JPS6050405A - 疵の形状判定方法 - Google Patents
疵の形状判定方法Info
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- JPS6050405A JPS6050405A JP15959883A JP15959883A JPS6050405A JP S6050405 A JPS6050405 A JP S6050405A JP 15959883 A JP15959883 A JP 15959883A JP 15959883 A JP15959883 A JP 15959883A JP S6050405 A JPS6050405 A JP S6050405A
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/89—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（＆） 発明の技術分野
不発明は、板面等の表面の疵の形状判定方法に係わり、
特に定速で走行する長尺板上の表面の疵の形状判定方法
に関する０ （ｂ） 従来技術と問題点 第１図は長尺板１上の表面疵の形状検をを行う装置の概
要説明図である。板幅がｈになる長尺板１ｆＩ：図示し
ｌい余ビン部に巻き取ることで定速に矢印入方向に走行
させ、投光器２からの照射光３を矢印Ｂ方向に振って、
長尺板１の表面から反射する走査光４全受光器５に受信
′ｊる。この時の受信光は走査した長尺板１の表面状態
によってレベ１ ルガ変化し、その変化量に基いて長尺板ｌの表面上の疵
を走行途上の実時間内に検出するものである。受光器５
が受ける走査光４はアナログ・デジタル（Ａ／Ｄ）Ｋ換
部６においてデジタル信号に間 変換され、特に所望レベルに設定される閾値によって疵
の検出レベルを鋭く、又は低感涙のいずれでも股足でき
るよりにされる。
特に定速で走行する長尺板上の表面の疵の形状判定方法
に関する０ （ｂ） 従来技術と問題点 第１図は長尺板１上の表面疵の形状検をを行う装置の概
要説明図である。板幅がｈになる長尺板１ｆＩ：図示し
ｌい余ビン部に巻き取ることで定速に矢印入方向に走行
させ、投光器２からの照射光３を矢印Ｂ方向に振って、
長尺板１の表面から反射する走査光４全受光器５に受信
′ｊる。この時の受信光は走査した長尺板１の表面状態
によってレベ１ ルガ変化し、その変化量に基いて長尺板ｌの表面上の疵
を走行途上の実時間内に検出するものである。受光器５
が受ける走査光４はアナログ・デジタル（Ａ／Ｄ）Ｋ換
部６においてデジタル信号に間 変換され、特に所望レベルに設定される閾値によって疵
の検出レベルを鋭く、又は低感涙のいずれでも股足でき
るよりにされる。
長尺板ｌの衆面金走食する過程において、長尺板１の面
上に座標系（例えば直交する２軸）を設定し、長尺板ｌ
の幅方向（矢印Ｂ方向ンにＸ軸を、走行方向（矢印Ａ方
向）にｙ軸をと９、Ｘ軸では板幅ｂｔでの範囲、ｙ軸で
は送シｔがｋまでの轄皿：ｌニア＃ｌズ禮老１１雫球才
；１張さ毎に、実時間での検出領域１０（ｌとする方形
の拡がり面積（１＜Ｘｋ）をメツシュＭ（第４ｆ！Ｖ参
照ンに分割して走葺範囲とする。通常、１つのメツシュ
Ｍの面積に数平方ミリメートルで任意に股足されるもの
であるが、説明の便宜上、単位面積に設定するものとす
る〇 従って、上述した検出領域１ＯＯＫにＭＸｋ個のメツシ
ュＭが存在する。この時の走査光４はメツシュＭの個数
分だけの収集情報となることがら、各々のメツシュＭに
ついては、疵情報を含むメツシー（以後、有為のメツシ
ュ；Ｍｅと称する）であるか、ま′ｆ？：、は疵情報？
含まｌいメツ７ユ（以後、必要あれば無為のメツシュと
称する）であるかに頂 分数できる。従って、照射光３は長尺板１の表面から反
射した走査光４になって、ｌ＜Ｘｋ個分のメツシュＭだ
けの情報量として受光器５を介し、更にアナログ・デジ
タル（Ａ／Ｄ）ｆ換部６を経由した後に、処理装置７の
図示しない記憶部に格納され、解析されて、検出領域１
ｏｏ毎に疵の有無中形状等が検出又判定される０こ＼で
疵の形状等をより精緻に検出する為には、メツシュＭの
個数を多撥（換言すれば、■メツシュ当夕の走介面の拡
がりを小さくテる）にする必要がある。
上に座標系（例えば直交する２軸）を設定し、長尺板ｌ
の幅方向（矢印Ｂ方向ンにＸ軸を、走行方向（矢印Ａ方
向）にｙ軸をと９、Ｘ軸では板幅ｂｔでの範囲、ｙ軸で
は送シｔがｋまでの轄皿：ｌニア＃ｌズ禮老１１雫球才
；１張さ毎に、実時間での検出領域１０（ｌとする方形
の拡がり面積（１＜Ｘｋ）をメツシュＭ（第４ｆ！Ｖ参
照ンに分割して走葺範囲とする。通常、１つのメツシュ
Ｍの面積に数平方ミリメートルで任意に股足されるもの
であるが、説明の便宜上、単位面積に設定するものとす
る〇 従って、上述した検出領域１ＯＯＫにＭＸｋ個のメツシ
ュＭが存在する。この時の走査光４はメツシュＭの個数
分だけの収集情報となることがら、各々のメツシュＭに
ついては、疵情報を含むメツシー（以後、有為のメツシ
ュ；Ｍｅと称する）であるか、ま′ｆ？：、は疵情報？
含まｌいメツ７ユ（以後、必要あれば無為のメツシュと
称する）であるかに頂 分数できる。従って、照射光３は長尺板１の表面から反
射した走査光４になって、ｌ＜Ｘｋ個分のメツシュＭだ
けの情報量として受光器５を介し、更にアナログ・デジ
タル（Ａ／Ｄ）ｆ換部６を経由した後に、処理装置７の
図示しない記憶部に格納され、解析されて、検出領域１
ｏｏ毎に疵の有無中形状等が検出又判定される０こ＼で
疵の形状等をより精緻に検出する為には、メツシュＭの
個数を多撥（換言すれば、■メツシュ当夕の走介面の拡
がりを小さくテる）にする必要がある。
領域１００内のメツシュＭの分割を増やすことになる。
従って、検出領域１００がら収集されたメツシュ単位の
データ全メモリに格納し、データ処理を行う際に、判定
を複雑にすれば疵の詳細な形状が明らかにできるが、反
面それほど精緻な判定は不安である場合でもデータ処理
に時間が掛Ｃｊぎてし貫う欠点があった。上述のように
メツシュ個数を増新しｆｒ−場合には、長尺板１の走行
速度を成る８度抑え込むようにしないと、実時間の検出
が不可能ＶＣなる欠点もある。
データ全メモリに格納し、データ処理を行う際に、判定
を複雑にすれば疵の詳細な形状が明らかにできるが、反
面それほど精緻な判定は不安である場合でもデータ処理
に時間が掛Ｃｊぎてし貫う欠点があった。上述のように
メツシュ個数を増新しｆｒ−場合には、長尺板１の走行
速度を成る８度抑え込むようにしないと、実時間の検出
が不可能ＶＣなる欠点もある。
更に、収集されｆｃ疵情報を含むメツシ＆（イ１為のメ
ツシュ； Ｍｅ ）についての疵の形状判定を行う従来
方法へ前出のｋＸｋの拡がｐごとに、縦（Ｖ ｉ１１方
向）横（Ｘ軸方向ンの個々のメツシュＭに対し各情報に
対する重みづけを行りｆｒ−積分情報をめることで判定
の基準値を算出するものでろった。しかしながらその従
来技術でに、例えは第え ２図（ａ）〜（Ｃ）に示すようなＭＸｋなる検出領域１
００に対しての疵の広が９幅がＸｒ＝Ｘｘ ＝Ｘｓでｙ
Ｉ＝ｙ２可 ＝ｙｓのよ５に暑しい場合は、基準値がいずれも一致し
た値となる為、形状判定、特にその分布の状況を（ａ）
〜（Ｃ）のいずれも単一の面疵、つまＤ（ｃ）の形状と
誤認する危険があった。更に収集したメツシュ・データ
から疵を復元することもできない欠点もありた。
ツシュ； Ｍｅ ）についての疵の形状判定を行う従来
方法へ前出のｋＸｋの拡がｐごとに、縦（Ｖ ｉ１１方
向）横（Ｘ軸方向ンの個々のメツシュＭに対し各情報に
対する重みづけを行りｆｒ−積分情報をめることで判定
の基準値を算出するものでろった。しかしながらその従
来技術でに、例えは第え ２図（ａ）〜（Ｃ）に示すようなＭＸｋなる検出領域１
００に対しての疵の広が９幅がＸｒ＝Ｘｘ ＝Ｘｓでｙ
Ｉ＝ｙ２可 ＝ｙｓのよ５に暑しい場合は、基準値がいずれも一致し
た値となる為、形状判定、特にその分布の状況を（ａ）
〜（Ｃ）のいずれも単一の面疵、つまＤ（ｃ）の形状と
誤認する危険があった。更に収集したメツシュ・データ
から疵を復元することもできない欠点もありた。
（Ｃ）発明の目的
本願は上述の欠点を解決し、所定範囲毎の疵の （形状
を実時間内に、収集データ量を増やすことなく、形状判
定を高感度に検出できる疵の形状判定方法を提供Ｔるこ
とにある。
を実時間内に、収集データ量を増やすことなく、形状判
定を高感度に検出できる疵の形状判定方法を提供Ｔるこ
とにある。
（ｄ） 発明の構成 仁
上記の目的を達成する本願の構成要旨は、検体 くの表
面を走査して得られた走査情報に基ずき、該 １検体表
面の疵の形状を判定する方法であって、該 。
面を走査して得られた走査情報に基ずき、該 １検体表
面の疵の形状を判定する方法であって、該 。
検体表面の所定の拡がｐｆ！、走査した走査情報信号金
、設定し急座標軸対応に分割したメツシュに割シ当て、
疵情報を含む疵メノシａ（Ｃ対して、所だ側の座標軸に
沿っ゛て該疵メツシーの連鎖が少なくとも１以上の連な
シであるときをエレメントとして設定し、該エレメント
内での該疵メツ／ユの連続個数の算出および該エレメン
ト内での所定の位置にある疵メツシュを当該エレメント
の代表メツシュに定めてその座標値金算足し、設定済み
の全エレメントの該代表メツシュの位１ｑ情報に基すい
て、該検体表面の疵の形状をＲ別することを特徴とする
ものである。
、設定し急座標軸対応に分割したメツシュに割シ当て、
疵情報を含む疵メノシａ（Ｃ対して、所だ側の座標軸に
沿っ゛て該疵メツシーの連鎖が少なくとも１以上の連な
シであるときをエレメントとして設定し、該エレメント
内での該疵メツ／ユの連続個数の算出および該エレメン
ト内での所定の位置にある疵メツシュを当該エレメント
の代表メツシュに定めてその座標値金算足し、設定済み
の全エレメントの該代表メツシュの位１ｑ情報に基すい
て、該検体表面の疵の形状をＲ別することを特徴とする
ものである。
ｅ）発明の実施例
以下に図を用いて、本願の詳Ｍ１を説明する。
第３図は、第１図図示の処理装置の概侠ブロック図でる
り、図中で７０は信号線、７’ｌａ、７１ｂエフレーム
メモリ、７２はサーチ制御部、７３に［ングフェース制
御部、７４は処理部、ｓｗはス［ツチである。第１λ′
図におけろ走査光４に、メ、シーＭ信号となって転送さ
れ、スイッチｓｗの切替によって、フレームメモリＡ、
ｆｌバッファリングしながら１つの検出領域１０００単
位で格納する。このフレームメモリＡ、Ｈに格納される
情報はメツシ１１Ｍを単位とする＋Ｗ報であり、ブー２
ノ チ制御部７２によって、各メツシュＭから有無のメツシ
ュＭｅ （以後はＭｅｋ用いる）全抽出し、Ｍｅに関し
て、第４図で説明する判定用の基準データを請求め、イ
ンタフェース制御部７３によって処理部７４に転送され
、第５図で説明するが如きの手ＰＪＡ’ｅ用いて、疵の
形状が判定される。
り、図中で７０は信号線、７’ｌａ、７１ｂエフレーム
メモリ、７２はサーチ制御部、７３に［ングフェース制
御部、７４は処理部、ｓｗはス［ツチである。第１λ′
図におけろ走査光４に、メ、シーＭ信号となって転送さ
れ、スイッチｓｗの切替によって、フレームメモリＡ、
ｆｌバッファリングしながら１つの検出領域１０００単
位で格納する。このフレームメモリＡ、Ｈに格納される
情報はメツシ１１Ｍを単位とする＋Ｗ報であり、ブー２
ノ チ制御部７２によって、各メツシュＭから有無のメツシ
ュＭｅ （以後はＭｅｋ用いる）全抽出し、Ｍｅに関し
て、第４図で説明する判定用の基準データを請求め、イ
ンタフェース制御部７３によって処理部７４に転送され
、第５図で説明するが如きの手ＰＪＡ’ｅ用いて、疵の
形状が判定される。
第４図はサーチ制御部７２においてめられる判定用の基
準データ説明図である０図中、矢印Ａｉ′ｊ：長尺板１
の走行方向であってｙ軸に、又矢印Ｂは照射光４０疋査
万同であってｙ軸にそれぞれｒｆｉ足した座標系を設け
る０この時の検出頭孔 域１００は、例えば図中でμに＝１７．に＝１６゜ん Ｋｘｋ＝１６Ｘ１７＝２７２メッシ、、Ｌ（勿論、メツ
シーの大きさの設足は任意であや、不実施例の個数に限
定されるものではない）である０上記の検出領域１００
円は２７２個のメツシュＭに分割されだが、この円で疵
を含む有無のメツ７ユＭｅは２３個、Ｍｏの関連におい
て、エレメントＥ ｎ ８ ＋固、各エレメントの代表
メツシュＭｏも８個で図中ｈ；（線全はどこしたＭｅで
ある。この時、各々のメン７） １１シ；１ のである。従って、検出感度を高めるように闇値を設麓
すれば、第４図中のＭＯｌｌ、更に増加し、逆開 に闇値を設ン？Ｔｉｔば、１辺ｅ、は減小Ｔる。但し、
第４図図示のＭｅ（は前出のよりに２３個である。仄Ｉ
ｃ、ＣＪＤＭ、がらエレメントＥを算出する。こ＼でサ
ーチ方向はいずれかの一軸にｂモノ足（不実施１りａで
はｙ軸方向〕踵 ｙ軸に沿うＭ、ｅ ｃＤ連鎖が１以上
あるもの全ニレメンｉＥに、又その時の１エレメントＩ
）’３ （Ｚ尋グｅｃｒ）個数をエレメントの長さｎ１
ニレメン）Ｅ内で所定の順位置（木シ’： Ｍｌ！ｉ例
では先頭位置）に在るＭｅを代表メツシ。Ｍｏ（図中で
斜線をしたメツシー）Ｋ設足する。
準データ説明図である０図中、矢印Ａｉ′ｊ：長尺板１
の走行方向であってｙ軸に、又矢印Ｂは照射光４０疋査
万同であってｙ軸にそれぞれｒｆｉ足した座標系を設け
る０この時の検出頭孔 域１００は、例えば図中でμに＝１７．に＝１６゜ん Ｋｘｋ＝１６Ｘ１７＝２７２メッシ、、Ｌ（勿論、メツ
シーの大きさの設足は任意であや、不実施例の個数に限
定されるものではない）である０上記の検出領域１００
円は２７２個のメツシュＭに分割されだが、この円で疵
を含む有無のメツ７ユＭｅは２３個、Ｍｏの関連におい
て、エレメントＥ ｎ ８ ＋固、各エレメントの代表
メツシュＭｏも８個で図中ｈ；（線全はどこしたＭｅで
ある。この時、各々のメン７） １１シ；１ のである。従って、検出感度を高めるように闇値を設麓
すれば、第４図中のＭＯｌｌ、更に増加し、逆開 に闇値を設ン？Ｔｉｔば、１辺ｅ、は減小Ｔる。但し、
第４図図示のＭｅ（は前出のよりに２３個である。仄Ｉ
ｃ、ＣＪＤＭ、がらエレメントＥを算出する。こ＼でサ
ーチ方向はいずれかの一軸にｂモノ足（不実施１りａで
はｙ軸方向〕踵 ｙ軸に沿うＭ、ｅ ｃＤ連鎖が１以上
あるもの全ニレメンｉＥに、又その時の１エレメントＩ
）’３ （Ｚ尋グｅｃｒ）個数をエレメントの長さｎ１
ニレメン）Ｅ内で所定の順位置（木シ’： Ｍｌ！ｉ例
では先頭位置）に在るＭｅを代表メツシ。Ｍｏ（図中で
斜線をしたメツシー）Ｋ設足する。
続いて、サーチ制御部７２は以下に睨Ｉ′ＩＡする判定
用の基準データをｙ軸、ｙ屯り共Ｖｃ不めて行く〇Ｗ：
エレメントの分布範囲。
用の基準データをｙ軸、ｙ屯り共Ｖｃ不めて行く〇Ｗ：
エレメントの分布範囲。
ニレメン）Ｅの左端から右端１での幅ＤＶｘ ＝代表メ
ツシュＭｏの左端から右端までの幅（Ｄｘ＝Ｗｘ−１２
、Ｄｙ＝１２ ） Ｗ；軸への投影。
ツシュＭｏの左端から右端までの幅（Ｄｘ＝Ｗｘ−１２
、Ｄｙ＝１２ ） Ｗ；軸への投影。
Ｓ；軸への投影。
代表メツシ：ＬＭｏに係わＤ、ｙ軸ではＷ−Ｘに一致す
る０（Ｓｎ＝Ｗ−ｘ＝７１５ｙ＝７）Ｆ；軸におけるエ
レメント数の分布。
る０（Ｓｎ＝Ｗ−ｘ＝７１５ｙ＝７）Ｆ；軸におけるエ
レメント数の分布。
Ｎ；軸における代表メンシュ数の分布で、ＮＸｎＦｘに
一致する。
一致する。
ろ
ｆ；有無のメツシー数
以上の基準データを用いることで、疵の形状判定を効果
的に行えるよりになる。
的に行えるよりになる。
第５図は、前出の基準データから処理部７４が実行する
疵の形状を判定するプロセスのブロック図である。この
プロセスに多数のフェーズに分解できるものであるが、
第５図はそのうちの特徴的１３ｍの７エーズを説明した
ものである。
疵の形状を判定するプロセスのブロック図である。この
プロセスに多数のフェーズに分解できるものであるが、
第５図はそのうちの特徴的１３ｍの７エーズを説明した
ものである。
第１フェーズ；
この７エーズは疵が点に属する形状を有する時に検出す
る。つ１夕、検出されたニレメン）Ｅの円でエレメント
長ｎが最大のエレメントＥＴｈ抽出し、エレメント長ｎ
≦γの時に疵が点又鉱点状であると判定する○ 第２７エーズ； このフェーズは疵が線に属するもの、もしくはば疵に線
に属すると判定し、α、≦？≦１．０ならば疵は面に属
すると判定する。
る。つ１夕、検出されたニレメン）Ｅの円でエレメント
長ｎが最大のエレメントＥＴｈ抽出し、エレメント長ｎ
≦γの時に疵が点又鉱点状であると判定する○ 第２７エーズ； このフェーズは疵が線に属するもの、もしくはば疵に線
に属すると判定し、α、≦？≦１．０ならば疵は面に属
すると判定する。
第３７エーズ；
この７エーズはエレメント密度（Ｐｙ）の算出であや、
単−面又に面群を判定する０っまｐ、ｙ軸側の基準デー
タＳｙ 、 Ｄｙｆｔ用い、その比ＩＰｙ＝Ｓｙ／Ｄｙ
に１よって単−面又は面群が判定できる。
単−面又に面群を判定する０っまｐ、ｙ軸側の基準デー
タＳｙ 、 Ｄｙｆｔ用い、その比ＩＰｙ＝Ｓｙ／Ｄｙ
に１よって単−面又は面群が判定できる。
以上の３種のフェーズ以外にも、ｙ軸側のエレメント分
布範囲（Ｗｙ ）、メツシュＭｅを用いて、疵の長さを
判定可能であり、エレメント分布範囲（Ｗｘ 、 Ｗ’
／ ）及びエレメント数（Ｆｘ）を用いれば疵が点状に
属した時の程度を判定できる。この他にも疵判定に利用
できるものには、エレメント密度、Ｘ軸、ｙ軸における
投影の濃さ、疵面積比などもあり、いずれも前述の基準
データから容易に算出できる。
布範囲（Ｗｙ ）、メツシュＭｅを用いて、疵の長さを
判定可能であり、エレメント分布範囲（Ｗｘ 、 Ｗ’
／ ）及びエレメント数（Ｆｘ）を用いれば疵が点状に
属した時の程度を判定できる。この他にも疵判定に利用
できるものには、エレメント密度、Ｘ軸、ｙ軸における
投影の濃さ、疵面積比などもあり、いずれも前述の基準
データから容易に算出できる。
第６図に、第５図のプロセスで対比される疵の代表的な
形状分類図でろｐ１検出領域１００円において表われた
疵形状は、（ａ）は単独線流、（ｂ）ｉ−１，並行線流
、（Ｃ）は線集合疵、０）は単独回流、＜６）は面群チ 疵、優）は点状疵である０ （ｆ）発明の効果 以上述べ次ように、本願の判定方法を用いると、第２図
に示した３種の面疵についても、例えば本願の７エーズ
３が適用されることで、エレメント本 密度（Ｐ）を用いることで、Ｐ ａ）Ｐ ｂ）Ｐ ｃな
ｐｌその班点の程度が区別できる。
形状分類図でろｐ１検出領域１００円において表われた
疵形状は、（ａ）は単独線流、（ｂ）ｉ−１，並行線流
、（Ｃ）は線集合疵、０）は単独回流、＜６）は面群チ 疵、優）は点状疵である０ （ｆ）発明の効果 以上述べ次ように、本願の判定方法を用いると、第２図
に示した３種の面疵についても、例えば本願の７エーズ
３が適用されることで、エレメント本 密度（Ｐ）を用いることで、Ｐ ａ）Ｐ ｂ）Ｐ ｃな
ｐｌその班点の程度が区別できる。
本願におけるデータ収集から、基準用データの算出、更
に判別プロセスのいｒ九刀・においても、従来技術にお
けるよシもデータ量は増えることなく、判定種別の算法
は多種類の適用が可能、計ｎ量自体は単純であるから短
時間で計算でき、従って、長尺板の走行速度全速めても
実時間内に所定の検出領域当りの疵を判定できる効果が
犬である。
に判別プロセスのいｒ九刀・においても、従来技術にお
けるよシもデータ量は増えることなく、判定種別の算法
は多種類の適用が可能、計ｎ量自体は単純であるから短
時間で計算でき、従って、長尺板の走行速度全速めても
実時間内に所定の検出領域当りの疵を判定できる効果が
犬である。
第１図に疵の形状検亘装置の概要説明図、第２図は班状
疵を示した形状図、第３図は処理装置の機能ブロック図
、ｉ７！４図は判定用基準データ説明図、第５図は判定
のプロセスを示すブロック図、第６図は第５図のプロセ
スに対比される疵の形状分類図であり、図中、１は長尺
板、２は投光器、３μ照射光、４は走査光、５は受光器
、６にアナログ・デジタル変換部、７に処理装置、７２
はザーチ制御部、７４は処理部、ｈは板幅、ｋは検出単
位の送り量、１００は検出領域、Ａは送行方向、Ｂは走
査方向、ｘ、ｙは座標、Ｍはメノシｓ−、Ｍｅ・ろ は有無のメツシュ、ＭＯは代表メツシュ、Ｅはエレメン
ト、’ｎＦｆ：、エレメントの長さ、Ｗはエレメントの
分布範囲、Ｗはエレメントの投影、Ｄは代表メツシュの
分布範′囲、Ｓは代表メツシーの投影、Ｆｉｄエレメン
トの分布個数、Ｎｌｄ代表メツシュのツノ 分布個数、ｆは有無のメツシュの分布個数をそれぞれ示
し１す０ ８ □ ８（ｄｘ ｒ Ｊ Ｘ −ＦＸ）Ｎｘ Ｓ ｃ＞ ン ｒ
疵を示した形状図、第３図は処理装置の機能ブロック図
、ｉ７！４図は判定用基準データ説明図、第５図は判定
のプロセスを示すブロック図、第６図は第５図のプロセ
スに対比される疵の形状分類図であり、図中、１は長尺
板、２は投光器、３μ照射光、４は走査光、５は受光器
、６にアナログ・デジタル変換部、７に処理装置、７２
はザーチ制御部、７４は処理部、ｈは板幅、ｋは検出単
位の送り量、１００は検出領域、Ａは送行方向、Ｂは走
査方向、ｘ、ｙは座標、Ｍはメノシｓ−、Ｍｅ・ろ は有無のメツシュ、ＭＯは代表メツシュ、Ｅはエレメン
ト、’ｎＦｆ：、エレメントの長さ、Ｗはエレメントの
分布範囲、Ｗはエレメントの投影、Ｄは代表メツシュの
分布範′囲、Ｓは代表メツシーの投影、Ｆｉｄエレメン
トの分布個数、Ｎｌｄ代表メツシュのツノ 分布個数、ｆは有無のメツシュの分布個数をそれぞれ示
し１す０ ８ □ ８（ｄｘ ｒ Ｊ Ｘ −ＦＸ）Ｎｘ Ｓ ｃ＞ ン ｒ
Claims (1)
- αン 検体の表面を走査して得られ之走査情報に基すき
、該検体表面の疵の形状全判定する方法であって、該検
体表面を走査した走査情報を、分割したメツシュに割り
当て、疵情報を含む疵メツシュに対して、所定の座標軸
に沿って連なる該疵メツシュをエレメントとして設定し
、該エレメント内での所定の位置にある疵メッシエを当
該エレメントの代表メツシーに定めてその座標値を算定
し、全エレメントの各代表メツシーの座標値に基いて該
検体表面の疵の形状金、識別することを特徴とする疵の
形状判定方法）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15959883A JPS6050405A (ja) | 1983-08-31 | 1983-08-31 | 疵の形状判定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15959883A JPS6050405A (ja) | 1983-08-31 | 1983-08-31 | 疵の形状判定方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6050405A true JPS6050405A (ja) | 1985-03-20 |
| JPH0224443B2 JPH0224443B2 (ja) | 1990-05-29 |
Family
ID=15697195
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15959883A Granted JPS6050405A (ja) | 1983-08-31 | 1983-08-31 | 疵の形状判定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6050405A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63167209A (ja) * | 1986-12-27 | 1988-07-11 | Hinode Eng Kk | 表面検査装置 |
| JPH0248857U (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-04 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49130257A (ja) * | 1973-04-13 | 1974-12-13 |
-
1983
- 1983-08-31 JP JP15959883A patent/JPS6050405A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49130257A (ja) * | 1973-04-13 | 1974-12-13 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63167209A (ja) * | 1986-12-27 | 1988-07-11 | Hinode Eng Kk | 表面検査装置 |
| JPH0248857U (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-04 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0224443B2 (ja) | 1990-05-29 |
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