JPS6049624U - 熱処理装置 - Google Patents
熱処理装置Info
- Publication number
- JPS6049624U JPS6049624U JP1983141936U JP14193683U JPS6049624U JP S6049624 U JPS6049624 U JP S6049624U JP 1983141936 U JP1983141936 U JP 1983141936U JP 14193683 U JP14193683 U JP 14193683U JP S6049624 U JPS6049624 U JP S6049624U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat treatment
- treatment equipment
- sample
- heat source
- reaction tube
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は従来の熱処理装置を示す構成図、第2−図は第
1図の反応管内における温度分布を示す曲線図、第3図
は本考案の一実施例である熱処理装置を示す構成図、第
4図は本考案の熱処理装置によって得られる炉内温度分
布を示す曲線図である。 図中、1・・・・・・熱処理装置、2,12・・・・・
・石英反応管、3・・・・・・エンドキャップ、4,1
4・・・・・・ヒータ、5・・・・・・ガス導入口、6
・・・・・・排気口、7,17・・・・・・温度分布曲
線、8,18・・・・・・試料、9・・・・・・操作枠
。
1図の反応管内における温度分布を示す曲線図、第3図
は本考案の一実施例である熱処理装置を示す構成図、第
4図は本考案の熱処理装置によって得られる炉内温度分
布を示す曲線図である。 図中、1・・・・・・熱処理装置、2,12・・・・・
・石英反応管、3・・・・・・エンドキャップ、4,1
4・・・・・・ヒータ、5・・・・・・ガス導入口、6
・・・・・・排気口、7,17・・・・・・温度分布曲
線、8,18・・・・・・試料、9・・・・・・操作枠
。
Claims (1)
- 反応管内に試料を収容し、該反応管の外周に配した熱源
により該試料を加熱する第1の加熱源に試料挿入口側の
温度分布曲線を緩やかにする第2の加熱源を付加したこ
とを特徴とする熱処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1983141936U JPS6049624U (ja) | 1983-09-13 | 1983-09-13 | 熱処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1983141936U JPS6049624U (ja) | 1983-09-13 | 1983-09-13 | 熱処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6049624U true JPS6049624U (ja) | 1985-04-08 |
Family
ID=30317297
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1983141936U Pending JPS6049624U (ja) | 1983-09-13 | 1983-09-13 | 熱処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6049624U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08321472A (ja) * | 1996-06-24 | 1996-12-03 | Hitachi Ltd | 処理装置 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4810198U (ja) * | 1971-06-17 | 1973-02-03 | ||
| JPS4828838U (ja) * | 1971-08-11 | 1973-04-09 | ||
| JPS4940323A (ja) * | 1972-08-26 | 1974-04-15 | ||
| JPS57112011A (en) * | 1980-12-29 | 1982-07-12 | Fujitsu Ltd | Heat treatment equipment for semiconductor wafer |
| JPS57126127A (en) * | 1981-01-27 | 1982-08-05 | Toshiba Corp | Diffusion treating method for semiconductor wafer |
-
1983
- 1983-09-13 JP JP1983141936U patent/JPS6049624U/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4810198U (ja) * | 1971-06-17 | 1973-02-03 | ||
| JPS4828838U (ja) * | 1971-08-11 | 1973-04-09 | ||
| JPS4940323A (ja) * | 1972-08-26 | 1974-04-15 | ||
| JPS57112011A (en) * | 1980-12-29 | 1982-07-12 | Fujitsu Ltd | Heat treatment equipment for semiconductor wafer |
| JPS57126127A (en) * | 1981-01-27 | 1982-08-05 | Toshiba Corp | Diffusion treating method for semiconductor wafer |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08321472A (ja) * | 1996-06-24 | 1996-12-03 | Hitachi Ltd | 処理装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5926238U (ja) | Cvd装置 | |
| JPS601424U (ja) | オゾン分解装置 | |
| JPS5948040U (ja) | 熱処理装置 | |
| JPS5861448U (ja) | 熱処理装置 | |
| JPS598138U (ja) | ガス分析装置 | |
| JPS60165035U (ja) | 熱処理装置 | |
| JPS5883645U (ja) | 排熱回収装置付き低公害湿式ガス処理装置 | |
| JPS58180458U (ja) | 試料高温装置 | |
| JPS59177937U (ja) | 赤外線熱処理装置 | |
| JPS60115529U (ja) | 排気ガスの処理装置 | |
| JPS59133088U (ja) | マイクロ波加熱装置 | |
| JPS60129128U (ja) | 熱処理用石英部品 | |
| JPS58180459U (ja) | 試料高温装置 | |
| JPS58109245U (ja) | 熱処理装置 | |
| JPS5837539U (ja) | 高炉炉頂排ガス分析装置 | |
| JPS5937728U (ja) | Cvd装置 | |
| JPS58417U (ja) | 半導体熱処理装置 | |
| JPS59125832U (ja) | 熱処理装置 | |
| JPS6067349U (ja) | 雰囲気型熱処理炉 | |
| JPS59131150U (ja) | 化合物半導体の熱処理装置 | |
| JPS5855296U (ja) | 真空熱処理炉 | |
| JPS5827800U (ja) | ナトリウムハンドリング装置 | |
| JPS5931893U (ja) | マイクロ波加熱装置 | |
| JPS59185828U (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPS5886236U (ja) | 湿式排煙脱硫装置 |