JPS604600A - メント−ル石けん - Google Patents

メント−ル石けん

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JPS604600A
JPS604600A JP58111905A JP11190583A JPS604600A JP S604600 A JPS604600 A JP S604600A JP 58111905 A JP58111905 A JP 58111905A JP 11190583 A JP11190583 A JP 11190583A JP S604600 A JPS604600 A JP S604600A
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menthol
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crack
amount
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肇 渡辺
吉雄 田中
誠一 阿部
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D9/00Compositions of detergents based essentially on soap
    • C11D9/04Compositions of detergents based essentially on soap containing compounding ingredients other than soaps
    • C11D9/22Organic compounds, e.g. vitamins
    • C11D9/26Organic compounds, e.g. vitamins containing oxygen

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は使用時に清涼感9表快さを与・えるメントール
石けんに関する。
化粧石けんにメント−/しを配合し、使用11存に清涼
感、爽快さを与える目的で作られたr9i 言1’Jメ
ントール石けんは従来より知られている。し力・し、メ
ントールを含有せしめた石けん(J保存中もしくGま使
用中にメントールの針状結晶が石(すん表面に成長露出
したり、石けんを使用後υコれたわ定態で放置すると亀
裂を生じ−る等の欠点がある。そのたり)、商品として
市場性を有するメントール石番すんGま殆んど見られず
、これら欠点を克E(することi=業界の永年にわたる
課題であった。
近年、機械練り石けん素地に/・・ンカ負11を添jJ
llする試みがなされている(特開pas7−7610
0号)が、ハツカ油の添加量は0.6%以下であり、メ
ントール含量としては極めて少なく、清涼感を十分に与
えることができないばかりでなく、製造工程も可成り複
雑であり、工業的忙実用性の高いものとは考えられない
機械練シ石けんは、一般に使用後ぬれたまま放置すると
、乾燥するに伴ない亀裂を生じ、商品煙値を低下させる
傾向がある。石けん素地にオレイルアルコール−エチレ
ンオキサイド付加物とラウリルアルコール・エチレンオ
キサイド付加物を添加することにより石けんの亀裂を低
減できることが知られているC Hans B、 Ts
chalcert : 5eifen −ale −I
t’ette −Wachse 83. Nr、 21
 、610〜612 、 Nr、 22゜651〜65
4(1957))。
石けんの亀裂を防止する方法に関する研究はさらに進み
、石けんと親和性のある界面活性剤を石けん素地に添加
することが有効であることが明らかにされた。
本発明者らは、石けん素地にメントールと共に亀裂防止
剤たる界面活性剤を加えてメントール石けんを製造した
ところ、いくらか亀裂性の低下が認められたが、保存中
まだは使用中の石けんにメントールの結晶成長を防ぐこ
とは出来ず、十分な成果をあげることができなかった。
そこで本発明者らは、上記のような欠点が解消されたメ
ントール石けんを開発すべく鋭意研究を重ねた結果、石
けん素地にメントールや亀裂°防止剤と共にメントール
の溶剤を添加することにより目的とするメントール石け
んが得られることを見出し、本発明を完成したのである
すなわち本発明は、石けん素地にメントール。
亀裂防止剤およびメントールの溶剤を配合してなるメン
トール石けんを提供するものである。
本発明においてメントールとしてはd−、t−。
dt−メントールいずれも使用でき、特にt−メントー
ルが好ましい。メントールは使用時皮膚に清涼感、爽快
さを与えることを目的としており、その配合量は石けん
素地の重量に基いて1〜7%が適当であシ、2〜5%が
最も好ましい結果を与える。メントールの配合量が1%
未満では目的とする効果が十分に得られず、7%を超え
て添加すると溶剤や亀裂防止剤の増量を惹起する結果と
なり、全体として石けんが軟弱化し、製造が困難となる
ばかシでなく石けん表面のつやも失なわれ、商品価値が
低下する。
次に、亀裂防止剤としては石けん、法親和性のある界面
活性剤が用いられ、たとえば高級アルコール・エチレン
オキサイド付加物、高級脂肪iのアルカノールアマイド
、高級脂肪酸のアルカノールアマイド・エチレンオキサ
イド付加物、ポリエチレンクリコール類、ポリプロピレ
ングリコール類などがある。これらの中では炭素数12
〜18の飽和または不飽和の高級アルコール(たとえば
オレイルアルコール、セチルアルコール、ステアリルア
ルコール、牛脂アルコールなど)のエチレンオキサイド
付加物が好適に用いられる。なお、エチレンオキザイド
の付加itは10〜50モル程度のものが好ましい。亀
裂防止剤の配合量は石けん素地の重量に基いて1〜7%
が適当であり、通常はメントールの配合量に比例する。
亀裂防止剤の配合量が1%未満では本来の目的が十分に
達せられず、また7%を超えると製造工程、上顎工性が
悪くなる。
溶剤はメントールの結晶成長を防止することを目的とし
て用いられるものであり、メントールを溶解することが
できることの(Jか石けん素地と親和性を有し、不揮発
性であって余り特有の香りを有しないものが好ましい。
このような条件を満足する溶剤としてはアルキレンジオ
ール類があり、具体的にはエチレングリコール ブロヒ
゛レンク°1ノコール ヘキシレングリコールなどの炭
素数2〜6のアルキレングリフールがある。なお、本発
明者らの実験によると、ジエチルツクレートなどのエス
テル類やポリエチレンゲリコール類、グリセリン類は溶
剤として不適当である。溶剤の添加量はメントール量に
基いて約1/3〜3/2倍量が適当であり、一般的には
1/2鍛乃至等量の使用が好ましい。溶剤量が下限未満
であるとメントールの結晶が十分に溶解せず、結晶成長
の防止を十分に達成できない。一方、上限を超える鍬の
溶剤を加えると亀裂の原因となったり、石けんとしての
硬さが不十分となるなどの欠点が生じる。
また、石けん素地としては常用されているものを用いれ
ばよい。本発明の石けんには上記成分のほか、8斐に応
じて香料類1色素、防腐剤、殺菌剤などの補助的成分を
適宜加えることができる。
メントール石けんは種々の方法により製造することがで
きるが、一般的には亀裂防止剤、の溶融物を石けん素地
に加えて混合し、これにメントールを溶解した溶剤を混
ぜ、機械練り加工し、次いで押出機等から圧出された棒
状物を型打ちして製品とする。石けん素地に対する各成
分の添加順序は任意であシ、たとえば上記の場合の逆で
あってもよい。
本発明のメントール石けんは清涼感や爽快さにすぐれて
おり、しかも保存中もしくは使用中にメントールの結晶
が石けん表面に成長露出することがなく・また亀裂も生
じない。したがって、化粧石けんとして極めて市場性が
高いものである。
次に、本発明を実施例によシ詳しく説明する。
実施例1 機械練シ化粧石けん用素地 100部 メントールyp z部 ドールTA25J、ヘンケル社製) 溶剤(プロピレングリコール)2m; 二酸化チタン 0.2部 IDTA −2Ha O,1部 上記処方量にしたがい亀裂防止剤を加温溶融して化粧石
けん素地忙加えて混合した後、この混合物にメントール
を溶解した溶剤を添加、混合した。
次いで、二酸化チタンとFliDTA −2Naを加え
たのちロール掛けを6回行なった。しかる後、これを単
筒一段押出機よシ圧出してバーを得、これを型打ちして
製品とした。
この製品について亀裂テストおよび保存テストを下記の
要領にて行なった。
(a) 亀裂テスト 20°Cの水の中にメントール石けんを4時間浸漬した
後、石けんを取シ出し、そのまま室内に吊シ下げて36
時間放置した。次いで、石けんの亀裂発生状態を目視に
より船6察した。
(b) 保存テスト 20℃の水の中にメントール石けんを6時間浸黍した後
、石けんを取シ出し、そのまま室内に吊り下げた。48
時間後、表面−における結晶の発生の有無を目視により
観察した。なお、このテストでは判定を容易かつ硬実に
するため、石けんに緑色6号1%水溶液を0.3%加え
た。
その結菓、この製品には亀裂が発生しておらず、針状結
晶の発生も認められなかった。ま、光、加工性(型離れ
)も良好であった。
実施例2 実施例1において、メントール、亀裂防止剤および溶剤
の配合量をいずれも5%としたこと以外は実施例1と同
様にしてメントール石けんを製造し、テストを行なった
その結果、この製品は亀裂の発生や針状結晶の発生が認
められなかった。しかし、離型時に石けんが僅かに型に
付着した。
実施例3 実施例1において溶剤としてプロピレングリコールの代
りにヘキシレングリコールを用いたこと以外は実施例1
と同様にしてメントール石けんを製造した。
この石けんについてテストしたところ、亀裂の発生もな
く針状結晶の発生も全く認められなかった。また、加工
性も良好であった。
実施例4 実施例1において亀裂防止剤の配合量を2%としたこと
以外は実施例1と同わ)二にしてメントール石けんを製
造した。
この石けんについてテストしたところ、亀裂の発生や針
状結晶の発生は全く認められず、加工性も極めて良好で
あった。
比較例“1 実施例1において亀裂防止剤および溶剤を加えなかった
こと以外は実施例1と同様にしてメントール石けんを製
造した。
しかし、この石けんは亀裂の発生は勿論のこと、メント
ールの針状結晶も生成した。また、加工性も劣るもので
あった。
比較例2 比較例1においてメントールの配合量を5%に変更した
こと以外は比較例1と同様にして石けんを製造した。
この石けんは亀裂の発生およびメントールの針状結晶の
発生が認められた。しかも、加工性が著しく劣っていた
比較例3 実施例1において亀裂防止剤を添加しなかったこと以外
は実施例1と同様にして石けんを製造した。得られた石
けんには亀裂の発生が認められたが1針状結晶の発生は
認められなかった。なお、19Iffl型時に石けんが
僅かに型に付着した。
比較例4 実施例2において亀裂防止剤を加えなかったこと以外は
実施例2と同様にして石けんを製造した。
この石けんは亀裂の発生が5,3められたが、剣状結晶
の発生は認められなかった。なお、離型時に石けんが僅
かに型に付着した。
特許出願人 サンスター株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 石けん素地にメントール、亀裂防止剤およびメン
    トールの溶剤を配合してなるメントール石けん。 Z メントールの配合量が石けん素地の1〜7%である
    特許請求の範囲第1項記載のメン? −ル石けん。 & 亀裂防止剤が高級アルコールエチレンオキサイド伺
    加物である特許請求の範囲第1項記載のメントール石け
    ん。 4、 溶剤の配合量がメントール鼠の1/3〜3/2倍
    量である特許請求の範囲第1項記載のメントール石けん
    。 5、溶剤が炭素数2〜6のアルキレンジオールである特
    許請求の範囲第1項記載のメントール石けん。
JP58111905A 1983-06-23 1983-06-23 メント−ル石けん Granted JPS604600A (ja)

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