JPS6037369B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents

高周波加熱装置

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JPS6037369B2
JPS6037369B2 JP11874980A JP11874980A JPS6037369B2 JP S6037369 B2 JPS6037369 B2 JP S6037369B2 JP 11874980 A JP11874980 A JP 11874980A JP 11874980 A JP11874980 A JP 11874980A JP S6037369 B2 JPS6037369 B2 JP S6037369B2
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JP
Japan
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heating
barrier
indium oxide
microwave
heating device
Prior art date
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Expired
Application number
JP11874980A
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English (en)
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JPS5743131A (en
Inventor
成一 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS5743131A publication Critical patent/JPS5743131A/ja
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は加熱ヒータ付き高周波加熱装置に関する。
一般に高周波加熱装置、例えば電子レンジにおいては、
ヒータ加熱によるオーブン調理とマイクロ波加熱による
レンジ調理とが実施できるようになっている。
このような電子レンジを第1図に示す。図において、1
はキャビネット、2は扉、3は操作パネルである。この
扉2にはのぞき窓4と開閉のためのハンドル5が設けら
れており、この扉2の開閉によって第2図に示す加熱室
6内の食品皿7に食品を鼓層するようにしている。また
前記操作パネル3には、調理開始設定用調理金ロ8、調
理時間を設定するタイマ9、調理温度を調整する温度コ
ントローラー0、第2図に示す加熱室6内に設けられた
ヒータ11によるヒータ加熱モードかマイクロ波発生装
置12からのマイクロ波によるマイクロ波加熱モードか
を切換える切換えスイッチ13および調理内容が記載さ
れたドラムメニュー14等が設けられている。このよう
な電子レンジにおいて、前記扉2のぞき窓4部の構造と
しては、第3図に示すように強化ガラスにより内バリヤ
15と外バリャ16とを形成し、この内バリャ15,1
6間にマイク。
波を遮蔽するための金属性のスクリーン17を設けての
ぞき窓4部を構成するようにしている。通常、食品加熱
中においては、こののぞき窓4部を通して外部に熱が逃
げる熱りークが多く、そのため従来の高周波加熱装置は
加熱効率が低下するという欠点があった。この欠点を改
良するために内バリャの表面に酸化インジウム被膜を形
成することが考えられるが、マイクロ波加熱時この酸化
インジウム被膜にマイクロ波が吸収されバリャの温度が
高くなるとともにマイクロ波の食品による吸収が悪くな
る不都合が生ずる。本発明は上記の事情に鑑みてなされ
たもので、外バリャ、内バリャ、外バリャと内バリャの
間に設けたマイクロ波を遮蔽する金属性スクリーンで構
成されるのぞき窓部の前記内バリャのずれか一方の表面
に酸化インジウム被膜を形成するとともに、この酸化イ
ンジウム被膜の表面抵抗を600/□以上1000′口
以下とすすることにより、熱反射特性とマイクロ波吸収
特性との双方を同時に活かした酸化インジウム被膜とし
、熱りークを防止してヒータ加熱時における加熱効率を
向上すると同時に、マイクロ波の食品による吸収率の向
上およびバリャの温度低減による操作の安全性の向上を
可能とした高周波加熱装置を提供することを目的とする
。
以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。
本発明の高周波加熱装置は前述した第1図乃至第3図と
大部分同様であるので同一部分の説明は省略する。本発
明の特徴は、第3図に示す扉2部の構造に係るもので、
この扉2に設けられるのぞき窓4としては、扉本体部材
20と加熱室6に接触する接触片部材21との間に金属
性のスクリーン17をネジ23等に取付け、このスクリ
ーン17の両側に強化ガラス製の内バリャ15と外バリ
ャ16とを配設する構造とする。さらに第4図に示すよ
うに、加熱室6側に相当する内バリヤ15の一方側表面
に酸化インジウム被膜24を真空蒸着により形成する。
なお、この酸化インジウム被膜24は第5図に示すよう
にスクリーン17の内側、すなわち内バリャ15の他方
側表面に形成するようにしてもよい。この酸化インジウ
ム被膜24は、加熱室6内のヒーター1から放射される
熱線を反射する効果があり、この反射率は表面抵抗によ
り変化することが判明している。さらに、この酸化イン
ジウム被膜24はマイクロ波を吸収する特性があり、こ
のマイクロ波の吸収特性も表面抵抗により変化すること
が判明している。この酸化インジウム被膜24の表面抵
抗(単位は1cの角の対角の寸法当りの抵抗値Q′□)
と、熱線反射率と、マイクロ波吸収特性を置き換えたバ
リャ表面温度との関係を第6図に示す。図中、曲線Aは
熱線反射率特性を示し、曲線Bはマイクロ波吸収特性に
相関するバリヤ表面温度特性を示しており、これらの曲
線A,Bは酸化インジウム被膜の表面抵抗を変えていっ
た場合の実験データにより得られたものである。この第
6図に示す特性から理解できるように、熱線反射率がピ
ークとなるのは表面抵抗が800/口附近であり、これ
は、バリャ表面温度が100℃以下となる表面抵抗値と
略同じであることがわかる。反射率が良好でしかもバリ
ャ表面温度が10000前後となるのは表面抵抗が60
0/口以上1000/口以下であることがわかる。しか
るに、表面抵抗を600/口以上100Q′□以下にす
ることで、相反する性能が要求される熱線反射特性、マ
イクロ波吸収特性の双方をヒータ加熱時、マイクロ波加
熱の両者の条件に合わせて満足させることができる。し
たがって、ヒータ加熱時の熱反射効率を良くしてバリャ
の熱りークを防止できるので、ヒータ加熱時における加
熱効率を向上できる。これは、例えば第7図に示す本発
明による加熱温度特性Lと従来の加熱温度特性Lとの比
較から理解できるように、ヒータ1 1で加熱室6内温
度を25000とするのに要する加熱時間は従来12分
であるのに対し本発明では8分となっており、加熱効率
が従来に比べて大幅に向上していることがわかる。また
マイクロ波加熱時においても、マイクロ波は酸化インジ
ウム被膜24によりバリャ15に吸収されにくいのでバ
リャ15が高温となりにくく、火傷等の心配がなくなり
安全性が向上するとともにマイクロ波の食品への吸収が
よくなる。以上説明したように本発明の高周波加熱装置
によれば、扉に設けられたのぞき窓を強化ガラスによる
内バリャと外バリャの二重構造とし、この内外バリャ間
に金属性のスクリーンを取付けて構成し、このスクリー
ンの内側に位置する前記内バリャの表面に表面抵抗60
0/口以上1000/0以下となるように酸化インジウ
ム被膜を形成することにより、ヒータ加熱時とマイクロ
波加熱時との双方を同時に満たす高熱線反射、低マイク
ロ波吸収をもつ性能を得ることができるようになる。
したがって、バリャからの熱IJークを防止してヒータ
加熱時における加熱効率を向上するとともに、マイクロ
波の食品よる吸収率の向上およびバリヤの温度低減によ
る操作の安全性の向上を実現し得る高周波加熱装置が提
供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第3図は高周波加熱装置を示し、第1図は正
面図、第2図は側面波断図、第3図は第1図のA−A線
に沿う矢視断面図、第4図および第5図はそれぞれ本発
明の実施例に係る高周波加熱装置の扉に設けられたのぞ
き窓の構成断面図、第6図は酸化インジウム被膜の表面
抵抗と熱線反射率およびバリャ表面温度との関係を示す
特性図、第7図は本発明と従来とを比較した加熱曲線図
である。 1・・・・・・キャビネット、2・・・・・・扉、4…
…のぞき窓、6・・・・・・加熱室、11・・・・・・
ヒータ、12..・・・・マイクロ波発生装置、15・
・・・・・内バリャ、16・・・・・・外バリャ、17
……スクリーン、24……酸化インジウム被膜。 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図 第6図 第7図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 扉を用する加熱室の内部に載置された食品をヒータ
    加熱あるいはマイクロ波加熱によつて調理を行なう高周
    波加熱装置において、前記扉に設けられるのぞき窓部を
    、強化ガラスによる二重構造に組立てられた外バリヤお
    よび内バリヤと、この内外バリヤ間に取付けられマイク
    ロ波を遮蔽する金属性スクリーンとで構成し、このスク
    リーンの内側に位置する前記内バリヤの少なくともいず
    れか一方の表面に酸化インジウム被膜を形成するととも
    に、この酸化インジウム被膜の表面抵抗を60Ω/□以
    上100Ω/□以下としたことを特徴とする高周波加熱
    装置。
JP11874980A 1980-08-28 1980-08-28 高周波加熱装置 Expired JPS6037369B2 (ja)

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JP11874980A JPS6037369B2 (ja) 1980-08-28 1980-08-28 高周波加熱装置

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JPS5743131A JPS5743131A (en) 1982-03-11
JPS6037369B2 true JPS6037369B2 (ja) 1985-08-26

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ID=14744093

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2591234Y2 (ja) * 1991-10-30 1999-03-03 シャープ株式会社 電子レンジ
US5981927A (en) * 1996-12-13 1999-11-09 Osepchuk; John High visibility microwave oven door with screen and microwave absorbing material

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JPS5743131A (en) 1982-03-11

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