JPS6052873A - 光ビ−ム記録装置 - Google Patents
光ビ−ム記録装置Info
- Publication number
- JPS6052873A JPS6052873A JP15905083A JP15905083A JPS6052873A JP S6052873 A JPS6052873 A JP S6052873A JP 15905083 A JP15905083 A JP 15905083A JP 15905083 A JP15905083 A JP 15905083A JP S6052873 A JPS6052873 A JP S6052873A
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- JP
- Japan
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- light
- light beam
- lens
- photoreceptor
- laser beam
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/22—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern involving the combination of more than one step according to groups G03G13/02 - G03G13/20
- G03G15/32—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern involving the combination of more than one step according to groups G03G13/02 - G03G13/20 in which the charge pattern is formed dotwise, e.g. by a thermal head
- G03G15/326—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern involving the combination of more than one step according to groups G03G13/02 - G03G13/20 in which the charge pattern is formed dotwise, e.g. by a thermal head by application of light, e.g. using a LED array
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/04—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material
- G03G15/043—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material with means for controlling illumination or exposure
- G03G15/0435—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material with means for controlling illumination or exposure by introducing an optical element in the optical path, e.g. a filter
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光ビーム記録装置、特に光ビームの強度分布を
変えることにより感光体に動電の良い記録をtしうる光
ビーム記録装置に関する。
変えることにより感光体に動電の良い記録をtしうる光
ビーム記録装置に関する。
従来の光ビーム記録装置、たとえばレーザビームプリン
タにおいては、画像信号に応じて変調され且つ半導体レ
ーザから発せられたレーザビームはコリメータレンズに
より平行光とされる。この平行光とされたレーザビーに
は高速回転している回転多面鏡の反射面によって反射さ
れて偏向し7(がら結像レンズ、たとえばf−〇特性を
有するf−θレンズに入射する。このレンズがら射出し
たレーザビームは絞られて電子写真感光体ドラム上に光
スポットとして結像し感光体ドラムを走査する。このよ
うに一様にある極性に帯電された感光体ドラムは変調さ
れたレーザビームにより照射されることによって静電潜
像が形成される。この静電潜像は現像の表面電位−濃度
特性に従って画像に応じた濃度分布で現像粉体像として
顕像化される。この感光体ドラムをレーザビームで照射
する時、感光体ドラムがたとえばプラス極性に帯電を受
けていた場合、感光体ドラムの表面電位はレーザビーム
の露光量が低い部位程高くなる傾向がある。従って、あ
るレーザビームによる露光量の閾値を設けて黒白の濃度
の閾値を設定した場合、従来のレーザビームの強度分布
では急峻な山形のガウス型またはこれに近い分布であり
、従って、感光体への光スポットの光量分布もこの形C
二辺いものとなり、レーザビームの感光体への照射部位
でこの閾値より大きな露光量をもつ部位の感光体への露
光量の分布は急峻な山形をなし、閾値よりはるかに大き
い露光量をもつ部分が照射部位のかなりの部分を占め無
駄にレーザビームのエネルギーが用いられている。
タにおいては、画像信号に応じて変調され且つ半導体レ
ーザから発せられたレーザビームはコリメータレンズに
より平行光とされる。この平行光とされたレーザビーに
は高速回転している回転多面鏡の反射面によって反射さ
れて偏向し7(がら結像レンズ、たとえばf−〇特性を
有するf−θレンズに入射する。このレンズがら射出し
たレーザビームは絞られて電子写真感光体ドラム上に光
スポットとして結像し感光体ドラムを走査する。このよ
うに一様にある極性に帯電された感光体ドラムは変調さ
れたレーザビームにより照射されることによって静電潜
像が形成される。この静電潜像は現像の表面電位−濃度
特性に従って画像に応じた濃度分布で現像粉体像として
顕像化される。この感光体ドラムをレーザビームで照射
する時、感光体ドラムがたとえばプラス極性に帯電を受
けていた場合、感光体ドラムの表面電位はレーザビーム
の露光量が低い部位程高くなる傾向がある。従って、あ
るレーザビームによる露光量の閾値を設けて黒白の濃度
の閾値を設定した場合、従来のレーザビームの強度分布
では急峻な山形のガウス型またはこれに近い分布であり
、従って、感光体への光スポットの光量分布もこの形C
二辺いものとなり、レーザビームの感光体への照射部位
でこの閾値より大きな露光量をもつ部位の感光体への露
光量の分布は急峻な山形をなし、閾値よりはるかに大き
い露光量をもつ部分が照射部位のかなりの部分を占め無
駄にレーザビームのエネルギーが用いられている。
本発明は上記の点(二鑑み、上記欠点を改良するために
なされたもので、光ビームで感光体を照射するに当り、
無駄に費やされる光量を極力少なくするために、濃度の
閾値を決定する、光ビームの感光体への露光量より若干
大きな露光量で感光体を照射するように〜へ光ビームを
用いることによ1り効率のよい記録をなしうる光ビーム
記録装置全提供することを目的とする。
なされたもので、光ビームで感光体を照射するに当り、
無駄に費やされる光量を極力少なくするために、濃度の
閾値を決定する、光ビームの感光体への露光量より若干
大きな露光量で感光体を照射するように〜へ光ビームを
用いることによ1り効率のよい記録をなしうる光ビーム
記録装置全提供することを目的とする。
以下、本発明に係る光ビーム記録装置の実施例を図面に
従って詳細に説明する。
従って詳細に説明する。
2図は、光学系による光束及び露光量の状態を示す断面
図である。図に於て、1は光源としての半導体レーザ、
2はコリメータレンズ、3はビームエクスパングーレン
ズ、4は結像レンズ8側に錐の頂部を有する円錐型の円
錐レンズ、5は回転多面鏡、6は回転軸7に取り付けら
れた回転多面鏡5を回転させるモータ、8はf−θ特性
を有する結像レンズ、9は図示矢印方向に不図示の手段
により回転している感光体ドラム、10は水平同期信号
なうるための光路変更用のミラー、11はミラー10に
よって反射された光を受光する光検出器である。
図である。図に於て、1は光源としての半導体レーザ、
2はコリメータレンズ、3はビームエクスパングーレン
ズ、4は結像レンズ8側に錐の頂部を有する円錐型の円
錐レンズ、5は回転多面鏡、6は回転軸7に取り付けら
れた回転多面鏡5を回転させるモータ、8はf−θ特性
を有する結像レンズ、9は図示矢印方向に不図示の手段
により回転している感光体ドラム、10は水平同期信号
なうるための光路変更用のミラー、11はミラー10に
よって反射された光を受光する光検出器である。
画像信号に従って変調されかつ半導体レーザ1から発せ
られたレーザビームはコリメータレンズ2により平行光
とされ、更にビームエクスパンダ−レンズ3によりその
光束径を拡大されて平行光のま\円錐レンズ4に入射す
る。この円錐レンズ4を通過したレーザビームの光束の
周辺光は光軸方向に向かい、この中心光は、光軸と交わ
る方向。
られたレーザビームはコリメータレンズ2により平行光
とされ、更にビームエクスパンダ−レンズ3によりその
光束径を拡大されて平行光のま\円錐レンズ4に入射す
る。この円錐レンズ4を通過したレーザビームの光束の
周辺光は光軸方向に向かい、この中心光は、光軸と交わ
る方向。
に向かい、これらの光束の延長線が光軸方向となす角度
は微小なものである。この円錐レンズ4を通過したレー
ザビームはモータ6により回転軸7を回転中心として回
転している回転多面鏡5により反射されて後、結像レン
ズ8により感光体ドラム9上に結像する。なお、第1図
の一点鎖線でレーザビームの走査軌跡が示されているよ
うに、まず最初にレーザビームはミラー10により反射
されて光検出器11で検出されて、これから水平同期信
号が出力され、この後、感光体ドラム9の一点鎖線で示
されているように水平にレーザビームが走査する。
は微小なものである。この円錐レンズ4を通過したレー
ザビームはモータ6により回転軸7を回転中心として回
転している回転多面鏡5により反射されて後、結像レン
ズ8により感光体ドラム9上に結像する。なお、第1図
の一点鎖線でレーザビームの走査軌跡が示されているよ
うに、まず最初にレーザビームはミラー10により反射
されて光検出器11で検出されて、これから水平同期信
号が出力され、この後、感光体ドラム9の一点鎖線で示
されているように水平にレーザビームが走査する。
なお、ビームエクスパンダ−レンズ3かう射出したレー
ザビームの中心から周辺方向への光量分布は第2図(b
)に示されており、感光体ドラム9上に結像されたレー
ザビームの光スポットの中心から周辺方向への、鼓光量
分布は第2図(c)に示された如くなる。
ザビームの中心から周辺方向への光量分布は第2図(b
)に示されており、感光体ドラム9上に結像されたレー
ザビームの光スポットの中心から周辺方向への、鼓光量
分布は第2図(c)に示された如くなる。
上記、光量、分布の変化状態を第2図を参照して説明す
ると、半導体レーザ1から発生せられコリメータレンズ
2により平行光とされたレーザビームの光強度分布はガ
ウス型であり、ビームエクスパンダ−レンズ3(二より
光束径を拡大されたレームの半分は円錐レンズ4の斜面
4aにより屈折され、後の半分は斜面4bにより屈折さ
れて円錐レンズ4から射出する。この円錐レンズ4から
射出したレーザビームの半光束A、B同士は互いに交わ
る方向に進みしかも各半光束は平行光となっている。こ
こで、これらの光束と光軸方向とのなす角度は微小なも
のであり、結像レンズ8によりほぼ結像レンズ8の焦平
面上に結像するわけだが、斜面4aにより屈折され円錐
レンズ4を射出する半光束Aと斜面4bにより屈折され
円錐レンズ4を射出する半光束Bとが結像レンズ8によ
り焦平面に結像される時、その位置関係が互いに逆にな
る。ここで、円錐レンズ4がなくて結像レンズ8により
結像された光スポットの光量分布は急峻な傾斜を有する
ガウス型のものとなる。本発明では円錐レンズ4により
、断面で見てこのエクスパングーレンズ3からの光束を
半分づつ2つに分けて、夫々結像レンズ8により急峻な
傾斜を有するガウス型の光量分布を互いにずらした形で
あわせた光量分布を有する光スポットを感光体ドラム9
上に形成した。従って、半光束Aの感光体ドラム9上で
の結像点の光量分布は、第2図(C)の破線で示した如
くガウス型の曲線となり、半光束Bの感光体ドラム上で
の結像点の光量分布は第2図(C)の一点鎖線で示した
ガウス型曲線となる。故に、これらの頂部が互いにずれ
てしかも傾斜した部分が互いに交わっているガウス型の
光量分布同士を加えた光スポットの光量分布は、第2図
(C)の実線で示された如く頂部が平坦なものとなる。
ると、半導体レーザ1から発生せられコリメータレンズ
2により平行光とされたレーザビームの光強度分布はガ
ウス型であり、ビームエクスパンダ−レンズ3(二より
光束径を拡大されたレームの半分は円錐レンズ4の斜面
4aにより屈折され、後の半分は斜面4bにより屈折さ
れて円錐レンズ4から射出する。この円錐レンズ4から
射出したレーザビームの半光束A、B同士は互いに交わ
る方向に進みしかも各半光束は平行光となっている。こ
こで、これらの光束と光軸方向とのなす角度は微小なも
のであり、結像レンズ8によりほぼ結像レンズ8の焦平
面上に結像するわけだが、斜面4aにより屈折され円錐
レンズ4を射出する半光束Aと斜面4bにより屈折され
円錐レンズ4を射出する半光束Bとが結像レンズ8によ
り焦平面に結像される時、その位置関係が互いに逆にな
る。ここで、円錐レンズ4がなくて結像レンズ8により
結像された光スポットの光量分布は急峻な傾斜を有する
ガウス型のものとなる。本発明では円錐レンズ4により
、断面で見てこのエクスパングーレンズ3からの光束を
半分づつ2つに分けて、夫々結像レンズ8により急峻な
傾斜を有するガウス型の光量分布を互いにずらした形で
あわせた光量分布を有する光スポットを感光体ドラム9
上に形成した。従って、半光束Aの感光体ドラム9上で
の結像点の光量分布は、第2図(C)の破線で示した如
くガウス型の曲線となり、半光束Bの感光体ドラム上で
の結像点の光量分布は第2図(C)の一点鎖線で示した
ガウス型曲線となる。故に、これらの頂部が互いにずれ
てしかも傾斜した部分が互いに交わっているガウス型の
光量分布同士を加えた光スポットの光量分布は、第2図
(C)の実線で示された如く頂部が平坦なものとなる。
後述のようにこの分布と似た形で感光体ドラムを露光す
る ように光スポットがレーザビームにより感光体ドラ
ム9上に形成されて、ドラム 9を走査する。
る ように光スポットがレーザビームにより感光体ドラ
ム9上に形成されて、ドラム 9を走査する。
第3図にはレーザビームにより感光体ドラム9を露光す
る露光量分布と感光体ドラム9に顕像化される濃度との
関係を示している。Eは感光体ドラム9をレーザビーム
の光スポットにより露光する露光量を、■は感光体ドラ
ム9の表面電位を、Dは感晃体ドラム9の静電潜像が現
像されて顕像化された時の濃度を夫々示している。曲線
(I)、 (IT)は、感光体ドラム9をレーザビーム
の光スポットが露光した時の露光量分布を示しており、
曲°゛線(I)は従来の光スポットの露光量分布、曲線
(ff)は第2図(c)のような光量分布を有する本発
明による光スポットの露光量分布を示している。曲線(
I)は感光体ドラム9への光スポットによる露光量と表
面電位の関係を、曲線QV)は感光体ドラム9の表面電
位と濃度の関係を、曲線■)は従来の光スポットにより
形成された感光体ドラム9上の位置と濃度との関係を、
(VDは本発明の光スポットにより形成された感光体ド
ラム9の位置と濃度との関係を夫々示している。E8は
黒白レベルの露光量の閾値で、この閾値Esより得られ
る黒レベルの幅ρは、曲11(V)及び(資)について
も同じように得られる。従って、曲線(1)及びfII
)の露光量を行なう光スポットでも同じように黒レベル
の幅ρが得られるが、しか ・し、これらの曲線を積分
してもわかる通り曲!(1)から曲線(mlを取り除い
た部分の曲inの光量(斜線部分)は無駄に消費された
ことになる。従って、第3図の曲線(Illで示すよう
に黒白レベルの露光量の閾値より若干大きな光量で感光
体を露光した方が効率よくレーザビームのエネルギーが
消費されることになる。
る露光量分布と感光体ドラム9に顕像化される濃度との
関係を示している。Eは感光体ドラム9をレーザビーム
の光スポットにより露光する露光量を、■は感光体ドラ
ム9の表面電位を、Dは感晃体ドラム9の静電潜像が現
像されて顕像化された時の濃度を夫々示している。曲線
(I)、 (IT)は、感光体ドラム9をレーザビーム
の光スポットが露光した時の露光量分布を示しており、
曲°゛線(I)は従来の光スポットの露光量分布、曲線
(ff)は第2図(c)のような光量分布を有する本発
明による光スポットの露光量分布を示している。曲線(
I)は感光体ドラム9への光スポットによる露光量と表
面電位の関係を、曲線QV)は感光体ドラム9の表面電
位と濃度の関係を、曲線■)は従来の光スポットにより
形成された感光体ドラム9上の位置と濃度との関係を、
(VDは本発明の光スポットにより形成された感光体ド
ラム9の位置と濃度との関係を夫々示している。E8は
黒白レベルの露光量の閾値で、この閾値Esより得られ
る黒レベルの幅ρは、曲11(V)及び(資)について
も同じように得られる。従って、曲線(1)及びfII
)の露光量を行なう光スポットでも同じように黒レベル
の幅ρが得られるが、しか ・し、これらの曲線を積分
してもわかる通り曲!(1)から曲線(mlを取り除い
た部分の曲inの光量(斜線部分)は無駄に消費された
ことになる。従って、第3図の曲線(Illで示すよう
に黒白レベルの露光量の閾値より若干大きな光量で感光
体を露光した方が効率よくレーザビームのエネルギーが
消費されることになる。
lお、感光体ドラム9が露光走査された後の動 4作に
ついては、感光体ドラム9が露光走査された後、周知の
電子写真複写プロセスに従い不図示の現像器で反転現像
され、この後この現像された現像粉体像は不図示の手段
により不図示の転写材に転写された後に不図示の定着器
により定着される。
ついては、感光体ドラム9が露光走査された後、周知の
電子写真複写プロセスに従い不図示の現像器で反転現像
され、この後この現像された現像粉体像は不図示の手段
により不図示の転写材に転写された後に不図示の定着器
により定着される。
本発明はこの他にも、光磁気記録等のように光スポット
を利用する高密度記録装置にも適用可能であることは言
うまでもない。
を利用する高密度記録装置にも適用可能であることは言
うまでもない。
以上、本発明について詳述したように、感光体への光ビ
ームの光スポットによる露光量を黒白の濃度レベルの露
光量の閾値に近いものとすること光ビームのエネルギー
の使用効率が高くなり、従って、従来のものより低出力
の光ビームで従来と同等の画像記録を行なうことができ
る。これにより、光源、たとえば半導体レーザの寿命も
長くすることができ、本発明に係る記録装置の信頼性の
向上につながる利点を有する。
ームの光スポットによる露光量を黒白の濃度レベルの露
光量の閾値に近いものとすること光ビームのエネルギー
の使用効率が高くなり、従って、従来のものより低出力
の光ビームで従来と同等の画像記録を行なうことができ
る。これにより、光源、たとえば半導体レーザの寿命も
長くすることができ、本発明に係る記録装置の信頼性の
向上につながる利点を有する。
第1図は本発明に係る記録装置の概略全体斜視図、第2
図は、第1図に示した装置の光束と光量分布の変化を示
す説明図、第3図は、感光体の電位及び濃度特性と露光
量との関係を示した説明図である。 1・・・・・・半導体レーザ 2・・・・・・コリメータレンズ 3・・・・・・エクスパンダ−レンズ 4・・・・・・円錐レンズ 5・・・・・・回転多面鏡 8・・・・・・結像レンズ 9・・・・・・感光体ドラム 第1図
図は、第1図に示した装置の光束と光量分布の変化を示
す説明図、第3図は、感光体の電位及び濃度特性と露光
量との関係を示した説明図である。 1・・・・・・半導体レーザ 2・・・・・・コリメータレンズ 3・・・・・・エクスパンダ−レンズ 4・・・・・・円錐レンズ 5・・・・・・回転多面鏡 8・・・・・・結像レンズ 9・・・・・・感光体ドラム 第1図
Claims (1)
- 記録信号に対応して変調された光ビームを感光体上に照
射し前記感光体上に前記記録信号に応じて情報の記録を
行なう光ビーム記録装置に於て、前記光ビームの光路中
にその径を拡大する部材とこの部材により拡大された径
を有する光ビームを入射して射出した光ビームを結像レ
ンズにより感光体に形成した光スポットの光量分布をほ
ぼ平坦にする光束変換手段とからなることを特徴とする
光ビーム記録装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15905083A JPS6052873A (ja) | 1983-09-01 | 1983-09-01 | 光ビ−ム記録装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15905083A JPS6052873A (ja) | 1983-09-01 | 1983-09-01 | 光ビ−ム記録装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6052873A true JPS6052873A (ja) | 1985-03-26 |
Family
ID=15685130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15905083A Pending JPS6052873A (ja) | 1983-09-01 | 1983-09-01 | 光ビ−ム記録装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6052873A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5680671U (ja) * | 1979-11-26 | 1981-06-30 | ||
| JPS5687479A (en) * | 1979-12-19 | 1981-07-16 | Satake Eng Co Ltd | Automatic regulator for cereal selector |
| US20110235010A1 (en) * | 2010-03-25 | 2011-09-29 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Exposure apparatus and image forming apparatus |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54152299A (en) * | 1978-05-19 | 1979-11-30 | Ibm | Material working device |
| JPS5685724A (en) * | 1979-09-10 | 1981-07-13 | Thomson Csf | Illuminator for producing lighting beam capable of light arrangement |
| JPS57164759A (en) * | 1981-04-02 | 1982-10-09 | Canon Inc | Recorder |
-
1983
- 1983-09-01 JP JP15905083A patent/JPS6052873A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54152299A (en) * | 1978-05-19 | 1979-11-30 | Ibm | Material working device |
| JPS5685724A (en) * | 1979-09-10 | 1981-07-13 | Thomson Csf | Illuminator for producing lighting beam capable of light arrangement |
| JPS57164759A (en) * | 1981-04-02 | 1982-10-09 | Canon Inc | Recorder |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5680671U (ja) * | 1979-11-26 | 1981-06-30 | ||
| JPS5687479A (en) * | 1979-12-19 | 1981-07-16 | Satake Eng Co Ltd | Automatic regulator for cereal selector |
| US20110235010A1 (en) * | 2010-03-25 | 2011-09-29 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Exposure apparatus and image forming apparatus |
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