JPS6042201A - アンモニア合成ガスの製造方法 - Google Patents
アンモニア合成ガスの製造方法Info
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- JPS6042201A JPS6042201A JP14969583A JP14969583A JPS6042201A JP S6042201 A JPS6042201 A JP S6042201A JP 14969583 A JP14969583 A JP 14969583A JP 14969583 A JP14969583 A JP 14969583A JP S6042201 A JPS6042201 A JP S6042201A
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Landscapes
- Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、気体および（あるいは）＃体および（あるい
は）固体の炭化水素から、改質のため空気あるいは酸素
分を多くされた空気としての必要なプロセス窒素を添加
して分解ガスを製造し、それから合成ガスを製造するた
め特に−酸化炭素によりこの分解ガスを少なくとも一部
転化して浄化する、アンモニア合成ガスの製造方法に関
する。
は）固体の炭化水素から、改質のため空気あるいは酸素
分を多くされた空気としての必要なプロセス窒素を添加
して分解ガスを製造し、それから合成ガスを製造するた
め特に−酸化炭素によりこの分解ガスを少なくとも一部
転化して浄化する、アンモニア合成ガスの製造方法に関
する。
アンモニア合成ガスは水素と窒素から３＝１の比で構成
されている。水素および窒素を別々に製造する装置はあ
り、この装置において両方のガスが所望の水素−窒素比
に応じて混合されてアンモニア合成ガスにされる。その
際気体、液体あるいは固体の一部エネルギー物質から製
造される分解ガスを転化装置を経て導き、続いて転化ガ
ス中の水素を分子ふるいによりその他のガス成分例えば
ＣＯ２やメタンの残部、−酸化炭素から分離することに
よって、水素の製造が行なわれる。必要な窒素の製造は
例えば空気の分解によって行なわれる。
されている。水素および窒素を別々に製造する装置はあ
り、この装置において両方のガスが所望の水素−窒素比
に応じて混合されてアンモニア合成ガスにされる。その
際気体、液体あるいは固体の一部エネルギー物質から製
造される分解ガスを転化装置を経て導き、続いて転化ガ
ス中の水素を分子ふるいによりその他のガス成分例えば
ＣＯ２やメタンの残部、−酸化炭素から分離することに
よって、水素の製造が行なわれる。必要な窒素の製造は
例えば空気の分解によって行なわれる。
炭化水素例えば天然ガスまたはベンジンからアンモニア
を製造する古典的な方法では、分解ガスは例えは、管状
炉と第２の改質炉とを組合わせた装置で製造され、合成
ガスの必要な窒素分は空気として第２の改質炉を経て添
加される。
を製造する古典的な方法では、分解ガスは例えは、管状
炉と第２の改質炉とを組合わせた装置で製造され、合成
ガスの必要な窒素分は空気として第２の改質炉を経て添
加される。
）・１Ｇいて低ＩＭＩ！転化、Ｃ〔）２洗浄およびメタ
ン化により浄化が行なわれる。この公知の方法は比較的
費用がかかる。
ン化により浄化が行なわれる。この公知の方法は比較的
費用がかかる。
本発明の課順は、最初にあげた＆ｎ ｆｆｉ＋’ｉの）
３法をｎＴｉ ｉｌ′ｆ化し、それによりＭ、済的にす
ることである。
３法をｎＴｉ ｉｌ′ｆ化し、それによりＭ、済的にす
ることである。
本発明によればこの課題は、分解ガスを浄化するため、
まず窒素を透過する分子ふるいによりすべての不純物を
大幅に除去し、それから生成ガス中に残る一酸化炭素の
痕跡をメタン化することによって解決される。
まず窒素を透過する分子ふるいによりすべての不純物を
大幅に除去し、それから生成ガス中に残る一酸化炭素の
痕跡をメタン化することによって解決される。
分子ふるい浄化は、これまで窒素および一酸化炭素の成
心特性が同しようであるため、アンモニア製造では使用
されなかった。本発明の方法によりこれが可能になった
。分子ふるい浄化とその後で行なオつれる超メタン化と
によりアンモニア合成カス製造方法の転化ガスを新しい
やり力で浄化することができることを知ったことが、本
発明の基礎になっている。それにより低温転化およびＣ
Ｏ２洗浄による費用のかかる普通の浄化を回避すること
ができる。本発明による分子ふるｖ１浄化装置は、ガス
中に含まれる炭酸ガス、メタン、水蒸気、硫黄化合物、
−酸化炭素、アルゴン等のような不純物が分解され、は
んのわずかな量の一酸化炭素およびアルゴンしか合成ガ
ス中に残らないように、股引して運転することができる
。次のメタン化において、ＮＩ＋３合成の触１ｓ窟であ
る一酸化炭素がメタンに転化されるが、このメタンはア
ンモニア合成では不活性ガスである。したがって本発明
による方法は、アンモニア合成カスの製造装置の＾１η
造およびその運転を著しく簡単化する。さらに本発明に
よるプロセス実施における合成ガスの不活性レベ、ルは
、低温転化、Ｃ０２洗浄およびメタン化を伴う通常のア
ンモニア製造方法を適用する場合より著しく低い。全体
としてアンモニア合成はずっと経済的になる。
心特性が同しようであるため、アンモニア製造では使用
されなかった。本発明の方法によりこれが可能になった
。分子ふるい浄化とその後で行なオつれる超メタン化と
によりアンモニア合成カス製造方法の転化ガスを新しい
やり力で浄化することができることを知ったことが、本
発明の基礎になっている。それにより低温転化およびＣ
Ｏ２洗浄による費用のかかる普通の浄化を回避すること
ができる。本発明による分子ふるｖ１浄化装置は、ガス
中に含まれる炭酸ガス、メタン、水蒸気、硫黄化合物、
−酸化炭素、アルゴン等のような不純物が分解され、は
んのわずかな量の一酸化炭素およびアルゴンしか合成ガ
ス中に残らないように、股引して運転することができる
。次のメタン化において、ＮＩ＋３合成の触１ｓ窟であ
る一酸化炭素がメタンに転化されるが、このメタンはア
ンモニア合成では不活性ガスである。したがって本発明
による方法は、アンモニア合成カスの製造装置の＾１η
造およびその運転を著しく簡単化する。さらに本発明に
よるプロセス実施における合成ガスの不活性レベ、ルは
、低温転化、Ｃ０２洗浄およびメタン化を伴う通常のア
ンモニア製造方法を適用する場合より著しく低い。全体
としてアンモニア合成はずっと経済的になる。
本発明の方法の個々のプロセス段階によるカス組成は次
の実施例かられかる。ここで各ガス成分の割合はすべて
容積％で表わしである。
の実施例かられかる。ここで各ガス成分の割合はすべて
容積％で表わしである。
ＣＦ１２ ９．７
ＣＯ２，８０
１１２６０，４０
ＣＩｌ、、１ ３．８２
Ｎ２ ２３．０２
Ａｒ ０．２６
１００．００
全量は乾燥状態でＩ０００ｍｏ３
１１２ ７５．１４
Ｎ２２４．５１
ＣＯ０，１３
Ａｒ ０．２２
１００．００
全：１【は乾燥状態で７８８ ｍ ｎ ”３ メタン化
後における合成ガス分析 乾燥状態で供給分析 １１２ ７５．０４ Ｎ２ ２４．６０ ＣＩｌ、Ｉ Ｏ，１３ Ａｒ ０．２３ １００．００ ＣＯは５ ｐｐｍ Ｖ／Ｖ以下 合成ガス量は乾燥状態で７８４−９ ｍ ｎ ３ｃｏ２
４５．７１ Ｃｏ Ｉ ２．７４ １１２ ５．６６ ＣＩｌ４ １８−０２ Ｎ’２ １７．５０ Ａｒ ０−３７ １００．００ 洗浄ガス量は乾燥状態で２１２− Ｏｍ ｎ ３添付図
面には本発明による方法の段階が概略的に示されている
。炭化水素から得られる分解ガスＡはまず段階ＩＱで転
化され、それから分子ふるい浄化段階１１を通され、こ
こで転化ガスＢから不純物を除去される。分子ふるいは
、窒素のみを通す性質をもっている。不純物は洗浄ガス
Ｃと共に排出される。生成ガスは分子ふるい浄化後圧縮
段階１２で圧縮され、それから、段階１３で超メタン化
を受け、圧縮段階１４で再び圧縮され、それから段階１
５でアンモニアに合成される。超メタン化段階を第１の
圧縮段階の前あるいは第２の圧縮段階の後に簡くことも
できる。
後における合成ガス分析 乾燥状態で供給分析 １１２ ７５．０４ Ｎ２ ２４．６０ ＣＩｌ、Ｉ Ｏ，１３ Ａｒ ０．２３ １００．００ ＣＯは５ ｐｐｍ Ｖ／Ｖ以下 合成ガス量は乾燥状態で７８４−９ ｍ ｎ ３ｃｏ２
４５．７１ Ｃｏ Ｉ ２．７４ １１２ ５．６６ ＣＩｌ４ １８−０２ Ｎ’２ １７．５０ Ａｒ ０−３７ １００．００ 洗浄ガス量は乾燥状態で２１２− Ｏｍ ｎ ３添付図
面には本発明による方法の段階が概略的に示されている
。炭化水素から得られる分解ガスＡはまず段階ＩＱで転
化され、それから分子ふるい浄化段階１１を通され、こ
こで転化ガスＢから不純物を除去される。分子ふるいは
、窒素のみを通す性質をもっている。不純物は洗浄ガス
Ｃと共に排出される。生成ガスは分子ふるい浄化後圧縮
段階１２で圧縮され、それから、段階１３で超メタン化
を受け、圧縮段階１４で再び圧縮され、それから段階１
５でアンモニアに合成される。超メタン化段階を第１の
圧縮段階の前あるいは第２の圧縮段階の後に簡くことも
できる。
図は本発明による方法の段階を示す図である。
１０・・・１１に化段階、１１・・・分子ふるい浄化段
階、１３・・・超メタン化段階、１５・・・アンモニア
合成段階、Ａ・・・分解ガス、Ｃ・・・洗浄ガス手続補
正書 昭和５８年９月１２［１ 特許庁長官若杉和夫 殿 ］、事件の表示 昭和５８年 特 許 願第１４９６９５号２、発明の名
称 アンモニア合成ガスの製造方法 ３、補止をする者 Ｊ＋°件との関係特許用願人 ４、代 理 人
階、１３・・・超メタン化段階、１５・・・アンモニア
合成段階、Ａ・・・分解ガス、Ｃ・・・洗浄ガス手続補
正書 昭和５８年９月１２［１ 特許庁長官若杉和夫 殿 ］、事件の表示 昭和５８年 特 許 願第１４９６９５号２、発明の名
称 アンモニア合成ガスの製造方法 ３、補止をする者 Ｊ＋°件との関係特許用願人 ４、代 理 人
Claims (1)
- 気体および（あるいは）液体および（あるいは）固体の
炭化水素から、改質のため空気あるいは酸素分を多くさ
れた空気としての必要なプ「１セスＮ ｔｓを添加して
分解ガスを製造し、それから合成ガスを製造するため特
に−酸化炭素によりこの分解ガスを少なくとも一部転化
して浄化する方法において、分解ガスを浄化するため、
まず窒素を透過する分子ふるいによりすべての不純物を
大幅に除去し、それから生成ガス中に残る一酸化炭素の
痕跡をメタン化することを特徴とする、アンモニア合成
ガスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14969583A JPS6042201A (ja) | 1983-08-18 | 1983-08-18 | アンモニア合成ガスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14969583A JPS6042201A (ja) | 1983-08-18 | 1983-08-18 | アンモニア合成ガスの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6042201A true JPS6042201A (ja) | 1985-03-06 |
Family
ID=15480790
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14969583A Pending JPS6042201A (ja) | 1983-08-18 | 1983-08-18 | アンモニア合成ガスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6042201A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000072404A (ja) * | 1998-08-28 | 2000-03-07 | Osaka Gas Co Ltd | 水素−窒素混合ガスの製造方法およびその装置 |
-
1983
- 1983-08-18 JP JP14969583A patent/JPS6042201A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000072404A (ja) * | 1998-08-28 | 2000-03-07 | Osaka Gas Co Ltd | 水素−窒素混合ガスの製造方法およびその装置 |
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