JPS6059528U - 液相エピタキシアル成長装置 - Google Patents

液相エピタキシアル成長装置

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Publication number
JPS6059528U
JPS6059528U JP15159783U JP15159783U JPS6059528U JP S6059528 U JPS6059528 U JP S6059528U JP 15159783 U JP15159783 U JP 15159783U JP 15159783 U JP15159783 U JP 15159783U JP S6059528 U JPS6059528 U JP S6059528U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid phase
epitaxial growth
phase epitaxial
growth equipment
solution storage
Prior art date
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Pending
Application number
JP15159783U
Other languages
English (en)
Inventor
奥田　伸也
楳生　逸雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
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Publication of JPS6059528U publication Critical patent/JPS6059528U/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来のボート斜視図、又、第２図は第１・区ボ
ートの断面図である。第３図は本考案のボート構成実施
例断面図、第４図は第３図実施例図と異なる他のボート
構成実施例図、第５図は第４図の溶液収容部の下底構造
を示す断面図、及び第６図は上底と下底夫々の細孔配置
実施例になる平面図である。、 図中、１は基板保持板、２はスライダ、３は溶液収容箱
、４は２の窓部又は凹部、７は加工対象の成膜基板、８
は収容箱３底面の細孔、１０と１１は溶液収容箱、１３
は上底、１２と１６は下底、及び１５は収容箱の蓋であ
る。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 基板保持板と、該基板保持板上を摺動する溶液−収納窓
    を具えるスライダとからなるボートを備え、前記溶液収
    納窓の底部に少なくとも二枚の複数個の孔を有する底板
    がそれぞれ隔離して配設され、且つ前記底板それぞれに
    設けられた孔の位置がズして配設されていることを特徴
    とする液相エピタキシャル成長装置。
JP15159783U 1983-09-30 1983-09-30 液相エピタキシアル成長装置 Pending JPS6059528U (ja)

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JP15159783U JPS6059528U (ja) 1983-09-30 1983-09-30 液相エピタキシアル成長装置

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JPS6059528U true JPS6059528U (ja) 1985-04-25

Family

ID=30335893

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JP15159783U Pending JPS6059528U (ja) 1983-09-30 1983-09-30 液相エピタキシアル成長装置

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