば酢酸ビニル、ヘテロ環式ビニル化合物
、例えばビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルェ
ーテル及びオレフイン二重結合を有する化合物。
B 平均分子量1000〜50000のポリアミド又は
ポリアミド−イミドであって、次式:及び 〔式中MIは式(1)のマレインイミド基を表わし Y
8は少なくとも2個の炭素原子を有する脂肪族基、又は
脂環式若しくは芳香脂肪族、若しくは炭素環式芳香族若
しくはへテロ環式芳香族基(それぞれ最高18個までの
炭素原子を有する)を表わすか、又は式;(式中R,.
は 、一S−又は−○−を表わす)を表わし、ポリアミドの
場合には基−NH−Y8一NH一は基:(式中R9はR
,oはそれぞれ独立に日、メチル基又はフェニル基を表
わす)をも表わすことができる〕の分子鎖成分中に式(
1)のマレィンィミド基を含む重合体、Bの重合体はま
た、マレインイミド基を有する分子鎖成分の他に、マレ
ィンィミド基を有しない共単量体、即ち、ジカルボン酸
又はイミド形成性トリ−及びテトラカルボン酸及び(又
は)ジァミンから誘導される分子鎖成分をも有するコボ
リアミド及びコポリアミドィミドも包含する。
この種のカルポン酸又はその誘導体の例を以下に挙げる
;コハク酸、コハク酸無水物、グルタン酸、アジピン酸
、スベリン酸、セバシン酸及びドヂカンジカルポン酸、
1,3−シクロベンタンージカルボン酸、フタル酸無水
物、ヘキサヒドロレソフタル酸、ヘキサヒドロテレフタ
ル酸、テレフタル酸、ィソフタル酸、4,4′ージカル
ボキシージフヱニルエタン、ナフタリン−2,5ージカ
ルボン酸、チオフェンー2,5−ジカルボン酸、ピリジ
ンン−2,3−ジカルボン酸及び対応するジクロリド、
対応するジェステル及び塩;トリメリット酸−1,2一
無水物−クロリド(1,3−ジオキソーベンゾ〔c〕オ
キサラン−5−カルボン酸クロリド)、トリメリツト酸
無水物、トリメリット酸−Na塩又はアンモニウム塩及
び対応するェステル;ピロメリット酸二無水物、3,3
,4,4′ーベンゾフェノンーテトラカルボン酸二無水
物、2,3,3′,4−ペンゾフェノンーテトラカルボ
ン酸二無水物、2,2′,3,3′−ペンゾフェノンー
テトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ジフ
ェニルーテトラカルボン酸二無水物、ビス(2,3−ジ
カルボキシフェニル)メタン二類水物、ビス(2,5,
6−トリフルオン−3,4−ジカルボキシフェニル)メ
タン一二無水物、2,2−ビス(2,3一ジカルボキシ
フエニル)プロパン一二無水物ービス(3,4一ジカル
ボキシフェニル)エーテル二無水物、ピス(3,4−ジ
カルボキシフェニル)スルホンー二無水物、N,N−(
3,4−ジカルボキシフェニル)−Nーメチルアミン一
二無水物、ビス−(3,4−ジカルボキシフエニル)ー
ジエチルシラン二無水物、2,3,5,7−及び1,2
,5,6−ナフタリンーテトラカルボン酸二無水物。
重縮合に好適なジアミンの例として下記のものが挙げら
れる:o−、m−及びpーフヱニレンジアミン、ジアミ
ノトルェン、例えば2,4ージアミノトルエン、1,4
−ジアミノ−2ーメトキシベンゼン、2,5−ジアミノ
ーキシレン、1,3ージアミノー4ークロルベンゼン、
4,4′ージアミノージフエニルメタン、4,4ージア
ミノジフエニルエーテル、4,4′−ジアミノジフエニ
ルチオエーテル、4,4′ージアミノジフエニルスルホ
ン、2,2ージアミノベンゼンフエノン、4,4′ージ
アミノジフエニル尿素、1,8−又は1,5−ジアミ/
ナフタリン;2,6ージアミノピリジン、2,4−ジア
ミノノーピリジン、2,4ージアミノーsートリアジン
、ジー、トリー、テトラ一、ヘキサー、ヘプタ−、オク
ター及びデカメチレンジアミン、2,2ージメチルプロ
ピレンジアミン、2,5ージメチルヘキサメチレンジア
ミン、4,4ージメチルヘプタンメチレンジアミン、3
ーメチルヘブタンメチレンジアミン、3−メトキシヘキ
サメチルジアミン、2,11−ジアミノドデカン、1,
2ービス(3−アミノプロポキシ)ーエタン、N,N′
−ジメチルエチレンジアミ/、N,N′ージメチルー1
,6ージアミ/へキサン及び式:日ぶ(CH2)ぬ(C
比)20(C仏)3NH2及び比N(CH2)3S(C
H2)3NH2のジアミン;1,4ージアミノシクロヘ
キサン、1,4−ビス(2−メチル一4ーアミノベンチ
ル)ベンゼン、1,4ーピス(アミノメチル)ベンゼン
C 次式; 〔式中MIは式(1)のマレィンィミド基を表わし、Y
9は少なくとも2個の炭素原子を有する脂肪族基又は脂
環式若しくは芳香紙肪族若しくは炭素環式芳香族若しく
はへテロ環式芳香族若しくはへテロ環3朗旨肋族基(そ
れぞれ合計最高18個の炭素原子を有する)を有する〕
の分子鎖成分中に式(1)のマレィンィミドを含む、平
均分子量1000〜50000のポリエステル。
Cはたは、マレィンィミド基を有する分子鎖成分の他に
、マレィンィミド基を含まない共単量体、即ちジカルボ
ン酸又は縮合可能のジカルボン酸誘導体、及び(又は)
ジオールから誘導された分子鎖成分を有するコポリエス
テルも包含する。この種のカルボン酸又はその譲導体の
例を以下に挙げる;コハク酸、コハク酸熱水物、グルタ
ル酸、アジピン酸、スベリン酸、セバシン酸及びドデカ
ンジカルボン酸、1,3−シクロベンタンージカルボン
酸、フタル酸無水物、ヘキサヒドロィソフタル酸、ヘキ
サヒドロテレフタル酸、テレフタル酸、ィソフタル酸、
4,4′−ジカルボキシージフエニルエタン、ナフタリ
ン一2,5−ジカルボン酸、チオフェソ−2,5ージカ
ルボン酸、ピリジンー2,3ージカルボン酸、及び対応
するジクロリド、定義によるジェステル及び塩:マレィ
ン酸及びフマル酸及びその誘導体、トリメリット酸一1
,2−一無水物ークロリド(1,3ージオキソ−ペンゾ
〔c〕オキサフラン−5ーカルボン酸クロリド)、トリ
メリット酸無水物、トリメリット酸−Na塩又はアンモ
ニウム塩及び定義によるェステル:2,3−3,4′ー
ベンゾフェノンーテトラカルボン酸二無水物、2,2′
,3,3−ペンゾフェノン−テトラカルポン酸二無水物
、3,3,4,4−ジフェニル基−テトラカルボン酸二
無水物、ビス(2,3一ジカルボキシフエニル)メタン
ーニ無水物、ビス(2,5,6ートリフルオルー3,4
−ジカルボキシフェニル)メタン一二無水物、2,2ー
ピス(2,3一ジカルボキシフェニル)プロパン一二無
水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル
一二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフエニル)ス
ルホソー二無水物、N,N−(3,4−ジカルボキシフ
ェニル)−N−メチルアミン一二無水物、ビス−(3,
4−ジカルボキシフエニル)−ジェチルシラン二無水物
、2,3,5,7一及び1,2,5,6ーナフタリンー
テトラカルボン酸二無水物。
縮合に好適なジオールの例として、下記のものが挙げら
れる。
エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3ー
プロパンジオール、1,4一及び2,3ーブクンジオー
ル、2,2ージメチル−1,3ープロパンジオール(ネ
オベンチルグリコール)、1,5−及び2,4−ペンタ
ンジオール、1,6−及び2,5−へキサンジオ−ル、
1,10ーデカンジオール、1,12ードデカンジオー
ル、2−エチル一2ーブチルー1,3ープロパンジオー
ル、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、
1,2一、1,3−及び1,4ーシクロヘキサンジオー
ル、1,4ーピスー(ヒドロキシメチル)−シクロヘキ
サン、4ーアミノーシクロヘキサノール、1,2一、1
,3−及び1,4−ジヒドロキサベンゼン、1,2ージ
ヒドロキシー3−メトキシベンゼン、1,2−ジヒドロ
キシ−4−ニトロベンゼン、2,6−ジヒドロキシトル
エン、1,3一、1,4一、1,5−及び1,6ージヒ
ドロキシナフタリン、2,2′−ジヒドロキシビフエニ
ル、4,4′ージヒドロキシービフヱニル、4,4′ー
ジヒド。
キシージフエニリルメタン、2,2′ービスー(4ーヒ
ドロキシフエニル)プロパン(ビスフェニオールA)、
2,2′一及び4,4ージヒドロキシージフエニリルエ
ーナル、3,3一及び4,4′−ジヒドロキシージフエ
ニリルスルホン;2,4ージヒドロキシー5ーメチルー
ピリミジン、2,3一ジヒドロキシピリジン、3,6ー
ジヒドロキシーピリダジン。D ェポキシド基を含む単
量体とカルボキシル基又はジカルボン酸無水物基を含む
単量体との反応によって生じた、平均分子量が少なくと
も1000のポリエステル型の重合体であって、次式;
及び 〔式中MIは式(1)のマレィンィミド基を表わし、Q
.及びQ2はそれぞれ独立に−NR,6−(式中R,6
は水素、炭素原子数1なし、し4のアルキル基又はフェ
ニル基を表わす)又は−○−を表わし、R,2,Y,o
、及びR,.はそれぞれ独立に脂肪族又は脂環式又は炭
素環式−芳香族又はへテロ環式芳香族又はへテロ環式脂
肪族基(それぞれ合計最高18個の炭素原子を有する)
を表わし、R,3とR,2と同一のものを表わすか、又
は基;を表わし、最初に記載した式の場合、分子観基−
Q,一R,2一Q2一は次式;及び をも表わす〕の分子錬成分中に式(1)のマレィンィミ
ド基を含む重合体。
Dはまた、マレィンィミド基を有する分子鎖成分の他に
、マレィンィミド基を含まない共単量体、即ち、例えば
2個のグリシジル基を有する単量体、ジカルボン酸及び
無水物又は二無水物から誘導される分子鎖成分を有する
コポリェステルも包含する。
E 次式; 〔式中MIは式(1)のマレィンィミド基を表わし、Y
,2は脂肪族又は脂環式又は炭素環式芳香族又はへテロ
環式脂肪族又はへテロ環式芳香族基(それぞれ合計最高
1乳固の炭素原子を有する)を表わし、Zは基;−S一
、(式中R,6は水素又は 炭素原子数1ないし4のアルキル基又はフェニル基を表
わす)又は−○−の1つを表わす〕の分子鎖成分中に式
(1)のマレィンィミド基を含む、フェノールーホルム
アルデヒド(ノボラツク)を基質とする平均分子量少な
くとも1000の軍縮合物。
Eはまた、マレィンィミド基を有する分子鎖成分の他に
遊離グリシジル基及び(又は)遊離OH基が存在する、
例えば次式に相応するようなノボラツクも含む:部分的
に遊離のヱポキシド基を有するこの種の縮合物は、露光
を行なった後、場合により熱時作用するェポキシド硬化
剤、特に接触的硬化剤、例えばジシアンジアミド‘こよ
って後硬化することができる。
こうして後硬化された生成物は、単に露光によって網状
化されただけのものより、一層高い耐熱性を示す。F
次式; または 〔式中MIは式(1)のマレィンィミド基を表わし、Y
,3は脂肪族又は脂濠式又は炭素環式芳香族又はへテロ
環式脂肪族又はへテロ環式芳香族基(それぞれ合計最高
18個の炭素原子を有する)を表わす〕の分子鎖成分に
式(1)のマレィンィミド基を含む平均分子量1000
〜loo0000ポリエチレンイミン。
G 次式; 〔式中MIは式(1)のマレィンィミド基を表わし、Y
3は脂肪族又は脂環式又は炭素環式芳香族又は芳香脂肪
族又はへテロ環式脂肪族又はへテロ環式芳香族基(それ
ぞれ合計最高18個の炭素原子を含む)又は基;(式中
R8は一日、一COO日又は−C○・0(C比)zCH
(z=0〜18)を表わす〕の分子鎖成分中に式(1)
のマレインィミド基を有する、平均分子量1000〜1
000000のポリェーテルを基質とする重合物(特に
フェノキシ樹脂)。
本発明による重合体は、光活性側鎖基(ペンダント基或
し、は吊下がり基とも言う)を有する高分子を製造する
自体公知の合成法により製造することができる:基本的
には、下記方法がある;1 存在する重合体鎖に感光性
基を結合させる、2 感光性マレインイミド基を既に含
む単量体から重合体鎖を構成し、その際重合体鎖を2.
1 重合、又は 2.2 重付加、又は 2.3 重縮合 によって構成することができる。
方法1及び2で同一の生成物が得られ、多くの場合選択
的に方法1又は方法2を使用できることが判る。感光性
マレィンィミド基を二次反応によって既に存在する重合
体鎖中に結合させる場合、この結合はH20,日2S、
ハロゲン化水素等の脱離下に縮合反応によるか、又は環
系、例えばジカルボン酸無水物又はェポキシド基の同時
関環下に付加反応によって行なわれる。
縮合の場合、重合体は側鎖に−OH、一SH、一NQ、
アルキル−NH−、アリール−NH一等の型の基を含み
、マレィンィミド基を含む縮合性化合物は−C○・CI
、一C○・OH等の型の基を含むか、又は逆の関係から
出発する、即ち出発重合体は側鎖に−C○・CI、一C
O・OH等の型の基を含み、マレィンィミド基を含む縮
合性化合物は縮合に好適なパートナー基則ち−OH、一
SH等を含む。
縮合は公知方法により、好ましくは溶液中で行なう。付
加反応によりマレィンィミド基を結合させる場合には、
出発重合体は連鎖成分として又は側鎖に付加に好適なジ
カルボン酸無水物基又はェポキシド基を含み、マレイン
イミド基を含む、付加性化合物は各環の関環に好適な基
、例えば一OH、−N比等を含むか、又はこの逆の関係
である。
即ち、マレィンィミド基を含む付加性化合物はジカルボ
ン酸無水物基又はェポキシド基を含み、出発重合体が開
環に好適な基−OH、一N戊等を含む。同様に、この付
加反応は、文献に広範囲に記載されているような、公知
方法により行なう。縮合又は付加によって式(1)の感
光性マレィンィミド基を導入するのに好適な出発重合体
として、下記の生成物が挙げられる;ポリアクリル酸、
ポリメタクリル酸、この酸と他のエチレン性不飽和単量
体との共重合体、マレィン酸無水物とエチレン性不飽和
拳量体、例えばメチルビニルェーテル、エチレン、スチ
レン、ヘキセンー1、デセンー1、テトラセンー1及び
オクタデセンー1とから成る共重合体、ィソシアネート
基及びィソチオシアネート基を有する重合体、遊離水酸
基を有する重合体、例えばアクリル酸−及びメタクリル
酸ヒドロキシアルキルェステルの単一重合体又は共重合
体、ポリビニルアルコール、天然又は再生セルロース、
セルロース誘導体、ヒドロキシアルキルセルロース、フ
ェノキシ樹脂を基質とするポリェーテル、フェノールー
ホルムアルデヒド重縮合物(ノボラツク)、遊離グリシ
ジル基を有する重合体、例えばアクリル−及びメタクリ
ル酸グリシジルェステルを基質とする共重合体、ポリィ
ミン及び遊離アミノ基を有する重合体、例えばポリ−p
ーアミノスチレン。前記縮合及び付加反応に使用しうる
溶剤の例は、Nーメチルピロリドン、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、シクロヘキサノン、エチ
ルメチルケトン、イソピロピルメチルケトン、y−ブチ
ロラクトン、ピリジン、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、テトラメチル尿素、ヘキサメタポール、スルホラン
である。
極性の少ない溶剤を少量添加することによって、変性重
合体を沈殿させることができる。極性の少ない溶剤の例
は、ジヱチルエーテル、イソプロ/ゞノール、ヘキサン
、シクロヘキサン、ベンゼン、トルヱン、クロルベンゼ
ンである。この一般に有利な方法は、一方では易溶性重
合物を生じ、他方では重合体を反応混合物の低分子成分
からされいに分離することを可能にする。反応溶液に所
望の結合を促進する触媒を添加することができる。
例えば、ェステルを生成させるには、第三級アミン、p
−トルェンスルホン酸、硫酸又はルイス酸を添加するの
が有利でである。式(1)で表わされる感光性マレィン
ィミド基を既に含む単量体及び場合により付加的にマレ
インィミド基を含まない共単重体から本発明による重合
体を製造する場合、その都度の重合、重付加又は重縮合
の種類により、全く特殊な反応条件を考慮する。これら
の反応条件、特に量比、温度、触媒、促進剤、溶剤等の
記載は、文献に同様に詳細に記載されている。詳述すれ
ば、下記のように実施する;2.1 重合について 公知系では、1個より多くの反応性C=C一二重結合を
含む単量体をラジカル重合で単一又は共重合させると、
絹状化生成物が生じる。
C=C−二重結合だけが重合体中に組込まれるように、
適当な単量体、例えば桂皮酸のビニルェーテル譲導体を
カチオン重合させることが出来、このことは加藤及び長
谷川によりポリマー・レター(PoIMmer比tte
岱)1970年8号に記載されている。
しかしながら、このような反応の実施は極めて高価であ
り、従って技術的に経済的でない。ところが、式(1)
のマレィンイミド基中に存在する二重結合の他に、式(
1)のマレィンィミド基より容易に重合しうる、別のエ
チレン性不飽和二重結合を含む単量体が、意外にもラジ
カル開始剤、例えば、有機過酸化物、例えば過酸化ジラ
ウロィル、過酸化ジデカノィル、過酸化ジベンゾィル、
過酸化ジクミル:有機パーオキソカーボネート、例えば
ジシクロヘキシルパーオキシジカーボネート、ジーse
c−ブチルパーオキシジカーボネート、ジーt−ブチル
パーベンゾェート、無機過化合物、例えば過酸化水素、
過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、アゾ化合物、例
えばアゾィソブチロニトリル、アゾーピス(2,4ージ
メチルバレロニトリル)によるか、又はレドツクス系、
例えばFeが/日202により重合して、本発明により
その後電磁波で絹状化される光活性イミジル基を側鎖置
換分として有する。未網状化構造を有する重合体が得ら
れることが判った。従って、本発明の別の対象は、式(
1)のマレィンィミド基を有し、更にこのマレィンィミ
ド基中に存在するエチレン性不飽和基とは異なるが、式
(1)のマレィンィミド基より容易に重合しうる、同様
にエチレン性の不飽和基を含む単量体を、場合により他
のエチレン性不飽和結合を有する英重合可能の化合物と
共に、ラジカル開始剤を用いて重合させることを特徴と
する、A)に示したホモ−及び共重合物の製造方法であ
る。
この方法は、“溶液”中で実施するのが有利である。し
かし原則として、重合を塊状で又は不均一相で行なうこ
とができ、例えばェマルジョン重合、懸濁重合又は沈澱
重合を前記開始剤を使用して行なうこともできる。この
重合法の実施は、同様に従来方法で行なう。式(1)の
マレィンイミド基及び更にこのマレィンィミド基中に存
在するエチレン性不飽和基とは異なるが、同様にエチレ
ン性の不飽和基を含む単量体としては、本発明により式
(1)のマレィンィミド基として、式;及び (式中Rは最高4個の炭素原子を有するアルキル基を表
わし、Mは酸素原子又は基一○・C○、一NH・CO−
又は−C○・NH・CO−の1つを表わす)の群から成
る基を含む化合物を使用するのが有利である。
本発明方法により使用するマレィン酸ィミド単量体は、
単一重合及び共重合されうる。
適当な共単量体は、例えば、Qーオレフィン、例えばエ
チレン、プロピレン、イソブチレン、ビニル化合物、例
えば塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、ビニル
ピリジン、ピニルピロリドン、スチレン、メチルスチレ
ン、ビニルケトン、ビニルエーテル、ビニルイミタゾー
ル、ビニルカル/ゞゾール、ビニルスルホン酸、アリル
化合物、アクリル化合物及びメタクリル化合物、例えば
アクリル酸及びそのェステル又はメタクリル酸及びその
ェステル、アクリルアミド、アクリロニトリル、メタク
リアミド、メタクリロニトリル、ジカルボン酸及びその
ェステル、例えばフマル酸又はマレィン酸、マレィン酸
無水物、マレィンイミド、及び場合によりジヱン、例え
ばブタジヱン、クロルブタジェン、イソプレン又はクロ
ロプレンである。溶液重合を行なう場合、使用する単量
体の種類に応じて、溶剤として特に下記のものが挙げら
れる:水、トルェン、ベンゼン、テトラヒドロフラン、
酢酸エチル、エチルグリコール及びその譲導体、ジオキ
サン、アセトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミド、ハロゲン化炭化水素、又はこの種の溶剤の混
合物。
開始剤としては、溶剤及び反応温度の選択に応じて、前
記のラジカル開始剤又はしドックス系を単量体濃度に対
して0.01〜5重量%、特に0.1〜2.5重量%の
濃度で使用する。反応温度は、溶剤及び開始剤の選択に
応じて、0〜15000、特に20〜120ooである
。反応が終了した後、溶剤の溜去又は重合体が溶けない
溶剤中での沈澱によって重合体を単離することができる
。こうして製造された重合体の平均分子量は、開始剤の
濃度及び反応温度に応じて、1000〜2000000
であり、10000〜500000の分子量を選択する
のが有利である。分子量は、場合によりメルカプタン、
例えばドデシルメルカプタン又はアリル誘導体、例えば
アリルアルコールのような調節剤の添加により調節する
ことができる。2.3 車線合について 本発明による生成物を重縮合により製造するには、例え
ば、相応するマレィンィミド基を含まない化合物と共に
重縮合物を形成しうる、式1のマレィンィミド基を含む
化合物を使用することができる。
少なくとも2個のカルボン酸基を含む化合物又はこのよ
うなジー及びポリカルボン酸の反応性議導体を、場合に
より官能基で置換されたカルボン酸基と反応性の基を少
なくとも2個有する化合物、特にジヒドロキシ−(ジェ
ポキシ−を含めて)化合物及びジアミノ化合物、ヒドロ
キシアミノ化合物、更にモノェポキシド及びカルボン酸
無水物と重縮合させるのが有利である。縮合成分の少な
くとも一方は、式(1)のマレィンィミド基を含む。一
般に、マレインィミド基を有しない成分の他に、この基
を有しない相応する成分を縮合するのが、有利である。
カルボン醸成分中にマレィン酸ィミド基が存在するのが
特に有利である。この種の重縮合され、式(1)の基を
含む化合物の例として、下記のものが挙げられる;5−
ジメチルマレインイミジルベンゼン−1,2,4ートリ
カルボン酸(アミノトリメリツト酸及びジメチルマレィ
ン酸無水物かち得られる)、5ージメチルマレインイミ
ジルベンゼンー1,2−ジカルボン酸無水物−4−カル
ボン酸クロリド(トリカルボン酸を1,2−ジカルボン
酸無氷物に変え、後者を塩化チオニルと反応させる)、
5ージメチルマレインイミジルベンゼンー1,2−カル
ボン酸無水物−4−カルボン酸エチルェステル(酸クロ
リドから)、5ージメチルマレインイミジルベンゼン−
1,3−ジカルボン酸ジクロリド、N−グリシジルージ
メチルマレインイミド。
重縮合には、酸クロリド、ェステル、祭りK物−塩化物
又は二無水物を使用するのが有利であり、ジェポキシ化
合物の場合ジカルボン酸、モノェポキシドの場合にはカ
ルボン酸無水物も有利である。更に、重縮合は、公知方
法で、例えば溶剤中−20〜十30qCの温度で実施す
ることができる。
溶剤としては、例えば下記のものを利用することができ
る:−芳香族炭化水素、例えばベンゼン、トルェン及び
キシレン;−場合によりハロゲン化された脂肪族炭化水
素、例えばペンタン、n−へキサン、塩化メチレン、ク
ロロホルム及びジクロロメタン;−脂肪族及び脂環式ケ
トン、例えばアセトン、メチルエチルケトン、シクoベ
ンタノン及びシクロヘキサノン;−還状エーテル、例え
ばテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン及びジオキ
サン;一環状アミド、例えばN−メチル−2−ピロリド
ン、Nーアセチルー2ーピロリドン、Nーメチルーごー
カプロラクタム;−酸部分に1ないし3個の炭素原子を
有する脂肪族モノカルボン酸のN,N−ジアルキルアミ
ド、例えばN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジ
メチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、
N,Nージメチルーメトキシアセトアミド;一合計2な
いし6個の炭素原子を有する脂肪族モノカルボン酸のア
ルキルェステル、例えばギ酸又は酢酸のメチル−、エチ
ル−及びnーブチルエステル;−へキサメチル燐酸トリ
アミド(ヘキサメタポール);−N,N,N′,N′−
テトラメチル尿素、−テトラヒドロチオフエンジオキシ
ド(スルホラン)、ージアルキルスルホキシド、例えば
ジメチルー及びジエチルスルホキシド。
軍縮合は、藤液中で常用の重縮合触媒の存在で約150
〜280qCの温度で実施することもできる。
触媒としては、例えばアンチモン化合物、例えば三酢酸
アンチモン、三酸化アンチモン、酢酸亜鉛、酢酸カルシ
ウム、ゲルマニウム化合物又は有機カルボン酸のアルカ
リ塩が挙げられる。本発明による重合体は、種々の用途
に、特に電磁波の作用下で網状化するのに適当である。
網状化すると、不溶性生成物が生じ、画像に応じて露光
し、その後現像する、即ち未露光の、従って網状化され
てない重合体部分を溶解除去することによって、レリー
フ像を作ることができる。この用途では、増感によって
重合体の露光性を極めて著しく増強できることは重要で
ある。このことは現在の技術水準の重合体に比べて特に
重大な進歩である。増感剤としては、特に三重項増感剤
が適当であり、これを使用すると、励起された糟感剤の
三重項エネルギーが式(1)の未励起マレィンィミド基
に移動することによって網状化が行なわれる:これにつ
いては、ヱヌ・ジェイ・チユロ−(NJ.Tumo)著
、“Mol.Photochemistか”、W.A茂
njamjnlm.1963王107頁参照。有効な増
感のための条件、下記の2事項である:1 三重項増感
剤は30仇m以上の範囲で実際に充分な光吸収を可能に
する吸収最大を有しなければならない。
2 三重項エネルギーの移動は発熱性でなければならな
い。式(1)のマレィンィミド基を含む重合体が、1モ
ル当り50〜53キログラムカロリーのT,一状態を有
し、従って前記範囲内で発熱的エネルギー移動を可能に
する、すべての三重項増感剤は初めから増感に適当であ
る、即ちそのT,一状態は少なくとも5眺cal/Mo
lであることが判った。
例えば、下記の増感剤が該当する。(数字は当該三重項
エネルギーをKcal/Molで示す)。ベンゼン
85フヱノール
82安息香酸
78ペンゾニトリル
77アニリン
77キサントン
74アセトフエノン
74ジイソプロピルケトン
74ジフエニルスルフイド74ジフエニルア
ミン 72ペンズアルデヒド
72ジフエニルセレン
72力ルバゾール
70トリフヱニルアミン 70
へキサクロルベンゼン 704,
4−ジフエニルシクロヘキサジエノン 691,2一ジ
ベンゾイルベンゼン 69チオフエン
694一シアノベン
ゾフエノン 66ジフエニル
65チオキサントン(ハ
ロゲン置換物も) 65フヱニルグリオキザール
63アントラキノン
62キノリン
62フエナントレン
62フラボン
62ミヒラース・ケトン
61ナフタリン
614ーアセチルジフエニル
61ニトロベンゼン
602ーアセトナフテン 5
9アクリルジンイエロ− 58
1ーナフチルフエニルケトン 57クリ
セン 571ー
アセトナフトール 561ーナフ
トアルデヒド 56ペソゾフエノ
ン 691,4−ジアセチ
ルベンゼン 68フルオレン
68トリフエニレン
67ジアセチル
55コロネン
55ペンジ/し
54フルオレノン
球フルオレッセィン(酸)
51p−ニトロスチルベン
50更に下記のものが挙げられる:アントロン
72ペンズアントロン
722−ニトロフルオレン
595ーニトロアセナフテ
ン 5664ーニトロアニリン
55ナフトチアゾリン
55ヒイオノオキサリン(Chio
no滋lin)及びその置換生成物
55〜591ーアセチルアミノー4−ニトロナフ
タリン52.54−ニトロジフエニル
58原子量の高い元素、例えば沃素又は臭素を
導入することによって、三重項収量及び従って感度を高
めることができる。
本発明による重合体の用途は、例えば写真工業、印刷板
製造及び非銀系写真の分野にある。
非銀系写真の場合、露光し、現像した後、ほとんど見え
ない乃至良く見えない重合体画を油港性染料で着色する
か、又は重合体がカルボン酸基又はスルホン酸基のよう
な酸性基を含む場合には、カチオン性染料で着色するこ
とによって、良好に可視化することができる。本発明の
場合にも、光活性層を、通常の技術、例えばスプレー被
覆、遠心被覆、カスケード式及びカーテン式流込み被覆
によって、適当な支持体材料上に施すことができる。例
、以下に、実施例により使用する、式(1)のマレィン
ィミド基を含む化合物(重合体に加工すべき単量体並び
に既に存在する重合体の変性用の置換分)の製造法を若
干記載する。
a N一(4ーヒドロキシシクロヘキシル)−ジメチル
マレインイミドジメチルマレィン酸無水物126夕(1
モル)を油裕中で4−アミノシクロヘキサノール115
夕(1モル)と燈拝しながら30分間120〜1290
(内溢)に加熱する。
2000に冷却した後、反応生成物を塩化メチレン50
0の【に溶かし、氷冷下にIN−NaOHIOOの【で
1回抽出する。
引続き、反応生成物を水で2回洗浄し、硫酸ナトリウム
上で乾燥する。溶剤を蒸発させ、残澄を酢酸エチルェス
テル及び石油エーテルの1:1(容量)混合物から再結
させる。融点109〜111℃のN一(4ーヒドロキシ
シクロヘキシル)ージメチルマレィンイミド155夕(
理論量の70%)が得られる。b 4ージメチルマレイ
ンイミジルベンゼン−1ーカルポン酸アミノシクロヘキ
サノールの代りにpーアミ/安息香酸を用いて、a)に
よる。
c 4ージメチルマレインイミジルベンゼンー1−カル
ボン酸クロリドbより得られるカルボン酸から常法で塩
化チオニルを用いて製造される。
d Q−ジメチルマレインイミジルーヒドロキシアルカ
ンこれらは、一部分公知であり(ヒドロキシェチルー、
3ーヒドロキシブロピル−化合物)、その他は公知のも
のと同様に製造できる:例えば 及び のような縮合環を有する6−ヒドロキシヘキシルー、2
ーメチルー2ーヒドロキシェチル化合物及びマレィンィ
ミジルアルカノール。
e 6−ジメチルマレィンイミジルーカブロン酸ジメチ
ルマレィン酸無水物145夕(1.15モル)及びごー
アミンーカプロン酸150夕(1.15モル)を無水酢
酸700の‘中に溶かし、還流器を付けて8時間煮沸す
る。
次に、酢酸を回転蒸発器で溜去する。残分をジェチルェ
ーテル500の上中に溶かし、氷冷下にIN−NaOH
IOO地で、次に水で2回洗浄する。硫酸ナトリウム上
で乾燥し、ジェチルェーテルを蒸発した後、残分をィソ
プロピルェーテル150の上から晶出する。融点43〜
4500の6ージメチルマレインイミジルーカプロン酸
209夕(理論量の76%)が得られる。f 6ージメ
チルマレィンィミジルーカプロン酸クロリドeにより得
られるカルボン酸から塩化チオニルを用いて製造。
g ジメチルマレィンィミジル−酢酸 アミカプロン酸の代りにグリココールを用いてaにより
製造。
h 5ージメチルマレインイミジルベンゼン−1,3ー
ジカルボン酸還流冷却器及び頚伴機を付けた1その三類
フラスコ中で、5ーアミノーイソフタル酸一二ナトリウ
ム塩76.5夕(0.34モル)を水200私中に40
〜50ooで溶かす。
この溶液にジメチルアセトアミド300の‘に溶かした
ジメチルマレイン酸無水物44.2夕(0.35モル)
を縄梓下に添加する。引続き、僅かに黄色の溶液を常に
蝿拝しながら10000で3雌ご間煮沸する。次に、こ
の溶液を95〜100qoの温度で10%塩酸で酸性に
する(コンゴープルーに対し)。生じた沈澱を、室温に
冷却した後、炉取する。粗生成物を真空で90℃で乾燥
する。融点250qo以上の5−ジメチルマレィンィミ
ジルーイソフタル酸685夕(理論量の70%)が得ら
れる。i 5−ジメチルマレインイミジルベンゼン−1
,3−ジカルボン酸ジクロリド還流冷却器を付けた1そ
の一類フラスコ中に、N−(ジメチルマレインイミジル
)−イソフタル酸(h参照)50.9夕(0.176モ
ル)を塩化チオニル500の‘と共に還流器を付けて、
澄明な溶器が生じるまで、煮沸する。
反応を接触するため、5滴のピリジンを添加する。引続
き、回転蒸発器で蒸発乾溜して、燈赤色沈澱が得られる
。燈赤色残澄を加熱抽出器中で無水シクロヘキサンで抽
出すると、酸クロリドが生じる。20ooに冷却した後
、沈澱した酸クロリドを炉過により分離し、シクロヘキ
サン(酸ク。
リド20夕/シクロヘキサン500の‘)から再結晶す
る。収量:39.3夕(理論量の80.2%)、融点1
15.5〜116.500。j 5ージメチルマレイン
イミジルベンゼン−1,2,4ートリカルポン酸5−ニ
トロトリメリット酸102.05夕(0.4モル)を水
260必中に懸濁し、水240の‘に溶かした水酸化ナ
トリウム48夕(1.2モル)を加える。
生じる溶液を、Pd5重量%を含むパラジウム黒触媒1
0夕の存在で4〆0で水素添加する。反応溶液を炉過し
、150地の容量に濃縮し、まずトルェン75舷を、次
にジメチルマレィン酸無水物50.44夕(0.4モル
)を加え、還流下に10分間煮沸する。反応混合物を蒸
発乾溜し、水500の‘に加熱溶解し、10%塩酸43
8叫で酸性にし、0〜5℃に冷却し、32%塩酸14の
‘を加える。析出した沈澱を炉過し、氷水50泌で洗浄
し、乾燥器中80℃で乾燥する。5−ジメチルマレィン
ィミジルトリメリツト酸の収量は111.1夕(理論量
の83%)である。
k 5ージメチルマレインイミジルベンゼーン−1,
4ージカルポン酸無水物−4−カルボン酸前記のjによ
り製造したジメチルマレィンィミジルトリメリット酸7
6.642(0.23モル)を酢酸無水物140夕と混
合し、加熱沸騰させる。
酸は、短時間に完全に溶解する。溶液を蒸発乾溜し、ベ
ンゼン180肌と共に煮沸し、吸引炉過し、乾燥器中8
0℃で乾燥する。融点181〜18母Cの5ージメチル
マレインイミジルートリメリツト酸無水物51.8夕(
71%)が得られる。1 5−ジメチルマレインイミジ
ルベンゼンー1,4−ジカルボン酸無水物−4−カルボ
ン酸クロリドklこより製造した5ージメチルマレィン
ィミジル−トリメリット酸無水物50.43夕(0.1
6モル)をベンゼン320の‘中に懸濁し、塩化チオニ
ル17.5地(0.24モル)及びN,N一ジメチルホ
ルムアミド0.5瓜【を加え、縄梓下に90℃に加熱す
る。
15分煮沸した後生じた混濁した溶液を炉過し、冷却す
る。
酢酸ナトリウム上で晶出した5−ジメチルマレィンィミ
ジルトリメリット酸無水物クロリドを80qo/0.5
腿日夕で乾燥する。収量;29.6夕(55%)。一融
点184〜i85℃。m 5ージメチルマレインイミジ
ルベンゼン−1,4ージカルボン酸無水物−4ーカルボ
ン酸−n−ドデ・シルエステルーにより製造した5−ジ
メチルマレィンィミジルートリメリット酸無水物−クロ
リド23.35夕(0.07モル)をジオキサン70の
‘に溶かし、縄梓下に、ジオキサン2跡【中に溶かした
ラウリルアルコール13.04夕(0.07モル)を加
え、一夜放置する。
引続き、溶液を蒸発する。残澄にジェチルェーテル35
の‘を加える。
生じた微細な結晶懸濁液を3時間櫨拝した後シクロへキ
サン35泌と混合し、吸収炉遇し、乾燥器中50coで
乾燥する。融点93o0の5ージメチルマレィンィミジ
ルートリメリット酸無水物ラワリルヱステル24夕(理
論量の71%)が得られる。n 3ージメチルマレイン
イミジルベンゼン−1,2−ジカルボン酸無水物3−ァ
ミノフタル酸一二ナトリウム塩100夕(0.44モル
)を、僅かに加熱しながら、水90の‘及びトルェン4
5の‘の混合物中に溶かす。
次に、この溶液にジメチルマレィン酸無水物55.9夕
(0.44モル)を添加する。引続き、混合物を還流温
度に加熱し、礎梓下に1び分間還流器を付けて煮沸する
。冷却後、10%塩酸を用いてコンゴーフルーに対して
酸性にする。その際生じる黄色沈澱を炉過により分離し
、真空中100qCで乾燥する。収量(粗生成物);1
02.4夕(理論量の80%)。融点20300(水か
ら再結晶)。3一(Nージメチルマレインイミジル)ー
フタル酸102.4夕(0.35モル)を無水酢酸30
0泌と混合し、この混合物を還流器を付けて130oC
に加熱する。
引続き、凝梓下に10分間還流器を付けて煮沸する。冷
却した後、蒸発乾適し、残澄にベンゼン100の上を添
加し、再び蒸発乾溜する。引続き、磯澄をトルェン20
0叫から再結晶する。o N−〔6ーメチルー4ーオキ
サー5ーオキソーヘフ。
テン■−イル〕−ジメチルマレインイミド3ーヒドロキ
シプロピルージメチルマレインィミド183.0夕(1
.0モル)及びトリェチルアミン(N30日上で乾燥)
111.3夕(1.1モル)をジェチルェーテル(Na
上で乾燥)400の【中に溶かし、0℃に冷却する。
この溶液にメタクリル酸104.5夕(1.0モル)を
、温度が1000を越えないように、滴加する。反応終
了後、反応混合物が室温に暖かくなるまで、網拝する。
反応の際に沈澱したトリヱチルァミン塩酸塩を炉過によ
り、残りの反応溶液から分離する。エーテル柚出液を僅
かに酸性にした水で中性になるまで洗浄し、硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、引続き真空下に加熱せずに濃縮する。約
灘4夕(理論量の89.3%)が得られる。同様の製造
方法は、下記の式の化合物にも該当する;アクリルアミ
ド誘導体 アクリルアミド1.0夕(1.0モル)及びトリェチル
アミン101.25夕を無水アセトン200奴中に溶か
して入れる。
氷水で冷却下に、これに6ージメチルマレインイミジル
−カプロン酸クロリド(f参照)を無水アセトン400
の【1こ溶かして、温度が4000を越えないように滴
加する。反応を行なった後、更に1時間鷹拝する。引続
き、生じたトリェチルアミン塩酸塩を炉過により残りの
反応溶液から分離する。
アセトン抽出液を真空下に加熱することなく濃縮する。
更に後処理するため、残分をジェチルェーテル1000
の‘に取り、水l000の上で4回洗浄する。硫酸ナト
リウムで乾燥した後、エーテル相を真空下に加熱するこ
となく濃縮する。208.0夕(理論量の71.2%)
を得る。
q N−〔1ーアザ−3ーメチル−2−オキソーブテン
(3’一イル〕ージメチルマレインイミドNーアミノー
ジメチルマレインイミド140.0夕(1.0モル)及
びトリェチルアミン(NaOH上で乾燥)111.3夕
(1.1モル)をジクロルメタン2500の‘中に溶か
し、0℃に冷却する。
この溶液にメタクリル酸クロリド104.5夕(1.0
モル)を、温度が10qoを越えないように、滴加する
。反応を行なった後、40℃に加熱しく刺続きこの温度
で1時間鷹拝する。反応溶液を、室温に冷却した後、水
で中性になるまで洗浄する。ジクロルメタン抽出液を硫
酸マグネシウム上で乾燥し、引続き真空下で加熱するこ
となく蒸発乾溜する。約187夕(理論量の90%)を
得る。r フタル酸誘導体3−ジメチルマレィンィミジ
ルーフタル酸無水物27.1夕(0.1モル)及び新し
く蒸溜した2ーヒドロキシエチルメタクリレート13夕
(0.1モル)をテトラヒドロフラン500泌に溶かす
この溶液にトリェチルアミン0.物上及びヒドロキノン
0.05夕を加える。混合物を5ぴ0で、乾燥窒素下に
2鮒寺間蝿拝する。反応が終った後、溶剤を回転蒸発器
を用いて蒸発する。残留する油をエーテル500叫に取
り、エーテル溶液をまず0.印苛性ソーダ100の‘で
、次に毎回水200のZで2回洗浄する。引続き、エー
テル溶液を蒸発すると、僅かに黄色の高粘性油約39夕
(理論量の98%)が得られる。同様の製造方法は、下
記の式の化合物にも該当する;s Nーグリシジルージ
メチルマレインイミドジメチルマレインイミド28夕(
0.224モル)をトルェン600の‘中に懸濁し、沸
騰温度に加熱し、若干存在する水を共沸蒸溜で溜去する
水酸化カリウム粉末12.5夕(0.224モル)を徐
々に添加し、2時間沸騰温度に保持し、ほぼ理論量の水
(4.5の上)を橘集する。冷却後に炉過し、カリウム
ジメチルマレインイミドをアセトソで洗浄し、乾燥する
。カリウムジメチルマレインイミド30夕 (0.184モル)をエピクロルヒドリン175夕(1
.89モル)に懸濁する。
テトラメチルアンモニウムクロリド0.05夕を添加し
た後、混合物を櫨梓下に加熱し、還流下に1斑時間煮沸
し、次に炉適する。未反応クロルヒドリンを水流ポンプ
の真空下で蒸溜することによって除去した後、ェポキシ
ド含量4.9当量/k9(計算量5.5当量/k9)の
粘性淡褐色液体約30夕が残留する。生成物のNMR−
スペクトルは、次式のN−グリシジルージメチルマレイ
ンイミドに相当する:A 反応性C=C−二重結合を含
む単量体のホモ重合又は共重合により生じるか、又はこ
の種のホモ重合体又は共重合体から出発して製造した本
発明による重合体の例。例1 メチルピニルェーテル及びマレィン酸無水物から成る共
重合物(CANTREZII9:無水物含有量0.64
モル、り=5.7&P)100夕及びN−(3−ヒドロ
キシプロピル)−ジメチルマレインイミド121夕(0
.66モル)を乾燥テトラヒドロフラン400泌中に溶
かす。
引続き、濃硫酸1の‘を添加する。反応混合物を蝿群下
に80℃で7幼時間保持する。引続き、均一な、無色の
溶液をエーテル又はへキサン1そ上で注ぐ。ゴム状沈澱
を分離し、エーテルで数回洗浄し、引続き40℃で真空
下に乾燥する。次に、残分を摩擦し、白色粉末にする。
収量;重合体185夕(72%)試料を採取し、そのI
R−スペクトルで試験して、ェステル化の容易に追跡す
ることができる(1780及び185比ス‐1の波数に
無水物バンドが消失し、1710仇‐1にェステル−カ
ルボン酸バンドが現われる)。
第1表には、例1の他、例2〜27として変性重合体の
特性を示す。
これらは、例1に記載したように、2欄の重合体を3欄
のマレィンィミド化合物との反応によって得られる。4
欄にはオストヮルド−粘度計で20℃で測定した、シク
へキサノン中の2%溶液の粘度りをセンチポィズで示す
。第1表*)例2、3、4、6及び8〜28の反応生成
物では、半ェステル結合が無水物基に対して60〜80
%あり、例1、5及び7の生成物では、約20〜30%
ある。
例11および例12の生成物は、下記の方法により製造
された。例11 ガントレツ(GANTREZ)119の7.8夕及びN
−3ーヒドロキシプロピル一3ーメチルーシクロヘキセ
ー1−ェン−1,2−ジカルボン酸ィミド11.5夕を
乾燥テトラヒドロフラン50羽に溶かす。
反応混合物を粥梓下に8000で7時間保持する。冷却
後、澄明な溶液を激しく燭拝しながらへキサン50の【
上に注ぐ。炉渦により得られる生成物を乾燥し、引続き
粉砕する。収量;13夕(67%)例12例11と同じ
条件。
量;ガントレツ11914夕、N−3ーヒドロキシプロ
ピルーシクロヘキセー1ーエン−1,2ージカルボン酸
ィミドi9.5夕、テトラヒドロフラン100似に溶解
へキサン200肌‘で沈澱。収量;21.4夕(64%
)。例 29 ポリビニルアルコール(MOVIOL4一98)1夕を
140〜150ooで乾燥ジメチルホルムアミド10奴
に溶かす(HO−基0.0227モル)。
ジメチルホルムアミド5の‘及び乾燥ピリジン0.1の
‘に溶かした式:o−ジメチルマレィンィミジルーフタ
ル酸無水物6.15夕を添加する。140〜150o○
で24時間処理した後、冷却し、エーテル50机上を添
加し、生じた白色のガス状沈澱を分離し、エーテルで洗
浄し、乾燥する。
反応生成物7夕(100%)が得られる。乾燥Nーメチ
ルピロリドソは、この反応に対して同様に極めて好適な
溶剤である。添加する無水物の量によって、例えば10
0%又は20%だけのェステル化が行なわれるように、
ェステル化度を容易に調節することができる。例 34 ポリビニルアルコール0.6夕を14000で乾燥ジメ
チルホルムアミド20の‘に溶かす。
引続き、1,4ージアザビシクロー(2,2,2)ーオ
クタン20のと及び乾燥トリェチルアミン1夕を添加す
る。この均一溶液に乾燥ジメチルホルムァミド5叫中の
6ージメチルマレインィミジルーカプロソ酸クロリド1
.5夕を徐々に添加し、反応混合物を6時間8000に
保持する。冷却後、生じたトリェチルアンモニウムクロ
リドを炉列し、重合体をエーテルで沈澱させる。乾燥後
、白色物質19が残留する。反応媒体として、乾燥した
N−メチルピロリドンも使用することができる。第D表 例20及び31〜36の反応生成物の場合、半ェステル
形成は水酸基に対して100%であるが、例30の場合
約20%である。
例 37 ジメチルマレィンイミジル譲導体Z1(製造法o)40
夕(0.16モル)をQ,8ーアゾビスーイソブチロニ
トリル(アゾイソブチロニトリル)0.1夕と共にテト
ラヒドロフラン260のとに溶かす。
この混合物を常に窒素雰囲気下に蝿拝しながら常に僅か
に還流(約80qo)して6時間重合させる。反応終了
後、室温に冷却し、反応溶液をへキサン5〆中に滴下さ
せて重合体を沈澱させる。白色粉末の重合体32夕(理
論量の80%)を得る。HI−NM旧〔クロルベンゼン
、内部標準としてTMS=○〕1.96ppm(aH)
、ジメチルマレインイミド基のメチルプロトン、対数粘
度り;0.18(0.5%、溶液中20qoでジメチル
ホルムアミド中で測定)例 38 ジメチルマレィンィミジル誘導体Z130夕(0.12
モル)を酢酸ビニルェステル20夕(0.23モル)及
びアゾィソブチロニトリル0.4夕と共に酢酸エチル5
00の【中に溶かす。
この混合物を常に窒素雰囲気下に燈拝しながら70q○
で4時間重合させる。反応終了後、室温に冷却し、反応
溶液をへキサン6そ中に滴下することにより重合体を沈
澱させる。重合体42夕(理論量の84%)得る。NM
R;1.98 り:0.08例 39 ジメチルマレィンィミジル誘導体Z130夕(0.12
モル)をメタクリル酸メチルェステル55夕(0.55
モル)、アクリル酸エチルェステル15夕(0.15モ
ル)及びアゾイソプチロニトリル0.4夕と共にトルェ
ン500の‘に溶かす。
この混合物を常に窒素雰囲気下に鷹拝しながら70oo
で8時間重合させる。反応終了後、室温に冷却し、ヘキ
サン6そ中に反応溶液を滴下することにより重合体を沈
澱させる。重合物85夕(理論量85%)を得る。NM
R;1.90り;0.1公例 40 ジメチルマレィンィミジル誘導体Z0(製造法o)40
夕(0.15モル)をアゾイソブチロニトリル0.39
と共にテトラヒドロフラン260地に溶かす。
この混合物を常に窒素雰囲気下で健梓しながら常に僅か
に還流(約80℃)して5時間重合させる。反応終了後
、室温に冷却し、ヘキサン5〆中に反応溶液を滴加させ
て重合体を沈澱させる。重合物29夕(理論量の72%
)を得る。NMR;1.96、り:0.18例 41 ジメチルマレィンィミジル議導体ZOI02.75夕(
0.40モル)をメタクリル酸メチルェステル75夕(
0.75モル)及びアゾイソブチロニトリル0.85夕
と共にテトラヒドロフラン800必中に溶かす。
この混合物を常に窒素雰囲気下で、常に僅かに還流(約
80℃)して6時間重合させる。反応終了後、室温に冷
却し、ヘキサン8ク中に反応溶液を滴下させて重合体を
沈澱させる。重合物124夕(理論量の70%)を得る
。NMR;1.90り:0.05例 42ジメチルマレ
ィンイミジル誘導体ZOIOO夕(0.39モル)をメ
タクリル酸グリシジルェステル30夕(0.21モル)
、メタクリル酸−2−ヒドロキシェチルェステル10夕
(0.07モル)、アクリル酸一2−エチルヘキシルエ
ステル10夕(0.05モル)及び過酸化ペンゾィル1
.5夕をテトラヒドロフラン850の‘に溶かす。
この混合物を常に僅かに還流して3時間重合させる。反
応終了後、室温に冷却し、ヘキサン6〆中に滴下して重
合体を沈澱させる。重合物113夕(理論量の75%)
を得る。NMR;1.9&り:0.17例 43 ジメチルマレィンイミジル誘導体Z020夕(0.07
モル)を4−ビニルピリジン10好く0.09モル)及
びアゾイソブチロニトリル0.3夕と共にテトラヒドロ
フラン250の【に溶かす。
この混合物を常に窒素雰囲気下に燈拝しながら、常に僅
かに還流(約80つ○)して3時間重合させる。反応終
了後、室温に冷却し、反応溶液をへキサン2ク中に滴下
して重合体を沈澱させる。重合物24.9夕(理論量の
83%)を得る。NMR;1.94り:0.14例 4
4ジメチルマレィンィミジル誘導体Z070夕(0.2
7モル)をメタクリル酸メチルェステル119(0.1
1モル)、アクリル酸エチルェステル14夕(0.16
モル)、メタクリル酸一2ーヒドロキシェチルェステル
5夕(0.03モル)及びアゾイソブチロニトリル0.
4夕と共にジメチルホルムアミド500の上に溶かす。
この混合物を常に窒素雰囲気下に燭拝しながら75℃で
1磯時間重合させる。反応終了後、室温に冷却し、水5
そ中に反応溶液を滴下して重合体を沈澱させる。重合物
78夕(理論量の78%)。NMR;1.96り:0.
15例 45 一 ジメチルマレィンイミジル誘導体Z070夕(0.27
モル)をアクリル酸エチルェステル25夕(0.29モ
ル)、メタクリル酸−2ーヒドロキシェチルェステル5
夕(0.03モル)及び過酸化ペンゾイル1夕と共にテ
トラヒドロフラン500の‘に溶かす。
この混合物を常に窒素雰囲気下に燈拝しながら、僅かに
還流(約80)0)して5時間重合させる反応終了後、
室温に冷却し、ヘキサン4〆中に反応溶液を滴下して重
合体を沈澱させる。重合物67夕(理論量の67%)を
得る。NMR;1.96、り:0.20
−例 46ジメチルマレィン
ィミジル誘導体Zm(製造法o)25夕(0.1モル)
をアゾイソプチロニトリル0.2夕と共にテトラヒドロ
フラン250叫に溶かす。
この混合物を常に窒素雰囲気下に額拝しながら、僅かに
還流(約80oo・)して5時間重合させる。反応終了
後、室温に冷却し、ヘキサン2そ中に反応溶液を滴下し
て重合体を沈澱させる。重合物18夕(理論量の72%
)を得る。NMR:1.擬ppm、り:0.08L例
47 ジメチルマレィンイミジル誘導体ZN(製造法o)71
.5夕(0.24モル)をアゾイソブチロニトリル0.
6夕と共にテトラヒドロフラン460叫に溶かす。
この混合物を常に窒素雰囲気下に礎拝しながら、僅かに
還流(約80℃)して5時間重合させる。反応終了後室
温に冷却し、ヘキサン5そ中に反応溶液を滴下して重合
体を沈澱させる。重合物61夕(理論量の85%)を得
る。NMR;1.92、り:0.21例 48 ジメチルマレィンィミジル誘導体ZV(製造法o)20
夕(0.07モル)をメタクリル酸メチルェステル27
.5夕(0.27モル)、メタクリル酸−2ーヒドロキ
シェチル2.5夕(0.01モル)及びアゾイソブチロ
ニトリル0.8夕と共にトルェン400の‘に溶かす。
この混合物を常に窒素雰囲気下に損梓しながら75qC
で5時間重合させる。反応終了後、室温に冷却し、ヘキ
サン4そ中に反応溶液を滴下して重合体を沈澱させる。
(重合物36夕(理論量の72%)を得る。NMR;1
.9ふり:0.11。例 49ジメチルマレィンィミジ
ル誘導体ZW(製造法r)137.4夕(0.34モル
)をアゾイソブチロニトリル0.8夕と共にテトラヒド
ロフラン625の【中に溶かす。
この混合物を常に窒素雰囲気下に縄拝しながら僅かに還
流(約80qo)して5時間重合させる。反応終了後、
室温に冷却し、ヘキサン5ク中に反応溶液を滴下して重
合体を沈澱させる。重合物120.7夕(理論量の滋%
)。化学的物理的データについては表を参照。NMR;
1.90刀:0.12。例 50ジメチルマレィンィミ
ジル誘導体Zの40.1夕(0.1モル)をメタクリル
酸メチルェステル30夕(o.3モル)、メタクリル酸
−2ーヒド。
キシェチルェステル5.0夕(0.03モル)及びアゾ
ィソブチロニトリル0.6夕と共にテトラヒドロフラン
私0必中に溶かす。この混合物を常に窒素雰囲気下に濃
伴しながら、僅かに還流(約80qo)して重合させる
。反応終了後、室温に冷却する。重合物1.99(理論
量の95%)を得る。NMR;1.郷、り:0.1も例
51 ジメチルマレィンィミジル謙導体Z肌(製造法r)14
.4夕(0.02モル)をメタクリル酸メチルェステル
20夕(0.2モル)、メタクリル酸−2−ヒドロキシ
ェチルェステル10夕(0.07モル)及びアゾイソブ
チロニトリル0.4夕と共にテトラヒドロフラン270
の‘中に溶かす。
この混合物を常に窒素雰囲気下に縄拝しながら僅かに還
流(約80℃)して、重合させる。反応終了後(約7時
間かかる)、室温に冷却し、ヘキサン2そ中に反応溶液
を滴下して重合体を沈澱させる。重合物27夕(理論量
の60%)が得られる。NMR;1.94り:0.19
例 52次式; のN一(N−マレインイミジル)−ジメチルマレインイ
ミド40夕(0.18モル)をスチレン18.1夕(0
.18モル)及びアゾイソプチロニトリル0.23夕と
共にベンゼン374のと中に溶かす。
この混合物を常に窒素雰囲気下に燭拝しながら僅かに還
流(約80こ0)して4時間重合させる。反応終了後、
室温に冷却し、ヘキサン3〆中に反応溶液を滴下して重
合体を沈澱させる。重合物37.2夕(理論量の77%
)を得る。NMR;1.蝋ppm.り:0.72.例
53ジメチルマレィンィミジル譲導体ZK(製造法q)
16.2夕(0.07モル)をメタクリル酸メチルェス
テル30夕(0.3モル)及びアゾイソブチロニトリル
0.4夕と共にテトラヒドロフラン270の‘に溶かす
この混合物を常に窒素雰囲気下に燈拝しながら、僅かに
還流(約80つ○)して、約6時間重合させる。反応終
了後、室温に冷却し、ヘキサン2そ中に反応溶液を滴下
することによって重合体を沈澱させる。重合物32夕(
理論量の69%)を得る。NMR;1.97・り:0.
05例 54 次式: のジメチルマレインイミジル誘導体13夕(0.1モル
)をメタクリル酸メチル26夕(0.26モル)及びア
ゾイソブチロニトリル0.2夕と共にテトラヒドロフラ
ン390の【中に溶かす。
この混合物を常に窒素雰囲気下に凝拝しながら僅かに還
流(約80℃)して6時間重合させる。反応終了後、室
温に冷却し、ヘキサン4そ中に反応溶液を滴下して重合
体を沈澱させる。重合物30夕(理論量の76%)を得
る。NMR;1.94り:0.31例 55 マレインィミジル誘導体Z幻(製造法o)6.0夕(1
9ミリモル)をアゾイソブチロニトリル0.06夕と共
にテトラヒドロフラン40の‘中に溶かす。
この混合物を常に窒素雰囲気下に燈拝しながら僅かに還
流して4時間重合させる。反応終了後、室温に冷却し、
ヘキサン500の【中に反応溶液を滴加させて、重合体
を沈澱させる。重合物5.8夕(理論量の96%)を得
る。NMR; り:0.18例 56ジメチルマレィ
ンィミジル譲導体Zの(製造法r)100夕(0.24
モル)をドデシルメルカプタン2.2夕及びアゾイソブ
チロニトリル1.8夕と共にメタクリル酸メチルェステ
ル200夕(2モル)に溶かす。
この溶液を水600泌とモヴィオール(MOVIOL)
N−磯(ポリビニルアルコール1.8夕との混合物中に
懸濁する。この懸濁液を常に窒素雰囲気下に縄拝しなが
ら70o○で6時間重合させる。反応終了後、室温に冷
却し、生じる重合体(微細なビーズ状)を炉過により分
離する。重合体を水で数回洗浄し、引続き真空中40℃
で乾燥する。重合物2紙夕(理論量の77%)を得る。
例 57陣温に議節しうる反応容器中に、N−〔5ーメ
チル−3ーオキサ−4ーオキソーヘキセンー(51ーイ
ル〕ージメチルマレインイミド(ZI)142.2夕(
0.6モル)、アクリル酸−2ーェチルーヘキシルェス
テル36.82(0.2モル)、アクリル酸−ジェチル
ア.ミノーエチルエステル34.2夕(0.2モル)ア
ゾイソブチロニトリル2.13夕(単量体重量に対して
1重量%)、グリコールーモ/エチルエーテルアセテー
ト518泌を窒素雰囲気下に装入した。
引続き8000に加熱し、約8時間この温度で櫨拝した
(澄洋速度=250回転/分)。冷却後、所望の増感剤
を添加した後、生ずる重合体溶液は、感光層の製造に直
接使用することができた。例球 恒滴に調節しうる反応容器中に、N−〔5−メチル一3
ーオキサー4ーオキソーヘキセン−‘51−イル〕ージ
メチルマレインイミド189.5夕(0.8モル)、ア
クリル酸−ジェチルアミ/ーェチルェステル34.2夕
(0.2モル)、アゾイソブチロニトリル2.24夕(
単量体重量に対して1重量%)及びグリコールーモノエ
チルエーテルアセテ−ト700の‘を窒素雰囲気下に菱
入した。
引続き80℃に加熱し、この温度で約8時間櫨拝した(
蝿梓速度=250回転/分)。冷却後、所望の増感剤を
添加した後、生じる重合体溶液は、感光層の製造に直接
使用できる。例 59 陣温に調節しうる反応容器中にN−〔5−メチル一3ー
オキサー4ーオキソーヘキセンー5ーイル〕−ジメチル
マレインイミド(ZI)118.52(0.5モル)、
アクリル酸−エチルエステル30.0夕(o.3モル)
、メタクリル酸−メチルェステル20.0夕(0.2モ
ル)、アゾイソプチロニトリル1.脇夕(単量体重量に
対して1重量%)及びグリコールーモノェチルェーテル
アセテート525の‘を窒素雰囲気下に袋入した。
引続き80o0に加熱し、この温度で8時間櫨拝(擬梓
速度=250回転/分)。冷却後、所望の触媒を添加し
た後、生じる重合体溶液は、感光層の製造に直接使用す
ることができた。例 60恒温に調節しうる反応容器中
に、N−〔5−メチル一3ーオキサー4ーオキソーヘキ
センー5ーイル〕−ジメチルマレインイミド(ZI)1
30.5夕(0.55モル)、アクリル酸21.6夕(
0.3モル)、アクリル酸・エチルェステル15.0夕
(0.15モル)、アゾィソブチロニトリル1.67夕
(単量体重量に対して1重量%)及びテトラヒドロフラ
ン570の‘を窒素下に入れた。
引続き、80q0に加熱し、この温度で約8時間燈拝し
た(額梓速度=250回転/分)。室温に冷却した後、
重合体溶液をテトラヒドロフラン600の【で希釈し、
引続きへキサン1.5で中で沈澱させた。収量=104
.5夕=理論量の84.2%。
例 61樟縄に調節しうる反応容器中でN−5−メチル
−3ーオキサ−4ーオキソーヘキセンー5ーイル−ジメ
チルマレインイミド78.2夕(0.33モル)、アク
リル酸−ジメチルアミノェチルェステル61.6夕(0
.36モル)、アクリル酸21.6夕(0.30モル)
及びアゾイソブチロニトリル1.61夕(単量体重量に
対して1重量%)を窒素雰囲気下にテトラヒドロフラン
7乳の‘に溶かし、引続き80qoに加熱する。
この条件で8時間蝿拝する(縄梓速度=250回転/分
)。生じる重合体溶液を冷却後へキサン1.5そ中で沈
澱させる。
炉過後、沈澱を4ぴ0で真空で乾教操する。収量;85
.1夕=理論量の50%、対数粘度り=0.2ふ重合体
は水溶性である。例 62 恒温に調節しうる反応容器中でN−5−メチル−3−オ
キサー4ーオキソーヘキセンー5ーイルージメチルマレ
インイミド78.2夕(0.33モル)、ビニルピロリ
ドン36.6夕(0.33モル)、アクIJル酸23.
8夕(0.33モル)及びアゾィソプチロニトリル1.
309(単量体重量に対して1重量%)を窒素下にテト
ラヒドロフラン734の【1こ溶かし、引続き8び0に
加熱する。
この条件で8時間蝿拝する(縄拝速度=25の副転/分
)。生ずる重合体溶液を冷却後へキサン1.5そ中で沈
澱させる。炉過後、沈澱を真空で40℃で乾燥する。収
量;凶.2夕=理論量の72.5%、対数粘度り=0.
2&重合体は5%重炭酸ナトリウム水溶液に可溶性であ
る。
例 63 ヱポキシド舎量4.0当量/【9、平均分子量3100
のスチレンーグリシジルメタクリレート共重合体6.1
8夕、N−(pーカルボキシフエニル)ージメチルマレ
インィミド(製造法b)6.09夕、ヒドロキノン1.
02夕、テトラメチルアンモニウムクロリド0.03夕
及びシクロヘキサノン24夕から成る混合物を13′蟹
時間120℃に保持したところ、ェポキシド含量(溶液
の固形分に対して)は、なお0.3当量/k9であった
例 64 例63の初めに記載した共重合体4.8夕、Nーカルボ
キシメチル)−ジメチルマレインイミド3.59、ヒド
ロキ/ン0.01夕、テトラメチルアンモニウムクロリ
ド0.03夕及びシクoヘキサノン15夕から成る混合
物を120qoに25分間保持する。
その際ェポキシド含量は0.14当量/k9に低下する
。例 65スチレンーマレィン酸無水物−共重合体(ス
チレソ:無水物の比は1:1、平均分子量1600)5
夕、N一(3−ヒドロキシプロピル)ージメチルマレイ
ンイミド6.5夕、N−ペンジルージメチルアミン0.
2夕、ヒドロキノン0.02夕及びシクロヘキサノン2
0夕の混合物を120ooに5時間保持する。
この時間後、溶液の赤外線スペクトル試験で、無水物は
もはや検知できない。例 66 平均分子量14000残留アセテート含有量3%以下の
ポリビニルアルコール(モンサント社のGELVATO
LI−30)2.2夕を50qCで蝿梓下にピリジン4
0地に溶解させる。
p−(ジメチルマレィンィミド)ーベンゾィルクロリド
9夕を添加した後、混合物を3時間更に麓拝し、次に冷
却し、水150の‘中に注ぎ、その際生じる沈澱を炉8
山する。この残澄をシクロヘキサン20肌に溶かす。例
67例63に記載した組成のスチレンーグリシジルメ
タクリレート共重合物4.26夕、N−(3−ヒドロキ
シプロピル)ージメチルマレィン酸ィミド3.0夕及び
シクロヘキサノン15夕の混合物を120℃で−31/
滋寺間燈梓する。
ェポキシド含量は1.0当量/k9にもどる。B ポリ
アミド及びポリアミドーィミド型の本発明による重合体
の例例 68 90;10の酸クロリド混合物の製造; 塩化イソフタロィル40.20夕及び5−ジメチルマレ
ィンィミドィソフタロィルクロリド(製造法i)7.1
7夕を70ooで−緒に融解し、固化し、破砕する。
縮合; m一フエニルレンジアミン21.47夕をシメチルアセ
トァミド190の‘に溶かし、一25qoに冷却し、不
活性ガスで保護し、良好に凝拝しながら90:10−酸
クロリド混合物43.70夕を固体状態で1回に添加す
る。
その際温度は約十3ぴ0に上昇する。冷却浴を取り除き
、反応生成物を室温で3時間競梓するジメチルアセトア
ミド(190の【)で希釈した後、重合体を激しく凝拝
しながら水で沈澱させ、水で中性になるまで洗浄し、真
空乾燥中120℃で一夜乾燥する。対数粘度り=0.7
の/夕(ジメチルアセトアミド中0.5%夕/v)の、
ほぼ白色の繊維状重合体が定量的収率で得られ、この重
合体は塩を添加せずにジメチルホルムアミド又はジメチ
ルアセトアミドに可溶性であり、フィルムに加工するこ
とができ、このフィルムは紫外線で照射後不溶性であり
、従って絹状化している。例 69 酸クロリド混合物70:30 塩化ィソフタル31.27夕及び5−ジメチルマレイン
イミドイソフタロイルクロリド21.53夕から、例解
に記載したように酸クロリド混合物を製造する。
例68の方法により、ジメチルアセトアミド190泌中
のm−フェニレンジアミン21.479及び酸クロリド
濠合物70:30の48.00夕から対数粘度0.6d
‘/夕(ジメチルアセトアミド中0.5%)の重合体を
製造する。この重合体はジメチルアセトアミド溶液から
、光イb学的に網状化しうる澄明な透明シートを形成す
る。例 70 ジアミノジフエニルメタン19.69夕(0.0993
モル)を乾燥ジメチルアセトアミド150の‘に溶かし
、窒素下に−20℃に冷却する。
−10qo〜一2ぴ0の温度で、蝿拝しながらセバシン
酸ジクロリド16.74夕(0.07モル)を滴加し、
次に5−ジメチルマレインイミドーイソフタロイルクロ
リド9.78夕(0.03モル)を1回添加する。冷却
浴を取り除き、室温で3時間嬢梓する。高粘性帯黄色反
応生成物を激しく瑠拝下しながら水中で沈澱させ、中性
になるまで洗浄し、真空中80午0で24時間乾燥する
。対数粘度0.81の/夕(濃硫酸中0.5%)の帯黄
色繊維状重合体が定量的収率で得られ、この重合体は塩
化リチウム5%を含むジメチルアセトアミド可溶性であ
り、透明フィルムを生じる。例 71トランス一2,5
−ジメチルピベラジン34.20夕(0.2擬モル)及
びトリェチアミン84.0地を乾燥クロ。
ホルム500の‘に溶かす。これに−5℃の温度でクロ
ロホルム400の【中のセバシン酸ジクロリド50.2
5夕(0.210モル)及び5ージメチルマレインイミ
ドーイソフタロイルクロリド29.35夕(0.090
モル)の溶液を郷拝しながら滴加する。クロロホルム1
00泌で洗浄し、冷却浴を付けないで室温で1時間擬梓
する。粘性溶液を石油エーテル2500地中で沈澱させ
、繊維状重合体を数回温湯で洗浄してトリェチルアンモ
ニウムク。リドを除去し、真空中80qoで2独特間乾
燥する。対数粘度り=1.37d‘/夕(濃硫酸中0.
5%)の無色の重合体生成物が定量的収率で得られ、こ
の生成物は塩素化炭化水素、例えばクロロホルム、塩化
メチレン及び1,2−ジクロルェタンに可溶性であり、
強籾な透明フィルムを形成する。例 72 濃梓装置中で4,4ージアミノージフェニルヱーテル3
8.446夕(0.192モル)を無水N,N−ジメチ
ルアセトアミド200地中に窒素下で溶かす。
溶液を−1500に冷却し、5−ジメチルマレインィミ
ジルベンゼン−1,2ーカルボン酸無水物−4−カルボ
ン酸クロリド15.0夕(0.048モル)及びベンゼ
ン−1,2−カルボン酸無水物−4ーカルボン酸クロリ
ド30.322夕(0.144モル)の均一な混合物を
激しく蝿拝しながら投入する。弱い発熱反応で粘領な溶
液を生じる。この溶液をN,N′−ジメチルアセトアミ
ド100の【で希釈し、徐々に室温に加溢する。その際
、若干存在する不落分は溶解する。室温で2時間凝梓後
、更にN,N−ジメチルアセトアミド100舷を添加し
、反応の際生じる塩化水素酸をトリェチルアミン19.
42夕(0.192モル)で沈澱させる。沈殿した塩を
炉刻する。澄明な溶液を0.65d‘/夕(25℃で、
N,N−ジメチルアセトアミド中0.5%)の対数粘度
(固有粘度)を有する。この溶液は、場合によりチオキ
サントン1%を添加した後、光化学的に網状化しうるフ
ィルム及びシートの注型に好適である。
このようなフィルム及びシートは、公知方法で溶剤を蒸
発させ、アミド酸を真空中高温で環化してィミlゞ‘こ
することによって得られる。未網状化、環状重合体は、
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセ
トアミド、Nーメチルーピロリドン及び濃硫酸に可溶性
である。C 純粋なポリエステル特性を有する本発明に
よる重合体の例例 73 ジメチルテレフタレート97.0夕(0.5モル)、エ
チレングリコール558夕(0.9モル)及び酢酸亜鉛
2水和物0.04夕を窒素下に15ぴ○で−緒に融解さ
せた。
温度を約3時間230℃に上昇し、その際生じるメタノ
ールを溜去した。230℃で1時間後、270℃に上昇
し、同時にトリフェニルホスフアイト0.05夕、三酸
化アンチモン0.05夕及び2,6−ジーtーブチルー
p−クレゾール0.3夕を添加した。
圧力を徐々に14側日のこ低下し、2ぴ分間重縮合した
。次に、窒素を吹き込むことにより、重縮合を停止させ
、ジメチルマレィンィミドィソフタル酸ジフヱニルェス
テル11.6夕(0.02筋モル)を添加した。その後
、温度を直ちに260q0に低下させ、反応容器を0.
1肌日夕に排気した。この条件で1.虫時間後、軍縮合
を停止させた。例 74ジメチルテレフタレート97.
0夕(0.5モル)、エチレングリコール55.8夕(
0.9モル)及び酢酸亜鉛2水和物0.04夕を150
午Cで窒素下に一緒に融解した。
温度を約3時間230℃に上昇し、その際生ずるメタノ
ールを溜去した。230つ0で1時間後に、270qo
に上昇し、同時にトリフェニルホスフアイト0.05夕
、三酸化アンチモン0.05夕及び2,6−ジーt−ブ
チルーp−クレゾール0.3汐を添加した。
圧力を徐々に14脇H夕に低下し、10分間軍縮合させ
た。引続き、窒素を吹き込んで重縮合を停止し、ジメチ
ルマレィンィミドィソフタル酸ジフェニルェステル24
.5夕(0.0555モル)を添加した。その後、温度
を直ちに260午0に低下し、反応容器を0.1胸日の
こ排気した。この条件で1.5時間後、重縮合を停止し
た。例 75 ジメチルテレフタレート97.7夕(0.5モル)エチ
レングリコール558夕(0.9モル)及び酢酸亜鉛2
水和物0.04夕を15ぴ○で窒素下に一緒に融解した
温度を約3時間230℃に上昇し、その際生ずるメタノ
ールを溜去した。230qCで1時間後、270℃に上
昇し、同時にトリフェニルホスフアィト0.052、三
酸化アンチモン0.05夕、2,6−ジーtープチルー
pークレゾール0.3夕及びジメチルマレィンイミドィ
ソフタル酸ジフェニルェステル55.1夕(0.125
モル)を添加した。
温度を直ちに260こ0に上昇し、反応容器を0.1肋
日のこ排気した。この条件で1.虫時間後、軍縮舎を停
止した。D ェポキシド基を含む単塁体化合物とカルボ
キシル基又はカルボン酸無水物基を含む単量体化合物と
の反応によって生ずるポリエステル型の本発明による重
合体の例例 76 ブタン−1,4−ジオールージグリシジルエーテル5.
0夕、N一(3,5−ジカルボキシフエニル)−ジメチ
ルマレィン酸イミド6.9夕、ヒドロキノン0.02夕
、テトラメチルアンモニウムクロリド0.02夕及びシ
クロヘキサノン24夕よりなる混合物を120ooで2
時間保持する。
この時間後、ェポキシド含量はなお約0.4当量/k9
である。例 771,3−ジグリシジルー5,5′−ジ
メチルヒダントイン2.53夕、N−(pーカルボキシ
フエニル)−ジメチルマレィン酸ィミド5夕、ヒドロキ
ノン0.02夕、テトラメチルアンモニウムクロリド0
.02夕及びシクロヘキサノン25夕の混合物を120
℃で11/瀦時間灘拝したところ、ェポキシド含量はな
お0.4当量/k9である。
その後、ベンゾフェノンテトラカルボン酸2無水物3.
15夕を添加し、混合物を120ooで3時間損拝する
。この時間後、溶液の無水物含量は(赤外線スペクトル
参照)、もとの値の約10%に減少している。例 78 Nーグリシジルジメチルマレインイミド5.5夕、フタ
ル酸無水物3.2夕、Nーベンジルジメチルアミン0.
05夕及びシクロヘキサノン20夕から成る混合物を1
2000で4時間蝿拝したところ、ェポキシド含量は0
.28当量/kgである。
例 79 例78に記載したように操作するが、フタル酸無水物の
代りにコハク酸無水物2.1夕を使用し、混合物を還流
下に2時間保持する。
ェポキシド含量は0.45当量/k9に低下する。例
8瓜 N一(3,5一ジカルボキシフヱニル)ージメチルマレ
インイミド2.50夕、1,3ージグリシジルー5,5
一ジメチルヒダントイン2.15夕、ジメチルホルムア
ミド0.02夕及び2ーェトキシヱタ/−ル15夕の混
合物を12000で2時間鷹拝したところ、生成物のェ
ポキシド含量は約0.34当量/k9である。
例 8血 Nーグリシジル−ジメチルマレインイミド3夕、ベンタ
エリトリツトーテトラキス(3ーメルカプトプ。
ピオネート)1.7夕、テトラメチルアンモニウムクロ
リド0.05夕及びシクロヘキサノン11夕の混合物を
12ぴ0で2時間煮沸した。この時闇に、生成物のェポ
キシド含量(反応生成物の初めの含量で測定)は、0.
35当量/kgである。この溶液4のこチオキサントン
0.1夕を添加した。この溶液で被覆した感光性板は、
紫外線照射し、シクロヘキサノン中で現像した後、良好
なしリーフ像を生じた。E フェノールーホルムアルデ
ヒド縮合に基づく本発明による重合体(ノボラツク誘導
体)の例例 81ェキポキシー/ボラツク樹脂(ポリグ
リシジルェーテル、ェポキシド舎量561当量/kg、
平均分子量420のフェノールーホルムアルデヒド樹脂
)10夕、N−(力ルボキシメチル)ージメチルマレイ
ンイミド5.45夕、ビスフエノールA(ジー2,2一
(p−ヒドロキシフエニル)−プロパン)2.29汐、
ヒドロキノン0.02夕、テトラメチルアンモニウムク
ロリド0.05夕及びシクロヘキサノン16夕から成る
混合物を120qoで21′独時間保持する。
この時間後、混合物はほとんどなポキシド基をもはや含
まない。例 82 例81に記載した組成のェポキシーノポラツク樹脂4夕
、N−(p−力ルボキシフエニル)ージメチルマレイン
イミド4.58夕、ビスフエノールAO.43夕、ヒド
ロキノン0.02夕及びシクロヘキサノン18夕から成
る浪合物を120℃で2時間保持する。
この時間後、固体のェポキシド舎量はなお0.38当量
/k9である。F ポリエチレンィミン型の本発明によ
る重合体の例例 83 シクロヘキサノン30の{中の、平均分子量が1650
〜1950であり、分枝度が第一級窒素;第二級窒素;
第三級窒素の比約1:2:1によって定められているポ
リエチレンィミン(ダウケミカル社のMONTREXP
EI−18)3.0夕の溶液中に、室温で縄梓下にp−
(ジメチルマレインイミド)ーベンゾィルクロリド2.
8夕を添加する。
混合物を120o0で1時間燈拝し、冷却後炉過する。
この溶液3夕にペンゾフェノン0.1夕を添加し、混合
物を例28に記載したように試験する。1び分間露光し
、シクpヘキサノン中で現像した後、良好な画像を得る
例 84 シクロヘサノン35の【中の平均分子量が450〜75
0、第一級窒素;第二級窒素;第三級窒素の比が約1:
2:1であるポリエチレンィミン3.0夕及びトリヱチ
ルアミン1.54夕の溶液に、シクロヘキサノン35泌
中のp−(ジメチルマレインイミド)−ペンゾィルクロ
リド4夕の溶液を櫨梓下に添加し、混合物を60ooで
1時間更に麓拝する。
次に、冷却し、炉遇する。G ポリェーテルに基づく(
フェノキシ樹脂)本発明による重合体の例例85及び8
6 フェノキシ樹脂PKTC又はPKHH(ユニオン・カー
バイト社)10夕をNーメチルピロリドン(乾燥)10
0の‘に溶かす。
m−ジメチルマレィンィミドーフタル酸無水物10夕を
添加し、均一な反応混合物を10ぴ0で2細時間保持す
る。引続き、冷却した溶液をエーテル500私上に注ぎ
、沈澱した生成物を炉遇する。この生成物は、乾燥後、
容易に粉砕しうる白色塊状物として存在する。収量:2
0夕(100%) IR;171瓜ネ−,に強いバンド(カルボニルー及び
ェステルーカルボニル波数)例85〜86を第m表に構
造式で示す。
第m表 例85及び86の反応生成物において、半ェステル形成
は水酸基に対して100%である。
H 本発明による重合体の光化学的用途に関する。
例1 例63により得られた重合物溶液に、ベンゾフェノンを
その含有量が10%になるように添加する。
この溶液を下記のようにプリント配線の製造に使用する
ことができる。銅を貼ったラミネートを前記溶液で被覆
し、溶剤を蒸発させて、約1叱のフィルムを残す。
230側の距離で50帆の中圧水銀蒸気ランプを用いて
、ネガチブの下で3分間露光する。
その後、シクロヘキサノンで洗浄することによって、禾
露光個所の未重合部分を洗浄除去して、現像する。銅が
露出した部分を、10の重量部中に塩化第二鉄60部及
び濃塩酸1の重量部を含む溶液でエッチングすると、良
好なしリーフ像が生じる。例ロ 例64により得られ溶液を例1に記載したように試験し
、その際15分露光し、アセトンートルェン混合物(1
:3容量部)中で現像し、良好な画像を得る。
例m 例65により得られた溶液9のこペンゾフヱノン0.4
5夕及びミヒラースケトン0.45夕の濠合物を添加し
、得られた溶液を例1に記載した方法で試験する。
15分露光し、クロロホルム−四塩化炭素(1:2容量
部)で現像した後、良好なしリーフ像を得る。
例W ペンゾフェノン0.9夕を例76により得られた溶液9
のこ添加し、この混合物を例1に記載したように試験す
る。
15分露光し、アセトン−トルェン混合物(1:3容量
部)で現像した後、画像を得る。
例V 例77により得られた溶液9夕に同様にペンゾフェノン
0.9夕を添加し、例1に記載したように試験する。
2船ご間露光し、5%燐酸水素ニナトリゥム水溶液で現
像した後、良好な画像を得る。
例W例78により得られた溶液5のこチオキサントン0
.1夕を添加し、例1に記載したように謎験する。
18分露光し、トルェン中で現像した後、レリーフ像を
得る。
例W 例79により得られた溶液4のこチオキサントン0.1
夕を添加し、例のにより操作する。
同様のレリーフ像を得る。例風 例81により得られた溶液9のこペンゾフェノン0.4
5夕及びメチルベンゾインェーテル0.46夕の混合物
を添加し、全体を例1と同様に試験する。
15分露光し、アセトン−トルェン混合物(1:3容量
部)中で現像した後、良好なしリーフ像を得る。
例瓜 例82により得られる溶液4のこチオキサントン0.1
夕を添加し、例1と同様に試験する。
15分露光し、アセトンートルェン混合物(1:1容量
部)中で現像した後、レリーフ像を得る。
例× 例80により得られた溶液49をチオキサントン0.1
夕と混合し、例1と同様に試験する。
15分露光し、引続きシクロヘキサノン中で現像した後
、レリーフ像を得る。
例× 例66により得られた溶液9のこペンゾフェノン0.3
夕を添加し、溶液を例1に記載した方法で試験する。
15分露光し、シクロヘキサノン中で現像した後、画像
を得る。
例柳 例67により得られた溶液9のこペンゾフェノン0.9
夕を添加して例1の記載により試験する。
10分間露光し、シク。
へキサノン中で現像した後、良好な画像を得る。例×m 例63,65及び76により得られた重合体を例1の方
法により試験するが、ベンゾフェノンの代わりにチオキ
サントン0.1夕をそれぞれ溶液4夕に添加する。
例63の重合体を用いる場合1分後、例65の重合体を
用いる場合4〜18分後、例76の重合体を用いる場合
7〜15分後良好なしリーフ像を得る。従って、チオキ
サントンは高い効力を示す。例×W例63により製造し
た反応生成物の30%溶液6夕にペンゾフェノン0.3
夕及びジシアンジアミド0.12夕を添加する。
銅を鮎り合せたラミネート板をこの溶液で被覆する。溶
剤を蒸発した後、約20仏のフィルムが残る。このフィ
ルムを例1に記載したようにネガチブの下で露光し、シ
クロヘキサノン中で現像し、銅上に良好なしリーフ像を
得る。この板を2時間180ooに保持すると、画像個
所の重合体層は銅に対して極めて良好な付着強度及び溶
剤に対して優れた抵抗性を示す。通常のアセトン・摩擦
試験、即ちアセトンを含浸させたタンポンで20回摩擦
した後、被覆は全く除去されない。例×V 本例は、貼り合せた鋼板から成るプリント配線の製造に
関する。
ボーゲンシュツツ(靴ge船chutz)著「フォトラ
ックテヒニーク(Fotolackにchnik )」
( Eu袋n G.Le皿e ‐Verlag、DT7
968Sa山gau、1975)に記載されているよう
な公知製造法により、下記の条件下で操作する:露光−
真空テーブルから40伽の距離で40Wの水銀高圧ラン
プオリジナル−透明ポリエステルフィルム上の接続回路
の銀像溶剤−(重合体用又は露光した板の現像用)シク
ロヘキサノン(CHEと略記する)又は1,1,1−ト
リクロルエタン(TAEと略記する) 濃度−被覆溶液中の重合体5〜10%及びチオキサント
ン0.5%被覆一毎分3000回転で遠心被覆、次に4
0〜5000で5分乾燥現像−前記溶剤中、次に80〜
100qoで5分乾燥、エッチング一60%塩化第二鉄
溶液下記の第W表の1欄の重合体で被覆した銅ラミネー
トを2欄に記載した時間露光し、3欄による現像剤で処
理する。
表中CHEはシクロキサノンを表わし、TAEは1,1
,1ートリクロルェタンを表わす。第N表 2欄が記載した露光時間で申し分のないエッチングが可
能となる。
記載した方法で網状化した重合体はすべて、溶剤に対し
て良好な抵抗性を示す。ジメチルホルムアミド又はシク
ロヘキサノン中に2独時間貯蔵しても、エッチングの際
に何の障害も生じない。同様に銅表面上の絹状化した重
合体は12〜24時間エッチング液に対して安定である
。例×の 本例は本発明による重合体の光絹状化によって得られ、
着色によって良好に可視化される画像に関する。
真空テーブルに対して40狐の距離で40肌の水銀蒸気
高圧ランプを用いて露光する。オリジナルとして、6晩
嫁及び12庇嫁の網目スクリーンを有する12段くさび
及び密度差0.21の1の変くさびを使用する。溶剤一
重合体用及び露光板の現像用;シクロヘキサノン又は5
%炭酸水素ナトリウム水溶液被覆一毎分2000〜30
00回転で遠心被覆による。
現像−炭酸水素ナトリウム溶液中で3の趣間次に、画像
に応じて絹状化した重合体を、カチオン性染料、例えば
式:の染料の水溶液を用いて容易に着色することができ
、これにより画像は良好に可視化される。
増感;増感剤の三重項エネルギーは、50Kcal/モ
ルより高くなければならない。
増感剤の濃度は1%である。種々の重合体及び増感剤を
用いた場合の結果を下記の第V表にまとめる。
CHEはシクロヘキサノンである。第V表 予め増感した板を有機溶剤で現像するか、又は塩基で現
像した後酸性格を使用する場合、アルミニウム板を凹版
印刷板として使用することができる。
例×卵 本発明は、透明支持体上に、本発明による重合体の光絹
状化によって製造され、有機溶剤で現像しうるしリーフ
像を製造する方法に関する。
ポリエステルフィルム上に、1,1,1ートリクロルェ
タン8$重量部、例45の重合体1の重量部及びチオキ
サントン1重量部から成る溶液を洋型法により施し、乾
燥する。こうして形成した平均層厚1〜3一の感光性フ
ィルムを40肌の水銀高圧ランプを用いて写真用段階く
さびを通して15〜60秒間露光する。その後、画像を
1,1,1ートリクロルェタン中で現像を行なう。こう
して得られたレリーフ像はすべて1碇没階を示す。例×
肌 本例は、本発明による重合体の光絹状化により製造され
、純粋な水中で固着し、現像しうる着色可能のレリーフ
像を透明支持体上に作る方法に関する。
写真ェマルジョンに使用しうるポリエステル支持体上に
、注型法により薄いゼラチン層(厚さ0.5〜1.&)
を施し、これを絹状化させる。ゼラチン層を水8母重量
部、例61の重合体1の重量部及び式:の光増感剤1重
量部から成る水溶液で被覆し、厚さ0.5〜3仏の感光
層を作る。
乾燥したフィルムを40帆の水銀高圧ランプを用いて1
0段階を有する写真用くさびを通して10〜3の砂嚢光
する。次に、画像を水中で現像する。くさびの10段全
部を複製する、こうして得たレリーフ画像をカチオン性
染料の水溶液で可視化することができる。同様の方法で
例62の重合体(ナトリウム塩として使用)を含む感光
層を製造し、使用することもできる。例幻X 本例は本発明による重合体の絶対的感光性を示す。
露光−36節mに対し狭いバンドフィルターを有する
HB020肌の水銀高圧 ラ ン プ(OSRAM)、
強度4×10‐8アィシュタィン・伽‐2被覆−毎分3
000回転でポリエステル上に遠心被覆重合体一例2に
よる、シクロヘキサノン中10%増感剤−チオキサント
ン 1%層厚一0.& 現像ーテトラヒドロフラン中に短時間浸潰し、次に5%
炭酸水素ナトリウム水溶液で処理する(アストラジアマ
ントグリーン、バイエル社製)。
光学的濃度を達成するまでの絶対的感光性S=ヱネ岸ギ
−として、数値S二5×10−4J‐肌りが測定された
横座標としてlogE/の、縦座標として光学的濃度を
有する線図は−3.7:0.25の数値の縄から一2:
4.5の数値の粗まで直線状に進行し、横座標の数値−
2と1.5との間で縦座標のの数値は4.5で一定であ
る。例×× 下記の1なし、しNのィミドと市販のマレィン酸無水物
/メチルビニルェーテル共重合物“ガントレッッ(Ga
ntreZ)11船N’’との置換反応により第の表の
共重合物1′−W′を製造する。
共重合物の酸無水物基がひとつおきに次式1,0,mま
たはW:で表わされるィミジル誘導体と結合するように
反応物の量的関係を選ぶ。
反応は溶媒としてのテトラヒドロフラン中、触媒量のピ
リジン存在下、80℃で還流しつ)行なう。生成した共
重合物をェ−テル抽出により分離し、乾燥する。増感剤
として各種の量のチオキサントンを含む共重合物の5%
DMF溶液をアルミニウム板の上に塗布する。
膜が形成された板を400Wの、パィレックスフィルタ
一の窓を設けた水銀高圧ランプを用い、21段階のくさ
びを通して時間を変えて露光する。露光されなかった部
分をテトラヒドロフラン、次いで重炭酸ナトリウム水溶
液より除去する。露光部分が可視化するようにカチオン
性染料マクシロンロート(Nはxjlonrot)で着
色する。共重合物の感光度は造影された絹点くさびの段
数で表わされ、増感剤としてのチオキサントの量ととも
に第の表に示す。モル%の表示は式1なし、しWで表わ
した化合物のモル数を基準とする。第の表 第の表から従来の技術による共重合物1′ないしm′は
増感剤を添加せずに確かに感光性を示し、その際1分間
の露光では、いずれの共重合物でも造影これなし、こと
が明らかである。
増感剤としてのチオキサントンを添加しても感光性が全
く向上しないか、向上しても僅かに過ぎない。これに対
し本発明の範囲のジメチルマレィンィミジル基を含有す
る共重合物W′は糟感剤を添加しないと造影の目的を達
するに十分な感光性を示さない。しかるに増感剤を添加
すると従釆の共重合物とは反対に、1分後には3段階ま
で明らかに造影される。3分後には従来の共重合物では
6分後にやっと得られるようなより多段階のくさびを造
影することができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 支持体上に、平均分子量が少なくとも1000であ
    り、1分子量当り平均2個より多数の式(I): ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R及びR_1はそれぞれ独立して、最高4個の炭
    素原子を有するアルキル基を表わすか、又はR及びR_
    1は一緒になつて5員又は6員の炭素環を完成する〕で
    表わされるマレインイミド基を有する電磁波の作用下に
    網状化可能の重合体の層を有することを特徴とする写真
    画像製造材料。 2 金属層、好ましくはアルミニウム層、銀層又は銅層
    を有する支持体上の該金属層のすぐ上に、平均分子量が
    少なくとも1000であり、1分子当り平均2個の多数
    の式(I):▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中RはR_1はそれぞれ独立して、最高4個の炭素
    原子を有するアルキル基を表わすか、又はR及びR_1
    は一緒になつて5員又は6員の炭素環を完成する〕で表
    わされるマレインイミド基を有する電磁波の作用下に網
    状化可能の重合体の層をすることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載の写真画像製造材料。 3 透明支持体、特に重合体フイルムとそのすぐ上に平
    均分子量が少なくとも1000であり、1分子当り平均
    2個より多数の式(I):▲数式、化学式、表等があり
    ます▼ 〔式中R及びR_1はそれぞれ独立して、最高4個の炭
    素原子を有するアルキル基を表わすか、又はR及びR_
    1は一緒になつて5員又は6員の炭素環を完成する〕で
    表わされるマレインイミド基を有する電磁波の作用下に
    網状化可能の重合体の層が設けられて成る特許請求の範
    囲第1項記載の写真画像製造材料。 4 透明支持体とその上に施された特許請求の範囲3項
    記載の重合体層との間に1層以上、特に1層の付着性層
    を有する前記第3項記載の材料。 5 重合体が式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 又は式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 又は式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 好ましくは式: ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるマレインイミド基を含む特許請求の範囲第
    2又は3項記載の材料。 6 重合体がポリエステル、ポリエステルアミド、ポリ
    アミド、ポリイミド、ポリアミド−イミド、ポリエステ
    ル−アミド−イミド、ポリエーテル、ポリアミン(ポリ
    イミンを含めて)、ポリウレタン、フエノール−ホルム
    アルデヒドを基質とする重縮合物(ノボラツク)、多糖
    類、ゼラチン、有機ポリシロキサン及び反応性C=C−
    二重結合を含む単量体のホモ重合又は共重合により生じ
    る重合体から成る重合体化合物である特許請求の範囲第
    2又は3項記載の材料。 7 重合体が1000〜1000000の平均分子量を
    有する、反応性C=C−二重結合を含む単量体のホモ重
    合物又は共重合物であつて、次式:▲数式、化学式、表
    等があります▼ (q=0又は1) ▲数式、化学式、表等があります▼ (x=1又は2) ▲数式、化学式、表等があります▼ 及び ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中MIは式(I)のマレインイミド基を表わし、Y
    _2は脂肪族又は脂環式又は炭素環式芳香族又は芳香脂
    肪族又はヘテロ環式芳香族基(それぞれ合計で最高18
    個までの炭素原子を含む)を表わし、Y_1はY_2と
    同一のものを表わすか、又は基;▲数式、化学式、表等
    があります▼ (n=1又は 2)を表わし、Y_3はY_2と同一のものを表わすか
    、又は基;▲数式、化学式、表等があります▼ を表わし、Y_4はY_2と同一のものを表わすか、又
    は基;▲数式、化学式、表等があります▼ を表わし、Y_5はY_2と同一のものを表わすか、又
    は基;−CO−Y_2− を表わし、Y_6はY_2と同一のもの、好ましくは脂
    肪族又は炭素環式芳香族基を表わし、Y_7はY_2と
    同一のものを表わし、その際qは好ましくは0であり、
    R_3はH又は炭素原子数1ないし6個のアルキル基を
    表わし、R_4はH又はアルキル基、好ましくはメチル
    基を表わし、R_5,R_6及びR_7はそれぞれ独立
    にH、ハロゲン、シアノ基、アルキル基、アリール基、
    アルアルキル基、特にHを表わし、R_8は−H、−C
    OOH又は−COO(CH_2)zCH_3(z=0〜
    18)を表わす〕で表わされる分子鎖成分中に式(I)
    で表わされるマレインイミド基を含む特許請求の範囲第
    6項記載の材料。 8 重合体が平均分子量1000〜50000のポリア
    ミド又はポリアミド−イミドであつて、次式:▲数式、
    化学式、表等があります▼〔式中MIは式(I)のマレ
    インイミド基を表わし、Y_8は少なくとも2個の炭素
    原子を有する脂肪族基、又は脂環式若しくは芳香脂肪族
    、若しくは炭素環式芳香族若しくはヘテロ環式芳香族基
    (それぞれ最高18個までの炭素原子を有する)を表わ
    すか、又は式;▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_1_1は−CH_2− ▲数式、化学式、表等があります▼ −SO_2、 −S−又は−O−を表わす)を表わし、ポリアミドの場
    合には基−NH−Y_8−NHrは基:▲数式、化学式
    、表等があります▼(式中R_9及びR_1_0はそれ
    ぞれ独立にH、メチル基又はフエニル基を表わす)をも
    表わすことができる〕の分子鎖成分中に式(I)で表わ
    されるマレインイミド基を含む特許請求の範囲第6項記
    載の材料。 9 重合体がマレインイミド基を有する分子鎖成分の他
    に、マレインイミド基を有しない共単量体、即ち、ジカ
    ルボン酸又は縮合可能のジカルボン酸誘導体、特にイソ
    フタロイルクロリド及びセバシン酸クロリド及び(又は
    )一級又は二級ジアミンから誘導された分子鎖成分を有
    するコポリアミド又はコポリアミド−イミドである特許
    請求の範囲第8項記載の材料。 10 重合体が平均分子量1000〜50000のポリ
    エステルであつて、次式:▲数式、化学式、表等があり
    ます▼ 〔式中MIは式(I)のマレインイミド基を表わし、Y
    _9は少なくとも2個の炭素原子を有する脂肪族基又は
    脂環式若しくは芳香脂肪族若しくは炭素環式芳香族若し
    くはヘテロ環式芳香族若しくはヘテロ環式脂肪族基(そ
    れぞれ合計最高18個の炭素原子を有する)を有する〕
    の分子鎖成分中に式(I)で表わされるマレインイミド
    基を含む特許請求の範囲第6項記載の材料。 *11重合体がマレインイミド基を有する分子鎖成分の
    他に、マレインイミド基を含まない共単量体、即ちジカ
    ルボン酸又は縮合可能のジカルボン酸誘導体、特にジメ
    チルテレフタレート、及び(又は)ジグリコールから誘
    導された分子鎖成分を有するコポリエステルである特許
    請求の範囲第10項記載の材料。12 重合体がエポキ
    シド基を含む単量体とカルボキシル基又はジカルボン酸
    無水物基を含む単量体との反応によつて生じた、平均分
    子量が少なくとも1000のポリエステル型の重合体で
    あつて、次式;▲数式、化学式、表等があります▼ 及び ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中MIは式(I)のマレインイミド基を表わし、Q
    _1及びQ_2はそれぞれ独立に−NR_1_6−(式
    中R_1_6は水素、炭素原子数1ないし4のアルキル
    基又はフエニル基を表わす)又は−O−を表わし、R_
    1_2,Y_1_0及びY_1_1はそれぞれ独立に脂
    肪族又は脂環式又は炭素環式一芳香族又ヘテロ環式芳香
    族又はヘテロ環式脂肪族基(それぞれ合計最高18個の
    炭素原子を有する)を表わし、R_1_3はR_1_2
    と同一のものを表わすか、又は基;▲数式、化学式、表
    等があります▼ 及び ▲数式、化学式、表等があります▼ を表わし、最初に記載した式の場合、分子基−Q_1−
    R_1_2−Q_2−は次式;▲数式、化学式、表等が
    あります▼ 及び ▲数式、化学式、表等があります▼ をも表わす〕の分子鎖成分中に式(I)で表わされるマ
    レインイミド基を含む特許請求の範囲第6項記載の材料
    。 13 重合体がフエノール−ホルムアルデヒドを基質と
    する平均分子量少なくとも1000の重縮合物(ノボラ
    ツク)であり、次式;▲数式、化学式、表等があります
    ▼ 〔式中MIは式(I)のマレインイミド基を表わし、Y
    _1_2は脂肪族又は脂環式又は炭素環式芳香族又はヘ
    テロ環式脂肪族又はヘテロ環式芳香族基(それぞれ合計
    最高18個の炭素原子を有する)を表わし、Zは基;−
    S−、▲数式、化学式、表等があります▼ − NR_1_6−(式中R_1_6は水素又は炭素原子数
    1〜4のアルキル基又はフエニル基を表わす)又は−O
    −の1つを表わす〕の分子鎖成分中に式(I)で表わさ
    れるマレインイミド基を含み、この重縮合物がマレイン
    イミド基を有する分子鎖成分の他に更に遊離グリシジル
    基及び(又は)遊離OH−基を有する分子鎖成分を有し
    ていてよい特許請求の範囲第6項記載の材料。 14 重合体が平均分子量1000〜1000000の
    ポリエチレンイミドであつて、次式;▲数式、化学式、
    表等があります▼ 又は ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中MIは式(I)のマレインイミド基を表わし、Y
    _1_3は脂肪族又は脂環式又は炭素環式芳香族又はヘ
    テロ環式脂肪族又はヘテロ環式芳香族基(それぞれ合計
    最高18個の炭素原子を有する)を表わす〕の分子鎖成
    分中に式(I)で表わされるマレインイミド基を含む特
    許請求の範囲第6項記載の材料。 15 重合体が次式; ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中MIは式(I)のマレインイミド基を表わし、Y
    _3は脂肪族又は脂環式又は炭素環式芳香族は又は芳香
    脂肪族又はヘテロ環式脂肪族又はヘテロ環式芳香族基(
    それぞれ合計最高18個の炭素原子を含む)又は基;▲
    数式、化学式、表等があります▼ (式中R_8は−H、−COOH又は−CO・O(CH
    _2)zCH_3(z=0〜18)を表わす)を表わす
    〕の分子鎖成分中に式(I)のマレインイミド基を有す
    る、平均分子量1000〜1000000のポリエーテ
    ルを基質とする重合物(特にフエノキシ樹脂)である特
    許請求の範囲第6項記載の材料。 16 網状化を増感剤の存在で、好ましくは50Kca
    lより多くの三重項エネルギーを有する三重項増感剤の
    存在で、平均分子量が少なくとも1000であり、1分
    子当り平均2個より多数の式(I);▲数式、化学式、
    表等があります▼ 〔式中R及びR_1はそれぞれ独立して、最高4個の炭
    素原子を有するアルキル基を表わすか、又はR及びR_
    1は一緒になつて5員又は6員の炭素環を完成する〕で
    表わされるマレインイミド基を有する重合体の層を電磁
    波の作用下に網状化することからなる写真画像製造材料
    の使用方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0252229U (ja) * 1988-10-06 1990-04-16

Families Citing this family (97)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5228540A (en) * 1975-08-29 1977-03-03 Agency Of Ind Science & Technol Composition curable with radiations
US4247660A (en) * 1977-10-14 1981-01-27 Ciba-Geigy Corporation Photo-crosslinkable polymers having azidophthalimidyl side groups
DE2750285A1 (de) * 1977-11-10 1979-05-17 Bayer Ag Elektronenstrahlvernetzbare polymere
GB2008784B (en) * 1977-11-17 1982-04-15 Asahi Chemical Ind Heat resistant photoresist composition and process for preparing the same
EP0014673B1 (de) * 1979-01-30 1982-12-22 Ciba-Geigy Ag Durch Licht vernetzbare Polymere mit seitenständigen, sich vom Indenon ableitenden Gruppen, Herstellung und Verwendung derselben
EP0021019B1 (de) * 1979-05-18 1984-10-17 Ciba-Geigy Ag Lichtvernetzbare Copolymere, sie enthaltendes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial, seine Verwendung zur Herstellung photographischer Abbildungen und Verfahren zur Herstellung von photographischen Abbildungen
US4323701A (en) * 1980-01-23 1982-04-06 Ciba-Geigy Corporation Process for the preparation of indenonecarboxylic acids
US4416975A (en) * 1981-02-04 1983-11-22 Ciba-Geigy Corporation Photopolymerization process employing compounds containing acryloyl groups and maleimide groups
US4459414A (en) * 1981-04-08 1984-07-10 Ciba-Geigy Corporation Tetrasubstituted phthalic acid derivatives, and a process for their preparation
US4532332A (en) * 1981-08-17 1985-07-30 Ciba-Geigy Corporation N-(hydroxypolyoxaalkylene)phthalimides and succinimides and acrylate esters thereof
EP0078233A1 (de) * 1981-10-15 1983-05-04 Ciba-Geigy Ag Lichtempfindliches, Polymerbilder lieferndes Aufzeichnungsmaterial und Farbstoffe
US4480106A (en) * 1981-10-28 1984-10-30 Ciba-Geigy Corporation Process for the preparation of asymmetrically substituted maleic anhydrides, and asymmetrically substituted maleic anhydrides
DE3265649D1 (en) * 1981-11-06 1985-09-26 Ciba Geigy Ag Use of photocrosslinkable copolymers in the manufacture of semipermeable membranes
US4502957A (en) * 1981-11-24 1985-03-05 Ciba-Geigy Corporation Process for purifying organic solutions
US4544621A (en) * 1982-05-19 1985-10-01 Ciba Geigy Corporation Photocrosslinkable water-soluble polymers, containing maleimidyl and quaternary ammonium groups process for their preparation and use thereof
US4656292A (en) * 1982-05-19 1987-04-07 Ciba-Geigy Corporation 2,3-dimethylmaleimido-alkyl haloacetates
US4615968A (en) * 1982-11-04 1986-10-07 Ciba-Geigy Corporation Compositions of matter which crosslink under the action of light in the presence of sensitizers
CA1255860A (en) * 1982-12-10 1989-06-20 Katsuya Yamada Selectively permeable asymetric membrane of aromatic polyester
US5059513A (en) * 1983-11-01 1991-10-22 Hoechst Celanese Corporation Photochemical image process of positive photoresist element with maleimide copolymer
US4857435A (en) * 1983-11-01 1989-08-15 Hoechst Celanese Corporation Positive photoresist thermally stable compositions and elements having deep UV response with maleimide copolymer
US4524121A (en) * 1983-11-21 1985-06-18 Rohm And Haas Company Positive photoresists containing preformed polyglutarimide polymer
US4631249A (en) * 1984-01-16 1986-12-23 Rohm & Haas Company Process for forming thermally stable negative images on surfaces utilizing polyglutarimide polymer in photoresist composition
US4569897A (en) * 1984-01-16 1986-02-11 Rohm And Haas Company Negative photoresist compositions with polyglutarimide polymer
DE3435202A1 (de) * 1984-09-26 1986-04-03 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Polyamide gegen lichteinwirkung stabilisiert
DE3443090A1 (de) * 1984-11-27 1986-05-28 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Aromatische polyester mit dimethylmaleinimid-endgruppen, ihre herstellung und verwendung
JPS6278544A (ja) * 1985-10-01 1987-04-10 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
US4720445A (en) * 1986-02-18 1988-01-19 Allied Corporation Copolymers from maleimide and aliphatic vinyl ethers and esters used in positive photoresist
JPS62294238A (ja) * 1986-06-13 1987-12-21 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
US4851454A (en) * 1986-07-17 1989-07-25 The Dow Chemical Company Photolytically crosslinkable thermally stable composition
JPS6435547A (en) * 1987-07-31 1989-02-06 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive planographic printing original plate requiring no dampening water
JP2598994B2 (ja) * 1988-11-14 1997-04-09 富士写真フイルム株式会社 感光性組性物
JP2639722B2 (ja) * 1989-01-18 1997-08-13 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JP2883622B2 (ja) * 1989-02-03 1999-04-19 鐘淵化学工業株式会社 ポリイミド組成物
US5240808A (en) * 1989-04-27 1993-08-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive compositions containing photosensitive polymeric compound having both photocross-linkable groups capable of cycloaddition, and functional groups carrying P--OH bonds
JP2639732B2 (ja) * 1989-07-28 1997-08-13 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JP2639734B2 (ja) * 1989-08-03 1997-08-13 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
US5171655A (en) * 1989-08-03 1992-12-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photohardenable light-sensitive composition
JPH0390313A (ja) * 1989-09-01 1991-04-16 Kubota Corp 破砕圧縮装置
US5098982A (en) * 1989-10-10 1992-03-24 The B. F. Goodrich Company Radiation curable thermoplastic polyurethanes
JP2599003B2 (ja) * 1989-10-16 1997-04-09 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JP2627565B2 (ja) * 1990-02-19 1997-07-09 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
US5212268A (en) * 1990-04-30 1993-05-18 The B. F. Goodrich Company Multifunctional reactive polymeric diluent and method relating thereto
US5196550A (en) * 1990-04-30 1993-03-23 The B. F. Goodrich Company Maleimido group containing monomers
JPH0755047Y2 (ja) * 1990-12-20 1995-12-20 株式会社山本製作所 廃プラスチツク処理装置用の粗砕機
US5191088A (en) * 1991-03-11 1993-03-02 Ciba-Geigy Corporation Aromatic monoanhydride-esters
JPH04135305U (ja) * 1991-06-07 1992-12-16 株式会社山本製作所 廃プラスチツク処理装置
US5346975A (en) * 1991-09-20 1994-09-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive composition
JPH0743115U (ja) * 1992-07-17 1995-08-18 株式会社ダイソー 発泡スチロール溶解装置
DE4416415A1 (de) * 1994-05-10 1995-11-16 Hoechst Ag Copolymere auf Basis von ethylenisch ungesättigten Dicarbonsäureanhydriden, langkettigen Olefinen und Fluorolefinen
CN1177358A (zh) * 1995-03-07 1998-03-25 诺瓦蒂斯有限公司 光化学交联的多糖类衍生物作为色谱分离对映体的载体
WO1998007759A1 (en) * 1996-08-23 1998-02-26 First Chemical Corporation Polymerization processes using aliphatic maleimides
US20040235976A1 (en) * 1996-08-23 2004-11-25 Hoyle Charles E. Polymerization processes using alphatic maleimides
US6271339B1 (en) 1996-09-12 2001-08-07 Sartomer Company, Inc. Prepolymers having maleimide functions the process for preparing them and their uses
US6306923B1 (en) * 1996-09-12 2001-10-23 Sartomer Company, Inc. Ultraviolet or visible light polymerizable and/or crosslinkable maleimide-functional coating compositions
FR2757165B1 (fr) * 1996-12-12 1999-02-19 Inst Francais Du Petrole Ester de l'acide maleimidobenzoique
JP3599160B2 (ja) * 1997-05-16 2004-12-08 大日本インキ化学工業株式会社 マレイミド誘導体を含有する活性エネルギー線硬化性組成物及び該活性エネルギー線硬化性組成物の硬化方法
DE69836840T2 (de) 1997-10-17 2007-10-11 Fujifilm Corp. Positiv arbeitendes photoempfindliches Aufzeichnungsmaterial für Infrarotlaser und positiv arbeitende Zusammensetzung für Infrarotlaser
CN1163518C (zh) 1998-03-26 2004-08-25 太阳化学公司 含马来酰亚胺衍生物的水相容性能量可固化组合物
US6352812B1 (en) 1998-06-23 2002-03-05 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6352811B1 (en) 1998-06-23 2002-03-05 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6358669B1 (en) 1998-06-23 2002-03-19 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal digital lithographic printing plate
EP1506857B1 (en) 1998-06-23 2007-04-25 Eastman Kodak Company Positive-working thermal imaging element and positive-working lithographic printing plate precursor
US6127447A (en) * 1998-07-31 2000-10-03 Fusion Uv Systems, Inc. Photopolymerization process and composition employing a charge transfer complex and cationic photoinitiator
DE19847616C2 (de) * 1998-10-15 2001-05-10 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Polyvinylacetale mit Imidogruppen sowie die Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen
US6835758B2 (en) * 1998-11-14 2004-12-28 Sun Chemical Corporation Water compatible energy curable compositions containing malemide derivatives
EP1087261A1 (en) * 1999-09-24 2001-03-28 Sumitomo Bakelite Company Limited Photosensitive resin composition, multilayer printed wiring board and process for production thereof
EP1106659A1 (en) 1999-12-03 2001-06-13 Toagosei Co., Ltd. Paint composition
US6517988B1 (en) 2001-07-12 2003-02-11 Kodak Polychrome Graphics Llc Radiation-sensitive, positive working coating composition based on carboxylic copolymers
US7537810B2 (en) * 2003-03-24 2009-05-26 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Curable resin composition, photosensitive pattern-forming curable resin composition, color filter, substrate for liquid crystalline panel, and liquid crystalline panel
US7030201B2 (en) * 2003-11-26 2006-04-18 Az Electronic Materials Usa Corp. Bottom antireflective coatings
US7317059B2 (en) * 2004-09-24 2008-01-08 Fuji Xerox Co., Ltd. Ligand immobilization support
JP4720175B2 (ja) * 2004-12-15 2011-07-13 富士ゼロックス株式会社 マレイミジル基含有材料およびその製造方法
DE102005006421A1 (de) * 2005-02-12 2006-08-24 Clariant Produkte (Deutschland) Gmbh Polymere und ihre Herstellung und Verwendung als Gashydratinhibitoren
DE102005007287B4 (de) * 2005-02-17 2007-01-25 Clariant Produkte (Deutschland) Gmbh Verwendung von Polyestern als Gashydratinhibitoren
DE102005009134A1 (de) * 2005-03-01 2006-09-14 Clariant Produkte (Deutschland) Gmbh Biologisch abbaubare Gashydratinhibitoren
US8158746B2 (en) * 2007-03-29 2012-04-17 Canon Kabushiki Kaisha Active energy ray curable liquid composition and liquid cartridge
DE102007037016B4 (de) * 2007-08-06 2011-06-30 Clariant International Limited Verwendung von 1-Alkyl-5-oxo-pyrrolidin-3-carbonsäureestern als Gashydratinhibitoren mit verbesserter biologischer Abbaubarkeit
JP5615600B2 (ja) 2010-06-09 2014-10-29 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法及びインクジェット印画物
JP5680353B2 (ja) 2010-08-24 2015-03-04 富士フイルム株式会社 水性インク組成物、インクジェット記録方法及びインクジェット印画物
JP5579542B2 (ja) 2010-08-31 2014-08-27 富士フイルム株式会社 インク組成物、画像形成方法、及び印画物
JP5634888B2 (ja) 2011-01-12 2014-12-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、画像形成方法及び印画物
JP5295284B2 (ja) 2011-02-07 2013-09-18 富士フイルム株式会社 インク組成物及び画像形成方法。
JP5398760B2 (ja) 2011-02-23 2014-01-29 富士フイルム株式会社 インク組成物、画像形成方法及び印画物
JP5611870B2 (ja) 2011-03-15 2014-10-22 富士フイルム株式会社 インク組成物、画像形成方法及び印画物
JP5762172B2 (ja) 2011-06-24 2015-08-12 富士フイルム株式会社 インク組成物、画像形成方法及び印画物
GB201121139D0 (en) 2011-12-08 2012-01-18 Sericol Ltd Radiation curable inks
JP5808684B2 (ja) 2012-02-01 2015-11-10 富士フイルム株式会社 水性インク組成物及び画像形成方法
EP2644404B1 (en) 2012-03-28 2017-08-16 FUJIFILM Corporation Ink composition, image forming method, and printed article
JP2014040529A (ja) 2012-08-22 2014-03-06 Fujifilm Corp インク組成物、画像形成方法、及び印画物
WO2014030473A1 (ja) 2012-08-23 2014-02-27 富士フイルム株式会社 インク組成物、画像形成方法、印画物、およびグラフト共重合体
JP2014169379A (ja) * 2013-03-04 2014-09-18 Fujifilm Corp 加飾シートの製造方法、加飾シート、加飾シート成形物、インモールド成形品の製造方法、及び、インモールド成形品
JP2014185235A (ja) 2013-03-22 2014-10-02 Fujifilm Corp 白色インク組成物、複層形成用インクセット、画像形成方法及び印画物
JP6021707B2 (ja) 2013-03-26 2016-11-09 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法及び印刷物
US10100247B2 (en) 2013-05-17 2018-10-16 Preferred Technology, Llc Proppant with enhanced interparticle bonding
US11208591B2 (en) * 2016-11-16 2021-12-28 Preferred Technology, Llc Hydrophobic coating of particulates for enhanced well productivity
US12330186B2 (en) 2017-11-02 2025-06-17 Preferred Technology, Llc Continuous mixers and methods of using the same
KR20210045357A (ko) * 2018-08-20 2021-04-26 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 리소그래피용 막형성재료, 리소그래피용 막형성용 조성물, 리소그래피용 하층막 및 패턴 형성방법

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2484423A (en) * 1945-10-30 1949-10-11 Eastman Kodak Co Process for the preparation of polyvinylamine salts
US3651012A (en) * 1969-04-25 1972-03-21 Gen Electric Novel bis-imide compositions and polymers therefrom
US3652716A (en) * 1969-07-01 1972-03-28 Gen Electric Imido-substituted polyester compositions
DE2031573A1 (de) * 1969-07-01 1971-01-07 General Electric Co., Schenectady, N Y (V.St.A.) Imidosubstituierte Polyester und Verfahren zu ihrer Herstellung
GB1386324A (en) * 1971-07-21 1975-03-05 Gen Electric Method for coating substrates and apparatus employed in such method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0252229U (ja) * 1988-10-06 1990-04-16

Also Published As

Publication number Publication date
DE2661043C2 (ja) 1989-08-31
GB1544299A (en) 1979-04-19
US4079041A (en) 1978-03-14
FR2316257B1 (ja) 1981-10-30
JPS52988A (en) 1977-01-06
DE2626769A1 (de) 1977-01-13
CA1098245A (en) 1981-03-24
FR2316257A1 (fr) 1977-01-28

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