JPS6039740A - Shadow mask - Google Patents
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- JPS6039740A JPS6039740A JP14848983A JP14848983A JPS6039740A JP S6039740 A JPS6039740 A JP S6039740A JP 14848983 A JP14848983 A JP 14848983A JP 14848983 A JP14848983 A JP 14848983A JP S6039740 A JPS6039740 A JP S6039740A
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/06—Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
- H01J29/07—Shadow masks for colour television tubes
Landscapes
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の技術分野]
この発明はカラーブラウン管に適用されるシャドづマス
クに関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a shadow mask applied to a color cathode ray tube.
[従来技術]
シャドウマスクの熱変形の一種にドーミング現象がある
。このドーミング現象について簡単に説明する。[Prior Art] One type of thermal deformation of a shadow mask is the doming phenomenon. This doming phenomenon will be briefly explained.
第1図は従来からカラーブラウン管に用いられているシ
ャドウマスクの断面を示すもので、(1)は薄い鉄板か
らなり、凸曲面状に形成されるとともに、規則正しく配
列された多数の小孔あるいはスリットを有するアパーチ
ャ板、(2)は図示しないカラーブラウン管外囲器に保
持され、アパーチャ板(1)を゛支持するフレーム、で
あり、一般にやや厚手の金属板を環状に成形してなる。Figure 1 shows a cross section of a shadow mask conventionally used in color cathode ray tubes. (1) is made of a thin iron plate, has a convex curved surface, and has many regularly arranged small holes or slits. The aperture plate (2) is a frame that is held in a color cathode ray tube envelope (not shown) and supports the aperture plate (1), and is generally made of a slightly thick metal plate formed into an annular shape.
フレーム(2)はアパーチャ板(1)の中心に立てた法
線(ブラウン管の管軸とも呼ぶ)に沿って延設された筒
状部(2a)を有し、またアパーチャ板(1)はその周
辺に前記フレーム(2)−の筒状部(2a)に外嵌され
るスカート部(3)を有しており、筒状部(2a)とス
カート部(3)とは溶接などによって固定されている。The frame (2) has a cylindrical part (2a) extending along the normal line (also called the tube axis of a cathode ray tube) set at the center of the aperture plate (1), and the aperture plate (1) It has a skirt part (3) on the periphery that is fitted onto the cylindrical part (2a) of the frame (2), and the cylindrical part (2a) and the skirt part (3) are fixed by welding or the like. ing.
以下、アパーチャ板(1)とフレーム(2)を上記のよ
うに一体に結合したものをシャドウマスクと称する。Hereinafter, a combination of the aperture plate (1) and the frame (2) as described above will be referred to as a shadow mask.
このようなシャドウマスクを用いたカラーブラウン管を
動作させると、電子銃(図示せず)より放出される電子
ビームはアパーチャ板(1)の小孔を通過して蛍光体ド
ツトを発光させるが、電子ビームの大部分はアパーチャ
板CI)に射突してこれを加熱する。一方フレーム(2
)は射突する電子ビームの量が少なく、しかもフレーム
(2)の熱容量が大きいために、温度上昇が小さく、ま
た昇温速度も緩やかである。したがってカラーブラウン
管動作中、とくにいちじるしくはその動作開始直後(通
常2〜3分後)にはアパーチャ板(1)の熱膨張がフレ
ーム(2)の熱膨張より大きく、アパーチャ板(+)の
中央部M1点力% M lO点にふくらみ出るように変
移する。これがドーミング現象である。このため、アパ
ーチャ板(1)の小孔を通過した電子ビームは正規の蛍
光体ドツトに正しく射突しなくなり、好ましくない色ず
れを発生することになる。When a color cathode ray tube using such a shadow mask is operated, an electron beam emitted from an electron gun (not shown) passes through a small hole in the aperture plate (1) and causes a phosphor dot to emit light. Most of the beam impinges on the aperture plate CI) and heats it. On the other hand frame (2
) has a small amount of incident electron beams and the heat capacity of the frame (2) is large, so the temperature rise is small and the temperature rise rate is slow. Therefore, during operation of the color cathode ray tube, especially immediately after the start of operation (usually after 2 to 3 minutes), the thermal expansion of the aperture plate (1) is larger than that of the frame (2), and the center of the aperture plate (+) M1 point force % M Shifts to bulge to the IO point. This is the doming phenomenon. For this reason, the electron beam passing through the small hole in the aperture plate (1) does not strike the regular phosphor dots correctly, resulting in undesirable color shift.
一般に、カラーブラウン管は画面(蛍光面)が略矩形状
をなしており、これに対応してシャドウマスクも略矩形
状をなしている。この場合に上記ドーミングを減少させ
る有力な手段として筒状部(2a)とスカート部(3゛
)との重なり部をこの長方形状のコーナ部と各辺の中間
部の計8点!で溶接するいわゆる8点溶接法が案出され
ている。第2図にこの8点溶接法によるものの溶接点の
分布を示している。同図において、(lO)が溶接点で
ある。この8点溶接によるものは優れた効果を発揮でき
るがそれでも広偏向角やパネル形のブラウン管、つまり
アパーチャ板がフラットに近い近年のカラーブラウン管
にあっては、問題を完全に解決したとは言えず、さらに
・一層の改良が望まれていた。Generally, the screen (phosphor screen) of a color cathode ray tube has a substantially rectangular shape, and correspondingly, the shadow mask also has a substantially rectangular shape. In this case, as an effective means to reduce the above-mentioned doming, the overlap between the cylindrical part (2a) and the skirt part (3゛) can be set at eight points in total, including the corners of this rectangular shape and the middle part of each side! A so-called 8-point welding method has been devised. FIG. 2 shows the distribution of welding points using this 8-point welding method. In the figure, (lO) is the welding point. Although this 8-point welding method has excellent effects, it cannot be said to have completely solved the problem with wide deflection angle and panel-shaped cathode ray tubes, that is, recent color cathode ray tubes with nearly flat aperture plates. , Further improvements were desired.
この発廚の詳細を述べる前に、8点溶接を採用した場合
のドーミングによる電子ビーム射突点の正しい位置から
のずれの分布の典型例を第3図に示す。同図において、
(11)は凸曲面をなすパネル、点線は蛍光面(12)
め設けられている範囲であり、矢印はパネル(11)の
内面で7パーチヤ板(1)の小孔を通った電子ビームが
正しい位置からずれる様子を示したものである。なお、
パネル(11)は図に記入したX軸1Y軸に関してそれ
ぞれ上下、左右が対称なので1つの象限だけを示してい
る。Before describing the details of this development, FIG. 3 shows a typical example of the distribution of the deviation of the electron beam projection point from the correct position due to doming when eight-point welding is employed. In the same figure,
(11) is a panel with a convex curve, and the dotted line is a fluorescent screen (12)
The arrows indicate how the electron beam that has passed through the small holes in the seven-percha board (1) on the inner surface of the panel (11) deviates from its correct position. In addition,
The panel (11) is symmetrical vertically and horizontally with respect to the X-axis and Y-axis drawn in the figure, so only one quadrant is shown.
このずれの分布の特徴は概して全体的に内側(パネル(
11)の中心に向う方向)にずれが生ずるが、対角方向
における周辺部では逆に外向きにずれが生じている部分
がある。The distribution of this shift is generally characterized entirely inward (panel (
11)), but in the diagonal periphery, there are parts where the deviation occurs outward.
X軸上、Y軸上ではずれは全域にわたって内側を向いて
おり、両軸とも中間部付近にずれの最大になる個所があ
り、かつこの一方が画面全体を通じてずれの最大値を与
えているのが普通である。On the X and Y axes, the deviation points inward over the entire area, and there is a point where the deviation is maximum near the middle on both axes, and one of these gives the maximum deviation throughout the screen. is normal.
X、Y軸上でずれが常に内、向きになる状況をこれらの
軸を含む断面である第、4図に示す。アパーチャ板(1
)は変形前は実線の形状をしており、この上に特定の電
子ビーム通過孔Ml、M2を考える。偏向中心Oを出発
した電子ビーム(+01)、(102)はそれぞれ孔M
1.M2を通ってパネル(11)の内面PI、P2に射
突する。これが正しい射突位置とする。つぎにドーミン
グが起った時、アパーチャ板(1)は点線で示すように
中央部が前方に向って膨出する結果、先に考えた孔M1
、M2がそれぞれM 1o 、 M 2oに変移し、
これらを通った電子ビームの射突点はそれぞれPlo、
P2oに変移する。ここでM 1g 、 M 20はそ
れぞれMl 、M2をほぼ管軸に沿ってパネル(11)
に近ずく方向にあるため、図のようにPI’ + P
20はそれぞれPI、P2の内側にあることになり、先
に述べた内すれとなる訳である。A situation in which the deviation is always in the inward direction on the X and Y axes is shown in FIG. 4, which is a cross section including these axes. Aperture plate (1
) has the shape of a solid line before deformation, and consider specific electron beam passing holes Ml and M2 on this. The electron beams (+01) and (102) departing from the deflection center O are respectively
1. It passes through M2 and hits the inner surface PI and P2 of the panel (11). This is the correct firing position. Next, when doming occurs, the center of the aperture plate (1) bulges forward as shown by the dotted line, resulting in the hole M1
, M2 transition to M 1o and M 2o, respectively,
The injection points of the electron beams passing through these are Plo,
Transition to P2o. Here, M 1g and M 20 are Ml and M2, respectively, approximately along the tube axis to the panel (11).
Since it is in the direction approaching , PI' + P as shown in the figure
20 are located inside PI and P2, respectively, resulting in the inside slip mentioned above.
つぎに対角線上で、ずれの分布が途中で逆転する状況を
対゛角線を含む断面である第5図に示す。Next, FIG. 5, which is a cross section including the diagonal line, shows a situation where the distribution of deviation is reversed halfway along the diagonal line.
同図において、実線と点線がそれぞれドーミング発生お
よび発生後を示すことは第4図と同じである。In this figure, the solid line and the dotted line indicate the occurrence and post-doming occurrence, respectively, as in FIG. 4.
同図に示すようにアパーチャ板(1)上の中心と周辺の
中間部の孔Mlに対応するパネル(11)上のビーム射
突点P1はドーミングによって先の第4図の時と同様に
内側へずれるが、比較的周辺部に近い孔M2に対応する
P2ドーミングによって外側方向へずれてしまう。この
原因は対角部にあってはアパーチャ板(1)のスカート
部(3)がドーミングの際、対角線上の溶接点(1o)
を支点として矢印方向へ倒れる結果、孔M2がM2oの
ように外側に移動するためである。スカート部(3)の
倒れがX、Y軸上ではあまり起らず、とくに対角部で大
きいのは、アパーチャ板(1)の形状とその周辺部に孔
がおいてない、したがって強度的に強い部分があること
により説明できるが、ここでの詳述は省略する。As shown in the figure, the beam projection point P1 on the panel (11) corresponding to the hole Ml between the center and the periphery of the aperture plate (1) is located on the inside due to doming as in the previous figure 4. However, due to P2 doming corresponding to hole M2 which is relatively close to the periphery, it is displaced outward. The reason for this is that when the skirt part (3) of the aperture plate (1) is domed on the diagonal, the welding point (1o) on the diagonal
This is because the hole M2 moves outward as M2o as a result of falling down in the direction of the arrow with the fulcrum being the fulcrum. The reason why the skirt part (3) does not fall so much on the X and Y axes, and is particularly large in the diagonal parts, is due to the shape of the aperture plate (1) and the lack of holes around it, which makes it difficult to maintain strength. This can be explained by the fact that there are strong parts, but detailed explanation will be omitted here.
さて、第3図にもどって、同図のような分布をなすドー
ミングによるビーム射突点のずれの影響を減らすために
は、XおよびY軸上で生ずる大きな内ずれ成分を減らす
ことが必要である。このような内ずれ成分は第4図で説
明したように7パーチヤ板(1)がパネル(11)側へ
向って膨出するために生ずる。したがってアパーチャ板
(1)の熱膨張に伴ってこれをパネル(11)から遠ざ
ける方向に変移させればこの問題は改善できる。Now, returning to Figure 3, in order to reduce the influence of the shift of the beam projection point due to doming, which has the distribution shown in the figure, it is necessary to reduce the large internal shift components that occur on the X and Y axes. be. Such an inward deviation component occurs because the seven pertier plate (1) bulges toward the panel (11) as explained in FIG. 4. Therefore, this problem can be improved by moving the aperture plate (1) away from the panel (11) as the aperture plate (1) thermally expands.
ところが、アパーチャ板(1)全体をパネル(11)か
ら遠ざけるように変移させたのでは、対角部最周辺近く
で生ずる外向きのずれが拡大されてしまう。However, if the entire aperture plate (1) is moved away from the panel (11), the outward shift that occurs near the outermost periphery of the diagonal portion will be magnified.
[発明の概要]
この発明は上記本漬に鑑みてなされたもので、アパーチ
ャ板の周辺部のうち、矩形状の互に対向する少なくとも
1対の辺の中央部付近の形状を特定し、熱膨張時にこの
部位がパネルから遠ざかるように変位し、対角部位が上
記変位量より少ないかあるいは逆方向へ変位するように
構成することにより、ドーミングが有効に抑制され、安
定した画像に確保に貢献できるシャドウマスクを提供す
ることを目的としている。[Summary of the Invention] This invention was made in view of the above-mentioned problem, and it specifies the shape near the center of at least one pair of rectangular sides facing each other in the peripheral part of the aperture plate, and By configuring this part to be displaced away from the panel during expansion, and the diagonal part to be displaced less than or in the opposite direction, doming can be effectively suppressed and contribute to ensuring a stable image. The purpose is to provide a shadow mask that can be used.
[発明の実施例]
第6図はこの発明に係るシャドウマスクの一例を示す斜
視図で、第1図〜第5図と同一部所には同一符号を付し
て説明を省略する。[Embodiment of the Invention] FIG. 6 is a perspective view showing an example of a shadow mask according to the present invention, and the same parts as in FIGS. 1 to 5 are denoted by the same reference numerals, and a description thereof will be omitted.
同図において、アパーチャ板(1)はXおよびY軸方向
の断面では、スカート部(3)の近くで折曲部(4)を
有し、これとスカート部(3)との間に適当な幅のステ
ップ部(5)を有する(第7図(A))。一方、対角方
向の断面では、上記のような折曲部(4)のない形状と
なっている(第7図(B))。In the same figure, the aperture plate (1) has a bent part (4) near the skirt part (3) in the cross section in the X and Y axis directions, and an appropriate distance is formed between this and the skirt part (3). It has a step portion (5) of a width (FIG. 7(A)). On the other hand, in the diagonal cross section, there is no bent portion (4) as described above (FIG. 7(B)).
これを第8図でさらに詳しく説明する。すなわち、折曲
部(4)において、従来の曲面の周辺での接線Tとステ
ップ部(5)とは角度θをなしており、ステップ部(5
)が接線Tの延長のパネル(11)側にあるように配設
されている。さらにステップ部(5)は適当な@文を有
している。This will be explained in more detail with reference to FIG. That is, at the bending part (4), the tangent T around the conventional curved surface and the step part (5) form an angle θ, and the step part (5)
) is arranged so that it is on the panel (11) side of the extension of the tangent line T. Furthermore, the step portion (5) has an appropriate @ statement.
このような構成によれば、アパーチャ板(1)が熱膨張
を起した際に、この膨張によって7パーチヤ板(1)の
曲面部の周辺部がその接線Tの方向に伸びようとすると
、折曲部(4)、ステップ部(5)およびステップ部(
5)とスカート部(3)の接続部が全体としてヒンジ作
用として働き、第8図で点線で示すようにアパーチャ板
(1)全体を/くネル(ll)から遠ざける方向へ移動
させることができる。According to such a configuration, when the aperture plate (1) undergoes thermal expansion, if the peripheral portion of the curved surface of the seven percha plate (1) tries to extend in the direction of the tangent line T due to this expansion, it will break. Music section (4), step section (5) and step section (
5) and the skirt portion (3) as a whole acts as a hinge, and the entire aperture plate (1) can be moved in the direction away from the tunnel (ll) as shown by the dotted line in Fig. 8. .
これによって第4図に示したアパーチャ板(1)のパネ
ル(11)側への膨出(ドーミング)のための悪影響を
極力軽減させることができる。しかも第7図(A)に示
したような断面形状は、対角部では用いられていないの
で、対角部付近では先の第5図で説明した現象が残り、
結局全体として、第3図に示したドーミングによる電子
ビームの射突点の好ましくないずれを有効に修正できる
ことになる。This makes it possible to reduce as much as possible the adverse effects caused by the doming of the aperture plate (1) toward the panel (11) shown in FIG. Moreover, since the cross-sectional shape shown in FIG. 7(A) is not used in the diagonal portion, the phenomenon explained in FIG. 5 above remains near the diagonal portion.
In the end, as a whole, it is possible to effectively correct any undesirable impact points of the electron beam due to doming shown in FIG.
第3図に示した動作で、アパーチャ板(1)が熱膨張を
起した時に膨張に伴って効率良くパネル(11)から遠
ざかる方向へ変移するためには、θはある程度太きく、
一般的に言ってステップ部(5)が管軸に垂直゛になる
かそれよりも若干大きいことが好ましく、ステップ部(
5)は長い方が好ましい。In the operation shown in FIG. 3, in order for the aperture plate (1) to thermally expand and move away from the panel (11) efficiently as the aperture plate (1) expands, θ must be large to some extent.
Generally speaking, it is preferable that the step part (5) be perpendicular to the tube axis or slightly larger than that;
5) is preferably longer.
ところで対角部では先に述べたように、かかる折曲部(
4)やステップ部(5)は第7図(B)に示すように設
けないか、仮に設けても弱い動作でよいので、辺の中央
部から対角部にかけてはθを徐々に小さくするか文を徐
々に小さくするものとする。By the way, in the diagonal part, as mentioned earlier, such a bent part (
4) and the step part (5) should not be provided as shown in Figure 7 (B), or even if they are provided, the movement will be weak, so θ should be gradually reduced from the center of the side to the diagonal. The sentences shall gradually become smaller.
上記θの分布については、場合によっては対角部でOを
負の値、つまりステップ部(5)がアパーチャ板(1)
の曲面部の周辺での接線Tのパネル(11)側でない方
にあった方が第5図で述べた電子ビーム射突点の外方へ
の移動を小さくするために望ましい場合もある。Regarding the above distribution of θ, in some cases O may be set to a negative value in the diagonal part, that is, the step part (5) is the aperture plate (1).
In some cases, it may be desirable for the tangent T around the curved surface of the electron beam to be on the side other than the panel (11) side in order to reduce the outward movement of the electron beam projection point as described in FIG.
第9図にその例を示す。同図(A)はXもし゛〈はY軸
方向の断面を、また同図(B)は対角方向の断面を示す
ものである。An example is shown in FIG. The figure (A) shows a cross section in the X or Y axis direction, and the figure (B) shows a cross section in the diagonal direction.
また、折曲部(0とステップ部(5)の効果を一層発揮
させるためにとくにXおよびY軸方向の断面において、
第10図のようにステップ部(5)の付近のアパーチャ
板(1)の板厚をエツチング等で薄くする方法も考えら
れる。このようにすると第8図で説明したようなステン
、プ部(5)のたわみが起きやすくなる。このため熱膨
張に伴ってアパーチャ板(1)をパネル(11)から遠
ざける変移量を一層大きくすることができる。この場合
対角断面の方へ近づくに従って先に述べたようにθある
いは文を徐々に小さくする他に、θおよび文は一定とし
、ステップ部(5)の肉厚を次第に厚くしてすることも
可能である。勿論、アパーチャ板(1)の板厚をステッ
プ部(5)の付近で必ずしも均一に薄くせずとも、実効
的に薄くしたものと同様のたわみ特性が得られるように
エツチングで凹凸模様をほどこしても良い。In addition, in order to further demonstrate the effects of the bending part (0) and the step part (5), especially in the cross section in the X and Y axis directions,
As shown in FIG. 10, it is also possible to reduce the thickness of the aperture plate (1) near the step portion (5) by etching or the like. If this is done, the stem and tap portion (5) will be more likely to be bent as explained in FIG. Therefore, the amount of displacement of the aperture plate (1) away from the panel (11) due to thermal expansion can be further increased. In this case, in addition to gradually decreasing θ or the curve as described above as it approaches the diagonal cross section, it is also possible to keep θ and the curve constant and gradually increase the thickness of the step part (5). It is possible. Of course, the thickness of the aperture plate (1) does not necessarily need to be uniformly thinned in the vicinity of the step portion (5), but a concave-convex pattern can be applied by etching so as to effectively obtain the same deflection characteristics as a thinned plate. Also good.
また、一般のテレビジョン受像機用カラーブラウン管に
おいては、通常プパーチャ板(1)の小孔が第3図のY
軸の方向に細長い長方形状をなしており、蛍光面モザイ
クがこの方向に細長い、いわゆるスI・ライブ蛍光面が
用いられている。このような場合に゛は第3図における
アパーチャ板(1)の熱膨張による電子ビーム射突点の
変移はY軸付近ではあまり問題にならないことが多い。In addition, in general color cathode ray tubes for television receivers, the small holes in the perforation plate (1) are usually
A so-called S-I-live phosphor screen is used, which has a rectangular shape elongated in the axial direction and has a phosphor screen mosaic elongated in this direction. In such a case, the shift of the electron beam projection point due to thermal expansion of the aperture plate (1) in FIG. 3 is often not a problem near the Y-axis.
したがってこのような場合、上述した折曲部(4)とス
テップ部(5)を設ける構成はX軸断面付近だけ形成す
ればよい。Therefore, in such a case, the above-described structure in which the bent portion (4) and step portion (5) are provided only needs to be formed near the X-axis cross section.
なお、上記実施例では、アパーチャ板(1)のスカート
部(3)がフレーム(2)の筒状部(2a)に外嵌した
ものを例に説明したが、ドーミング現象は第1図でスカ
ート部(3)がフレーム(2)の筒状部(2a)の内側
に嵌合して組立てられている場合でも、スカート部(3
)と筒状部(2a)の隙間の分布によっては第3図に示
したずれの分布となってあられれることが多く、したが
ってスカート部(3)がフレーム(2)の筒状部(2a
)に内嵌されたものにも適用される。In the above embodiment, the skirt portion (3) of the aperture plate (1) is fitted onto the cylindrical portion (2a) of the frame (2). Even when the skirt portion (3) is assembled by fitting inside the cylindrical portion (2a) of the frame (2), the skirt portion (3)
) and the cylindrical part (2a), the deviation distribution shown in Fig. 3 is often obtained.
) is also applied to those embedded within.
[発明の効果]
以上のようにこの発明は矩形状のアパーチャの互に対向
する少なくとも1対の辺の中央部付近に位置して該アパ
ーチャに折曲部を形成し、この折曲部とスカート部との
間にステップ部を形成して、ステップ部をアパーチャ板
の周辺部での接線のパネル側にあるように設定して、ア
パーチャ板が熱膨張を起した時に折曲部の付近の部位が
パネルから遠ざかる方向へ変移するように構成するとと
もに、対角部では上記の変位量よりも少なくなるかある
いは逆方向へ変位するように構成することにより、ドー
ミングを抑制でき、もって安定な画像を得るのに有利な
シャドウマスクを提供でき[Effects of the Invention] As described above, the present invention forms a bent portion in the aperture located near the center of at least one pair of opposing sides of a rectangular aperture, and connects the bent portion to the skirt. A step part is formed between the part and the part, and the step part is set to be on the panel side of the tangent at the peripheral part of the aperture plate, so that when the aperture plate undergoes thermal expansion, the part near the bent part Doming can be suppressed by configuring the panel so that it is displaced in the direction away from the panel, and by configuring the diagonal portion so that the amount of displacement is less than or in the opposite direction than the above amount, thereby making it possible to suppress doming and thereby create a stable image. It can provide a shadow mask that is advantageous for obtaining
第1図はシャドウマスクの構成とドーミング現象を説明
するための断面図、第2図はアパーチャ板とフレームと
の溶接位置の説明図、第3図は従来のシャドウマスクの
ドーミングによるビーム射突点のずれの分布説明図、第
4図は従来のシャドウマスクのXもしくはY、軸断面に
おけるドーミング現象の詳細図、第5図は同対角面にお
けるドーミング現象の説明図、第6図はこの発明に係る
シャドウマスクの一例を示す斜視図、第7図(A)、(
B)はそれぞれ第6図のはシャドウマスクにおけるXお
よびY軸方向の断面図および対角方向の断面図、第8図
はこの発明のシャドウマスクの作用説明図、第9図(A
) 、 (B)および第10図はこの発明の要部の変形
例を示す断面図である。
(1)・・・アパーチャ板、(2) −−・フレーム、
(2a)・・参筒状部、(3)・−・スカート部、(4
)・・・折曲部、(5)・・・ステップ部、(11)・
・−パネル。
なお、図中同一符号は同一もしくは相当部分を示す。
代理人 大岩増雄Figure 1 is a cross-sectional view to explain the structure of the shadow mask and the doming phenomenon, Figure 2 is an explanatory diagram of the welding position between the aperture plate and the frame, and Figure 3 is the beam injection point due to doming of the conventional shadow mask. FIG. 4 is a detailed diagram of the doming phenomenon in the X or Y axis cross section of a conventional shadow mask, FIG. 5 is an explanatory diagram of the doming phenomenon in the same diagonal plane, and FIG. 6 is a diagram of the invention A perspective view showing an example of a shadow mask according to FIG. 7(A), (
B) is a sectional view in the X and Y axis directions and a diagonal sectional view of the shadow mask in FIG. 6, FIG.
), (B) and FIG. 10 are cross-sectional views showing modifications of the main parts of the present invention. (1)...Aperture plate, (2) ---Frame,
(2a)...Tubular part, (3)...Skirt part, (4
)...Bending part, (5)...Step part, (11)...
・-Panel. Note that the same reference numerals in the figures indicate the same or corresponding parts. Agent Masuo Oiwa
Claims (6)
の小孔を有する略矩形状のアパーチャ板と、上記アパー
チャ板の周縁に連成されて上記アパーチャ板の中心に立
てた中心法線に鉛って突出するスカート部と、上記スカ
ート部に嵌合する筒状部をもったフレームとを備え、上
記矩形状の互に対向する少なくとも1対の辺の中央部付
近に位置して該アパーチャ板の周辺部に上記辺に沿って
折曲された折曲部を形成し、この折曲部と上記スカート
部の間にステップ部を形成して、上記ステップ部を上記
折曲部の内側近傍位置での上記中心法線を通る上記アパ
ーチャ板曲面の接線に対し上記パネルに近い側に設定し
、上記アパーチャ板が熱膨張を起した時、上記折曲線付
近の部位がパネルから遠ざかるように変位し7、対角部
付近では上記変位量よりも少ないかあるいは逆方向へ変
位す“るように構成したことを特徴とするシャドウマス
ク。(1) A substantially rectangular aperture plate that is curved in a convex shape toward the inner surface of the panel and has a large number of small holes, and a center plate that is connected to the periphery of the aperture plate and stands at the center of the aperture plate. The frame includes a skirt portion projecting along a line, and a frame having a cylindrical portion that fits into the skirt portion, and is located near the center of at least one pair of opposing sides of the rectangular shape. A bent portion bent along the side is formed in the peripheral portion of the aperture plate, a step portion is formed between the bent portion and the skirt portion, and the step portion is formed in the bent portion of the bent portion. The aperture plate is set on the side closer to the panel with respect to the tangent to the curved surface of the aperture plate passing through the center normal at a position near the inner side, so that when the aperture plate undergoes thermal expansion, the area near the folded line moves away from the panel. 7. A shadow mask characterized in that the shadow mask is configured such that the amount of displacement is smaller than or in the opposite direction near the diagonal portion.
各辺の中央部の4個所と対角部の4個所でなされている
特許請求の範囲第1項記載のシャドウマスク。(2) The shadow mask according to claim 1, wherein the skirt portion and the cylindrical portion are connected and fixed at four locations at the center of each side of the rectangular shape and at four locations at diagonal corners.
て徐々に幅狭に設定されている特許請求の範囲第1項記
載のシャドウマスク。(3) The shadow mask according to claim 1, wherein the width of the step portion is set to be gradually narrower from the center of the side to the diagonal portion.
にある方向を正とする時、辺の中心部で最大となり、対
角部ではこれより小となるように設定されている特許請
求の範囲第1項記載のシャドウマスク。(4) A patent in which the bending angle of the above-mentioned bending part is set so that, when the direction in which the step part is on the panel side is positive, the bending angle is maximum at the center of the side and smaller at the diagonal part. A shadow mask according to claim 1.
央部で薄く、対角部ではこれより厚く設定されている特
許請求の範囲第1項記載のシャドウマスク。(5) The shadow mask according to claim 1, wherein the effective plate thickness of the step portion based on the deflection characteristics is set to be thinner at the center of the side and thicker at the diagonal portion.
の辺の方向へほぼ沿った長孔であって、折り曲げ部とス
テップ部の設ゆられている一対の辺が上記長孔の長軸に
沿った方の辺である特許請求の範囲第1項記載のシャド
ウマスク。(6) The small hole provided in the aperture plate is a long hole that runs approximately in the direction of one side of a rectangular shape, and the pair of sides on which the bent part and the step part are provided are the length of the long hole. The shadow mask according to claim 1, which is the side along the axis.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14848983A JPS6039740A (en) | 1983-08-11 | 1983-08-11 | Shadow mask |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14848983A JPS6039740A (en) | 1983-08-11 | 1983-08-11 | Shadow mask |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6039740A true JPS6039740A (en) | 1985-03-01 |
| JPS6367311B2 JPS6367311B2 (en) | 1988-12-23 |
Family
ID=15453895
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14848983A Granted JPS6039740A (en) | 1983-08-11 | 1983-08-11 | Shadow mask |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6039740A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62126526A (en) * | 1985-11-28 | 1987-06-08 | Toshiba Corp | Color picture tube |
| US4697119A (en) * | 1985-01-11 | 1987-09-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Color cathode ray tube having a non-spherical curved mask |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4856956U (en) * | 1971-11-01 | 1973-07-20 | ||
| JPS5455366A (en) * | 1977-10-13 | 1979-05-02 | Toshiba Corp | Color cathode-ray tube |
| JPS57138254U (en) * | 1981-02-23 | 1982-08-28 | ||
| JPS5871964U (en) * | 1981-11-09 | 1983-05-16 | 株式会社東芝 | Shadow mask type color cathode ray tube |
-
1983
- 1983-08-11 JP JP14848983A patent/JPS6039740A/en active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4856956U (en) * | 1971-11-01 | 1973-07-20 | ||
| JPS5455366A (en) * | 1977-10-13 | 1979-05-02 | Toshiba Corp | Color cathode-ray tube |
| JPS57138254U (en) * | 1981-02-23 | 1982-08-28 | ||
| JPS5871964U (en) * | 1981-11-09 | 1983-05-16 | 株式会社東芝 | Shadow mask type color cathode ray tube |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4697119A (en) * | 1985-01-11 | 1987-09-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Color cathode ray tube having a non-spherical curved mask |
| JPS62126526A (en) * | 1985-11-28 | 1987-06-08 | Toshiba Corp | Color picture tube |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6367311B2 (en) | 1988-12-23 |
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