JPS6047019A - 封止用エポキシ樹脂組成物 - Google Patents
封止用エポキシ樹脂組成物Info
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- JPS6047019A JPS6047019A JP15524683A JP15524683A JPS6047019A JP S6047019 A JPS6047019 A JP S6047019A JP 15524683 A JP15524683 A JP 15524683A JP 15524683 A JP15524683 A JP 15524683A JP S6047019 A JPS6047019 A JP S6047019A
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- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 title claims abstract description 32
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 title claims abstract description 32
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 28
- 238000007789 sealing Methods 0.000 title claims description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 42
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 claims abstract description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract description 7
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 10
- 239000000843 powder Substances 0.000 abstract description 9
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 5
- 239000000049 pigment Substances 0.000 abstract description 3
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 4
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 4
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 4
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 4
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- -1 bisphenol A type Chemical compound 0.000 description 6
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 6
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 4
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 4
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Natural products P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 2
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 2-heptadecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010893 Bischofia javanica Nutrition 0.000 description 1
- 240000005220 Bischofia javanica Species 0.000 description 1
- 101100324822 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) fes-4 gene Proteins 0.000 description 1
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 101150115605 atm1 gene Proteins 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2-ol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Epoxy Resins (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の技術分野]
本発明は、例えば電子部品や半導体の封止用に使用され
るエポキシ樹脂組成物に関する。
るエポキシ樹脂組成物に関する。
[発明の技術的背景とその問題点」
従来から、電子部品や半導体の封止用樹脂組成物として
は、ビスフェノールA型やフェノールノボラック型等の
エポキシ樹脂を主体とし、これにフェノール樹脂、酸無
水物、イミダゾール化合物のような硬化剤や硬化促進剤
ならびに二酸化ケイ素粉末のような充填剤、顔料および
離型剤等を配合してなる組成物が使用されている。
は、ビスフェノールA型やフェノールノボラック型等の
エポキシ樹脂を主体とし、これにフェノール樹脂、酸無
水物、イミダゾール化合物のような硬化剤や硬化促進剤
ならびに二酸化ケイ素粉末のような充填剤、顔料および
離型剤等を配合してなる組成物が使用されている。
しかして、このような組成物には、成形性に優れ長期に
わたって良好な耐湿性を維持することが要求されており
、そのため従来から原料面での精製や製造工程のクリー
ン化による不純物混入の排除等の努力がなされている。
わたって良好な耐湿性を維持することが要求されており
、そのため従来から原料面での精製や製造工程のクリー
ン化による不純物混入の排除等の努力がなされている。
しかしながら、従来の封止用エポキシ樹脂組成物におい
ては、硬化剤としてフェノール樹脂や酸無水物のような
親水性のものが用いられているため、これらの残存によ
り耐湿性に優れたものが得られないという問題があった
。
ては、硬化剤としてフェノール樹脂や酸無水物のような
親水性のものが用いられているため、これらの残存によ
り耐湿性に優れたものが得られないという問題があった
。
[発明の目的]
本発明はこのような問題を解決するためになされたもの
で、耐湿性に優れているばかりでなく良好な成形性を有
し、しかもポットライフの長い封止用エポキシ樹脂組成
物を提供することを目的とする。
で、耐湿性に優れているばかりでなく良好な成形性を有
し、しかもポットライフの長い封止用エポキシ樹脂組成
物を提供することを目的とする。
[発明の概要]
すなわち本発明の封止用エポキシ樹脂組成物は、エポキ
シ樹脂にフェノール樹脂と二酸化ケイ素粉末および必要
に応じて硬化促進剤その他の添加剤を配合してなる封止
用エポキシ樹脂組成物において、全体の0.2〜10重
量%のトリアルキルシリル化された二酸化ケイ素粉末、
またはシロキサン結合を有するジアルキルシリル化され
た二酸化ケイ素粉末を含有させて成ることを特徴として
いる。
シ樹脂にフェノール樹脂と二酸化ケイ素粉末および必要
に応じて硬化促進剤その他の添加剤を配合してなる封止
用エポキシ樹脂組成物において、全体の0.2〜10重
量%のトリアルキルシリル化された二酸化ケイ素粉末、
またはシロキサン結合を有するジアルキルシリル化され
た二酸化ケイ素粉末を含有させて成ることを特徴として
いる。
本発明のエポキシ樹脂組成物のベースとなるエポキシ樹
脂としては、ビスフェノールA型、フェノールノボラッ
ク型、クレゾールノボラック型のようなグリシジルエー
テル型のエポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ
樹脂、脂環族エポキシ樹脂、ハロゲン化エポキシ樹脂等
公知のものはすべて使用することができるが、特にフェ
ノールノボラックあるいはクレゾールノボラック型のエ
ポキシ樹脂の使用が望ましい。
脂としては、ビスフェノールA型、フェノールノボラッ
ク型、クレゾールノボラック型のようなグリシジルエー
テル型のエポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ
樹脂、脂環族エポキシ樹脂、ハロゲン化エポキシ樹脂等
公知のものはすべて使用することができるが、特にフェ
ノールノボラックあるいはクレゾールノボラック型のエ
ポキシ樹脂の使用が望ましい。
また、これらのエポキシ樹脂の中でも塩素イオンの含有
量が10ppm以下で、かつ加水分解性塩素の含有量が
0.1%以下のものが適している。
量が10ppm以下で、かつ加水分解性塩素の含有量が
0.1%以下のものが適している。
本発明において、これらのエポキシ樹脂の硬化剤として
配合するフェノール樹脂は、フェノール、クレゾール、
キシノール、レゾルシノール、フェニルフェノール、ビ
スフェノールA等の1種または2種以上と、ホルムアル
デヒド、パラホルムアルデヒド等とを酸触媒の存在下に
反応させて得られたものである。これらのフェノール樹
脂は前記エポキシ樹脂の1当量に対して0.5〜1.0
当量の範囲で配合することが好ましい。
配合するフェノール樹脂は、フェノール、クレゾール、
キシノール、レゾルシノール、フェニルフェノール、ビ
スフェノールA等の1種または2種以上と、ホルムアル
デヒド、パラホルムアルデヒド等とを酸触媒の存在下に
反応させて得られたものである。これらのフェノール樹
脂は前記エポキシ樹脂の1当量に対して0.5〜1.0
当量の範囲で配合することが好ましい。
また本発明においては、2−エチル−4−メチルイミダ
ゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−メチルイ
ミダゾールのような異環型イミダゾール化合物、1・8
−ジアザ−ビシクロ(5、4、O)ウンデセン−7(以
下DBUと略す)またはその塩、トリフェニルホスフィ
ンのうな有機第3ホスフィン化合物等の硬化促進剤を配
合することもできる。
ゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−メチルイ
ミダゾールのような異環型イミダゾール化合物、1・8
−ジアザ−ビシクロ(5、4、O)ウンデセン−7(以
下DBUと略す)またはその塩、トリフェニルホスフィ
ンのうな有機第3ホスフィン化合物等の硬化促進剤を配
合することもできる。
本発明におけるアルキルシリル化された二酸化ケイ素粉
末は、組成物全体の疎水性を高め耐湿性を向上させる作
用をする。
末は、組成物全体の疎水性を高め耐湿性を向上させる作
用をする。
これらのアルキルシリル化二酸化ケイ素うち、例えばト
リアルキルシリル化二酸化ケイ素は、二酸化ケイ素粉末
の表面を通常占めているOH基をトリメチルシロキサン
基で置換した次のような構造式を有し、そのためこれ自
身優れた疎水性を有するものと考えられる。
リアルキルシリル化二酸化ケイ素は、二酸化ケイ素粉末
の表面を通常占めているOH基をトリメチルシロキサン
基で置換した次のような構造式を有し、そのためこれ自
身優れた疎水性を有するものと考えられる。
また、シロキサン結合を有するジアルキルシリル化物は
硬化促進剤のOH基をジメチルジクロロシランにより処
理して疎水性を向上させたものであり、次のような構造
を有するものと考えられる。
硬化促進剤のOH基をジメチルジクロロシランにより処
理して疎水性を向上させたものであり、次のような構造
を有するものと考えられる。
これらのアルキルシリル化された二酸化ケイ素粉末は平
均粒径が5〜30mμのものが好ましく、配合量は組成
物全体の0.2〜10重量%とすることが望ましい。配
合量をこのような範囲に限定したのは、0.2重量%未
満では耐湿性改善の効果がほとんどなく、反対に10重
量%を越えると組成物の粘度が著しく向上してトランス
ファー成形が困難になるためである。
均粒径が5〜30mμのものが好ましく、配合量は組成
物全体の0.2〜10重量%とすることが望ましい。配
合量をこのような範囲に限定したのは、0.2重量%未
満では耐湿性改善の効果がほとんどなく、反対に10重
量%を越えると組成物の粘度が著しく向上してトランス
ファー成形が困難になるためである。
このような二酸化ケイ素粉末は、組成物に直接添加混合
しても充分な耐湿性改善効果をあげることができるが、
この全量あるいは半量を前述のフェノール樹脂あるいは
イミダゾール化合物や有機第3ホスフィン化合物のよう
な硬化促進剤等の粒子中に予め添加し撹拌混合して表面
に付着させ、これを組成物中に配合する方法をとること
により、分散性を向上させ一層その耐湿性を改善するこ
とができる。
しても充分な耐湿性改善効果をあげることができるが、
この全量あるいは半量を前述のフェノール樹脂あるいは
イミダゾール化合物や有機第3ホスフィン化合物のよう
な硬化促進剤等の粒子中に予め添加し撹拌混合して表面
に付着させ、これを組成物中に配合する方法をとること
により、分散性を向上させ一層その耐湿性を改善するこ
とができる。
このようなフェノール樹脂や硬化促進剤に対する予備処
理は、フェノール樹脂や硬化促進剤とアルキルシリル化
された二酸化ケイ素粉末を、回転羽根付撹拌機やブレン
ダー中で混合処理することにより行なわれる。また必要
に応じて、ポールミル等の粉砕機を用いて処理すること
も可能である。
理は、フェノール樹脂や硬化促進剤とアルキルシリル化
された二酸化ケイ素粉末を、回転羽根付撹拌機やブレン
ダー中で混合処理することにより行なわれる。また必要
に応じて、ポールミル等の粉砕機を用いて処理すること
も可能である。
さらにフェノール樹脂に予備処理を施す場合には、これ
に前記二酸化ケイ素粉末を加えて混合した後、軟化点よ
り20℃程度高い温度で約3時間加熱処理を施すことが
望ましい。
に前記二酸化ケイ素粉末を加えて混合した後、軟化点よ
り20℃程度高い温度で約3時間加熱処理を施すことが
望ましい。
本発明においては、以上述べた疎水性の高いアルキルシ
リル化された二酸化ケイ素粉末の他に通常の二酸化ケイ
素粉末を配合するが、このような二酸化ケイ素粉末とし
ては結晶性シリカ粉末や溶融シリカ粉末の使用が好まし
い。
リル化された二酸化ケイ素粉末の他に通常の二酸化ケイ
素粉末を配合するが、このような二酸化ケイ素粉末とし
ては結晶性シリカ粉末や溶融シリカ粉末の使用が好まし
い。
これらのシリカ粉末は、適当な粒度分布を有するものを
選んで使用することが望ましく、配合量は前記アルキル
シリル化二酸化ケイ素粉末と併せて組成物全体の65〜
80重量%を占める量とすることが好ましい。
選んで使用することが望ましく、配合量は前記アルキル
シリル化二酸化ケイ素粉末と併せて組成物全体の65〜
80重量%を占める量とすることが好ましい。
本発明においては、以上の配合成分の他に顔料、変性剤
、シランカップリング剤、離型剤等の添加剤を添加する
ことにより、種々の特性を一層向上させることができる
。
、シランカップリング剤、離型剤等の添加剤を添加する
ことにより、種々の特性を一層向上させることができる
。
[発明の実施例]
以下本発明の実施例について記載する。
実施例1〜3
第1表に示す組成の配合成分を60〜90℃に加熱した
ロール機を用いて混練してエポキシ樹脂組成物を製造し
た。
ロール機を用いて混練してエポキシ樹脂組成物を製造し
た。
実施例4
予め硬化促進剤であるDBUに疎水性シリカ(アルキル
シリル化二酸化ケイ素粉末)を混合して硬化促進剤粒子
に表面処理を施した後、これを第1表の実施例4に示す
他の成分とともに図表に示すエポキシ樹脂に添加混合し
てエポキシ樹脂組成物を製造した。
シリル化二酸化ケイ素粉末)を混合して硬化促進剤粒子
に表面処理を施した後、これを第1表の実施例4に示す
他の成分とともに図表に示すエポキシ樹脂に添加混合し
てエポキシ樹脂組成物を製造した。
実施例5、6
予めフェノールノボラック樹脂に疎水性シリカを加え、
105℃の温度で3時間加熱してフェノール樹脂に表面
処理を施した後、これを第1表の実施例5、6に示す他
の配合成分とともに混練してエポキシ樹脂組成物を製造
した。
105℃の温度で3時間加熱してフェノール樹脂に表面
処理を施した後、これを第1表の実施例5、6に示す他
の配合成分とともに混練してエポキシ樹脂組成物を製造
した。
比較例
また、比較例として疎水性シリカを配合せず、従来の配
合組成でエポキシ樹脂組成物を装造した次に実施例1〜
6および比較例1、2で得られたエポキシ樹脂組成物の
各種特性を以下に示すようにして測定した。
合組成でエポキシ樹脂組成物を装造した次に実施例1〜
6および比較例1、2で得られたエポキシ樹脂組成物の
各種特性を以下に示すようにして測定した。
すなわら、粘度は178〜180℃において、高化式フ
ローテスターにより測定し、ポットライフは30℃恒温
槽中で初めのスパイラルフロー値の60%の値になった
時点を日数で示した。また、ゲルタイムは175℃熱板
上でのゲルタイムを示し、PCT時間は2.5atm1
25℃の条件下でノンパッシベーションのアルミテスト
パターン(パターン幅6〜10μ)が腐食によりオープ
ンした時間で示した。さらに吸水量、曲げ強さおよび体
積固有抵抗はJISK6911に準じて測定した。
ローテスターにより測定し、ポットライフは30℃恒温
槽中で初めのスパイラルフロー値の60%の値になった
時点を日数で示した。また、ゲルタイムは175℃熱板
上でのゲルタイムを示し、PCT時間は2.5atm1
25℃の条件下でノンパッシベーションのアルミテスト
パターン(パターン幅6〜10μ)が腐食によりオープ
ンした時間で示した。さらに吸水量、曲げ強さおよび体
積固有抵抗はJISK6911に準じて測定した。
これらの測定結果を第2表に示す。
[発明の効果]
以上の実施例からも明らかなように本発明のエポキシ樹
脂組成物は、ポットライフが長く優れた耐湿性を有して
いるので、半導体等の封止用組成物として好適している
。また良好な成形性を有しており、従来のものに比べて
内部ボイドの少ない成形体を得ることができる。
脂組成物は、ポットライフが長く優れた耐湿性を有して
いるので、半導体等の封止用組成物として好適している
。また良好な成形性を有しており、従来のものに比べて
内部ボイドの少ない成形体を得ることができる。
代理人弁理士須山佐−
Claims (2)
- (1)エポキシ樹脂にフェノール樹脂と二酸化ケイ素粉
末および必要に応じて硬化促進剤その他の添加剤を配合
してなる封止用エポキシ樹脂組成物において、全体の0
.2〜10重量%のトリアルキルシリル化された二酸化
ケイ素粉末、またはシロキサン結合を有するジアルキル
シリル化された二酸化ケイ素粉末を含有させて成ること
を特徴とする封止用エポキシ樹脂組成物。 - (2)トリアルキルシリル化された二酸化ケイ素粉末あ
るいはシロキサン結合を有するジアルキルシリル化され
た二酸化ケイ素粉末はフェノール樹脂あるいは硬化促進
剤の表面に付着されてエポキシ樹脂に添加される特許請
求の範囲第1項記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15524683A JPS6047019A (ja) | 1983-08-25 | 1983-08-25 | 封止用エポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15524683A JPS6047019A (ja) | 1983-08-25 | 1983-08-25 | 封止用エポキシ樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6047019A true JPS6047019A (ja) | 1985-03-14 |
Family
ID=15601722
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15524683A Pending JPS6047019A (ja) | 1983-08-25 | 1983-08-25 | 封止用エポキシ樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6047019A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61296020A (ja) * | 1985-06-26 | 1986-12-26 | Toshiba Corp | 電子部品封止用液状エポキシ樹脂組成物 |
| JPS627143A (ja) * | 1985-07-04 | 1987-01-14 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料 |
| JPS62120031A (ja) * | 1985-11-14 | 1987-06-01 | ワツカ−・ケミトロニク・ゲゼルシヤフト・フユア・エレクトロニク・グルントシユトツフエ・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 研磨したケイ素表面の保護方法 |
| JPS63130620A (ja) * | 1986-11-20 | 1988-06-02 | Matsushita Electric Works Ltd | エポキシ樹脂組成物 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56122145A (en) * | 1980-02-29 | 1981-09-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Resin composition for sealing semiconductor device |
-
1983
- 1983-08-25 JP JP15524683A patent/JPS6047019A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56122145A (en) * | 1980-02-29 | 1981-09-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Resin composition for sealing semiconductor device |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61296020A (ja) * | 1985-06-26 | 1986-12-26 | Toshiba Corp | 電子部品封止用液状エポキシ樹脂組成物 |
| JPS627143A (ja) * | 1985-07-04 | 1987-01-14 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料 |
| JPS62120031A (ja) * | 1985-11-14 | 1987-06-01 | ワツカ−・ケミトロニク・ゲゼルシヤフト・フユア・エレクトロニク・グルントシユトツフエ・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 研磨したケイ素表面の保護方法 |
| JPS63130620A (ja) * | 1986-11-20 | 1988-06-02 | Matsushita Electric Works Ltd | エポキシ樹脂組成物 |
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