JPS6040703B2 - 気密封止方法 - Google Patents

気密封止方法

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JPS6040703B2
JPS6040703B2 JP53114667A JP11466778A JPS6040703B2 JP S6040703 B2 JPS6040703 B2 JP S6040703B2 JP 53114667 A JP53114667 A JP 53114667A JP 11466778 A JP11466778 A JP 11466778A JP S6040703 B2 JPS6040703 B2 JP S6040703B2
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JP
Japan
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bonding
cap
thick film
film conductor
solder
Prior art date
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Expired
Application number
JP53114667A
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English (en)
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JPS5541740A (en
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亮二 岩村
充也 鎌田
美智晴 本田
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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    • H10W72/851Dispositions of multiple connectors or interconnections
    • H10W72/874On different surfaces
    • H10W72/884Die-attach connectors and bond wires
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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    • HELECTRICITY
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  • Pressure Welding/Diffusion-Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は金属キャップによるる半導体素子の気密封止方
法に関する。
第1図によって半導体素子の気密封止の構成を説明する
第1図において1はアルミナ基板、2はアルミナ基板1
上に印刷、焼成された配線用のAg/Pd導体、3はA
g/Pd導体2上に印刷、焼成されたガラス絶縁体、4
はガラス絶縁体3上に同じく印刷、焼成された接合用の
Ag/Pd厚膜導体である。一方6はコバ‐ルキヤツプ
、7はコバ‐ルキャップ6表面に施したAuめつき層で
ある。5は圧延、打抜きされた環状のはんだ層である。
8はアルミナ基板6上に取付けられた半導体素子、1
1は半導体素子8とAg/Pd導前2とを俊競するりー
ド線である。
従釆の封止方法は厚膜導体4上に環状のはんだ5をのせ
、その上にコバ‐ルキヤツプ6をピンセットでのせ、全
体を固定して低荷重をかけベルト炉でんだ5をリフロー
して接合していた。
しかし、この方法だと、はんだリフロー時はんだ5が高
温にさらされ、(例えばSn−1肌t%Auはんだなら
ば約250qo)、溶融状態にあるため、金属原子の拡
散が速く、多量の金属間化合物が接合層に生成される。
したがってキャップ6の接合強さが低下し、また気密性
が損なわれるという問題があった。しかも前記したよう
にピンセットではキャップ6の位置決めがむずかしく作
業者の熟練度による所が大きかった。本発明の目的は上
記した従来技術の欠点をなくし、製品性能の信頼性の向
上を計り、かつ、工程の半自動化をも可能にしようとす
るものである。
上記自的を達成するために、本発明ははんだが溶融状態
で高温にさらされるために生じる欠点を抑えるため、は
んだの融点以下での接合を計った。すなわち、第1図の
ように構成された接合部において、キャップ上より超音
波で負荷することにより数ミクロンの凹凸を有す厚膜導
体表面とはんだ、およびはんだとキャップとを新生面で
完全に密着させ、はんだの溶融温度より低い約0.8T
M(T一:はんだの溶融温度)の温度で均一に、しかも
有効な拡散を起こし、接合するようにしたものである。
以下本発明を一実施例によって説明する。
本実施例の全体構成は第1図と同じであるが、Ag/P
d厚膜導体4上にインサート材として環状の純錫5をの
せ、超音波接合機のツール(図示せず)に真空吸引によ
って固定したキャップをlk9/桝、27kcの条件で
超音波接合した。
さらに、180qoの窒素雰囲気中で30分間保持し接
合面で徴量の拡散を起こし接合を完了した。この時の厚
膜導体4表面は出来るだけ凹凸の少なくなる条件で焼成
し、密着を良好にする必要がある。なお、インサート材
は純錫でなくとも低荷重で塑性変形するもので、かつA
u,Ag,Pdの拡散しやすい金属であれば良い。第2
図は高温放置加速試験による接合強度の変化を従釆のI
Jフロー法10と本発明の拡散法9と比較した結果であ
るが、拡散法の方が非常に優れている。
また、気密封止性についても同様な結果が得られた。以
上詳細に説明したように、本発明によれれば超音波によ
る摩擦を行っているので接合面で新生面の接触が生じて
おり、しかも固相状態で拡散による接合を行っているの
で拡散は一様で、しかも極小に抑えることが出釆、金属
間化合物の生成もきわめて少なく抑えることが出来る。
また超音波摩擦圧援は磁石あるいは吸引などによりキャ
ップの設置が容易で、しかもすでに固定されているキャ
ップはその後の取扱い、熱処理炉への搬送が容易である
、という効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は気密封止の構成を示す図、第2図は本発明法(
拡散法)と従来法(リフロ一法)により接合した場合の
高温放置による接合勢断強度の変化を示す図である。 1・・…・アルミナ基板、4・・・・・・Ag/Pd腹
膜導体、6……コバールキヤップ(金属キャップ)、7
……Auめつき層。 巻′図 姿2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 基板上に構成された厚膜導体に、めつきを施した金
    属キヤツプを接合して半導体素子の気密を封止する方法
    において、低荷重で塑性変形し且つ前記厚膜導体および
    前記めつき材料と拡散しやすい材料をインサート材とし
    て用い、超音波によつて前記キヤツプを前記基板に接合
    した後、該接合体を不活性雰囲気中で拡散接合すること
    を特徴とする気密封止方法。
JP53114667A 1978-09-20 1978-09-20 気密封止方法 Expired JPS6040703B2 (ja)

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JP53114667A JPS6040703B2 (ja) 1978-09-20 1978-09-20 気密封止方法

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JPS5541740A JPS5541740A (en) 1980-03-24
JPS6040703B2 true JPS6040703B2 (ja) 1985-09-12

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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998041354A1 (fr) * 1997-03-17 1998-09-24 Hitachi, Ltd. Procede de soudage d'elements en phase solide
CN109277686B (zh) * 2018-11-07 2021-01-15 杨新容 一种锂电池生产用盖帽压焊装置

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JPS5541740A (en) 1980-03-24

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