JPS6041872B2 - カラ−固体撮像素子板 - Google Patents

カラ−固体撮像素子板

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JPS6041872B2
JPS6041872B2 JP54078805A JP7880579A JPS6041872B2 JP S6041872 B2 JPS6041872 B2 JP S6041872B2 JP 54078805 A JP54078805 A JP 54078805A JP 7880579 A JP7880579 A JP 7880579A JP S6041872 B2 JPS6041872 B2 JP S6041872B2
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solid
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light
film
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暁 岡崎
紀彦 津久井
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F77/00Constructional details of devices covered by this subclass
    • H10F77/30Coatings
    • H10F77/306Coatings for devices having potential barriers
    • H10F77/331Coatings for devices having potential barriers for filtering or shielding light, e.g. multicolour filters for photodetectors

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  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Color Television Image Signal Generators (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、カラー固体撮像素子に関し、特に受光面に
直接的あるいは接着剤層を介して非Al遮光層および着
色フィルター素子からなる色分離フィルターを配置して
なるカラー固体撮像素子に関する。
現在までに、固体撮像素子として、CCD方式、MO
S方式、BBD方式、CID方式等の各種の方式による
ものが提案され、また使用されている。
これらの固体撮像素子では受光部ないしは受光面の場所
ごとの入力光量の差を弁別して出力させることが必要と
なるため、受光部は画素と呼ばれる単位面積に分割され
、各画素はポイント検出器の役割を果す。この画素は独
立した機能素子で。も良いし、連続体を仮想的に分割し
た形でも良い。このような固体撮像素子はポイント検出
器の集合体としてとらえることができるが、現在のテレ
ビジョンシステム等の送像ないしは像記録システムでは
、出力がパラレルであると、後の信号処ク理、伝送が複
雑となり対応しきれないので、出力は時系列的信号とす
る必要がある。この意味で固体撮像素子は二次元分布を
持つ入射光を時系列の電気信号に変換する機能を持つデ
バイスであり、基本的には次のΞつの機能より成り立つ
。 光電変換機能・・・・・・受光面の個々の画素の感
光部で、入射光をその強度に対応する電気量へ変換する
機能であり、通常は吸収した光のエネルギーによりキャ
リアを励起する過程が用いられることが多い。
解像度を保つため画素ごとに独立した光電変換が行われ
る。 電荷の蓄積機能・・・・・・光電変換の結果とし
て電気信号を出力として取り出すわけであるが、出力は
時系列信号である必要があり、個々の瞬間を考えると一
つの画素からの信号のみを出力することになり、他の画
素はその間休んでいることになる。
一方、入射光は遊んでいる画素にも常時人つてくるので
、この情報を遊んでいる期間の間、積分保持しておけば
、個々の画素への走査の瞬間ごとにその瞬間における入
射光に応じた出力を出すよりも、撮像素子全体として画
像数倍たけ多く出力を取り出すことができる。これが蓄
積機能である。走査・出力機能・・・・・・個々の画素
に蓄積した電荷の放電状態に応じた出力を時間順次的に
取り出すこため、MOS方式、CID方式ではXY指定
方式により出力を取り出し、CCD方式、BBD方式で
は信号転送方式により出力を取り出している。 このよ
うなΞ機能を備える固体撮像素子を用いて、カラー固体
撮像素子板を構成するためには、従来、入射光をプリズ
ムないしはダイクロイックミラー等を介して、赤色光、
緑色光、青色光に分解して三枚の固体撮像素子の個々に
照射する三板方式が用いられてきた。しかしながら、こ
れら三板方式は、固体撮像素子を三つ必要とするため装
置が高価になるだけでなく、色分解にプリズムあるいは
ミラー系を用いるため、撮像素子の重量やサイズが大き
くなり、さらにレジストレーシヨンの問題が発生しやす
く、小型、軽量、低価格を目標としたカラー固体撮像装
置の大きな欠点となつている。本発明者らは、上述した
従来のカラー固体撮像装置の欠点を改良し、小型、軽量
且つ低価格のカラー固体撮像装置を提供すべく研究した
結果、すてに固体撮像素子の受光面に存在する感光部(
複数)を設けたことを特徴とする新規なりラー固体撮像
素子板(本明細書を通じてこの「固体撮像素子板」の語
は、受光面に着色フィルターを設けてなる固体撮像素子
を指すものとして使用する)を開発している(昭和5詳
特許願第92991号)。
このような固体撮像素子板の1枚をレンズと組み合せれ
ば、極めて簡単に単板方式に相当する固体撮像装置が構
成できる。そしてこのような固体撮像装置は、固体撮像
素子を一つ使用するだけのため、レジストレーシヨンの
問題がなく、またミラー、プリズム等による色分解部が
必要ないため、ならびに周辺回路部も簡略化されるため
、撮像装置が飛躍的に軽量化ならびに小型化される。し
かしながら、上述した昭和53年特許願第92991号
にかかる技術て用いる固体撮像素子は慣性のとうり、受
光面の各画素に存在する非感光部の上に遮光のためのA
1膜を有するものであり、本発明者らのその後の研究に
よれば、このような非感光部の遮光のためのA1膜の使
用は、好ましくないことが見出された。すなわち、この
ようなA1膜は、固体撮像素子の製造の最終段階で一面
に設けたA1膜をエッチング几てNによる各電極配線と
ともに形成されてきたが、A1膜のエッチング特性はそ
れ程良くないために、固体撮像素子の小型化の要求とと
もに各画素が微小化してくると、それに迫随できる程の
パターン精度が出なくなる。このため、感光部の1ハO
程度の感光性を有する非感光部に光が入射して固体撮像
素子全体の特性を低下する欠点がある。本発明では、慣
用のN遮光膜を除いた固体撮像素子(本明細書で本発明
の記述のために用いる「固体撮像素子」の語は、このよ
うにA]遮光膜を除いた固体撮像素子を指すものとして
用いる)から出発して、非感光部上に製造方法と関連し
てパターン精度の優れた非N遮光膜を設けるとともに、
非に遮光膜と端部において重なる着色フィルター素子を
感光部上に設けることにより、カラー固体撮像素子板の
色分離特性を向上し、ノイズを減少するとともに、着色
フィルター素子の形成をも容易にせんとするものである
以下、本発明を図面を参照しつつ先行技術と関連して更
に詳しく説明する。
上記先行技術にかかる固体撮像素子板は、一例としてフ
レーム転送方式のCCD固体撮像素子板について第1図
に示すような平面素子配置の固体撮像素子1″(11は
受光部、11aは画素、12は蓄積部、13はシフトレ
ジスター部、14はワイヤーボンディング用のボンディ
ングバッド部である)と第1図の■−■線に沿つて取つ
た第2図に示すような部分拡大断面構造(21はSi基
板、22は拡散またはイオン注入によるチャンネルスト
ッパーで22,23が非感光部、24はSlO2の酸化
膜、25はポリシリコンの輸送電極、26はSiO2、
PSC(リン珪酸ガラス)、Si3N4等の絶縁材料薄
膜からなるパシベーシヨン層、27はA1遮光膜)を有
する固体撮像素子1″から出発して、各画素の感光部1
1b上に第3図に示すように異なる色の着色フィルター
素子3R,3G,3Bを形成してなる。また、22,2
3の非感光部は第2図に示した構成の場合だけでなく、
厚い酸化膜を使用した場合、閾値電極を使用した場合等
がある。さらにCCDてもインターライン転送方式の場
合は構成が異なる。これに対し、本発明のカラー固体撮
像素子板は、第2図は固体撮像素子1″からA1膜27
を除いた第4図に断面構造を示す固体撮像素子1から出
発して、典型例を第5図に示すようにぞの非受光部22
及び23上に非A1遮光膜28を形成するとともに、感
光部11b上に着色フィルター素子3R,3G,3Bを
各感光部の面積よりも広く形成してその端部において非
A1遮光膜28と重ねた構成を有する。
このようなりラー固体撮像素子板の製造法について、以
下に詳述する。
第4図に示すような本発明に供する固体撮像素子1自体
は、非感光部22及び23上にA1膜を設けない点を除
いて従来と全く同様にして得ることができる。
すなわち、市販されているシリコンウェハーに対して、
薄膜形成、不純物拡散、写真蝕刻技術等の通常のウェハ
ープロセスにより、ウェハー上に第6図に示すように複
数の固体撮像素子1を一挙に製造する。この段階での固
体撮像素子1は、第1図の状態にあり、受光部11はた
とえば第1図に示すように碁盤目状の画素11aの集合
により形成されており、また蓄積部12、およびシフト
レジスター部13も単位素子に分割されている。更に受
光部11、蓄積部12、シフトレジスター部13上には
パッシベーション層が設けられている。第5図に示すよ
うな本発明のカラー固体撮像素子板を得るためには、ま
ず第7図aに示すように固体撮像素子1の非感光部22
及び23上に非Al遮光膜28を設ける。
この際非A1遮光膜は蓄積部12およびシフトレジスタ
ー部13上に設けてもよく、これらの部分は特に厳密な
パターン精度を要求されないので、A1遮光膜のままで
もよい。非A1遮光膜28としては各種のものが用いら
れる。
それらの具体例ならびに概略製造法は次の通りである。
(イ)有機高分子樹脂の黒色着色膜 溶液塗布等の通常の製膜技術より製膜後、(i)製版(
たとえば感光性樹脂の場合は焼付け、現.像)してパタ
ーン化後、湿式染色あるいは乾式染色(転写紙を用いた
昇華転写)等により着色するか、あるいは(11)製膜
後、まず湿式ないしは乾式染色により着色し、次いで着
色樹脂膜についてレジスト製版し、プラズマエッチング
ある.いはスパッタエッチング等によりパターン化する
より具体的には、ゼラチン、力ティン、フイツシユグリ
ユー、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンな
どの水溶性樹脂に感光剤と・して重クロム酸塩、クロム
酸塩、ジアゾ化合物等を添加して感光性樹脂として、そ
の水溶液を塗布、乾燥後、非感光部23のパターンを持
つマスクを通して露光し、現像してパターン化した樹脂
膜を所望の黒色染料により着色する。
またセルロース系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂
、ポリアミド、ポリエステル、ウレタン系樹脂等の樹脂
膜を、そのパターン化の前または後に分散染料、油溶性
染料、カチオン染料等の染料により染色することもでき
る。(ロ)CrlZr,.W..Ti,.Ta等の金属
薄膜これらは真空蒸着法、スパッタリング法等により製
膜し、通常の写真飾刻技術等によりパターン化する。
(ハ)有機染料、顔料および無機顔料の黒色膜これらは
真空蒸着、スパッタリング等により製膜し、製版技術に
一般によりパターン化する。
具体的にはレジスト製版後プラズマエッチング、スパッ
タエッチング、あるいは通常の湿式エッチングによりパ
ターン化する。(ニ)無機質黒色膜 たとえば、A1等の金属膜を形成し、これを陽極酸化等
によりAI2O3等の酸化金属膜とし同時に染色性を付
与しておいて、染色する。
パターン化は製版技術一般の適用により行うことがてき
る。(ホ)PbS..SnS,.CuS..FeO..
CuO等の低反射性無機質膜これらは真空蒸着、スパッ
タリングにより製膜し、写真飾刻技術によりパターン化
することができる。
(へ)Cr等の金属薄膜の表面窒化膜 たとえばCr等の金属薄膜層の一層(約 1000A)を形成後、更にCrNxを400Aの厚み
に形成する。
本発明において遮光膜は、上記のものから光学温度が2
.0以上、好ましくは約3.0以上となるように適宜選
択しその厚みを定める。
厚みは好ましくは0.1〜2.0P771.の範囲とす
る。また反射率は10%以下てあることが特に好ましい
。これら非A1遮光膜のなかでも有機高分子樹脂の着色
膜が製造容易で、絶縁性があり、反射率が低く、パター
ン精度も良いため好ましい。
次いで第7図B,c,d(これらの図中て固体撮像素子
1内の詳細層構造の図示は省略する)のごとく、たとえ
ば赤、緑、青の三色からなる色分離フィルターを形成す
る場合、赤色フィルター素子3R1緑色フィルター素子
3G、青色フ,イルタ一素子3Bを順次感光部11b上
に各感光部11bの面積より広く、またそれらの端部が
非A1遮光膜28と重なるように形成する。
(3R,3G,3Bの形成順序は勿論任意である)。第
7図dは、第5図と同じ本発明のカラー固体撮像素子板
の一例である。各種着色フィルター素子の具体例ならび
に概略製造法は次の通りである。
(イ)有機高分子樹脂の着色膜 これは着色すべき色相、したがつて染料等が異る点を除
いて、非N遮光膜28の形成の場合と全く同様である。
なお、混色を起さずに着色フィルター素子3R,3G,
3Bを順次形成するための、必要に応じて、フォトレジ
スト、防染剤、脱色剤を使用することができる。(ロ)
有機染料あるいは顔料自体の着色膜これらは、洗料ある
いは顔料を真空蒸着等で製膜後、レジスト製版し、プラ
ズマエッチングあるいはスパッタエッチング等によりパ
ターン化することにより得られる。
(ハ)無機質着色膜たとえばAl膜を陽極酸化して絶縁
性且つ染色性のAl.O3膜とした後、アルマイト染料
により着色し、常法によりパターン化する。
(ニ)無機顔料薄膜 CdS.CdSe等の顔料の薄膜を気相形成し、これに
スパッタエッチング、湿式エッチング等によりパターン
化するか、あるいはマスクを介して直接パターン化する
方法により着色フィルターを得る。
(ホ)多層干渉薄膜 MgF2、SlO..SjO2等の低屈折率物質とZr
O2、TlO2、Zns..ceO2等の高屈折率物質
を交互に7〜11層蒸着後、湿式エッチング、ドラ.イ
エツチングによりパターン化する。
上記着色フィルターの形成自体は、上記した昭和5坪特
許願第92991号ならびに同第9299?の発明と同
時に特に異なるものではないので、これら出願の明細書
が必要に応じて参考となるであろ.う。
ただし、本発明においては、各画素の非感光部22及び
23上にA1遮光膜27の代りに非Al遮光膜28を形
成し、これと端部が重なる形で感光部11a上にこの感
光部11aよりは広い面積で着色フィルター素子3R,
3G,3Bを形成する。このように着色フィルター素子
を広面積とする第1の利点は、白色光がフィルター素子
をバイパスして、ブルーミング等のノイズの原因を与え
ることがないという前提のもとで色分離フィルター形成
工程が簡単となることである。
すなわち、第8図は、着色フィルター素子の形成工程に
おいて、マスクの位置合せが不正確であつた結果とし゛
て得られた第7図dに相当する本発明のカラー固体撮像
素子板の例である。例えばネガ型の感光性材料を被着色
層とする場合、感光部11bの巾をT1非N遮光膜28
の巾をtとして、白巾(素子形成部に相当する光透過部
)の巾がT+tのマスクを用いた場合に、フィルター素
子3G形成用マスクの位置合せは適正てあるが、素子3
Rおよび3Bの位置合わせは、それぞれ左と右に各t/
2だけずれている。しかし、このようにして得られた第
8図の色分離フィルターでも性能上全く問題ない。すな
わち、たとえばT=20μ、t=6μの場合、着色フィ
ルター素子形成のためのマスクの位置合せ精度は±3μ
(=t/2)で良いことになる。着色フィルター素子を
広面積とする第2の利点は、第8図で説明したと同様の
理由により着色フィルター素子形成用のマスクの精度が
従来のような高精度(たとえば±0.25μ)である必
要はなく±t/2(たとえばt=6μの場合、±3μ)
で作製すればよいため、マスクの作製が容易となること
である。
特に着色フィルター素子形成用マスクは高精度を要求さ
れるため、その作製にレピーターが使用されるが、一般
にレピート時に0.1〜0.5μ程度のムラが発生する
。このようにレピートムラのあるマスクは従来使用でき
なかつたが、本発明の固体撮像素子の場合、上記のよう
な構成をとつたためレピートムラのあるマスクでも問題
なく使用することができる。上記においては、固体撮像
素子1上に直接非A1遮光膜28および着色フィルター
素子3R,3G,3Bを形成する例を説明したが、本発
明の固体撮像素子板は、一旦第9図aに示すようにガラ
スあるいは透明プラスチック等の透明基板41上に非N
遮光膜25および着色フィルター素子3R,3G,3B
を形成して色分離フィルター板4を形成し、その非Al
遮光膜を、第9図bに示すような固体撮像素子1の非感
光部22,23と正確に位置合せして接着剤等により貼
合せることによつても得ることができる。
このような間接法は、非Al遮光膜28および着色フィ
ルター素子3R,3G,3Bの形成工程の固体撮像素子
に対する可能な悪影響を除く上て効果がある。そして透
明基板上に形成する非Al遮光膜28が正確に形成され
、固体撮像素子の非感光部22及び23に正確に位置合
せされる限りにおいて、上述した着色フィルター素子形
成時ならびに着色フィルター素子形成時の作業を容易化
する効果は同様に得られる。本発明のカラー固体撮像素
子板を得るための上記した製造法は第6図のごときシリ
コンウェハー上に形成された固体撮像素子をグイシング
して個々のチップとしてからら適用してもよいが、好ま
しくは、ウェハー上に形成された固体撮像素子にそのま
ま適用し、その後ダイシングする方法が採られる。
また、上述においては、各画素に対応して着色フィルタ
ー素子が碁盤目上に配列される例について示したが、本
発明の固体撮像素子板は、その他のモザ・イク状あるい
はストライプ状の配置の着色フィルター素子を用いるも
のとしても構成できる。
更に上述したフレーム転送方式によるCCD固体撮像素
子以外にも、インターライン転送方式CCDlその他の
BBD..MOS等の固体撮像素子にも適用して本発明
のカラー固体撮像素子板を得ることもできる。以下、本
発明を実施例により更に具体的に説明する。
実施例1 3インチウェハー上に第6図に表面形状、第4図に部分
断面形状を示すようなフレーム転送方式.のCCD固体
撮像素子を通常のウェハープロセスである気相成長、不
純物拡散、写真蝕刻、蒸着技術等により製造した後、受
光面上に力ティンー重クロム酸アンモニウムからなる水
性感光板を1.2μの膜厚に塗布、乾燥後、所定の形状
をもつマスークを正確に位置合せし、密着露光後、温水
により非露光部を除去し被着色膜を各固体撮像素子受光
部の非感光部上に形成する。
この被着色膜を乾燥したのち、酸性染料を含む第1の黒
色染浴で染色後水洗し、再度ヘマチンを含む第2の黒色
染浴で染色し、再度水洗後、第3の浴で後処理し、更に
水洗後乾燥することにより、非N遮光膜を形成する。非
A1遮光膜形成のための、染色浴組成ならびに染色条件
は次の通りである。
第1の黒色染料・・・・・・80゜C14分カラヤン●
フラッグ−BGL(日本化薬社製)
25yノ酢酸 60cc水
2000cc第2の黒色染料・・・
・・60゜C12分ヘチマン
10y水 1
000cc第3の黒色染料・・・・・・25゜C、2分
重クロム酸カリウム 50y水
1500cc上記の方法で
得られた非N黒色遮光膜の光学的温度は3.0であつた
次にタンニン酸及び酒石酸アンモニルカリウム溶液で防
染処理を行なう。
この状態を第7図aに示す。ついで同様の方法で水性感
光液を0.8μ塗布、乾燥、所定形状マスクによる露光
、現像、第一の着色フィルター素子3Rの染色、防染処
理を行なう。
この状態を第7図bに示す。以下同様の工程によりC,
dに示すごとく第二の着色フィルター素子3G1第三の
着色フィルター素子3Bを形成する。これらの着色フィ
ルター素子を形成するためにはマスクアライナーにより
正確に位置合せを行ない被着色膜形成するわけだが、非
A1遮光膜の巾だけ許容性があるため、作業性が大きく
改善されるだけでなく、着色フィルター素子部の製造歩
留りが大きく改善できた。次に着色フィルター素子等の
保護を目的に、日本合成ゴム(株)製の環化ブタジエン
系ネガレジストである透明なCBRレジストを1.0μ
塗布後、所定形状をもつマスクを用い露光、現像を行な
い保護膜としてボンディングバッド部領域以外に形成し
た後、160℃、30rnin熱処理して本発明のカラ
ー固体撮像素子板を作製した。この後、ダイシングによ
りチップ化、ダイボンディング、ワイアーボンディング
、パッケージング等を通常の方法で行ない、単板方式の
カラー固体カメラを作製した。各着色フィルター素子の
染料浴組成は下記の通りである。
3R染浴 カヤノーノレミーリングレツドRS(日本火薬(株)製
) 1部酢酸
3部水 1(1)部
3G染浴ブリリアントインブルー(ヘキスト社製)1部
スミノールイエローMR(住友化学(株)製)1部酢酸
3部水
1卯部3B染浴カヤノールサイアニ′/6B(日本
火薬(株)製) 1
部酢酸 3部 水 1(1)部実施
例20.47Tgf1tのパ、イレツクスガラス基板上
にCrOxを200A1次にCrを700A蒸着した二
層構造のCrOx/Cr膜を形成した後、製版、エッチ
ングを行ない、固体撮像素子の非感光部22及び23に
対応するようにCrOx/Cr層による非A1遮光膜を
第9図aの28に示す如く形成する。
次に有桟染色フィルターの通常の製造法により着色フィ
ルター素子3R,3G,3Bを順次形成する。
石色フィルター素子の形成法としては力ティンー重クロ
ム酸アンモニウムからなる水性感光液を塗布、乾燥し、
所定形状をもつマスクを正確に位置合せして密着露光後
、現像を行ない被着色.膜形成後、各染浴により所定の
分光透過率をもつように洗色する。その後実施例1のよ
うに防染処理を行なつても良いが、アクリル等の透明樹
脂層を混色防止のため中間層として形成しても良い。各
着色フィルター素子用の各染浴は実施例1と同.じもの
を用いた。また着色フィルター素子の保護を目的にアク
リル透明樹脂を塗布し、加熱硬化させ、第9図aの構造
の非Al遮光膜を有する色分離フィルター部を作製した
。この場合もCrOx/Crによる非A1遮光膜の巾だ
け、着色フィルター・素子の形成位置に作業上の誤差を
生じても何ら問題なく、製造歩留りが改善できる。次に
色分離フィルター板を固体撮像素子の受光部サイズに合
せてダイシングソーにより切断する。
色分離フィルター板は多チップを同一基板上に形成した
後切断しても良い。このようにして色分離フィルター板
を作製すると共に、第9図bに示す構造の固体撮像素子
をウェハープロセス後、チップ化、ダイボンディング、
ワイヤーボンデイ゛ング、パッケージングを行なつた状
態に作製後、接着剤としてエポキシ系接着剤セメダイン
1565:硬化剤Dを100:15の割合て調合したも
のを用い、正確に位置合せ、貼り合せして単板方式のカ
ラー固板撮像素子板を作製した。
【図面の簡単な説明】
第1図はシリコンウェハー上に形成された固体撮像素子
1個の拡大平面図、第6図は複数のシリコンウェハーを
形成したシリコンウェハーの平面図であり、第2図〜第
5図および第7図〜第9図は第1図の■−■線に沿つて
取つた固体撮像素子、固体撮像素子板あるいはその中間
製造工程を示すための半製品の部分断面図であり、第2
図は慣用の固体撮像素子、第3図は先行技術にかかる固
体撮像素子板、第4図は本発明で用いる固体撮像素子、
第5図は本発明の固体撮像索子板の一例、第7図a−d
はその中間製造工程、第8図は第5図に対応する位置合
せのすれた本発明の固体撮像素子板、第9図a−bは貼
り合せ法による本発明の固体撮像素子板の製造法をそれ
ぞれ示す。 1・・・・・・固体撮像素子(1″は従来の固体撮像素
子)、11・・・・・・受光部、11a・・・・・・画
素、11b・・画素感光部、12・・・・・蓄積部、1
3・・・・シフトレジスター部、14・・・・・・ボン
ディングバッド部、21・・・・・・Si基板、22,
23・ ・・非感光部(22・・・・・・ドレイン、2
3・・・・チャンネルストッパー)、24・・・・・酸
化膜、25・・・・・・転送電極、26・・・・・・パ
シベーシヨン層、27・ ・・AI遮光膜、28・・・
・・・非A1遮光膜、3R,3G,3B・・・・・・着
色フィルター素子、4・・・・・・色分離フィルター板
、41・・・・・透明基板。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 固体撮像素子の受光面の各画素の非感光部上に非A
    l遮光膜を形成するとともに、感光部上に各着色フィル
    ター素子を各感光部の面積よりも広く形成してその端部
    において非Al遮光膜と重ねたことを特徴とする、カラ
    ー固体撮像素子板。
JP54078805A 1979-06-22 1979-06-22 カラ−固体撮像素子板 Expired JPS6041872B2 (ja)

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NL8105071A (nl) * 1981-11-10 1983-06-01 Philips Nv Kleurenbeeldopneeminrichting.
JPS5951566A (ja) * 1982-09-17 1984-03-26 Mitsubishi Electric Corp 光センサ−集積回路
US5140396A (en) * 1990-10-10 1992-08-18 Polaroid Corporation Filter and solid state imager incorporating this filter

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS6446776U (ja) * 1987-09-16 1989-03-22

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