JPS6049532B2 - 放電加工装置 - Google Patents
放電加工装置Info
- Publication number
- JPS6049532B2 JPS6049532B2 JP7885779A JP7885779A JPS6049532B2 JP S6049532 B2 JPS6049532 B2 JP S6049532B2 JP 7885779 A JP7885779 A JP 7885779A JP 7885779 A JP7885779 A JP 7885779A JP S6049532 B2 JPS6049532 B2 JP S6049532B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- machining
- discharge
- machining fluid
- immersion tank
- electric discharge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H1/00—Electrical discharge machining, i.e. removing metal with a series of rapidly recurring electrical discharges between an electrode and a workpiece in the presence of a fluid dielectric
- B23H1/10—Supply or regeneration of working media
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は被加工物を浸漬槽内の加工液中に浸漬させて
加工を行う放電加工装置、特に加工液を効率よく排出で
きるようにした放電加工装置に関するものである。
加工を行う放電加工装置、特に加工液を効率よく排出で
きるようにした放電加工装置に関するものである。
第１図は従来の浸漬式加工方式によるワイヤカット放電
加工装置を示す断面図であ、図において、１はワイヤ電
極、２はこのワイヤ電極を加工液中に導くためのアーム
、３および４はこのアームに取付けられたガイドローラ
、５はアーム１に取付けられた下部ワイヤ電極ガイド、
６は加工液の液面上に設けられた上部ワイヤ電極ガイド
、７はワイヤ電極１を上部に導くガイドローラ、８は定
盤、９はこの定盤を取付けるとともに加工液を入れる浸
漬槽、９Ａはこの浸漬槽の上部に設けられた加工液のオ
ーバーフロー出口、９Ｂは浸漬槽９の底部に設けられた
加工液排出時の排出口、１０はこの排出口を開閉する排
出栓、１１は加工液貯槽、１２はこの加工液貯槽から給
液管１３を通して加工液を供給する供給ポンプ、１４は
オーバーフロー出口９Ａから加工液を加工液貯槽１１へ
導くオーバーフロー管、１５は排出口９Ｂから加工液を
加工液貯槽１１に導く排液管、１６は定盤８に取付けら
れた被加工物である。
加工装置を示す断面図であ、図において、１はワイヤ電
極、２はこのワイヤ電極を加工液中に導くためのアーム
、３および４はこのアームに取付けられたガイドローラ
、５はアーム１に取付けられた下部ワイヤ電極ガイド、
６は加工液の液面上に設けられた上部ワイヤ電極ガイド
、７はワイヤ電極１を上部に導くガイドローラ、８は定
盤、９はこの定盤を取付けるとともに加工液を入れる浸
漬槽、９Ａはこの浸漬槽の上部に設けられた加工液のオ
ーバーフロー出口、９Ｂは浸漬槽９の底部に設けられた
加工液排出時の排出口、１０はこの排出口を開閉する排
出栓、１１は加工液貯槽、１２はこの加工液貯槽から給
液管１３を通して加工液を供給する供給ポンプ、１４は
オーバーフロー出口９Ａから加工液を加工液貯槽１１へ
導くオーバーフロー管、１５は排出口９Ｂから加工液を
加工液貯槽１１に導く排液管、１６は定盤８に取付けら
れた被加工物である。
被加工物１６および定盤８を取付けた浸漬槽９は図示し
ないが機台上に設けられたＸ−Ｙクロステーブル取付け
られており、ワイヤ電極１に対してＸ−Ｙ方向の−相対
的な運動が可能とされている。次に作用について説明す
る。
ないが機台上に設けられたＸ−Ｙクロステーブル取付け
られており、ワイヤ電極１に対してＸ−Ｙ方向の−相対
的な運動が可能とされている。次に作用について説明す
る。
ワイヤ電極１は、図示しないが機台上に起立するコラム
に取付けられたワイヤ電極供給リールからガイドローラ
３、ガイドローラ４、下部ワイヤ電極ガイド５を経て）
被加工物１６を加工後、上部ワイヤ電極ガイド６、ガイ
ドローラ７に達し、上記ワイヤ電極供給リールに併設す
るワイヤ電極巻取リール（図示せず）によつて巻取られ
る。また加工液は、加工液貯槽１１から供給ポンプ１２
により給液管１３を経て浸漬槽９内に供給され、浸漬槽
９内を加工液で所望の液面高さまで充満する。この場合
、図示しないが、一般に行なわれている仕切板や蛇腹等
を使用した液面調整機構により所望の液面高さが保持さ
れるようにされている。そして過剰の加工液はオーバフ
ロー出口９Ａから排出され、オーバフロー管１４を経て
上記加工液貯槽１１に戻る。こうして上記被加工物１６
を取付けたＸ−Ｙクロステーブル（図示せず）を、上記
被加工物１６の加工形状に一致する軌跡を画くように制
御装置（図示せず）により制御しながら、ワイヤ電極１
、被加工物１６間に放電し加工を行なう。加工完了後な
どに上記浸漬槽９内の加工液を空にする場合は、供給ポ
ンプ１２を停止させ、排出栓１０を上方に持ち上げて、
加工液を排出口９Ｂから自然流出により排出し、排液管
１５を経て加工液貯槽１１に戻す。以上述べたような従
来のワイヤカット放電加工装置においては、実際に加工
する場合、加工液が被加工物の周りに均一に存在する必
要があるため、被加工物１６、下部ワイヤ電極ガイド５
およびアーム２を上記浸漬槽９の中で加工液中に浸漬さ
せる必要があり、上記浸漬槽９が大型化する傾向にある
。
に取付けられたワイヤ電極供給リールからガイドローラ
３、ガイドローラ４、下部ワイヤ電極ガイド５を経て）
被加工物１６を加工後、上部ワイヤ電極ガイド６、ガイ
ドローラ７に達し、上記ワイヤ電極供給リールに併設す
るワイヤ電極巻取リール（図示せず）によつて巻取られ
る。また加工液は、加工液貯槽１１から供給ポンプ１２
により給液管１３を経て浸漬槽９内に供給され、浸漬槽
９内を加工液で所望の液面高さまで充満する。この場合
、図示しないが、一般に行なわれている仕切板や蛇腹等
を使用した液面調整機構により所望の液面高さが保持さ
れるようにされている。そして過剰の加工液はオーバフ
ロー出口９Ａから排出され、オーバフロー管１４を経て
上記加工液貯槽１１に戻る。こうして上記被加工物１６
を取付けたＸ−Ｙクロステーブル（図示せず）を、上記
被加工物１６の加工形状に一致する軌跡を画くように制
御装置（図示せず）により制御しながら、ワイヤ電極１
、被加工物１６間に放電し加工を行なう。加工完了後な
どに上記浸漬槽９内の加工液を空にする場合は、供給ポ
ンプ１２を停止させ、排出栓１０を上方に持ち上げて、
加工液を排出口９Ｂから自然流出により排出し、排液管
１５を経て加工液貯槽１１に戻す。以上述べたような従
来のワイヤカット放電加工装置においては、実際に加工
する場合、加工液が被加工物の周りに均一に存在する必
要があるため、被加工物１６、下部ワイヤ電極ガイド５
およびアーム２を上記浸漬槽９の中で加工液中に浸漬さ
せる必要があり、上記浸漬槽９が大型化する傾向にある
。
従つてこのような場合、加工完了後などに上記浸漬槽９
内の加工液を排出して空にしようとするとき、排出栓１
０を持ち上げて、排出口９Ｂから排出するだけでは排出
時間が長過ぎて非能率である。また上記排出口９Ｂを大
きくすると排出栓１０や排液管１５などが大形化すると
共に、浸漬槽９やＸ−Ｙクロステーブルなどが変形、し
たりして不経済であるとともに、精度低下の可能性が大
きい。この発明は上記のような従来のものの欠点を改良
するためになされたもので、浸漬槽の加工液の排出が短
時間にかつ容易にできる放電加工装置を！提供すること
を目的とするものである。
内の加工液を排出して空にしようとするとき、排出栓１
０を持ち上げて、排出口９Ｂから排出するだけでは排出
時間が長過ぎて非能率である。また上記排出口９Ｂを大
きくすると排出栓１０や排液管１５などが大形化すると
共に、浸漬槽９やＸ−Ｙクロステーブルなどが変形、し
たりして不経済であるとともに、精度低下の可能性が大
きい。この発明は上記のような従来のものの欠点を改良
するためになされたもので、浸漬槽の加工液の排出が短
時間にかつ容易にできる放電加工装置を！提供すること
を目的とするものである。
この発明は被加工物を加工液中に浸漬させるための浸漬
槽を有する放電加工装置において、浸漬槽の底部に設け
られて加工液を排出する排出口と、排出口の開放状態を
検出する手段と、その検く出信号によつて作動して加工
液を排出する排液ポンプを備えたことを特徴とする放電
加工装置である。
槽を有する放電加工装置において、浸漬槽の底部に設け
られて加工液を排出する排出口と、排出口の開放状態を
検出する手段と、その検く出信号によつて作動して加工
液を排出する排液ポンプを備えたことを特徴とする放電
加工装置である。
第２図はこの発明の実施例を示す断面図であり、１〜１
６は上記従来装置と全く同一のものである。
６は上記従来装置と全く同一のものである。
１７は浸漬槽９から排液管１８を通して加工液を排出す
る排出ポンプ、１９は排出栓１０を持ち上げた位置を検
出するリミットスイッチ、２０は浸漬槽９内に設けられ
たフロートスイツチなどの液面検出スイッチで、加工液
の液面が排出に伴ない低下して下限に達した場合、その
液面を検出するようにされている。
る排出ポンプ、１９は排出栓１０を持ち上げた位置を検
出するリミットスイッチ、２０は浸漬槽９内に設けられ
たフロートスイツチなどの液面検出スイッチで、加工液
の液面が排出に伴ない低下して下限に達した場合、その
液面を検出するようにされている。
上記のように構成された装置により放電加工をｊ行う方
法は上記従来装置の場合と同様である。
法は上記従来装置の場合と同様である。
加工完了後または加工の途中でワイヤ電極１が断線した
場合などに、浸漬槽９内の加工液を排出して空にするに
は、まず供給ポンプ１２を停止させ、浸漬槽９内への加
工液の供給を断つ。次に排出栓１０を持ち上げて固定す
ると、上記浸漬槽９の底部に設けられた排出口９Ｂから
加工液が自然流出により排出され、排液管１５を経て加
工液貯槽１１に戻される。これと同時に、上記排出栓１
０を持ち上げにより、上記排出栓１０の上方に設けら”
れたリミットスイッチ１９が作動し、その検出信号を排
出制御回路（図示せす）に送り、１排出開始ョ信号を出
す。上記排出制御回路からの信号を排出ポンプ１７に送
ると排出ポンプ１７が起動し、排液管１８を通して加工
液を加工液貯槽１１に排出する。こうして加工液は排出
口９Ｂおよび排出ポンプ１７の両方から大量に、かつ短
時間に浸漬槽９外へ排出される。排出が進むに従つて、
浸漬槽９内の液面が低下し、やがて液面が下限に達する
と上記浸漬槽９内の底部付近に設けたフロートスイツチ
などの液面検出スイッチ２０が作動みて液面が下限であ
ることを検出し、その検出信号を上記排出制御回路に送
り、１排出停止ョ信号を出す。この１排出停止ョ信号を
上記排出ポンプ１７を送ると、排出ポンプ１７は停止す
る。こうして排出ポンプ１７からの加工液の排出は停止
し、加工液は排出口８Ｂからのみ排出され、やがて浸漬
槽９内の加工液は空になる。なお、上記説明では供給ポ
ンプ１２の起動一停止の詳細について触れなかつたが、
供給ポンプ１２を停止させるために上述の排出ポンプ１
７の場合と同様に、所望の液面に達した場合もの液面を
液面検出スイッチなどにより自動的に停止するように構
成することができる。
場合などに、浸漬槽９内の加工液を排出して空にするに
は、まず供給ポンプ１２を停止させ、浸漬槽９内への加
工液の供給を断つ。次に排出栓１０を持ち上げて固定す
ると、上記浸漬槽９の底部に設けられた排出口９Ｂから
加工液が自然流出により排出され、排液管１５を経て加
工液貯槽１１に戻される。これと同時に、上記排出栓１
０を持ち上げにより、上記排出栓１０の上方に設けら”
れたリミットスイッチ１９が作動し、その検出信号を排
出制御回路（図示せす）に送り、１排出開始ョ信号を出
す。上記排出制御回路からの信号を排出ポンプ１７に送
ると排出ポンプ１７が起動し、排液管１８を通して加工
液を加工液貯槽１１に排出する。こうして加工液は排出
口９Ｂおよび排出ポンプ１７の両方から大量に、かつ短
時間に浸漬槽９外へ排出される。排出が進むに従つて、
浸漬槽９内の液面が低下し、やがて液面が下限に達する
と上記浸漬槽９内の底部付近に設けたフロートスイツチ
などの液面検出スイッチ２０が作動みて液面が下限であ
ることを検出し、その検出信号を上記排出制御回路に送
り、１排出停止ョ信号を出す。この１排出停止ョ信号を
上記排出ポンプ１７を送ると、排出ポンプ１７は停止す
る。こうして排出ポンプ１７からの加工液の排出は停止
し、加工液は排出口８Ｂからのみ排出され、やがて浸漬
槽９内の加工液は空になる。なお、上記説明では供給ポ
ンプ１２の起動一停止の詳細について触れなかつたが、
供給ポンプ１２を停止させるために上述の排出ポンプ１
７の場合と同様に、所望の液面に達した場合もの液面を
液面検出スイッチなどにより自動的に停止するように構
成することができる。
リミツチスイツチは排出栓１０の開放動作を検出できる
位置にあればよく、必ずしも排出栓の上方に設けられる
必要はない。また排出口の開放状態を検出する手段とし
ては、リミットスイッチに限らず他の手段を採用するこ
とができる。排出ポンプ１７の停止はタイマーその他の
手段によつてもよい。この発明はワイヤカット放電加工
装置だけでなく、汎用放電加工装置その他の被加工物を
加工液中に浸漬させて加工を行う放電加工装置に適用で
きる。
位置にあればよく、必ずしも排出栓の上方に設けられる
必要はない。また排出口の開放状態を検出する手段とし
ては、リミットスイッチに限らず他の手段を採用するこ
とができる。排出ポンプ１７の停止はタイマーその他の
手段によつてもよい。この発明はワイヤカット放電加工
装置だけでなく、汎用放電加工装置その他の被加工物を
加工液中に浸漬させて加工を行う放電加工装置に適用で
きる。
以上述べたように、この発明は簡単な構成により、浸漬
槽内の加工液を排出する必要がある場合に、加工液を大
量に、かつ短時間に排出できる効果がある。
槽内の加工液を排出する必要がある場合に、加工液を大
量に、かつ短時間に排出できる効果がある。
そして排出ポンプの起動、停止が自動的に行なえるため
操作性は非常によい。
操作性は非常によい。
第１図は従来のワイヤカット放電加工装置の断面図、第
２図は本発明の実施例のワイヤカット放電加工装置の断
面図である。 図において、１はワイヤ電極、２はアーム、３，４はガ
イドローラ、５は下部ワイヤ電極ガイド、６は上部ワイ
ヤ電極ガイド、７はガイドローラ、８は定盤、９は浸漬
槽、弘はオーバーフロー出口、９Ｂは排出口、１０は排
出栓、１１は加工液貯槽、１２は供給ポンプ、１６は被
加工物、１７は排出ポンプ、１９はリミットスイッチ、
２０は液面検出スイッチである。
２図は本発明の実施例のワイヤカット放電加工装置の断
面図である。 図において、１はワイヤ電極、２はアーム、３，４はガ
イドローラ、５は下部ワイヤ電極ガイド、６は上部ワイ
ヤ電極ガイド、７はガイドローラ、８は定盤、９は浸漬
槽、弘はオーバーフロー出口、９Ｂは排出口、１０は排
出栓、１１は加工液貯槽、１２は供給ポンプ、１６は被
加工物、１７は排出ポンプ、１９はリミットスイッチ、
２０は液面検出スイッチである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 被加工物を加工液中に浸漬させるための浸漬槽を有
する放電加工装置において、浸漬槽の底部に設けられて
加工液を排出する排出口と、排出口の開放状態を検出す
る手段と、その検出信号によつて作動して加工液を排出
する排液ポンプを備えたことを特徴とする放電加工装置
。 ２ 加工液の液面が下限に達したことを検出する手段と
、その検出信号により排液ポンプを停止する手段を備え
たことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の放電加
工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7885779A JPS6049532B2 (ja) | 1979-06-22 | 1979-06-22 | 放電加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7885779A JPS6049532B2 (ja) | 1979-06-22 | 1979-06-22 | 放電加工装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS563151A JPS563151A (en) | 1981-01-13 |
| JPS6049532B2 true JPS6049532B2 (ja) | 1985-11-02 |
Family
ID=13673489
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7885779A Expired JPS6049532B2 (ja) | 1979-06-22 | 1979-06-22 | 放電加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6049532B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61121871A (ja) * | 1984-11-19 | 1986-06-09 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 脆性材料の切断方法 |
| JPS62117023U (ja) * | 1986-01-16 | 1987-07-25 |
-
1979
- 1979-06-22 JP JP7885779A patent/JPS6049532B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS563151A (en) | 1981-01-13 |
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