JPS604811B2 - メチルケトンのハロゲン化 - Google Patents
メチルケトンのハロゲン化Info
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- JPS604811B2 JPS604811B2 JP51090690A JP9069076A JPS604811B2 JP S604811 B2 JPS604811 B2 JP S604811B2 JP 51090690 A JP51090690 A JP 51090690A JP 9069076 A JP9069076 A JP 9069076A JP S604811 B2 JPS604811 B2 JP S604811B2
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D505/00—Heterocyclic compounds containing 5-oxa-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. oxacephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D205/00—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D205/02—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D205/06—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D205/08—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams
- C07D205/085—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams with a nitrogen atom directly attached in position 3
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
- C07F9/553—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07F9/568—Four-membered rings
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Description
【発明の詳細な説明】
〔１〕発明の内容
この発明は
【１’次式で表わされる化合物：
〔式中Ａはペニシリン側鎖のアシルアミノ；Ｂは単環ま
たは双環のアラルキルオキシ；Ｒはィソプロピリデンま
たは水素とィソプロベニル；Ｒ２，Ｒ３は単独に低級ア
ルキルまたは結合して低級アルキレン；Ｙは水素または
メトキシ；Ｚは水素またはハロゲン：それぞれ示す〕；
〔式中Ａ，ＣＯＢ，Ｈａｌ，Ｒ′，ＯＲ２，ＯＲ３，Ｙ
は前記と同意義を示す。
たは双環のアラルキルオキシ；Ｒはィソプロピリデンま
たは水素とィソプロベニル；Ｒ２，Ｒ３は単独に低級ア
ルキルまたは結合して低級アルキレン；Ｙは水素または
メトキシ；Ｚは水素またはハロゲン：それぞれ示す〕；
〔式中Ａ，ＣＯＢ，Ｈａｌ，Ｒ′，ＯＲ２，ＯＲ３，Ｙ
は前記と同意義を示す。
〕すなわち、
｛１｝ メチルケトン１のケタールｍおよびハロメチル
ケトンロのケタールＷ；■ メチルケトン１またはその
ケタールｍをハロゲン化してハロメチルケトンロまたは
そのケタールＷを製造する方法；脚 〆チルケトン１を
ケタール化して「そのケタールｍを製造する方法；【４
１ハロメチルケトンロのケタールＷを脱ケ夕−ル化して
ハロメチルケトンロを製造する方法：および【５｝ 前
記湖，｛２），（４’の方法を連続的に実施してメチル
ケトン１からハロメチルケトンロを製造する方法；など
の内容をもつ１ーオキサヂチアセフアロスポリンの合成
用中間体とその製法を含む。
ケトンロのケタールＷ；■ メチルケトン１またはその
ケタールｍをハロゲン化してハロメチルケトンロまたは
そのケタールＷを製造する方法；脚 〆チルケトン１を
ケタール化して「そのケタールｍを製造する方法；【４
１ハロメチルケトンロのケタールＷを脱ケ夕−ル化して
ハロメチルケトンロを製造する方法：および【５｝ 前
記湖，｛２），（４’の方法を連続的に実施してメチル
ケトン１からハロメチルケトンロを製造する方法；など
の内容をもつ１ーオキサヂチアセフアロスポリンの合成
用中間体とその製法を含む。
ＣＯＢの代表例は（Ｃ，〜Ｃ５）ハロアルキルェステル
、（Ｃ２〜Ｃ５）アシルアルキルエステル、（Ｃ５〜Ｃ
８）アリルエステル、（Ｃ５〜Ｃ２。）アラルキルエス
テル、（Ｃ，〜Ｃ，２）オキシムのエステル、（Ｃ，〜
Ｃ５）Ｎーアルコキシアミド、二塩基酸のイミド、Ｎ，
Ｎ′ージー（Ｃ３〜Ｃ５）アルキルヒドラジド、アルカ
リ金属またはアルカリ士類金属の塩、（Ｃ，〜Ｃ５）ァ
ルキルァミンの塩およびこれらの基と同等の基を含む。
（上頃で記入した炭素数はＢの炭素数である。）好まし
いＣＯＢはカルボン酸ヱステル（特にメチル、ｔ−ブチ
ル、２，２，２ートリクロロエチル、メタンスルホニル
エチル、ピ／ぐロイルオキシメチル、フエナシル、ベン
ジル、ｐーメトキシベンジル、ｐーニトロベンジル、ベ
ンズヒドリル、インダニル、ベンズアルドキシム、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノエチル、トリメチルシリルーエステ
ルなど）およびアルカリ金属またはアルカリ士類金属の
塩（特にリチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウ
ムその他同等の塩）である。
、（Ｃ２〜Ｃ５）アシルアルキルエステル、（Ｃ５〜Ｃ
８）アリルエステル、（Ｃ５〜Ｃ２。）アラルキルエス
テル、（Ｃ，〜Ｃ，２）オキシムのエステル、（Ｃ，〜
Ｃ５）Ｎーアルコキシアミド、二塩基酸のイミド、Ｎ，
Ｎ′ージー（Ｃ３〜Ｃ５）アルキルヒドラジド、アルカ
リ金属またはアルカリ士類金属の塩、（Ｃ，〜Ｃ５）ァ
ルキルァミンの塩およびこれらの基と同等の基を含む。
（上頃で記入した炭素数はＢの炭素数である。）好まし
いＣＯＢはカルボン酸ヱステル（特にメチル、ｔ−ブチ
ル、２，２，２ートリクロロエチル、メタンスルホニル
エチル、ピ／ぐロイルオキシメチル、フエナシル、ベン
ジル、ｐーメトキシベンジル、ｐーニトロベンジル、ベ
ンズヒドリル、インダニル、ベンズアルドキシム、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノエチル、トリメチルシリルーエステ
ルなど）およびアルカリ金属またはアルカリ士類金属の
塩（特にリチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウ
ムその他同等の塩）である。
ＯＲ２，ＯＲ３は単独に、あるいは結合して、ケタール
形成基（メトキシ、ェトキシ、プロポキシ、イソブトキ
シ、ベンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ、オクチル
オキシなどアルコキシ；ペンジルオキシ、フヱネチルオ
キシ、ピリジルメトキシなどのアラルコキシ；エチレン
ジオキシ、プロピレンジオキシ、トリメチレンジオキシ
などアルキレンジオキシなどのケタール形成基）示す。
形成基（メトキシ、ェトキシ、プロポキシ、イソブトキ
シ、ベンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ、オクチル
オキシなどアルコキシ；ペンジルオキシ、フヱネチルオ
キシ、ピリジルメトキシなどのアラルコキシ；エチレン
ジオキシ、プロピレンジオキシ、トリメチレンジオキシ
などアルキレンジオキシなどのケタール形成基）示す。
ＯＲ２とＯＲ３は反応後除去する基であり、反応を阻害
しない限り置換基の保有など種々の変化が可能である。
Ｚは水素またはハロゲンである。比１は塩素、臭素、ヨ
ウ素などのハｏゲンである。
しない限り置換基の保有など種々の変化が可能である。
Ｚは水素またはハロゲンである。比１は塩素、臭素、ヨ
ウ素などのハｏゲンである。
Ｙは水素またはメトキシである。
メトキシを有する化合物から誘導して合成したセフアロ
スポリン中には特にすぐれた抗菌作用をもつものが多い
。
スポリン中には特にすぐれた抗菌作用をもつものが多い
。
（２） 原料
ｉ 原料１を製造するには公知のＱ−（２ｆークロロ−
３８−アシルアミドー４ーオキソアゼチジン−１ーィル
）−Ｑ−ィソプロピリデン酢酸ェステルにプロパルギル
アルコールをふつ化ほう秦酸銀の存在下に作用させてＱ
−（２ぎープロパルギルオキシ一３８ーアシルアミドー
４ーオキソアゼチジン−１−イル）−Ｑーイソプロピリ
デン酢酸ェステルを得、これを水銀塩の存在下に水加し
て原料１の一つであるＱ−（２ｆーアセトニルオキシー
３８ーアシルアミドー４−オキソアゼチジンー１ーイル
）−Ｑーイソプロピリデン酢酸ェステルを得る。
３８−アシルアミドー４ーオキソアゼチジン−１ーィル
）−Ｑ−ィソプロピリデン酢酸ェステルにプロパルギル
アルコールをふつ化ほう秦酸銀の存在下に作用させてＱ
−（２ぎープロパルギルオキシ一３８ーアシルアミドー
４ーオキソアゼチジン−１−イル）−Ｑーイソプロピリ
デン酢酸ェステルを得、これを水銀塩の存在下に水加し
て原料１の一つであるＱ−（２ｆーアセトニルオキシー
３８ーアシルアミドー４−オキソアゼチジンー１ーイル
）−Ｑーイソプロピリデン酢酸ェステルを得る。
ｉｉ 斯様に製造したィソプロピリデン酢酸ェステルを
オゾン開裂してＱ−（２多−アセトニルオキシー３８−
アシルアミドー４−オキソアゼチジンー１−ィル）グリ
オキザル酸ェステルとし、還元後、ハロゲン化してＱ−
（２ｆ−アセトニルオキシ−３８−アシルアミド−４ー
オキソアゼチジン−１−ィル）−Ｑークロロ酢酸ェステ
ルとしたのち亜燐酸トリェチルと加熱すれば他の原料物
質であるＱ−（２ま−アセトニルオキシー３８ーアシル
アミドー４−オキソアゼチジン−１ーイル）一ば−ジエ
チルホスホロイル酢酸ェステルを得る。
オゾン開裂してＱ−（２多−アセトニルオキシー３８−
アシルアミドー４−オキソアゼチジンー１−ィル）グリ
オキザル酸ェステルとし、還元後、ハロゲン化してＱ−
（２ｆ−アセトニルオキシ−３８−アシルアミド−４ー
オキソアゼチジン−１−ィル）−Ｑークロロ酢酸ェステ
ルとしたのち亜燐酸トリェチルと加熱すれば他の原料物
質であるＱ−（２ま−アセトニルオキシー３８ーアシル
アミドー４−オキソアゼチジン−１ーイル）一ば−ジエ
チルホスホロイル酢酸ェステルを得る。
ｉｉｉ 前記ｉｉ記載の方法で製造したＱ−（２隻−ア
セトニルオキシー３６ーアシルアミドー４ーオキソアゼ
チジンー１ーアル）−Ｑ−クロロ酢酸ェステルにトリフ
ェニルホスフインを作用させれば、他の原料物質である
Ｑ一（２ぎ−アセトニルオキシー３８ーアシルアミドー
４ーオキソアゼチジンー１ーイル）−Ｑートリフエニル
ホスホラニリデン酢酸ェステルを得る。
セトニルオキシー３６ーアシルアミドー４ーオキソアゼ
チジンー１ーアル）−Ｑ−クロロ酢酸ェステルにトリフ
ェニルホスフインを作用させれば、他の原料物質である
Ｑ一（２ぎ−アセトニルオキシー３８ーアシルアミドー
４ーオキソアゼチジンー１ーイル）−Ｑートリフエニル
ホスホラニリデン酢酸ェステルを得る。
その他の原料１は前記方法、出発物質、試薬などを変更
するが、他の原料１の所望の部分を変換するなど、常法
により製造できる。
するが、他の原料１の所望の部分を変換するなど、常法
により製造できる。
これらの製法は英国特許出願第４６７５９／１９７５号
、日本特許出願公開昭４９一１３３５９４号などに記述
してある。
、日本特許出願公開昭４９一１３３５９４号などに記述
してある。
〔３〕 先行技術
Ｑ一（２よ−アセトニルオキシ−３８ーアシルアミド−
２−オキソアゼチジン−１−ィル）一酢酸のアセトニル
オキシ基をハロゲン化した例は未だ知られていない。
２−オキソアゼチジン−１−ィル）一酢酸のアセトニル
オキシ基をハロゲン化した例は未だ知られていない。
ハロゲン化はアセトニルオキシ基のメチル基とメチレン
基とに起き得るが、その位置と、分子中の他の活性基に
対する影響は不明であった。
基とに起き得るが、その位置と、分子中の他の活性基に
対する影響は不明であった。
対応するアセトニルチオ誘導体のハロゲン化も知られて
いない。〔４〕 製法 凶ハロゲン化■ 前記ハロメチルケトンロまたはそのケタールＷはメチル
ケトン１またはそのケタールｍをハロゲン化して製造す
る。
いない。〔４〕 製法 凶ハロゲン化■ 前記ハロメチルケトンロまたはそのケタールＷはメチル
ケトン１またはそのケタールｍをハロゲン化して製造す
る。
このハロゲン化には原料であるメチルケトン１またはそ
のケタールｍをｉ 溶媒（炭化水素、ハロ炭化水素、エ
ーテル、ェステル、アルコール、カルボン酸、アミド溶
媒などまたはそれらの混合物）中に′とかし；１１ ハ
ロゲン化剤（分子状ハロゲン、ハロゲン化第二銅、ハロ
ゲン化第二水銀、ハゲン化水素酸＋芳香族塩基＋ハロゲ
ン、分子化合物、ハロゲン化フェニルトリメチルアンモ
ニウム＋ハロゲン・分子化合物、Ｎ−ハロアミド、Ｎ−
ハロィミド、次亜ハロゲン酸ェステル、次亜ハロゲン酸
塩、その他のハロゲン化剤）を加えて；範 好ましくは
室温または加温下に反応させる。
のケタールｍをｉ 溶媒（炭化水素、ハロ炭化水素、エ
ーテル、ェステル、アルコール、カルボン酸、アミド溶
媒などまたはそれらの混合物）中に′とかし；１１ ハ
ロゲン化剤（分子状ハロゲン、ハロゲン化第二銅、ハロ
ゲン化第二水銀、ハゲン化水素酸＋芳香族塩基＋ハロゲ
ン、分子化合物、ハロゲン化フェニルトリメチルアンモ
ニウム＋ハロゲン・分子化合物、Ｎ−ハロアミド、Ｎ−
ハロィミド、次亜ハロゲン酸ェステル、次亜ハロゲン酸
塩、その他のハロゲン化剤）を加えて；範 好ましくは
室温または加温下に反応させる。
通常、反応は０．５〜ｌｑ時間で終了するが、室温では
２餌時間以上要することも多い。Ｎ 特に好ましい溶媒
としては第一級アルコール、グリコール、１，３ージオ
ール溶媒など、ケタール形成に参与できる溶媒がある。
２餌時間以上要することも多い。Ｎ 特に好ましい溶媒
としては第一級アルコール、グリコール、１，３ージオ
ール溶媒など、ケタール形成に参与できる溶媒がある。
これらは酸またはハロゲン化剤などによりメチルケトン
１を反応中にケタール化し、反応を促進する。Ｖ 特に
好ましいハロゲン化剤はハロゲン化第二銅（臭化第二鋼
など）、ピリジンのハロゲン化水素酸塩とハロゲンとの
分子化合物（ピリジン臭化水素酸・臭素分子化合物など
）であり、緩和に、創生物の少ない反応が起る。
１を反応中にケタール化し、反応を促進する。Ｖ 特に
好ましいハロゲン化剤はハロゲン化第二銅（臭化第二鋼
など）、ピリジンのハロゲン化水素酸塩とハロゲンとの
分子化合物（ピリジン臭化水素酸・臭素分子化合物など
）であり、緩和に、創生物の少ない反応が起る。
町 好適な原料はメチルケトンのケタールｍであって、
反応が速やかに進行し、かつ副生物が極めて少ない。
反応が速やかに進行し、かつ副生物が極めて少ない。
ハロゲン化の収率はケタール・ を経ないと１０〜３０
％であるが、ケタールを経ると５０〜１００％である。
肌 この反応はケタール化し得る条件（アルコ−ル中、
鉱酸またはルイス酸の存在下など）下では特に円滑に進
行して、高収率で目的とする化合物が得られる。
％であるが、ケタールを経ると５０〜１００％である。
肌 この反応はケタール化し得る条件（アルコ−ル中、
鉱酸またはルイス酸の存在下など）下では特に円滑に進
行して、高収率で目的とする化合物が得られる。
【Ｂ） ケタール化 ‘３１
メチルケトン１をケタール化すればメチルケトンのケタ
ールロを得る。
ールロを得る。
ケタール化はメチルケトン１を
ｉ ケタール化剤（メタ／ール、エタノール、プロパノ
ール、第二級ブタノール、ベンジルァルコールなど一級
または二級アルコール：エチレングリコール、プロピレ
ングリコール、フエニルヱチレングリコールなどグリコ
ール：トリメチレングリコール、３一ヒドロキシブタノ
ールなどジオール；オルトエステル；その他のケタ−ル
化剤）を含有する溶媒（前記アルコール、ハロ炭化水素
、ェーナル・ェステル、アミド溶媒などまたはその混合
物）にとかし、ｉｉ 触媒（鍵酸；スルホン酸；滋酸重
金属塩とくに臭化第二銅、硫酸銅など；その他のケタ−
ル化触媒）の存在または不存在下に、ｉｉｉ 好ましく
は約一２０ｏｏ〜５０００で反応させる。
ール、第二級ブタノール、ベンジルァルコールなど一級
または二級アルコール：エチレングリコール、プロピレ
ングリコール、フエニルヱチレングリコールなどグリコ
ール：トリメチレングリコール、３一ヒドロキシブタノ
ールなどジオール；オルトエステル；その他のケタ−ル
化剤）を含有する溶媒（前記アルコール、ハロ炭化水素
、ェーナル・ェステル、アミド溶媒などまたはその混合
物）にとかし、ｉｉ 触媒（鍵酸；スルホン酸；滋酸重
金属塩とくに臭化第二銅、硫酸銅など；その他のケタ−
ル化触媒）の存在または不存在下に、ｉｉｉ 好ましく
は約一２０ｏｏ〜５０００で反応させる。
前記ハロゲン化剤も同時にケタール化触媒たりうる。■
脱ケタール化‘４） ハロメチルケトンのケタールＷを脱ケタール化すればハ
ロメチルケトン０を得る。
脱ケタール化‘４） ハロメチルケトンのケタールＷを脱ケタール化すればハ
ロメチルケトン０を得る。
脱ケタール化にはハロメチルケトンのケタールＷをｉ
水含有溶媒（ハロ炭化水素、ェ−テル、ェステル、アミ
ド、カルボン酸、ケトン溶媒などまたはその混合物）に
とかし、ｉｉ 触媒（滋酸、スルホン酸など有機酸）の
存在下に、ｎｌ −２０ｑｏ〜１００午○で１〜３畑時
間反応させると、容易に目的物が生成する。
水含有溶媒（ハロ炭化水素、ェ−テル、ェステル、アミ
ド、カルボン酸、ケトン溶媒などまたはその混合物）に
とかし、ｉｉ 触媒（滋酸、スルホン酸など有機酸）の
存在下に、ｎｌ −２０ｑｏ〜１００午○で１〜３畑時
間反応させると、容易に目的物が生成する。
皿 連続工程
前記ケタール化を反応器中で行ない、ただちにハロゲン
化してハロメチルケトンのケタールＷを得る方法；さら
に脱ケタール化してハロメチルケトンロとする方法；メ
チルケトンのケタールｍをハロゲン化したのち脱ケター
ル化する方法；など前記各反応を連続して行なうことも
できる。
化してハロメチルケトンのケタールＷを得る方法；さら
に脱ケタール化してハロメチルケトンロとする方法；メ
チルケトンのケタールｍをハロゲン化したのち脱ケター
ル化する方法；など前記各反応を連続して行なうことも
できる。
ケタール化、ハロゲン化、脱ケタール化を連続して行な
うと、通常メチルケトン１からハロメチルケトンｎを９
５％以上の通算収率で製造できる。この収率はケタール
を経ない直接ハロゲン化の１０〜３０％に比較して、特
にすぐれている。〔５〕 生成物と用途各反応の生成物
は未反応原料、試薬、副生物、溶媒などを抽出、洗液、
濃縮、乾燥など常法により除去し、再結晶、再沈澱、ク
ロマトグラフなど常法により精製できる。
うと、通常メチルケトン１からハロメチルケトンｎを９
５％以上の通算収率で製造できる。この収率はケタール
を経ない直接ハロゲン化の１０〜３０％に比較して、特
にすぐれている。〔５〕 生成物と用途各反応の生成物
は未反応原料、試薬、副生物、溶媒などを抽出、洗液、
濃縮、乾燥など常法により除去し、再結晶、再沈澱、ク
ロマトグラフなど常法により精製できる。
ケタールの取扱中酸による脱ケタール化に留意すること
は常道である。ハロメチルケトン０またはそのケタール
Ｗは、抗菌剤１−オキサデチァー３−セフェムー４−カ
ルボン酸の合成中間体として用いられている。たとえば
、ハロメチルケトンロを１）芳香族異項環チオールを塩
基の存在下に作用させ、２）Ｒ′がイソプロピリデンま
たはイソプロベニルの場合は既述〔２〕の方法でホスホ
ロイル基またはホスホラニリデン基に変え、３）塩基の
存在下に加熱すれば抗菌剤である１−オキサデチアー３
−置換チオメチルー３ーセフェムー４ーカルボン酸議導
体を得る。さらに強力な抗菌剤とするためにはＡ，ＣＯ
Ｂ，Ｙなどを公知方法により変更するなどの手段を適用
できる。以下に実施例を示して本発明による化合物と製
法の態様を説明する。
は常道である。ハロメチルケトン０またはそのケタール
Ｗは、抗菌剤１−オキサデチァー３−セフェムー４−カ
ルボン酸の合成中間体として用いられている。たとえば
、ハロメチルケトンロを１）芳香族異項環チオールを塩
基の存在下に作用させ、２）Ｒ′がイソプロピリデンま
たはイソプロベニルの場合は既述〔２〕の方法でホスホ
ロイル基またはホスホラニリデン基に変え、３）塩基の
存在下に加熱すれば抗菌剤である１−オキサデチアー３
−置換チオメチルー３ーセフェムー４ーカルボン酸議導
体を得る。さらに強力な抗菌剤とするためにはＡ，ＣＯ
Ｂ，Ｙなどを公知方法により変更するなどの手段を適用
できる。以下に実施例を示して本発明による化合物と製
法の態様を説明する。
実施例 １−１
（１１Ｑ一（２８ーアセトニルオキシ−３８−フエニル
アセトアミド−４ーオキソアゼチジン−１−ィル）−Ｑ
ーイソプロピリデン酢酸ペンジル２１４の９を無水メタ
ノール５の上にとかし、臭化第二銅２０３雌を加え、室
温で６時間放置する。
アセトアミド−４ーオキソアゼチジン−１−ィル）−Ｑ
ーイソプロピリデン酢酸ペンジル２１４の９を無水メタ
ノール５の上にとかし、臭化第二銅２０３雌を加え、室
温で６時間放置する。
反応混液を炭酸水素ナトリウム水溶液中に注ぎ、酢酸エ
チルで抽出する。抽出液を水洗し、硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧濃縮するとＱ−〔２８一（２，２一ジメト
キシプロポキシ）一３８ーフヱニルアセトアミドー４ー
オキソアゼチジ山１ーィル〕−Ｑーィソブロピリデン酢
酸ペンジル２３畝９（収率１００％）を得る。ＩＲ：レ
Ｓ製ｏ１３３４７０，１７９０，１７４０，１６９５肌
‐１。ＮＭＲ：６Ｃ００１３１．１瓜乳日，１．９＄乳
日，２．２＄ＱＨ，３‐０＄＄日，３．０＄知日，３‐
２＄２日，３．５７Ｓ２日，５．２７十５．０船劫（１
２ＨＺ）が，５．１幻（５ＨＺ）ＩＨ，５．２紅ｄ（５
．８ＨＺ）ＩＨ，６．２２ｄ（８ＨＺ）ＩＨ，７．２瓜
１０日。（２’Ｑ−（２８ーアセトニルオキシ−３８−
フエニルアセトアミド−４−オキソアゼチジン−１ーィ
ル）−Ｑ−イソプロピリデン酢酸ペンジル２１３のｐを
無水メタノール５叫にとかし、ピリジン・臭化水素酸塩
−臭素コンプレックス３２０雌を加え、６０午０で１０
分間加熱濃伴するとＱ−〔２８−（２，２−ジメトキシ
プロポキシ）一３３ーフエニルアセトアミドー４ーオキ
ソアゼチジンー１−ィル〕−ぴ−ィソプロピリデン酢酸
ペンジルとＱ一〔２６一（２，２ージメトキシー３ーブ
ｏモプロポキシ）一３８ーフエニルアセトアミドー４ー
オキソアゼチジン−１ーイル）−Ｑ−ィソブロピリデン
酢酸ペンジルとを得る。
チルで抽出する。抽出液を水洗し、硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧濃縮するとＱ−〔２８一（２，２一ジメト
キシプロポキシ）一３８ーフヱニルアセトアミドー４ー
オキソアゼチジ山１ーィル〕−Ｑーィソブロピリデン酢
酸ペンジル２３畝９（収率１００％）を得る。ＩＲ：レ
Ｓ製ｏ１３３４７０，１７９０，１７４０，１６９５肌
‐１。ＮＭＲ：６Ｃ００１３１．１瓜乳日，１．９＄乳
日，２．２＄ＱＨ，３‐０＄＄日，３．０＄知日，３‐
２＄２日，３．５７Ｓ２日，５．２７十５．０船劫（１
２ＨＺ）が，５．１幻（５ＨＺ）ＩＨ，５．２紅ｄ（５
．８ＨＺ）ＩＨ，６．２２ｄ（８ＨＺ）ＩＨ，７．２瓜
１０日。（２’Ｑ−（２８ーアセトニルオキシ−３８−
フエニルアセトアミド−４−オキソアゼチジン−１ーィ
ル）−Ｑ−イソプロピリデン酢酸ペンジル２１３のｐを
無水メタノール５叫にとかし、ピリジン・臭化水素酸塩
−臭素コンプレックス３２０雌を加え、６０午０で１０
分間加熱濃伴するとＱ−〔２８−（２，２−ジメトキシ
プロポキシ）一３３ーフエニルアセトアミドー４ーオキ
ソアゼチジンー１−ィル〕−ぴ−ィソプロピリデン酢酸
ペンジルとＱ一〔２６一（２，２ージメトキシー３ーブ
ｏモプロポキシ）一３８ーフエニルアセトアミドー４ー
オキソアゼチジン−１ーイル）−Ｑ−ィソブロピリデン
酢酸ペンジルとを得る。
実施例 １一２
｛１ＩＱ一（２８ーアセトニルオキシー３８−フエニル
アセトアミド一４−オキソアゼチジンー１ーィル）−Ｑ
ーィソプロピリデン酢酸ペンジル１．１５夕を無水エタ
ノール２２の‘にとかし、臭化第二銅１．３９夕とトリ
ェチルオルトホルメート１．５の‘を加え、６０℃で１
粉ご間加熱機杵するとＱ‐〔２８一（２，２一ジエトキ
シプロポキシ）−３８ーフエニルアセトアミドー４−オ
キソアゼチジンー１−ィル〕−Ｑ−ィソプロピリデン酢
酸ペンジル（ＴＬＣ：Ｒｆｏ．８０，Ｃ６日６十Ｃ２比
○ＣＯＣＨ３（１：１）；メルク社製プレコーテッド・
シリカゲル板）を得る。
アセトアミド一４−オキソアゼチジンー１ーィル）−Ｑ
ーィソプロピリデン酢酸ペンジル１．１５夕を無水エタ
ノール２２の‘にとかし、臭化第二銅１．３９夕とトリ
ェチルオルトホルメート１．５の‘を加え、６０℃で１
粉ご間加熱機杵するとＱ‐〔２８一（２，２一ジエトキ
シプロポキシ）−３８ーフエニルアセトアミドー４−オ
キソアゼチジンー１−ィル〕−Ｑ−ィソプロピリデン酢
酸ペンジル（ＴＬＣ：Ｒｆｏ．８０，Ｃ６日６十Ｃ２比
○ＣＯＣＨ３（１：１）；メルク社製プレコーテッド・
シリカゲル板）を得る。
なおＱ一〔２８一（２，２ージエトキシー３ープロモプ
ロポキシ）−３８−フエニルアセトアミド一４ーオキソ
アゼチジンー１−イル〕一Ｑーィソプロピリデン酢酸ペ
ンジル（ＴＬＣ：Ｒｆｏ．９０，Ｃ６は十Ｃ２日５０Ｃ
ＯＣＨ３（１：１）、メルク社製プレコーテッド・シリ
カゲル板）を副生する。
ロポキシ）−３８−フエニルアセトアミド一４ーオキソ
アゼチジンー１−イル〕一Ｑーィソプロピリデン酢酸ペ
ンジル（ＴＬＣ：Ｒｆｏ．９０，Ｃ６は十Ｃ２日５０Ｃ
ＯＣＨ３（１：１）、メルク社製プレコーテッド・シリ
カゲル板）を副生する。
実施例 １一３
Ｑ一（２８−アセトニルオキシー３８ーフエニルアセト
アミドー４−オキソアゼチジンー１ーイル）−Ｑ−ィソ
プロピリデン酢酸ジフェニルメチ・ル０．５４夕（１ミ
リモル）を無水エタノール１１の上にとかし臭化第二鋼
０．５６夕（２．５ミリモル）を加え４０−６０℃で２
０分間加熱燈梓するとＱ一〔２８一（２，２−ジメトキ
シ−３−プロモプロポキシ）一３８ーフエニルアセトア
ミドー４ーオキソアゼチジンー１−ィル〕−Ｑーイソプ
ロピリデン酢酸ジフエニルメチルとＱ一〔２８一（２，
２一ジメトキシプロボキシ）一３８ーフエニルアセトア
ミド−４ーオキソアゼチジンー１−イル〕−Ｑ−イソプ
ロピリデン酢酸ジフェニルメチルを得る。
アミドー４−オキソアゼチジンー１ーイル）−Ｑ−ィソ
プロピリデン酢酸ジフェニルメチ・ル０．５４夕（１ミ
リモル）を無水エタノール１１の上にとかし臭化第二鋼
０．５６夕（２．５ミリモル）を加え４０−６０℃で２
０分間加熱燈梓するとＱ一〔２８一（２，２−ジメトキ
シ−３−プロモプロポキシ）一３８ーフエニルアセトア
ミドー４ーオキソアゼチジンー１−ィル〕−Ｑーイソプ
ロピリデン酢酸ジフエニルメチルとＱ一〔２８一（２，
２一ジメトキシプロボキシ）一３８ーフエニルアセトア
ミド−４ーオキソアゼチジンー１−イル〕−Ｑ−イソプ
ロピリデン酢酸ジフェニルメチルを得る。
実施例 １一４Ｑ−（２８ーアセトニルオキシー３８−
フエニルアセトアミド一４ーオキソアゼチジンー１ーイ
ル）−Ｑーィソプロピリデン酢酸ジフヱニルメチル０．
５４夕（１ミリモル）を無水エタノール１１の‘に溶か
し、臭化第二銅０．５６夕（２．５ミリモル）を加え、
４０一６０午○で１０分間加熱燈梓するとＱ−〔２８−
（２，２−ジエトキシ−３−ブロモプロポキシ）−３８
−フエニルアセトアミド一４ーオキソアゼチジン−１ー
イル〕一Ｑーイソプロピリデン酢酸ジフェニルメチルと
び−〔２８一（２，２−ジエトキシプロポキシ）一３８
ーフエニルアセトアミドー４ーオキソアゼチジンー１−
イル〕−ｏーィソプロピリデン酢酸ジフェニルメチル（
ＴＬＣ：Ｒｆｏ．５５，Ｃ６日６十ＣＨ３ＣＯＯＣ２比
（２：１）メルク社製プレコーテッドシリカゲル板）を
得る。
フエニルアセトアミド一４ーオキソアゼチジンー１ーイ
ル）−Ｑーィソプロピリデン酢酸ジフヱニルメチル０．
５４夕（１ミリモル）を無水エタノール１１の‘に溶か
し、臭化第二銅０．５６夕（２．５ミリモル）を加え、
４０一６０午○で１０分間加熱燈梓するとＱ−〔２８−
（２，２−ジエトキシ−３−ブロモプロポキシ）−３８
−フエニルアセトアミド一４ーオキソアゼチジン−１ー
イル〕一Ｑーイソプロピリデン酢酸ジフェニルメチルと
び−〔２８一（２，２−ジエトキシプロポキシ）一３８
ーフエニルアセトアミドー４ーオキソアゼチジンー１−
イル〕−ｏーィソプロピリデン酢酸ジフェニルメチル（
ＴＬＣ：Ｒｆｏ．５５，Ｃ６日６十ＣＨ３ＣＯＯＣ２比
（２：１）メルク社製プレコーテッドシリカゲル板）を
得る。
実施例 １−５
実施例１−１〜４と同様の方法で次の化合物を製造でき
る。
る。
（１’Ｑ−（２３ーアセトニルオキシー３８ーフエノキ
シアセトアミドー４−オキソアゼチジンー１ーィル）−
ばーィソプロベニル酢酸メチルを無水エタノール中塩化
第二銅と室温で１紬時間反応させればＱ−〔２８−（２
，２−ジェトキシプロポキシ）−３８ーフエノキシアセ
トアミド−４ーオキソアゼチジン−１−イル〕一ｑーイ
ソプロベニル酢酸メチルを得る。
シアセトアミドー４−オキソアゼチジンー１ーィル）−
ばーィソプロベニル酢酸メチルを無水エタノール中塩化
第二銅と室温で１紬時間反応させればＱ−〔２８−（２
，２−ジェトキシプロポキシ）−３８ーフエノキシアセ
トアミド−４ーオキソアゼチジン−１−イル〕一ｑーイ
ソプロベニル酢酸メチルを得る。
（２’同様にしてＱ−（２３−アセトニルオキシー３３
−ペンジルオキシカルボンアミド−３Ｑ−メトキシ−４
ーオキソアゼチジンー１−イル．−Ｑ−トリフェニルホ
スホラニリデン酢酸２，２，２ートリクロロエチルをプ
ロピレングリコールとトルェンーｐースルホン酸でケタ
ール化すればＱ−〔２８一（２，２−プロピレンジオキ
シプロポキシ）−３一３−ペンジルオキシカルポンアミ
ドー３Ｑ−メトキシー４ーオキソアゼチジン−１−イル
〕−Ｑートリフエニルホスホラニリデン酢酸２，２，２
ートリクロロェチルを得る。
−ペンジルオキシカルボンアミド−３Ｑ−メトキシ−４
ーオキソアゼチジンー１−イル．−Ｑ−トリフェニルホ
スホラニリデン酢酸２，２，２ートリクロロエチルをプ
ロピレングリコールとトルェンーｐースルホン酸でケタ
ール化すればＱ−〔２８一（２，２−プロピレンジオキ
シプロポキシ）−３一３−ペンジルオキシカルポンアミ
ドー３Ｑ−メトキシー４ーオキソアゼチジン−１−イル
〕−Ｑートリフエニルホスホラニリデン酢酸２，２，２
ートリクロロェチルを得る。
‘３’ Ｑ一〔２８−アセトニルオキシ−３８−（Ｑー
フエニルーＱーベンジルオキシカルボニルアセトアミド
）−３Ｑーメトキシ−４−オキソアゼチジンー１−イル
〕−Ｑ−ジエチルホスホロィル酢酸ペンジルとプロパノ
ール中臭化第二銅とを室温で８時間反応させればＱ−〔
２３−（２，２−ジプロポキシプロポキシ）一３３−（
Ｑーフエニル−Ｑーベンジルオキシカルボニルアセトア
ミド）−３Ｑ−メトキシー４ーオキソアゼチジン−１−
イル〕−Ｑ−ジエチルホスホロィル酢酸ペンジルを得る
。
フエニルーＱーベンジルオキシカルボニルアセトアミド
）−３Ｑーメトキシ−４−オキソアゼチジンー１−イル
〕−Ｑ−ジエチルホスホロィル酢酸ペンジルとプロパノ
ール中臭化第二銅とを室温で８時間反応させればＱ−〔
２３−（２，２−ジプロポキシプロポキシ）一３３−（
Ｑーフエニル−Ｑーベンジルオキシカルボニルアセトア
ミド）−３Ｑ−メトキシー４ーオキソアゼチジン−１−
イル〕−Ｑ−ジエチルホスホロィル酢酸ペンジルを得る
。
実施例 ２−１
‘１） Ｑ−（２６ーアセトニルオキシー３８−フエニ
ルアセトアミド−４−オキソアゼチジン−１−ィル）−
Ｑ−ィソプロピリデン酢酸ペンジル１８１の９をテトラ
ヒドロフラン０．２泌とｔーブタノール４泌との混液に
とかし、臭化第二銅６４０の９を加え、７５ｏｏで１．
５時間蝿拝する。
ルアセトアミド−４−オキソアゼチジン−１−ィル）−
Ｑ−ィソプロピリデン酢酸ペンジル１８１の９をテトラ
ヒドロフラン０．２泌とｔーブタノール４泌との混液に
とかし、臭化第二銅６４０の９を加え、７５ｏｏで１．
５時間蝿拝する。
反応液をシリカゲル上薄層クロマトグラフィーに付して
分離するとＱ−〔２３−（３−フロモアセトニルオキシ
）−３８一フエニルアセトアミド−４ーオキソアゼチジ
ン−１−イル〕一Ｑーイソプロピリデン酢酸ペンジル（
収率２５％）を得る。（２Ｉ Ｑ−（２６−アセトニル
オキシ−３８−フエニルアセトアミド−４ーオキソアゼ
、チジンー１−ィル）−Ｑ−ィソプロピリデン酢酸ペン
ジル７５の９をｔ−ブタノール１叫にとかし、２５％臭
化水素の酢酸溶液一滴および臭素２６雌／クロロホルム
０．３２の上を加え、室温で一夜放置する。反応液を水
中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗後硫酸マ
グネシウムで乾燥する。浅漬を１０％含水シリカゲル５
タ上カラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチルーベ
ンゼンで溶出する画分を集め、溶媒を留去するとＱ−〔
２８−（３ーブロモアセトニルオキシ）一３８一フヱニ
ルアセトアミド−４ーオキソアゼチジンー１ーィル〕−
Ｑ−イソプロピリデン酢酸ペンジル１３の９（収率１４
．８％）を得る。｛３’ Ｑ−（２８−アセトニルオキ
シ−３８ーフエニルアセトアミドー４−オキソアゼチジ
ンー１−ィル）一Ｑ−ィソプロピリデン酢酸ペンジル１
３９のｃ（０．３ミリモル）を乾燥ｔーブタノール１．
３の‘および乾燥ジクロロェタン０．２肌にとかし、ピ
リジン・臭化水素酸塩−臭素鍔化合物１９２秘（０．６
ミリモル）を加え、４５一５０ｑｏで１時間加熱する。
分離するとＱ−〔２３−（３−フロモアセトニルオキシ
）−３８一フエニルアセトアミド−４ーオキソアゼチジ
ン−１−イル〕一Ｑーイソプロピリデン酢酸ペンジル（
収率２５％）を得る。（２Ｉ Ｑ−（２６−アセトニル
オキシ−３８−フエニルアセトアミド−４ーオキソアゼ
、チジンー１−ィル）−Ｑ−ィソプロピリデン酢酸ペン
ジル７５の９をｔ−ブタノール１叫にとかし、２５％臭
化水素の酢酸溶液一滴および臭素２６雌／クロロホルム
０．３２の上を加え、室温で一夜放置する。反応液を水
中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗後硫酸マ
グネシウムで乾燥する。浅漬を１０％含水シリカゲル５
タ上カラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチルーベ
ンゼンで溶出する画分を集め、溶媒を留去するとＱ−〔
２８−（３ーブロモアセトニルオキシ）一３８一フヱニ
ルアセトアミド−４ーオキソアゼチジンー１ーィル〕−
Ｑ−イソプロピリデン酢酸ペンジル１３の９（収率１４
．８％）を得る。｛３’ Ｑ−（２８−アセトニルオキ
シ−３８ーフエニルアセトアミドー４−オキソアゼチジ
ンー１−ィル）一Ｑ−ィソプロピリデン酢酸ペンジル１
３９のｃ（０．３ミリモル）を乾燥ｔーブタノール１．
３の‘および乾燥ジクロロェタン０．２肌にとかし、ピ
リジン・臭化水素酸塩−臭素鍔化合物１９２秘（０．６
ミリモル）を加え、４５一５０ｑｏで１時間加熱する。
更に、ピリジン・臭化水素酸塩一臭素鈴化合物９１雌（
０．１３ミリモル）を追加し、１時間加熱する。薄層ク
ロマトグラフィーで分離するとＱ−〔２８一（３ーフロ
モアセトニルオキシ）一３８一フエニルアセトアミド−
４−オキソアゼチジン−１ーイル〕一Ｑーイソプロピリ
デン酢酸ペンジル（収率３３％）を得る。前記ｍ−（３
；の生成物は同一で下記定数を示す。ｍ：レ畠袋ｏ１３
３４２０，１７８０，１７３０，１６８５伽‐１。ＮＭ
Ｒ：６ＣＤＣ１３１．９＄知日，２．２＄釘日，３．６
本２日，３．６８幻，４．１本が，５．１‐５．８ｈ凪
，６．７紅（７ＨＺ）ＩＨ、約７．４一１０日。実施例
２一２ （１ー Ｑ−〔２８一（２，２ージメトキシプロポキシ
）一３８−フエニルアセトアミド一４ーオキソアゼチジ
ンー１−イル〕−Ｑーイソプロピリデン酢酸ペンジル８
９の夕をメタノール３泌にとかし、臭化第二銅８５の？
を加え、４時間還流する。
０．１３ミリモル）を追加し、１時間加熱する。薄層ク
ロマトグラフィーで分離するとＱ−〔２８一（３ーフロ
モアセトニルオキシ）一３８一フエニルアセトアミド−
４−オキソアゼチジン−１ーイル〕一Ｑーイソプロピリ
デン酢酸ペンジル（収率３３％）を得る。前記ｍ−（３
；の生成物は同一で下記定数を示す。ｍ：レ畠袋ｏ１３
３４２０，１７８０，１７３０，１６８５伽‐１。ＮＭ
Ｒ：６ＣＤＣ１３１．９＄知日，２．２＄釘日，３．６
本２日，３．６８幻，４．１本が，５．１‐５．８ｈ凪
，６．７紅（７ＨＺ）ＩＨ、約７．４一１０日。実施例
２一２ （１ー Ｑ−〔２８一（２，２ージメトキシプロポキシ
）一３８−フエニルアセトアミド一４ーオキソアゼチジ
ンー１−イル〕−Ｑーイソプロピリデン酢酸ペンジル８
９の夕をメタノール３泌にとかし、臭化第二銅８５の？
を加え、４時間還流する。
反応液を常法通り後処理し、塩化メチレン溶液を水洗、
乾燥後溶媒を蟹去する。残澄をシリカゲル上薄層クロマ
トグラフィーに付して分離するとＱ−〔２８一（２，２
ージメトキシー３−フロモプロポキシ）一３８−フエニ
ルアセトアミド一４ーオキソアゼチジンー１ーイル〕−
ｏーィソプロピリデン酢酸ペンジル４９のｃ（収率４７
．６％）を得る。ｍ：レＳ袋ＣＩ３３４４０，１７８０
，１７２０，１６９０伽‐１。
乾燥後溶媒を蟹去する。残澄をシリカゲル上薄層クロマ
トグラフィーに付して分離するとＱ−〔２８一（２，２
ージメトキシー３−フロモプロポキシ）一３８−フエニ
ルアセトアミド一４ーオキソアゼチジンー１ーイル〕−
ｏーィソプロピリデン酢酸ペンジル４９のｃ（収率４７
．６％）を得る。ｍ：レＳ袋ＣＩ３３４４０，１７８０
，１７２０，１６９０伽‐１。
ＮＭＲ：６ＣＤＣ１３１‐９７Ｓ３日，２‐２＄９日，
３‐１＄母日，３，２＄が，３．４２十３．７＊旧ｑ（
１２日２）が，３．６＄２日，５．０３十５．６飴旧ｑ
（１２ＨＺ）２日，５．２７ｄ（５ＨＺ）ＩＨ，５．３
紅ｄ（５：８ＨＺ）ＩＨ，６．２紅（８ＨＺ）ＩＨ，７
．３＄斑，７．４瓜朗。（２ー Ｑ一〔２８一（２，２
ージメトキシプロポキシ）−３８一フエニルアセトアミ
ド−４ーオキソアゼチジン−１−イル〕一Ｑ−イソプロ
ピリデン酢酸ペンジル９７の９を無水メタノール２の‘
にとかし、ピリジン・臭化水素酸塩−臭素鍔化合物１４
０の９を加え、３０分間還流する。反応液を水中に注ぎ
、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を留去する。残澄（１３２の９）
を１０％含水シリカゲル４．５好上カラムクロマトグラ
フイーに付し、１５％酢酸エチルーベンゼンで溶出する
区分を集め、溶媒を留去するとＱ−〔２８−（２，２−
ジメトキシー３ーブロモプロポキシ）一３８ーフエニル
アセトアミドー４ーオキソアゼチジン−１ーィル〕−Ｑ
ーィソプロピリデン酢酸ペンジル５６柵（収率５０％）
を得る。この生成物は前記‘１１の生成物と同一である
。実施例 ２一３ 実施例１一２脚の反応液を更に加熱鷹拝しブロム化を完
結後、室温まで冷却する。
３‐１＄母日，３，２＄が，３．４２十３．７＊旧ｑ（
１２日２）が，３．６＄２日，５．０３十５．６飴旧ｑ
（１２ＨＺ）２日，５．２７ｄ（５ＨＺ）ＩＨ，５．３
紅ｄ（５：８ＨＺ）ＩＨ，６．２紅（８ＨＺ）ＩＨ，７
．３＄斑，７．４瓜朗。（２ー Ｑ一〔２８一（２，２
ージメトキシプロポキシ）−３８一フエニルアセトアミ
ド−４ーオキソアゼチジン−１−イル〕一Ｑ−イソプロ
ピリデン酢酸ペンジル９７の９を無水メタノール２の‘
にとかし、ピリジン・臭化水素酸塩−臭素鍔化合物１４
０の９を加え、３０分間還流する。反応液を水中に注ぎ
、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を留去する。残澄（１３２の９）
を１０％含水シリカゲル４．５好上カラムクロマトグラ
フイーに付し、１５％酢酸エチルーベンゼンで溶出する
区分を集め、溶媒を留去するとＱ−〔２８−（２，２−
ジメトキシー３ーブロモプロポキシ）一３８ーフエニル
アセトアミドー４ーオキソアゼチジン−１ーィル〕−Ｑ
ーィソプロピリデン酢酸ペンジル５６柵（収率５０％）
を得る。この生成物は前記‘１１の生成物と同一である
。実施例 ２一３ 実施例１一２脚の反応液を更に加熱鷹拝しブロム化を完
結後、室温まで冷却する。
反応混液を５％炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ、生じ
た沈澱を炉去した炉液を酢酸エチルで抽出する。抽出液
を塩化ナトリウム水溶液で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥
後、減圧下に溶媒を蟹去すると粗製のＱ−〔２８一（２
，２−ジエトキシー３−ブロモプロポキシ）一３６ーフ
エニルアセトアミドー４−オキソアゼチジン−１ーイル
〕一Ｑーイソプロピリデン酢酸ペンジル１．６２夕（収
率１０６％）を得る。ＩＲ：レ鈴舷１３３４２０，１７
７５，１７２０，１６８０肌−１。ＮＭＲ：６ｏＤｏ１
３１．１３（７ＨＺ）班，１，９８斑，２．２＄知日，
３．２−３．７ｍｌｏＨ，５．０‐５．５ｈ４日，６．
５２ｄ（８ＨＺ）ＩＨ、約７．４一１０日。実施例 ２
−４ 実施例１一３で得た反応混液を更に加熱櫨拝しブロム化
を完結させた後、反応混液を５％炭酸水素ナトリウム水
溶液中に注ぎ、生じた不落物（臭化第一銅）を炉去した
炉液を酢酸エチルで抽出する。
た沈澱を炉去した炉液を酢酸エチルで抽出する。抽出液
を塩化ナトリウム水溶液で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥
後、減圧下に溶媒を蟹去すると粗製のＱ−〔２８一（２
，２−ジエトキシー３−ブロモプロポキシ）一３６ーフ
エニルアセトアミドー４−オキソアゼチジン−１ーイル
〕一Ｑーイソプロピリデン酢酸ペンジル１．６２夕（収
率１０６％）を得る。ＩＲ：レ鈴舷１３３４２０，１７
７５，１７２０，１６８０肌−１。ＮＭＲ：６ｏＤｏ１
３１．１３（７ＨＺ）班，１，９８斑，２．２＄知日，
３．２−３．７ｍｌｏＨ，５．０‐５．５ｈ４日，６．
５２ｄ（８ＨＺ）ＩＨ、約７．４一１０日。実施例 ２
−４ 実施例１一３で得た反応混液を更に加熱櫨拝しブロム化
を完結させた後、反応混液を５％炭酸水素ナトリウム水
溶液中に注ぎ、生じた不落物（臭化第一銅）を炉去した
炉液を酢酸エチルで抽出する。
抽出液を水洗し、乾燥後濃縮すればＱ−〔２８一（２，
２−ジメトキシー３−ブロモプロポキシ）一３８−フエ
ニルアセトアミド一４ーオキソアゼチジンー１ーイル〕
‐Ｑ−イソプロピリデン酢酸ジフェニルメチルの結晶を
得る。実施例 ２一５ 実施例１一４で得た反応液を更に加熱縄拝しブロム化を
完結させた後、反応液を５％炭酸水素ナトリウム水溶液
中に注ぎ、生じた不溶物（臭化第一銅）を炉去した炉液
を酢酸エチルで抽出する。
２−ジメトキシー３−ブロモプロポキシ）一３８−フエ
ニルアセトアミド一４ーオキソアゼチジンー１ーイル〕
‐Ｑ−イソプロピリデン酢酸ジフェニルメチルの結晶を
得る。実施例 ２一５ 実施例１一４で得た反応液を更に加熱縄拝しブロム化を
完結させた後、反応液を５％炭酸水素ナトリウム水溶液
中に注ぎ、生じた不溶物（臭化第一銅）を炉去した炉液
を酢酸エチルで抽出する。
抽出液を水洗し、乾燥後濃縮すれば、Ｑ−〔２６一（２
，２ージエトキシ−３ーブロモプロポキシ）一３８ーフ
エニルアセトアミドー４ーオキソアゼチジンー１−イル
〕一Ｑ−イソプロピリデン酢酸ジフェニルメチルの結晶
（収率６４．６％）を得る。ＮＭＲ：６Ｃｏｏｌ３１．
０８（７ＨＺ）細，１．９＄額，２．１＄畑，３．０−
３．８ｍ知日，３．５７ｓ斑，５．２Ｍ（４ＨＺ）ＩＨ
，５．３７ｄｄ（４．８ＨＺ）ＩＨ，６．３幻（８ＨＺ
）ＩＨ，６．９＄ＩＨ、約７．３ｈｌ胡。実施例 ２−
６ 実施例２一１〜５と同機にして下記化合物を製造できる
。
，２ージエトキシ−３ーブロモプロポキシ）一３８ーフ
エニルアセトアミドー４ーオキソアゼチジンー１−イル
〕一Ｑ−イソプロピリデン酢酸ジフェニルメチルの結晶
（収率６４．６％）を得る。ＮＭＲ：６Ｃｏｏｌ３１．
０８（７ＨＺ）細，１．９＄額，２．１＄畑，３．０−
３．８ｍ知日，３．５７ｓ斑，５．２Ｍ（４ＨＺ）ＩＨ
，５．３７ｄｄ（４．８ＨＺ）ＩＨ，６．３幻（８ＨＺ
）ＩＨ，６．９＄ＩＨ、約７．３ｈｌ胡。実施例 ２−
６ 実施例２一１〜５と同機にして下記化合物を製造できる
。
｛１’ 実施例１−５‘１｝の反応液を６時間還流すれ
ばＱ−〔２３一（３ークロロー２，２一ジエトキシプロ
ポキシ）−３８ーフエノキシアセトアミド−４−オキソ
アゼチジンー１ーイル〕−Ｑ−ィソプロベニル酢酸メチ
ルを得る。
ばＱ−〔２３一（３ークロロー２，２一ジエトキシプロ
ポキシ）−３８ーフエノキシアセトアミド−４−オキソ
アゼチジンー１ーイル〕−Ｑ−ィソプロベニル酢酸メチ
ルを得る。
■ Ｑ−〔２８−（２，２ープロピレンジオキシプロポ
キシ）−３３ーベンジルオキシカルボニルアミ／一３Ｑ
−メトキシー４ーオキソアゼチジン−１ーイル〕一Ｑ−
トリフエニルホスホラニＩＪデン酢酸２，２，２ートリ
クロロェチルをジオキサン中臭化第二銅と６０℃で５時
間反応させればＱ一〔２８一（３−プロモ−２，２ープ
′ロピレンジオキシプロポキシ）一３８−ペンジルオキ
シカルボニルアミノー３Ｑーメトキシー４−オキソアゼ
チジンー１−イル〕−Ｑートリフェニルホスホラニリデ
ン酢酸２，２，２ートリクロロヱチルを得る。
キシ）−３３ーベンジルオキシカルボニルアミ／一３Ｑ
−メトキシー４ーオキソアゼチジン−１ーイル〕一Ｑ−
トリフエニルホスホラニＩＪデン酢酸２，２，２ートリ
クロロェチルをジオキサン中臭化第二銅と６０℃で５時
間反応させればＱ一〔２８一（３−プロモ−２，２ープ
′ロピレンジオキシプロポキシ）一３８−ペンジルオキ
シカルボニルアミノー３Ｑーメトキシー４−オキソアゼ
チジンー１−イル〕−Ｑートリフェニルホスホラニリデ
ン酢酸２，２，２ートリクロロヱチルを得る。
‘３’実施例１一５脚の反応液を６時間還流すればＱ−
〔２８一（３ーブロモー２，２−ジブロポキシプロポキ
シ）一３８−（ＱーフエニルーＱーベンジルオキシカル
ボニルアセトアミド）一３Ｑーメトキシー４ーオキソア
ゼチジンー１−イル〕−Ｑ−ジェチルホスホロィル酢酸
ペンジルを得る。
〔２８一（３ーブロモー２，２−ジブロポキシプロポキ
シ）一３８−（ＱーフエニルーＱーベンジルオキシカル
ボニルアセトアミド）一３Ｑーメトキシー４ーオキソア
ゼチジンー１−イル〕−Ｑ−ジェチルホスホロィル酢酸
ペンジルを得る。
実施例 ３−１
Ｑ一〔２８一（２，２ージメトキシー３ーフロモプロポ
キシ）−３８一フエニルアセトアミド−４−オキソアゼ
チジンー１ーイル〕一Ｑーイソプロピリデン酢酸ペンジ
ル１２脚をアセン１の‘にとかし、水０．２肌【と６０
％週塩素酸一滴とを加え、室温で３時間、更に７０ｏｏ
で３び分間反応させる。
キシ）−３８一フエニルアセトアミド−４−オキソアゼ
チジンー１ーイル〕一Ｑーイソプロピリデン酢酸ペンジ
ル１２脚をアセン１の‘にとかし、水０．２肌【と６０
％週塩素酸一滴とを加え、室温で３時間、更に７０ｏｏ
で３び分間反応させる。
反応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽出液を
水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して得
られる残澄９の９をシリカゲル上層クロマトグラフィー
に付して分離すると、Ｑ−〔２３−（３−プロモアセト
ニルオキシ）−３３一フエニルアセトアミド−４ーオキ
ソアゼチジンー１ーイル〕−Ｑ−ィソブロピリデン酢酸
ペンジル（収率５０％）を得る。この生成物は実施例２
一１の生成物と同一である。実施例 ３−２ Ｑ−〔２８−（２，２ージエトキシー３ープロモプロポ
キシ）−３８ーフエニルアセトアミドー４ーオキソアゼ
チジンー１−イル〕一Ｑ−イソプロピリデン酢酸ペンジ
ル１．６２夕をアセトン５０の‘に溶かし、水１５の‘
と３０％過塩素酸７の‘とを加え、５０℃で４時間４船
ご蝿拝する。
水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して得
られる残澄９の９をシリカゲル上層クロマトグラフィー
に付して分離すると、Ｑ−〔２３−（３−プロモアセト
ニルオキシ）−３３一フエニルアセトアミド−４ーオキ
ソアゼチジンー１ーイル〕−Ｑ−ィソブロピリデン酢酸
ペンジル（収率５０％）を得る。この生成物は実施例２
一１の生成物と同一である。実施例 ３−２ Ｑ−〔２８−（２，２ージエトキシー３ープロモプロポ
キシ）−３８ーフエニルアセトアミドー４ーオキソアゼ
チジンー１−イル〕一Ｑ−イソプロピリデン酢酸ペンジ
ル１．６２夕をアセトン５０の‘に溶かし、水１５の‘
と３０％過塩素酸７の‘とを加え、５０℃で４時間４船
ご蝿拝する。
減圧下アセトンを留去し、酢酸エチルで抽出する。抽出
液を５％炭酸水素ナトリウム水溶液、塩化ナトリウム水
溶液および水で洗い、硫酸ナトリウム上乾燥する。溶媒
を留去するとＱ−（２８ーブロモアセトニルオキシー３
−フエニルアセトアミド一４ーオキソアゼチジンー１ー
ィル）−Ｑーィソプロピリデン酢酸ペンジルの粗結晶１
．２６夕（収率９３．６％）を得る。この生成物は実施
例２−１の生成物と同一である。実施例 ３−３Ｑ−〔
２８−（２，２−ジメトキシ−３ーブロモプロポキシー
３ーフエニルアセトアミドー４−オキソアゼチジン−１
ーイル〕−Ｑーイソプロピリデン酢酸ジフェニルメチル
にアセトン、水、３０％週塩素酸を加え、５０ＣＯで６
時間燈群する。
液を５％炭酸水素ナトリウム水溶液、塩化ナトリウム水
溶液および水で洗い、硫酸ナトリウム上乾燥する。溶媒
を留去するとＱ−（２８ーブロモアセトニルオキシー３
−フエニルアセトアミド一４ーオキソアゼチジンー１ー
ィル）−Ｑーィソプロピリデン酢酸ペンジルの粗結晶１
．２６夕（収率９３．６％）を得る。この生成物は実施
例２−１の生成物と同一である。実施例 ３−３Ｑ−〔
２８−（２，２−ジメトキシ−３ーブロモプロポキシー
３ーフエニルアセトアミドー４−オキソアゼチジン−１
ーイル〕−Ｑーイソプロピリデン酢酸ジフェニルメチル
にアセトン、水、３０％週塩素酸を加え、５０ＣＯで６
時間燈群する。
アセトンを留去し、残澄を酢酸エチルで抽出する。抽出
液を炭酸水素ナトリウム水溶液および水で洗い、乾燥後
、溶媒に留去するとＱ−〔２６一（３ーフロモアセトニ
ルオキシ）一３−フエニルアセトアミド一４−オキソア
ゼチジンー１ーイル）−Ｑーィソプロピリデン酢酸ジフ
ェニルメチルを得る。この生成物は実施例３−４の生成
物と同一である。実施例 ３一４ Ｑ一〔２８一（２，２ージエトキシー３ーフロモプロポ
キシ−３８−フエニルアセトアミド一４ーオキソアゼチ
ジソ−１ーイル〕一Ｑ−イソプロピリデン酢酸ジフェニ
ルメチル０．１２３夕（０．１８ミリモル）に、アセト
ン３．６泌、水１．２羽、３０％過塩素酸０．６の上を
加え、５０℃で６時間雛拝する。
液を炭酸水素ナトリウム水溶液および水で洗い、乾燥後
、溶媒に留去するとＱ−〔２６一（３ーフロモアセトニ
ルオキシ）一３−フエニルアセトアミド一４−オキソア
ゼチジンー１ーイル）−Ｑーィソプロピリデン酢酸ジフ
ェニルメチルを得る。この生成物は実施例３−４の生成
物と同一である。実施例 ３一４ Ｑ一〔２８一（２，２ージエトキシー３ーフロモプロポ
キシ−３８−フエニルアセトアミド一４ーオキソアゼチ
ジソ−１ーイル〕一Ｑ−イソプロピリデン酢酸ジフェニ
ルメチル０．１２３夕（０．１８ミリモル）に、アセト
ン３．６泌、水１．２羽、３０％過塩素酸０．６の上を
加え、５０℃で６時間雛拝する。
反応液からァセトンを留去し、残笹を酢酸エチルで抽出
する。酢酸エチル層を炭酸水素ナトリウム水溶液、更に
水で洗い、乾燥後、溶媒を留去するとＱ一〔２３一（３
−プロモアセトニルオキシ）一３−フエニルアセトアミ
ド一４−オキソアゼチジンー１ーィル〕一Ｑ−ィソプロ
ピリデン酢酸ジフェニルメチル０．９５夕（収率８５．
２％）を得る。ＩＲ：ひ毎皮１８３４３０，１７８０，
１７３０，１６９０伽‐１。ＮＭＲ：６Ｃ０ＣＩ３１．
９７ｓ３日，２．２＄９日，３．６瓜４日，４．０＄が
，５．１が（４ＨＺ）ＩＨ，５．３のｄ（４：８ＨＺ）
ＩＨ，６．７幻（８ＨＺ）ＩＨ，６．９７ｓＩＨ，胸１
班。実施例 ３一５ 実施例３一１〜４と同様にして下記化合物を製造できる
。
する。酢酸エチル層を炭酸水素ナトリウム水溶液、更に
水で洗い、乾燥後、溶媒を留去するとＱ一〔２３一（３
−プロモアセトニルオキシ）一３−フエニルアセトアミ
ド一４−オキソアゼチジンー１ーィル〕一Ｑ−ィソプロ
ピリデン酢酸ジフェニルメチル０．９５夕（収率８５．
２％）を得る。ＩＲ：ひ毎皮１８３４３０，１７８０，
１７３０，１６９０伽‐１。ＮＭＲ：６Ｃ０ＣＩ３１．
９７ｓ３日，２．２＄９日，３．６瓜４日，４．０＄が
，５．１が（４ＨＺ）ＩＨ，５．３のｄ（４：８ＨＺ）
ＩＨ，６．７幻（８ＨＺ）ＩＨ，６．９７ｓＩＨ，胸１
班。実施例 ３一５ 実施例３一１〜４と同様にして下記化合物を製造できる
。
（１ＩＱ一〔２８一（３−クロロー２，２一ジエトキシ
プロポキシ）−３６ーフエノキシアセトアドー４ーオキ
ソアゼチジンー１−イル〕一Ｑ−ィソプロベニル酢酸メ
チルを含水アセトン中過塩素酸で加水分解すればＱ−〔
２８一（３ークロ。
プロポキシ）−３６ーフエノキシアセトアドー４ーオキ
ソアゼチジンー１−イル〕一Ｑ−ィソプロベニル酢酸メ
チルを含水アセトン中過塩素酸で加水分解すればＱ−〔
２８一（３ークロ。
アセトニルオキシ）−３８ーフエニルアセトアミドー４
ーオキソアゼチジン−１ーイル〕−Ｑ−イソプロベニル
酢酸メチルを得る。（２｝ ぱ一〔２３一（３ーブロモ
ー２，２−プロピレンジオキシブロポキシ）−３３−ペ
ンジルオキシカルボニルアミノー３Ｑ−メトキシー４ー
オキソアゼチジンー１ーイル〕一Ｑートリフエニルホス
ホラニＩＪデン酢酸２，２，２−トリクロロェチルを５
０％ぎ酸中トルェンスルホソ酸と８０ｑ Ｃに２時間加
溢すればＱ一〔２８−（３−プロモアセトニルオキシ）
−３８ーベンジルオキシカルボニルアミノ−３Ｑーメト
キシー４−オキソアゼチジン−１ーイル〕−Ｑートリフ
エニルホスホラニ１′デン酢酸２，２，２ートリクロロ
ェチルを得る。
ーオキソアゼチジン−１ーイル〕−Ｑ−イソプロベニル
酢酸メチルを得る。（２｝ ぱ一〔２３一（３ーブロモ
ー２，２−プロピレンジオキシブロポキシ）−３３−ペ
ンジルオキシカルボニルアミノー３Ｑ−メトキシー４ー
オキソアゼチジンー１ーイル〕一Ｑートリフエニルホス
ホラニＩＪデン酢酸２，２，２−トリクロロェチルを５
０％ぎ酸中トルェンスルホソ酸と８０ｑ Ｃに２時間加
溢すればＱ一〔２８−（３−プロモアセトニルオキシ）
−３８ーベンジルオキシカルボニルアミノ−３Ｑーメト
キシー４−オキソアゼチジン−１ーイル〕−Ｑートリフ
エニルホスホラニ１′デン酢酸２，２，２ートリクロロ
ェチルを得る。
【３｝ Ｑ一〔２８−（３ーブロモ−２，２−ジプロポ
キシプロポキシ）一３８一（Ｑ−フエニルーｏーベンジ
ルオキシカルボニルアセトアミド）一３はーメトキシー
４ーオキソアゼチジン−１ーィル〕−Ｑ−ジェチルホス
ホロィル酢酸ペンジルを含水アセトン中過塩素酸で加水
分解すればｑ−〔２８−（３−フ。
キシプロポキシ）一３８一（Ｑ−フエニルーｏーベンジ
ルオキシカルボニルアセトアミド）一３はーメトキシー
４ーオキソアゼチジン−１ーィル〕−Ｑ−ジェチルホス
ホロィル酢酸ペンジルを含水アセトン中過塩素酸で加水
分解すればｑ−〔２８−（３−フ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 次式で表わされる化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ａはペニシリン側鎖のアシルアミノ；Ｂは単環
または双環のアラルキルオキシ；Ｒ′はイソプロピリデ
ンまたは水素とイソプロペニル；Ｒ＾２，Ｒ＾３は単独
に低級アルキルまたは結合して低級アルキレン；Ｙは水
素またはメトキシ；Ｚは水素またはハロゲン；をそれぞ
れ示す。 ▲数式、化学式、表等があります▼
Priority Applications (13)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51090690A JPS604811B2 (ja) | 1976-07-28 | 1976-07-28 | メチルケトンのハロゲン化 |
| IE1522/77A IE45362B1 (en) | 1976-07-28 | 1977-07-21 | Azetidine derivatives |
| GB30727/77A GB1571236A (en) | 1976-07-28 | 1977-07-21 | Azetidine derivatives |
| CA283,351A CA1129870A (en) | 1976-07-28 | 1977-07-22 | Azetidine derivatives |
| IL52595A IL52595A (en) | 1976-07-28 | 1977-07-25 | Azetidine derivatives and processes for preparing the same |
| DK340177A DK165291C (da) | 1976-07-28 | 1977-07-27 | 4-oxoazetidinforbindelser samt fremgangsmaade til fremstilling af disse |
| NLAANVRAGE7708338,A NL190116C (nl) | 1976-07-28 | 1977-07-27 | Werkwijze voor het bereiden van een 2-(4-(gesubstitueerd alkoxy)-3-(al dan niet gesubstitueerd amino)-2-oxoazetidin-1-yl)azijnzuurderivaat. |
| DE19772733922 DE2733922A1 (de) | 1976-07-28 | 1977-07-27 | 4-oxoazetidin-derivate |
| FR7723131A FR2361364A1 (fr) | 1976-07-28 | 1977-07-27 | Nouveaux derives d'azetidine |
| BE179752A BE857284A (fr) | 1976-07-28 | 1977-07-28 | Derives de l'azetidine |
| FR7801538A FR2371427A1 (fr) | 1976-07-28 | 1978-01-19 | Procede de preparation de derives d'azetidine a groupement oxo et nouveaux produits ainsi obtenus |
| US06/019,895 US4283333A (en) | 1976-07-28 | 1979-03-12 | α-[4-Oxoazetidin-1-yl]-acetic acid compounds useful as intermediates in preparing 1-oxadethiacephalosporins |
| CA393,848A CA1129871A (en) | 1976-07-28 | 1982-01-08 | Azetidine derivatives |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51090690A JPS604811B2 (ja) | 1976-07-28 | 1976-07-28 | メチルケトンのハロゲン化 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5318556A JPS5318556A (en) | 1978-02-20 |
| JPS604811B2 true JPS604811B2 (ja) | 1985-02-06 |
Family
ID=14005515
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51090690A Expired JPS604811B2 (ja) | 1976-07-28 | 1976-07-28 | メチルケトンのハロゲン化 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4283333A (ja) |
| JP (1) | JPS604811B2 (ja) |
| BE (1) | BE857284A (ja) |
| CA (1) | CA1129870A (ja) |
| DE (1) | DE2733922A1 (ja) |
| DK (1) | DK165291C (ja) |
| FR (2) | FR2361364A1 (ja) |
| GB (1) | GB1571236A (ja) |
| IE (1) | IE45362B1 (ja) |
| IL (1) | IL52595A (ja) |
| NL (1) | NL190116C (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4478749A (en) * | 1981-03-30 | 1984-10-23 | E. R. Squibb & Sons, Inc. | 2-Oxo-1-(substituted phosphorous)azetidines |
| JPS5936684A (ja) * | 1982-08-24 | 1984-02-28 | Shionogi & Co Ltd | １−オキサセフアム化合物の製造方法 |
| US4681937A (en) * | 1982-09-27 | 1987-07-21 | E. R. Squibb & Sons, Inc. | 3-acylamino-2-oxo-1-azetidinyl esters of phosphonic acids, phosphoric acid and phosphoric acid esters |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL178005C (nl) * | 1972-11-06 | 1986-01-02 | Merck & Co Inc | Werkwijze voor het bereiden van een farmaceutisch preparaat met antibacteriele werking, alsmede werkwijze ter bereiding van een cefalosporine-antibioticum. |
-
1976
- 1976-07-28 JP JP51090690A patent/JPS604811B2/ja not_active Expired
-
1977
- 1977-07-21 GB GB30727/77A patent/GB1571236A/en not_active Expired
- 1977-07-21 IE IE1522/77A patent/IE45362B1/en not_active IP Right Cessation
- 1977-07-22 CA CA283,351A patent/CA1129870A/en not_active Expired
- 1977-07-25 IL IL52595A patent/IL52595A/xx unknown
- 1977-07-27 DK DK340177A patent/DK165291C/da active
- 1977-07-27 NL NLAANVRAGE7708338,A patent/NL190116C/xx not_active IP Right Cessation
- 1977-07-27 DE DE19772733922 patent/DE2733922A1/de active Granted
- 1977-07-27 FR FR7723131A patent/FR2361364A1/fr active Granted
- 1977-07-28 BE BE179752A patent/BE857284A/xx not_active IP Right Cessation
-
1978
- 1978-01-19 FR FR7801538A patent/FR2371427A1/fr active Granted
-
1979
- 1979-03-12 US US06/019,895 patent/US4283333A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA1129870A (en) | 1982-08-17 |
| FR2361364B1 (ja) | 1981-10-30 |
| FR2371427A1 (fr) | 1978-06-16 |
| NL190116B (nl) | 1993-06-01 |
| DK165291B (da) | 1992-11-02 |
| BE857284A (fr) | 1978-01-30 |
| JPS5318556A (en) | 1978-02-20 |
| IE45362B1 (en) | 1982-08-11 |
| IE45362L (en) | 1978-01-28 |
| NL7708338A (nl) | 1978-01-31 |
| FR2361364A1 (fr) | 1978-03-10 |
| IL52595A0 (en) | 1977-10-31 |
| GB1571236A (en) | 1980-07-09 |
| DE2733922A1 (de) | 1978-02-02 |
| FR2371427B1 (ja) | 1981-06-19 |
| NL190116C (nl) | 1993-11-01 |
| DK165291C (da) | 1993-03-22 |
| DE2733922C2 (ja) | 1992-02-13 |
| DK340177A (da) | 1978-01-29 |
| IL52595A (en) | 1980-09-16 |
| US4283333A (en) | 1981-08-11 |
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