JPS6052174A - 固体撮像装置 - Google Patents

固体撮像装置

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Publication number
JPS6052174A
JPS6052174A JP58161367A JP16136783A JPS6052174A JP S6052174 A JPS6052174 A JP S6052174A JP 58161367 A JP58161367 A JP 58161367A JP 16136783 A JP16136783 A JP 16136783A JP S6052174 A JPS6052174 A JP S6052174A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
contact
photoelectric conversion
solid
vertical
scanning circuit
Prior art date
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Pending
Application number
JP58161367A
Other languages
English (en)
Inventor
Satoshi Hirose
広瀬 諭
Shiro Hine
日根 史郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP58161367A priority Critical patent/JPS6052174A/ja
Publication of JPS6052174A publication Critical patent/JPS6052174A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F39/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
    • H10F39/10Integrated devices
    • H10F39/12Image sensors
    • H10F39/18Complementary metal-oxide-semiconductor [CMOS] image sensors; Photodiode array image sensors

Landscapes

  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、半導体基板上に製作された固体撮像装置の改
良に関するものである。
〔従来技術〕
従来、この種の装置として第1図に示すものがあった。
第1図は、光電変換部としてMO3I−ランジスタのソ
ース部を用いた構造の固体撮像装置の画素構成を示す。
図において、1は光電変換部としてのフォトダイオード
、2はポリシリコンゲート、3はアルミ配線、4は電極
用コンタクト穴である。
第2図は、■画素単位のMO3I−ランジスタの断面図
を示す。第2図において、1〜4の符号は第1図と同一
のものを示し、5は電子正孔対を蓄積するpn接合部、
6はMOS)ランジスタのチャネル、7はドレインであ
る。
第3図は、装置の動作を説明するための図で、図におい
て、11は水平走査回路、12は垂直走査回路、13は
水平続出MO3)ランジスタ(以下水平続出MO3TR
と称す)、14は出力信号線、15は光電変換素子、1
Gは垂直走査線、17は垂直MO3I−ランジスタ(以
下垂直MO3TRと称す)、18は垂直信号線、19は
垂直信号線18の浮遊容量、20はビデオバイアス電源
、21はビデオ出力の負荷抵抗である。
次に動作について説明する。光電変換部1で、光励起に
よって発生したキャリアは、pn接合部5の容量にM積
されるJ信号読出し時にはゲート2に電圧を印加するこ
とによりチャネル6が導通し、ドレイン7を通じて光電
変換部1に流れ込む電流の大きさが、画像信号に対応し
ている。
第3図について動作を説明すると、先ず、垂直走査回路
12によっである一つの垂直走査線16が選択されると
、その行に接続されている全ての垂直MO3TR17が
導通状態となる。これによって光電変換素子15に蓄積
されていた光信号が各垂直信号線18に読出される。こ
の後、水平走査回路11により選ばれた水平読出M O
S T R13が順次選択されて導通状態となり、各垂
直信号線18まで読出されていた信号が順次出力信号線
14に読出される。このように走査して得られる光電変
換信号は、選ばれた垂直走査線■6毎に水平走査回路1
1の出力に同期して読出される。そして、今選択された
水平方向の読出しが終了した後、この行は非選択状態と
なり、次に選JRされる迄光信号を蓄える蓄積状態とな
る。
従来のMOS)ランジスタを用いた固体撮像装置は以上
のように構成されており、解像度として例えば垂直35
0TV本、水平250T■本の性能のカラー固体操像装
置を得ようとすれば、500 X400の約20万個の
素子が必要となる。これらの素子のうち1個でも動作不
良が発生ずれば、画像として不完全なものとなる。この
動作不良の箇所としては、第1図および第2図のコンタ
クト穴4であることが多い。即ち、酸化膜を、レジスト
をマスクしてエツチングする時に十分な穴があかない場
合、アルミ配線と下地のシリコン基板との接触不良がお
きる。この為、画像上では対応する位置に黒い点があら
れれる。そしてこのようなコンタクト不良がおきる確率
は、コンタク]・穴の数に比例する。
(発明の概要〕 この発明は上記のような従来のものの欠点を除去するた
めになされたもので、各コンタク1−穴を相異なる2個
の画素間で共通にすることにより、コンタクト穴の数を
半分に減らしコンタクト不良の確率を減らして歩留りを
大巾に向」ニさせることのできる固体撮像装置を提供す
ることを目的としている。
〔発明の実施例〕
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第4
図に於いて、41は光電変換部としてのフォトダイオー
ド、42はポリシリコンゲート、43はアルミ配線、4
4はコンタクト穴であり、各コンタクト穴44は相異な
る2個の光電変換部41がそれぞれポリシリコンゲート
42を介して共有している。
次に動作について説明する。
画素信号読出し時には、IIl&lのコンタクト穴に関
して片側のMO3TRのゲートにのみ電圧をかけること
により、2個の画素のうち片側のみの画素信号が得られ
る。従って両方の画素からの信号が混入することはない
。電気的な回路構成は、従来の固体撮像装置と同様であ
り、動作も同様に行なわれる。即ち、第5図を用いて説
明すると、先ず、垂直走査回路12によっであるーっの
垂直走査線16が選択されると、その行に接続されてい
る全ての垂直MO3TR17が導通状態となる。
これによって光電変換素子15に蓄積されてぃた光信号
が各垂直信号線18に読出される。この筬、水平走査回
路11により選ばれた水平Jfε出MO5TR13が順
次選択されて導通状態となり、各垂直信号線18まで読
出されていた信号が順次出力信号線14に読出される。
このように走査して得られる光電変換信号は、選ばれた
垂直走査線16毎に水平走査回路11の出力に同期して
読出される。そして、今選択された水平方向の読出しが
終了した後、この行は非選択状態となり、次に選択され
る迄光信号を蓄える蓄積状態となる。
このような本実施例では、各コンタク1〜穴を相ンタク
ト不良による歩留り低下を人中に改?qできる。
なお、上記実施例では、1個の二1ンタク!・穴につな
がる2 (Il+の画素のあいだに他のコンタク1−穴
につながる1 111.1の画素を配置するようにした
場合について説明したが、画素の配置としては、例えば
第6図に示したものも考えられ、その伯、2 +l+J
の画素についてコンタク1−穴を共通にした配置は無数
に考えることができ、そのいずれについても上記実施例
と同様の効果を奏する。
〔発明の効果〕
以上のように、この発明によれば、各コンタクト穴を相
異なる2個の画素、即ち光電変換部間で共通にすること
により、コンタクト穴の数を画素の数の半分になるよう
にしたので、固体撮像装置のコンタクト不良による歩留
り低下を大II+に改善できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の固体撮像装置の画素構成を示す図、第2
図は第1図の装置の1画素の断面図、第3図は第1図の
装置の回路構成図、第4図はこの発明の一実施例による
固体撮像装!Ejのjjj素措成を示す図、第5図は第
4図の装置ろ:の回路構成図、第6図は本発明の他の実
施例による固体撮像装置の画素構成を示す図である。 11は水平走査回路(走査回路部)、12は垂直走査回
路(走査回路部)、13は水平読出M0Sトランジスタ
、15は光電変換素子、16は垂直走査線、17は垂直
MOSトランジスタ、18は垂直信号線、41ばフォト
ダイオード(光電変換部)、42はポリシリコンゲート
、43はアルミ配線、44はコンタクト穴(接触部分)
、5はpn接合部、6はMOS)ランジスタのチャネル
、7はトレイン部である。 なお図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 代理人 人 岩 増 雄 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図 第6図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) 半導体基板上に形成された複数の光電変換部と
    、該光電変換部を順次選択する走査回路部と、上記各光
    電変換部と上記走査回路部とを接続する配線とを備えた
    固体撮像装置において、相異なる2個の光電変換部が上
    記配線との接触部分を共有するようにしたことを特徴と
    する固体撮像装置。
JP58161367A 1983-08-31 1983-08-31 固体撮像装置 Pending JPS6052174A (ja)

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JP58161367A JPS6052174A (ja) 1983-08-31 1983-08-31 固体撮像装置

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JP58161367A JPS6052174A (ja) 1983-08-31 1983-08-31 固体撮像装置

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JPS6052174A true JPS6052174A (ja) 1985-03-25

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ID=15733735

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JP58161367A Pending JPS6052174A (ja) 1983-08-31 1983-08-31 固体撮像装置

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