JPS6041644B2 - 芳香族炭化水素の精製法 - Google Patents
芳香族炭化水素の精製法Info
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- JPS6041644B2 JPS6041644B2 JP12696780A JP12696780A JPS6041644B2 JP S6041644 B2 JPS6041644 B2 JP S6041644B2 JP 12696780 A JP12696780 A JP 12696780A JP 12696780 A JP12696780 A JP 12696780A JP S6041644 B2 JPS6041644 B2 JP S6041644B2
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- Production Of Liquid Hydrocarbon Mixture For Refining Petroleum (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、芳香族炭化水素とくにＣ６〜Ｃ。
成分を多量に含有する原料油から、不純物を除去してこ
れらの成分を取得する、精製法の改良に関する。によれ
ば、製品収率のよび原単位の向上とならんで、消費エネ
ルギーの低減が実現する。 ベンゼン、トルエン、キシ
レンなど（以下、一括して「ＢＴＸ」とよぶ）のＣ０〜
Ｃ８芳香族炭化水素は、たとえばナフサの熱分解に際し
て副生する分解ガソリン中に多量に含有されている。こ
の種の原料油には、不純物として、有機イオウ化合物と
ともに、重合性のジオレフィンやスチレン類が含まれて
いる。これらの不純物を除去して精製ＢＴＸを取得する
には、従来、まずパラジウムのような低温で活性を示す
触媒を用いて、比較的低温でジオレフインなどの重合を
避けつつこれらの炭化水素添加を行なつてσ一次水添ョ
とよぶ）重合し難いものに変え、周期表第ＶＩＢ族元素
（Ｃｒ，ＭＯ，Ｗ）および鉄族元素（Ｆｅ，ＣＯ，Ｎｉ
）からなる群から選んだ少なくとも一種の、比較的高温
で有効な触媒を用いて、高められた温度でさらに接触水
素添加をしてσ二次水添ョとよぶ）有機イオウ化合物を
硫化水素に変え、また有機窒素化合物があれば同時にア
ンモニアに変え、除去するという二段階の精製法が採用
されている。
れらの成分を取得する、精製法の改良に関する。によれ
ば、製品収率のよび原単位の向上とならんで、消費エネ
ルギーの低減が実現する。 ベンゼン、トルエン、キシ
レンなど（以下、一括して「ＢＴＸ」とよぶ）のＣ０〜
Ｃ８芳香族炭化水素は、たとえばナフサの熱分解に際し
て副生する分解ガソリン中に多量に含有されている。こ
の種の原料油には、不純物として、有機イオウ化合物と
ともに、重合性のジオレフィンやスチレン類が含まれて
いる。これらの不純物を除去して精製ＢＴＸを取得する
には、従来、まずパラジウムのような低温で活性を示す
触媒を用いて、比較的低温でジオレフインなどの重合を
避けつつこれらの炭化水素添加を行なつてσ一次水添ョ
とよぶ）重合し難いものに変え、周期表第ＶＩＢ族元素
（Ｃｒ，ＭＯ，Ｗ）および鉄族元素（Ｆｅ，ＣＯ，Ｎｉ
）からなる群から選んだ少なくとも一種の、比較的高温
で有効な触媒を用いて、高められた温度でさらに接触水
素添加をしてσ二次水添ョとよぶ）有機イオウ化合物を
硫化水素に変え、また有機窒素化合物があれば同時にア
ンモニアに変え、除去するという二段階の精製法が採用
されている。
二次水添ののち反応生成物とともに流出する硫化水素や
アンモニアを含む未反応の水素は、水洗により少なくと
もアンモニアを分離除去したのち、再度二次水添工程へ
戻して利用する。上述のプロセスの実施に当つては、不
純物を完全に除去することだけでなく、芳香族炭化水素
の核への水素添加（以下、１核水添ョと略す）によるロ
スを最少限に止めるべきことが要求される。
アンモニアを含む未反応の水素は、水洗により少なくと
もアンモニアを分離除去したのち、再度二次水添工程へ
戻して利用する。上述のプロセスの実施に当つては、不
純物を完全に除去することだけでなく、芳香族炭化水素
の核への水素添加（以下、１核水添ョと略す）によるロ
スを最少限に止めるべきことが要求される。
従来は、高度の精製と高収率とは両立し難いものとされ
、たとえは１００ｐｐｍほどの有機イオウ化合物を含有
する原料を処理して残留イオウ分を１ｐｐｍ以下にする
精製を行なうときは、ＢＴＸが核水添されたシクロヘキ
サンまたはその誘導体に転化することによるロスは、３
〜５％に達することも止むを得ないとして許容されてた
。しかし、近年の石油価格の高騰と需給関係の緊迫化と
は、こうしたロスを最少限に止めるこを要求する。最近
の研究により、二次水添に際しての核水添は、触媒に特
定の予備処理を施し、かつ反応条件を適切にえらぶこと
によつて著しく低減できるようになり、ＢＴＸ収率を９
９％以上にすることが容易になつた。無用の核水添が避
けられるとは、原料としての水素の必要量もその分だけ
節約できることにもなり、原単位の点から好ましい。と
ころで、前記の触媒を用いる有機イオウ化合物を除去す
るための二次水添操作は、２００〜４０００Ｃといつた
、かなりの高温度が適当とされている。
、たとえは１００ｐｐｍほどの有機イオウ化合物を含有
する原料を処理して残留イオウ分を１ｐｐｍ以下にする
精製を行なうときは、ＢＴＸが核水添されたシクロヘキ
サンまたはその誘導体に転化することによるロスは、３
〜５％に達することも止むを得ないとして許容されてた
。しかし、近年の石油価格の高騰と需給関係の緊迫化と
は、こうしたロスを最少限に止めるこを要求する。最近
の研究により、二次水添に際しての核水添は、触媒に特
定の予備処理を施し、かつ反応条件を適切にえらぶこと
によつて著しく低減できるようになり、ＢＴＸ収率を９
９％以上にすることが容易になつた。無用の核水添が避
けられるとは、原料としての水素の必要量もその分だけ
節約できることにもなり、原単位の点から好ましい。と
ころで、前記の触媒を用いる有機イオウ化合物を除去す
るための二次水添操作は、２００〜４０００Ｃといつた
、かなりの高温度が適当とされている。
二段階精製法において、熱分解ガソリンが蒸留しＣ６〜
Ｃ８芳香族成分が留出するときの温度は約１００℃であ
るのに対し、従来のパラジウム触媒による一次水添の温
度は５０〜８０℃が採用されていた。従つて、原料油は
１００℃前後から５０〜８０℃へー旦冷却しなければな
らず、そしてこれを二次水添にかけるためには、上記の
２００〜４００℃まで加熱しなければならなかつた。こ
うした操作は、当然に多大の熱エネルギーの消費をもた
らし、あるいは余分の熱交換器などの設置を必要とする
ので、工業プロセスとしてはの節減をはかるべきである
。本発明者らは、このような観点から研究を進めたとこ
ろ、意外にも、一次水添工程に、二次水添工程で生成し
た硫化水素を含む水素を循環使用できること、そして水
素中の硫化水素含有量に応じてパラジウム触媒を用いる
一次水添の好適温度が、従来の新鮮な水素だけを用いた
場合より高くなり、この一次水添の好適温度と、触媒層
に供給される全水素中の硫化水素濃度および原料油供給
速度との間にある好ましい条件を確立して本発明に至つ
た。本発明の芳香族炭化水素の精製法は、これまて述べ
てきたように、Ｃ６〜Ｃ８芳香族炭化水素を主体とする
原料油を、まずパラジウム触媒を用いる比較的低温の接
触水素添加処理、すなわち一次水添により、その中のジ
オレフインおよびスチレン類に水素添加することにより
それらを除去し、ついで、周期表第■ＩＢ族元素（Ｃｒ
，Ｎ４Ｏ，Ｗ）および鉄族元素（Ｆｅ，ＣＯ，Ｎｉ）か
らなる群から選んだ少なくとも一種の触媒を用いる比較
的高温の接触水素添加処理、すなわち二次水添により、
含有されている有機イオウ化合物を硫化水素に変えたの
ち芳香族成分を分離回収することからなるＣ６〜Ｃ８芳
香族炭化水素の精製法において、二次水添の反応生成物
から分離された硫化水素を含む水素ガスを、そのまま、
または硫化水素の一部を除去しただけで一次水添に循環
させ、新たに補給される水素とともに接触水素添加に使
用すること、ならびに、一次水添に供給される全水素中
の硫化水素濃度Ｘ（容積Ｐｐｍ）および一次水添への原
料油供給速度ｍ（触媒容積あたり容積、毎時）に応じて
、一次水添の触媒層入口の温度Ｔ（℃）を、下式がみた
されるように制御することを特徴とする。
Ｃ８芳香族成分が留出するときの温度は約１００℃であ
るのに対し、従来のパラジウム触媒による一次水添の温
度は５０〜８０℃が採用されていた。従つて、原料油は
１００℃前後から５０〜８０℃へー旦冷却しなければな
らず、そしてこれを二次水添にかけるためには、上記の
２００〜４００℃まで加熱しなければならなかつた。こ
うした操作は、当然に多大の熱エネルギーの消費をもた
らし、あるいは余分の熱交換器などの設置を必要とする
ので、工業プロセスとしてはの節減をはかるべきである
。本発明者らは、このような観点から研究を進めたとこ
ろ、意外にも、一次水添工程に、二次水添工程で生成し
た硫化水素を含む水素を循環使用できること、そして水
素中の硫化水素含有量に応じてパラジウム触媒を用いる
一次水添の好適温度が、従来の新鮮な水素だけを用いた
場合より高くなり、この一次水添の好適温度と、触媒層
に供給される全水素中の硫化水素濃度および原料油供給
速度との間にある好ましい条件を確立して本発明に至つ
た。本発明の芳香族炭化水素の精製法は、これまて述べ
てきたように、Ｃ６〜Ｃ８芳香族炭化水素を主体とする
原料油を、まずパラジウム触媒を用いる比較的低温の接
触水素添加処理、すなわち一次水添により、その中のジ
オレフインおよびスチレン類に水素添加することにより
それらを除去し、ついで、周期表第■ＩＢ族元素（Ｃｒ
，Ｎ４Ｏ，Ｗ）および鉄族元素（Ｆｅ，ＣＯ，Ｎｉ）か
らなる群から選んだ少なくとも一種の触媒を用いる比較
的高温の接触水素添加処理、すなわち二次水添により、
含有されている有機イオウ化合物を硫化水素に変えたの
ち芳香族成分を分離回収することからなるＣ６〜Ｃ８芳
香族炭化水素の精製法において、二次水添の反応生成物
から分離された硫化水素を含む水素ガスを、そのまま、
または硫化水素の一部を除去しただけで一次水添に循環
させ、新たに補給される水素とともに接触水素添加に使
用すること、ならびに、一次水添に供給される全水素中
の硫化水素濃度Ｘ（容積Ｐｐｍ）および一次水添への原
料油供給速度ｍ（触媒容積あたり容積、毎時）に応じて
、一次水添の触媒層入口の温度Ｔ（℃）を、下式がみた
されるように制御することを特徴とする。
（ただし、０．８≦ｍ≦５）
上式は、５０≦Ｔ≦２００℃の範において有効である。
すなわち、一次水添は５０〜２００℃の温度範囲で行な
う。また、二次水添は２００〜４００℃、一般には２５
０〜３５０℃の温度で実施する。本発明の標準的な精製
法を図面を参照して説明すれば、第１図に示すように、
熱分解ガソリンＣＧを分留塔１で分留し、Ｃ６〜Ｃ８成
分を主体とする留分を分離して、一次水添塔２にかける
。
う。また、二次水添は２００〜４００℃、一般には２５
０〜３５０℃の温度で実施する。本発明の標準的な精製
法を図面を参照して説明すれば、第１図に示すように、
熱分解ガソリンＣＧを分留塔１で分留し、Ｃ６〜Ｃ８成
分を主体とする留分を分離して、一次水添塔２にかける
。
分留塔１から留出するＣ６〜Ｃ８成分は、９７〜１０２
′Ｃの温度をもつている。一次水添の適温が、たとえば
１３０℃であるならば、原料油はわずかに加熱して（一
次水添生成物の一部を有機イオウ化合系に循環すること
により達成できる）一次水添工程に送り、そこでパラジ
ウム触媒により、硫化水素を含有する水素を用いて、ジ
オレフインおよびスチレン類への水素添加を行なう。こ
れらの不飽和成分の存在量に応じて、かなりの発熱とそ
れに伴う昇温をみる。一次水添の生成物は、水素ととも
に二次水添塔３に入り、周期表第ＶＩＢ族（Ｃｒ，ＭＯ
，Ｗ）および鉄族（Ｆｅ，ＣＯ，Ｎｉ）からなる群から
選んだ少なくとも１種を含有する触媒により、二次水添
を受ける。
′Ｃの温度をもつている。一次水添の適温が、たとえば
１３０℃であるならば、原料油はわずかに加熱して（一
次水添生成物の一部を有機イオウ化合系に循環すること
により達成できる）一次水添工程に送り、そこでパラジ
ウム触媒により、硫化水素を含有する水素を用いて、ジ
オレフインおよびスチレン類への水素添加を行なう。こ
れらの不飽和成分の存在量に応じて、かなりの発熱とそ
れに伴う昇温をみる。一次水添の生成物は、水素ととも
に二次水添塔３に入り、周期表第ＶＩＢ族（Ｃｒ，ＭＯ
，Ｗ）および鉄族（Ｆｅ，ＣＯ，Ｎｉ）からなる群から
選んだ少なくとも１種を含有する触媒により、二次水添
を受ける。
これらの触媒のうち現在多く用いられているのは、ＣＯ
−ＭＯ系、Ｎｉ−ＭＯ系およびＮｉ−ＣＯ−ＭＯ系のも
のである。場合により、一次水添の生成物の一部分を、
前記したように一次水添の触媒層入ロへ戻して循環させ
、温度のコントロールをはかつてもよい。この場合、循
環する分はｍの計算に算入しない。二次水添の適温は、
前記のよいに２５０〜３５０℃である。生成物は冷却し
て凝縮させ、水に加えて洗浄し、分離器において気相成
分および洗浄水と分けてＣ６〜Ｃ８成分をとり出し、所
望であればさらに最終精製・分留工程に向ける。原料油
中には通常は有機窒素成があり、二次水添によりアンモ
ニアが生成するが、これは上記の水洗により除去される
。気相成分すなわち硫化水素を含む水素は、消費された
水素を補給して一次水添工程へ循環させる。
−ＭＯ系、Ｎｉ−ＭＯ系およびＮｉ−ＣＯ−ＭＯ系のも
のである。場合により、一次水添の生成物の一部分を、
前記したように一次水添の触媒層入ロへ戻して循環させ
、温度のコントロールをはかつてもよい。この場合、循
環する分はｍの計算に算入しない。二次水添の適温は、
前記のよいに２５０〜３５０℃である。生成物は冷却し
て凝縮させ、水に加えて洗浄し、分離器において気相成
分および洗浄水と分けてＣ６〜Ｃ８成分をとり出し、所
望であればさらに最終精製・分留工程に向ける。原料油
中には通常は有機窒素成があり、二次水添によりアンモ
ニアが生成するが、これは上記の水洗により除去される
。気相成分すなわち硫化水素を含む水素は、消費された
水素を補給して一次水添工程へ循環させる。
循環水素中の硫化水素は水洗により若干は除かれるが、
それでは不足で循環ガス中に蓄積し、その結果最適値が
２００℃を超えるようであれば、再水洗またはアルカリ
洗浄などの手段で積極的にその量を減らせばよい。循環
水素中の硫化水素が１１００ｐｐｍてあるときには、同
量の新規水素を加えるならば、一次水添に供給される全
水素中の硫化水素濃度Ｘは５５０ｐｐｍとなり、ｍ＝１
のときの好適温度は前記の式により１３１±１０℃とな
るから、あえて硫化水素を除去する必要はない。スター
トアップ時であつて、循環水素ガス中の硫化水素濃度が
低いときか、その濃度に応じて除々に温度を高めて行け
ばよい。このようにして、本発明は、水素中の硫化水素
濃度を、それがあまり過大にならない限り、あまり気に
することはなく循環させ、その濃度に応じた触媒層入口
温度を与えることにより円滑に操業を続けることもでき
るし、適切な一次水添温度をもたらすように硫化水素の
除去の度合を調節してもよく、それも容易に実行できる
。
それでは不足で循環ガス中に蓄積し、その結果最適値が
２００℃を超えるようであれば、再水洗またはアルカリ
洗浄などの手段で積極的にその量を減らせばよい。循環
水素中の硫化水素が１１００ｐｐｍてあるときには、同
量の新規水素を加えるならば、一次水添に供給される全
水素中の硫化水素濃度Ｘは５５０ｐｐｍとなり、ｍ＝１
のときの好適温度は前記の式により１３１±１０℃とな
るから、あえて硫化水素を除去する必要はない。スター
トアップ時であつて、循環水素ガス中の硫化水素濃度が
低いときか、その濃度に応じて除々に温度を高めて行け
ばよい。このようにして、本発明は、水素中の硫化水素
濃度を、それがあまり過大にならない限り、あまり気に
することはなく循環させ、その濃度に応じた触媒層入口
温度を与えることにより円滑に操業を続けることもでき
るし、適切な一次水添温度をもたらすように硫化水素の
除去の度合を調節してもよく、それも容易に実行できる
。
あるいはまた原料油供給速度を調節することによつて、
望ましい操業条件をつくり出すこともできる。たとえば
、触媒層に入る硫化水素の濃度がＸ＝３００ｐｐｍであ
り、原料油供給速度がｍ＝１である場合、前記の式から
、一次水添の適温は９８±１０℃となる。
望ましい操業条件をつくり出すこともできる。たとえば
、触媒層に入る硫化水素の濃度がＸ＝３００ｐｐｍであ
り、原料油供給速度がｍ＝１である場合、前記の式から
、一次水添の適温は９８±１０℃となる。
この関係は、いくつかのｍについて、硫化水素濃度Ｘに
対する温度Ｔの関係をグラフで示した第２図にみるとお
りである。一次水添の温度が９８゜Ｃであることは、分
留塔からのＣ６〜Ｃ８成分を、加熱も冷却もせずに、一
次水添に供給できることを意味する。Ｃ６〜Ｃ８以外に
Ｃ６成分も回収する場合には、分留温度はさらに高くな
るが、二次水添は比較的高温において行なうので、一次
水添をもつと高温で実施してもよい。原料油中のイオウ
含量が少なく、循環ガス中の硫化水素濃度が低い楊合に
は、一次水添最適温度が分留温度よりも低く、若干の冷
却を必要とすることもあり得るが、硫化水素が存在しな
い場合にくらべれば高くなる方向にあるので、それなり
に温度ギャップが小さくない。いずれにせよ、Ｘ．．ｍ
およびＴの間に前記の式の関係が成立する限り、後に掲
げる実例が示すとおり、一次水添においてジオレフイン
および接触水素添加の側鎖への水素添加が高度に選択的
に行なわれ、芳香族への水素添加はほとんど起らない。
対する温度Ｔの関係をグラフで示した第２図にみるとお
りである。一次水添の温度が９８゜Ｃであることは、分
留塔からのＣ６〜Ｃ８成分を、加熱も冷却もせずに、一
次水添に供給できることを意味する。Ｃ６〜Ｃ８以外に
Ｃ６成分も回収する場合には、分留温度はさらに高くな
るが、二次水添は比較的高温において行なうので、一次
水添をもつと高温で実施してもよい。原料油中のイオウ
含量が少なく、循環ガス中の硫化水素濃度が低い楊合に
は、一次水添最適温度が分留温度よりも低く、若干の冷
却を必要とすることもあり得るが、硫化水素が存在しな
い場合にくらべれば高くなる方向にあるので、それなり
に温度ギャップが小さくない。いずれにせよ、Ｘ．．ｍ
およびＴの間に前記の式の関係が成立する限り、後に掲
げる実例が示すとおり、一次水添においてジオレフイン
および接触水素添加の側鎖への水素添加が高度に選択的
に行なわれ、芳香族への水素添加はほとんど起らない。
また、ジオレフインまたはスチレン類の重合によるガム
の生成もない。
の生成もない。
この範囲より低い温度では、水素添加が全体として不十
分にしか行なわれず、一方、高すぎる温度では、水素添
加はほぼ完全に行なわれるが、芳香核も攻撃されるので
、口スを１％以下に止めるといつた目標は達成できなく
なる。そこで、本発明の精製法の実施に当つては、一次
水添の温度を制御するほか、必要により循環水素中の硫
化水素濃度を調節するなり、原料供給速度を変更するな
り、あるいはこれら三者を相関的に組み合わせて最適の
条件を見出すなりして、好ましい操業を継続すべきこと
が結論される。
分にしか行なわれず、一方、高すぎる温度では、水素添
加はほぼ完全に行なわれるが、芳香核も攻撃されるので
、口スを１％以下に止めるといつた目標は達成できなく
なる。そこで、本発明の精製法の実施に当つては、一次
水添の温度を制御するほか、必要により循環水素中の硫
化水素濃度を調節するなり、原料供給速度を変更するな
り、あるいはこれら三者を相関的に組み合わせて最適の
条件を見出すなりして、好ましい操業を継続すべきこと
が結論される。
それにより、精製を所期の高レベルに行なうとともに、
芳香族成分のロスおよび水素消費を最少限におえ、かつ
消費エネルギーの節約が期待できる。本発明の精製法に
おける一次水添の操業条件について補足すれば、温度を
５０〜２００℃、原料油供給速度を０．８〜５／Ｈｒの
範囲とすべきことのほか、水素／原料油の割合は、モル
比で０．０１〜５、通常は０．４〜２．０の範囲とする
。圧力は、水素添加反応であるから当然に加圧が有利で
あるが、経験によれば、圧力の大小は本発明にかかわる
前記の温度式にほとんど影響しないので、実際上採用で
きる範囲、たとえば１０〜８０ｋ９／ＣＩｔＧからえら
べばよく、通常は３０〜６０ｋｇ／Ｃ７ｌｆＧが適当で
あろう。実施例１〜４および比較例１〜４パラジウム触
媒を用いた一次水添において、なるべく高率で行なおう
とするスチレンの側鎖への水素添加すなわちエチルベン
ゼンへの転化と、可能な限り避けたいベンゼン核への水
素添加すなわちシクロヘキサンへの転化とが、触媒温度
、循環硫化水素濃度および原料油供給速度によつてどの
よに変化するかを次の実験例をもつて示し、本発明で採
用した前記の式を裏付ける。
芳香族成分のロスおよび水素消費を最少限におえ、かつ
消費エネルギーの節約が期待できる。本発明の精製法に
おける一次水添の操業条件について補足すれば、温度を
５０〜２００℃、原料油供給速度を０．８〜５／Ｈｒの
範囲とすべきことのほか、水素／原料油の割合は、モル
比で０．０１〜５、通常は０．４〜２．０の範囲とする
。圧力は、水素添加反応であるから当然に加圧が有利で
あるが、経験によれば、圧力の大小は本発明にかかわる
前記の温度式にほとんど影響しないので、実際上採用で
きる範囲、たとえば１０〜８０ｋ９／ＣＩｔＧからえら
べばよく、通常は３０〜６０ｋｇ／Ｃ７ｌｆＧが適当で
あろう。実施例１〜４および比較例１〜４パラジウム触
媒を用いた一次水添において、なるべく高率で行なおう
とするスチレンの側鎖への水素添加すなわちエチルベン
ゼンへの転化と、可能な限り避けたいベンゼン核への水
素添加すなわちシクロヘキサンへの転化とが、触媒温度
、循環硫化水素濃度および原料油供給速度によつてどの
よに変化するかを次の実験例をもつて示し、本発明で採
用した前記の式を裏付ける。
スチレン類／ベンゼンニ２０／８０（容積比）の混合物
を原料として、アルミナ担持パラジウム触媒を充顛した
反応器に硫化水素含有水素とともに供給し、水素／原料
油＝１／１（モル比）、圧力６０ｋ９／ＤＧｌおよび表
に記した条件で水素添加を行なつた。
を原料として、アルミナ担持パラジウム触媒を充顛した
反応器に硫化水素含有水素とともに供給し、水素／原料
油＝１／１（モル比）、圧力６０ｋ９／ＤＧｌおよび表
に記した条件で水素添加を行なつた。
各実施例および比較例の条件は、第２図のグラフにも示
してある。反応生成物をガスクロトグラフイーにより分
析し、転化率を算出した。
してある。反応生成物をガスクロトグラフイーにより分
析し、転化率を算出した。
その結果を、あわせて表に示す。実施例５
ジエン価２＼イオウ含有２４０ｐｐｍの分解ガソリンを
原料油とし、その供給速度をｍ＝１／Ｈｒと一定した条
件下に、アルミナ担持パラジウム触媒による一次水添を
行なつた。
原料油とし、その供給速度をｍ＝１／Ｈｒと一定した条
件下に、アルミナ担持パラジウム触媒による一次水添を
行なつた。
循環水素ガス中の硫化水素濃度は、Ｘ＝
５５０ｐｐｍ（容積）であつたから、採用すべき触媒層
入口の温度範囲は、前記の式から（１３２±１０）゜Ｃ
と算出された。
入口の温度範囲は、前記の式から（１３２±１０）゜Ｃ
と算出された。
そこで、温度Ｔ＝１３０℃として操業したところ、生成
物のジエン価は０８以下に低下しており、ベンゼン核へ
の水素添加は痕跡程度（イ）．１％以下）しか認められ
なかつた。
物のジエン価は０８以下に低下しており、ベンゼン核へ
の水素添加は痕跡程度（イ）．１％以下）しか認められ
なかつた。
第１図は、本発明の芳香族炭化水素の精製法を説明する
ためのフローチャートである。 第２図は、本発明の精製法において採用すべき一次水添
の触媒層入口温度Ｔの中心値の、硫化水素濃度との関係
を、種々の原料油供給速度に応じてあられたグラフであ
る。１・・・・・・分留塔、２・・・・・・一次水添、
３・・・・・・二次水添。
ためのフローチャートである。 第２図は、本発明の精製法において採用すべき一次水添
の触媒層入口温度Ｔの中心値の、硫化水素濃度との関係
を、種々の原料油供給速度に応じてあられたグラフであ
る。１・・・・・・分留塔、２・・・・・・一次水添、
３・・・・・・二次水添。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ Ｃ＿６〜Ｃ＿８芳香族炭化水素を主体とする原料油
を、まず、パラジウム触媒用いる比較的低温の接触水素
添加処理（一次水添）にかけ、その中のジオレフィンお
よびスチレン類に水素添加することによつてこれらを除
去し、ついで、周期律表第ＶＩＢ族元素（Ｃｒ、Ｍｏ、
Ｗ）および鉄族元素（Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ）からなる群か
ら選んだ少なくとも一種の触媒を用いる比較的高温の接
触水素添加処理（二次水添）にかけ、含有されている有
機イオウ化合物を硫化水素に変えたのち芳香族成分を分
離回収し、二次水添の反応生成物から分離された硫化水
素を含む水素ガスを、そのまま、または硫化水素の一部
を除去しただけで一次水添工程に循環させ、新たに補給
される水素とともに接触水素添加に使用することからな
るＣ＿６〜Ｃ＿８芳香族炭化水素の精製法において、一
次水添に供給される全水素中の硫化水素濃度Ｘ（容積ｐ
ｐｍ）、一次水添への原料油供給速度ｍ（触媒容積あた
り容積、毎時、および一次水添の触媒層入口の温度Ｔ（
℃）のうちのいずれか二つを測定し、その測定値と他の
一つとの間に下式の関係が成立するように他の一つを制
御して実施することを特徴とする方法。 Ｔ＝（２−１／ｍ）（３０Ｘ＋６００）＾１＾／＾２±
１０（ただし、０．８≦ｍ≦５、５０≦Ｔ≦２００の範
囲内）２ 原料油して熱分解ガソリンを使用する特許請
求の範囲第１項の精製法。 。３ 前記の式による一次水添温度が５０〜２００℃の
範囲になるように、あらかじめＸを限界値内にコントロ
ールして実施する特許請求の範囲第１項の精製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12696780A JPS6041644B2 (ja) | 1980-09-12 | 1980-09-12 | 芳香族炭化水素の精製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12696780A JPS6041644B2 (ja) | 1980-09-12 | 1980-09-12 | 芳香族炭化水素の精製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5750930A JPS5750930A (en) | 1982-03-25 |
| JPS6041644B2 true JPS6041644B2 (ja) | 1985-09-18 |
Family
ID=14948322
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12696780A Expired JPS6041644B2 (ja) | 1980-09-12 | 1980-09-12 | 芳香族炭化水素の精製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6041644B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH032927U (ja) * | 1989-05-31 | 1991-01-11 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19710762A1 (de) * | 1997-03-14 | 1998-09-17 | Basf Ag | Verfahren zur Reinigung von Stoffströmen |
| DE19840372A1 (de) * | 1998-09-04 | 2000-03-09 | Basf Ag | Katalysator und Verfahren zur Reinigung von Stoffströmen |
-
1980
- 1980-09-12 JP JP12696780A patent/JPS6041644B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH032927U (ja) * | 1989-05-31 | 1991-01-11 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5750930A (en) | 1982-03-25 |
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