JPS6049625U - 赤外線加熱装置 - Google Patents

赤外線加熱装置

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JPS6049625U
JPS6049625U JP14302283U JP14302283U JPS6049625U JP S6049625 U JPS6049625 U JP S6049625U JP 14302283 U JP14302283 U JP 14302283U JP 14302283 U JP14302283 U JP 14302283U JP S6049625 U JPS6049625 U JP S6049625U
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JP
Japan
Prior art keywords
heating device
heated surface
infrared heating
infrared
filament
Prior art date
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Pending
Application number
JP14302283U
Other languages
English (en)
Inventor
博 西村
牧野　繁蔵
Original Assignee
ニチデン機械株式会社
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の前提となる赤外線加熱装置の概略断面
図、第２図は第１図のＴｌ−Ｔｌ線に断面図、第３図は
第２図のＴ２−Ｔ２線から寛た概略平面図、第４図は第
３図における被加熱面の部分平面図とその放熱分布特性
曲線図及び熱分布特性曲線図、第５図及び第６図は本考
案の他の実施例を示す赤外線ランプの概略平面図である
。 ｍ・・・被加熱面、ｍｌ・・・中央部、ｍ２・・・周辺
部、７・・・赤外線ランプ、８・・・フィラメント。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. フィラメントを有する長尺な直線状赤外線ラン−プを複
    数灯並列に配置して平坦な被加熱面に対向させ該被加熱
    面を同時加熱する加熱装置において、各赤外線ランプの
    各フィラメントの被加熱面の中央部と対向する部分を粗
    に、被加熱面の周面部と対向する部分を密に形成したこ
    とを特徴とする赤外線加熱装置。
JP14302283U 1983-09-13 1983-09-13 赤外線加熱装置 Pending JPS6049625U (ja)

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JP14302283U JPS6049625U (ja) 1983-09-13 1983-09-13 赤外線加熱装置

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JPS6049625U true JPS6049625U (ja) 1985-04-08

Family

ID=30319377

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JP14302283U Pending JPS6049625U (ja) 1983-09-13 1983-09-13 赤外線加熱装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030025146A (ko) * 2001-09-19 2003-03-28 권영해 반도체소자 제조용 급속 열처리 설비 및 급속 열처리 화학증착 설비의 가열장치.

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5764937A (en) * 1980-10-09 1982-04-20 Ushio Inc Annealing device

Patent Citations (1)

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KR20030025146A (ko) * 2001-09-19 2003-03-28 권영해 반도체소자 제조용 급속 열처리 설비 및 급속 열처리 화학증착 설비의 가열장치.

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