JPS6041745A - 電子ビ−ム装置 - Google Patents
電子ビ−ム装置Info
- Publication number
- JPS6041745A JPS6041745A JP59146154A JP14615484A JPS6041745A JP S6041745 A JPS6041745 A JP S6041745A JP 59146154 A JP59146154 A JP 59146154A JP 14615484 A JP14615484 A JP 14615484A JP S6041745 A JPS6041745 A JP S6041745A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aperture
- electron
- diameter
- crossover
- anode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/06—Electron sources; Electron guns
- H01J37/063—Geometrical arrangement of electrodes for beam-forming
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野:
ビ
本発明は走査電子顕微鏡または電子へ−ムリトーダラフ
イー装置のような電子ビーム装置に使用する電子ビーム
を発生するための電子銃の改善に関し、とくにクロスオ
ー・S結像電子銃と区別されるア・?−チュア結像電子
銃の形成に関する。本発明は電子銃が電子放出源の材料
として6ホウ化ランタン(LaB6)のような希土類ホ
ウ化物の陰極を有する場合とくに重要である。
イー装置のような電子ビーム装置に使用する電子ビーム
を発生するための電子銃の改善に関し、とくにクロスオ
ー・S結像電子銃と区別されるア・?−チュア結像電子
銃の形成に関する。本発明は電子銃が電子放出源の材料
として6ホウ化ランタン(LaB6)のような希土類ホ
ウ化物の陰極を有する場合とくに重要である。
従来の技術:
公知クロスオー/S結像電子銃を説明するためLaB、
、エミッタ12、ア・ξ−チュアを備えるウェーネルト
電極14(グリッPキャップまたは制御電極とも称され
る。)およびア/ξ−チュアを備える陽極16を有する
公知電子銃1oを示す第2図を参照する。エミッタ12
を適嶋な電源から電気的に加熱すると、ビーム22内に
クロスオーバ点または電子ソース2oがウェーネルト電
極14と陽極16の間に形成され、♂−ム22はクロス
オーツζA20がラアノξ−チュアを介して陽極内で発
散し、ビーム制限または形成アパーチュア26を有する
板24を照明する。
、エミッタ12、ア・ξ−チュアを備えるウェーネルト
電極14(グリッPキャップまたは制御電極とも称され
る。)およびア/ξ−チュアを備える陽極16を有する
公知電子銃1oを示す第2図を参照する。エミッタ12
を適嶋な電源から電気的に加熱すると、ビーム22内に
クロスオーバ点または電子ソース2oがウェーネルト電
極14と陽極16の間に形成され、♂−ム22はクロス
オーツζA20がラアノξ−チュアを介して陽極内で発
散し、ビーム制限または形成アパーチュア26を有する
板24を照明する。
ビームのビーム形成アノぐ−チュアがら出る部分は電子
銃の下流で代表的電子ビームカラム内の一連の電子レン
ズによって制御される。
銃の下流で代表的電子ビームカラム内の一連の電子レン
ズによって制御される。
公知電子銃の場合、電子銃下流のビーム形成または成形
アパーチュアは通常クロスオーバ(陰極サイズ、位置お
よび電極形状の関数である。)の直径より太きい。光学
系がガウスビームであ成または成形ア・ξ−チュアが結
像するオブジェクトの代りである場合、光学系は成形ビ
ームまたはケラ−モード結像系と称される。いずれのタ
イプの光学系においてもクロスオーバの特性は結像過程
に重要な役割を演する。
アパーチュアは通常クロスオーバ(陰極サイズ、位置お
よび電極形状の関数である。)の直径より太きい。光学
系がガウスビームであ成または成形ア・ξ−チュアが結
像するオブジェクトの代りである場合、光学系は成形ビ
ームまたはケラ−モード結像系と称される。いずれのタ
イプの光学系においてもクロスオーバの特性は結像過程
に重要な役割を演する。
発明が解決しようとする問題点:
しかしL a B 6のような希土類ホウ化物陰極は陰
極材料としてきわめて適するけれど、動作する高温で少
しく反応性であり、このような高温でガス吸収およびガ
ス発生により電子放出特性が変化し、その結果ビームの
クロスオー・’点2゜のサイズ変化および(または)断
面寸法の(真円からの)変化を生ずることも公知である
。このように公知の電子銃および後置光学系如はクロス
オーバ点が重要であり、断面寸法のこの変化により、処
理しなければならないビームカラム下流のビームに問題
が生ずることは明らかである。。
極材料としてきわめて適するけれど、動作する高温で少
しく反応性であり、このような高温でガス吸収およびガ
ス発生により電子放出特性が変化し、その結果ビームの
クロスオー・’点2゜のサイズ変化および(または)断
面寸法の(真円からの)変化を生ずることも公知である
。このように公知の電子銃および後置光学系如はクロス
オーバ点が重要であり、断面寸法のこの変化により、処
理しなければならないビームカラム下流のビームに問題
が生ずることは明らかである。。
本発明の目的は電子銃尾よって形成されるオブジェクト
のサイズを陰極サイズおよび位置ならびに電極形状と無
関係に制御することである。
のサイズを陰極サイズおよび位置ならびに電極形状と無
関係に制御することである。
問題点を解決するための手段:
この目的はビーム形成アパーチュアを陽極面に近接して
または陽極面内に電子銃のビームと一致するように配置
することによって達成される。ビーム形成アノξ−チュ
アはその際ソースクロスオーバによって照明され、ビー
ムカラム内に続く一連の電子レンズのだめのオブジェク
)・になる。このビーム形成アパーチュアの直径はソー
スクロスオーバの直径より小さく、公知銃の場合のソー
スクロスオー・々のように結像される。本発明の新規性
はア・ぐ−チュアが実際の銃のクロスオーバより小さく
、かつこのクロスオーバにできるだけ接近していること
((ある。
または陽極面内に電子銃のビームと一致するように配置
することによって達成される。ビーム形成アノξ−チュ
アはその際ソースクロスオーバによって照明され、ビー
ムカラム内に続く一連の電子レンズのだめのオブジェク
)・になる。このビーム形成アパーチュアの直径はソー
スクロスオーバの直径より小さく、公知銃の場合のソー
スクロスオー・々のように結像される。本発明の新規性
はア・ぐ−チュアが実際の銃のクロスオーバより小さく
、かつこのクロスオーバにできるだけ接近していること
((ある。
実施例:
前記のように第2図は一般にクロスオー・ぐ点より大き
い100〜400 ’<クロンの直径を有ずろビーム形
成ア/8−チュアを介してソースクロスオーバが結像さ
れる公知電子銃を示す。希土類ホウ化物陰極の性質のた
め、ソースクロスオーツこのサイズ、横断面寸法および
真円度が変化し、したがってビーム結像も変化する欠点
がある。
い100〜400 ’<クロンの直径を有ずろビーム形
成ア/8−チュアを介してソースクロスオーバが結像さ
れる公知電子銃を示す。希土類ホウ化物陰極の性質のた
め、ソースクロスオーツこのサイズ、横断面寸法および
真円度が変化し、したがってビーム結像も変化する欠点
がある。
第1図で第2図と同じ機能を有する要素は同じ参照番号
にaを付けて示され、この図にはアパーチュアを有する
ウェーネルト電極14aに対して配置したLaB6エミ
ツク12aがエミッタ表面から公知銃10とほぼ同じ位
置にある電子ビーム22aのクロスオーバ点2 (11
トともに示される。しかしこの電子a]、Oaの場合、
ビーム形成アノξ−チュア20aは陽極の平面に配置さ
れ、または図示の実施例では陽極の一部を形成するので
、ア・ぐ−チュアはクロスオーバによって照明される。
にaを付けて示され、この図にはアパーチュアを有する
ウェーネルト電極14aに対して配置したLaB6エミ
ツク12aがエミッタ表面から公知銃10とほぼ同じ位
置にある電子ビーム22aのクロスオーバ点2 (11
トともに示される。しかしこの電子a]、Oaの場合、
ビーム形成アノξ−チュア20aは陽極の平面に配置さ
れ、または図示の実施例では陽極の一部を形成するので
、ア・ぐ−チュアはクロスオーバによって照明される。
ア・ξ−チュアの1へ径がクロスオーバの直径より小さ
く、代表的には10〜25ミクロンなので、クロスオー
ツ52oaのビーム形成アパーチュア2Gaから射出す
る部分のみが結像され、電子ビームカラム内に続く一連
の電子レンズのためのオブジェクトとなる。
く、代表的には10〜25ミクロンなので、クロスオー
ツ52oaのビーム形成アパーチュア2Gaから射出す
る部分のみが結像され、電子ビームカラム内に続く一連
の電子レンズのためのオブジェクトとなる。
このようにビームのオブジェクトサイズは陰極サイズ、
位置および電極形状と無関係に制御されるので、エミッ
タの不安定性眞基くクロスオーバの横断面寸法の変化が
除去される。
位置および電極形状と無関係に制御されるので、エミッ
タの不安定性眞基くクロスオーバの横断面寸法の変化が
除去される。
換言すれば本発明の場合電子銃10aは近似クリティカ
ル照明で動作し、アノξ−チュア直径対りロスオ〜バ直
径の比は1より小さいけれど、公知銃の場合アパーチュ
ア直径とクロスオーバ直径の比は1より太きい。本発明
は後置結像系のためのオブジェクト(ソース)としてク
ロスオーバより小さいア・ぐ−チュアを使用する。
ル照明で動作し、アノξ−チュア直径対りロスオ〜バ直
径の比は1より小さいけれど、公知銃の場合アパーチュ
ア直径とクロスオーバ直径の比は1より太きい。本発明
は後置結像系のためのオブジェクト(ソース)としてク
ロスオーバより小さいア・ぐ−チュアを使用する。
エミッタ表面のサイズ、ウェーネルト電極のアパーチュ
アのサイズ、そのエミッタからの距離およびクロスオー
、6がビーム形成アパーチュアを照明しうるための陽極
とウェーネルト電極の距離は当業者には公知である。
アのサイズ、そのエミッタからの距離およびクロスオー
、6がビーム形成アパーチュアを照明しうるための陽極
とウェーネルト電極の距離は当業者には公知である。
第1図は本発明による電子銃、第2図は公知電子銃の原
理を示す図である。 10 、 l Oa □=電子銃、12 、12 a・
・、=cミッタ、14,14a゛ウエーネルト電極、1
6゜16a・・・陽極、20120a・・クロスオーツ
ぐ、22.22a・・・電子ビーム、24・・板、26
゜26a・・・アパーチュア
理を示す図である。 10 、 l Oa □=電子銃、12 、12 a・
・、=cミッタ、14,14a゛ウエーネルト電極、1
6゜16a・・・陽極、20120a・・クロスオーツ
ぐ、22.22a・・・電子ビーム、24・・板、26
゜26a・・・アパーチュア
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 電子ビームカラムへ電子ビームを供給する電子ビー
ム装置にお℃・て、 加熱した際電子を放出する希土類ホウイヒq勿陰極エミ
ッタ、アパ−チュアな有するウェーネルト電極およびビ
ーム通路に配置したビーム形成アパーチュアを有する板 を有し、ウェーネルト電極、エミツタオdよび陽極が、
ノースクロスオー、ノ々の直径よCつ/」−さいビーム
形成アパ−チュアの直径を有するビーム内にソースクロ
スオーツ々が形成さJするような関係にあり、 ア・ξ−チュアを有する板がソースクロスオーバの近く
に配置され、ソースクロスオー、6がビー、ム形成アパ
ーチュアを照明し、電子ビームカラム内に続く一連の電
子レンズのためのオブジェクトを形成する ことを特徴とする電子ビーム装置。 2、7パーチユアを有する板が陽極゛(′而に配置され
ている特許請求の範囲第1項記載の装置。 3 ア・ξ−チュアを有する板が陽極の一部を形成して
いる特許請求の範囲第1項記載の装置。 4 アパーチュアを有する板が陽極平面に近接して配置
されている特許請求の範囲第1項記載の装置。 5 希土類ホウ化物がLaB6である特許請求の範囲第
1項記載の装置。 6 ア・ぐ−チュアの直径が15〜25ミクロンの範囲
である特許請求の範囲第1項記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US51584783A | 1983-07-21 | 1983-07-21 | |
| US515847 | 1983-07-21 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6041745A true JPS6041745A (ja) | 1985-03-05 |
Family
ID=24053009
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59146154A Pending JPS6041745A (ja) | 1983-07-21 | 1984-07-16 | 電子ビ−ム装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0132657A1 (ja) |
| JP (1) | JPS6041745A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19730855C1 (de) * | 1997-07-18 | 1999-02-11 | Audi Ag | Strahlerzeugungssystem für Elektronenkanonen |
| US11335608B2 (en) * | 2020-04-15 | 2022-05-17 | Kla Corporation | Electron beam system for inspection and review of 3D devices |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE12730C (de) * | 1955-06-16 | G. BERGEVIN in Paris | Sicherheitsschlofs | |
| GB1210007A (en) * | 1968-07-05 | 1970-10-28 | Mullard Ltd | Cathode |
| DE2815478C2 (de) * | 1978-04-10 | 1984-03-15 | Messer Griesheim Gmbh, 6000 Frankfurt | Technisches Ladungsträgerstrahlgerät zur Materialbearbeitung |
| US4210806A (en) * | 1979-01-18 | 1980-07-01 | International Business Machines Corporation | High brightness electron probe beam and method |
-
1984
- 1984-07-06 EP EP19840107904 patent/EP0132657A1/en not_active Withdrawn
- 1984-07-16 JP JP59146154A patent/JPS6041745A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0132657A1 (en) | 1985-02-13 |
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