JPS6059537A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS6059537A JPS6059537A JP16745783A JP16745783A JPS6059537A JP S6059537 A JPS6059537 A JP S6059537A JP 16745783 A JP16745783 A JP 16745783A JP 16745783 A JP16745783 A JP 16745783A JP S6059537 A JPS6059537 A JP S6059537A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 41
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- -1 nitrogen molecule ions Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 12
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 11
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- 239000000956 alloy Substances 0.000 abstract description 8
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 abstract description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 7
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 abstract description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 abstract description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract 5
- 101100298222 Caenorhabditis elegans pot-1 gene Proteins 0.000 abstract 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 abstract 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 abstract 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910001337 iron nitride Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、被着基材面上に鉄又は鉄合金の窒化物からな
る磁性膜を形成する磁気記録媒体の製造方法に関する。
る磁性膜を形成する磁気記録媒体の製造方法に関する。
コバルト又はコバルト合金の磁性薄膜は高密反磁気記録
媒体として性能的に優れているが、耐摩耗性、耐蝕性が
悪い欠点があるので、この欠点を解消するものとして、
鉄又は鉄合金の窒化物の薄膜が既に提案されている。
媒体として性能的に優れているが、耐摩耗性、耐蝕性が
悪い欠点があるので、この欠点を解消するものとして、
鉄又は鉄合金の窒化物の薄膜が既に提案されている。
該鉄又は鉄合金の窒化物薄膜は、被着基材面に窒素雰囲
気中で高イオン化された鉄又は鉄合金を斜方入射させる
か、あるいは被着基材面に高イオン化したり鉄又は鉄合
金を斜方入射式せながら、窒素分子イオンを照射するな
どのイオンブレーティング法によって形成される。
気中で高イオン化された鉄又は鉄合金を斜方入射させる
か、あるいは被着基材面に高イオン化したり鉄又は鉄合
金を斜方入射式せながら、窒素分子イオンを照射するな
どのイオンブレーティング法によって形成される。
しかし、この後者の薄膜形成方法によれば、磁性薄膜の
保磁力が小さく、例えば入射角５０度のとき保磁力は５
００〜６００エルステツド、入射角が７０度のとき保磁
力は６００〜７００工ルステツド程度しか得られなかっ
た。
保磁力が小さく、例えば入射角５０度のとき保磁力は５
００〜６００エルステツド、入射角が７０度のとき保磁
力は６００〜７００工ルステツド程度しか得られなかっ
た。
本発明は、このような欠点を解消し、高い保磁力を有す
る鉄又は鉄合金窒化物の磁性膜を安定して作成すること
をその目的とするものである。
る鉄又は鉄合金窒化物の磁性膜を安定して作成すること
をその目的とするものである。
前記後者の方法において、被着基材面は、加熱された蒸
発源からの輻射熱及び蒸着磁性金属の保有する熱のため
に１５０°Ｃ〜３００℃まで昇温するため、該被着基材
面に形成された窒化膜は脱窒化反応が進行しやすく、そ
の結果保磁力が低下することに鑑み、本発明は被着基材
を例えば室温以下に冷却することを特徴とする。
発源からの輻射熱及び蒸着磁性金属の保有する熱のため
に１５０°Ｃ〜３００℃まで昇温するため、該被着基材
面に形成された窒化膜は脱窒化反応が進行しやすく、そ
の結果保磁力が低下することに鑑み、本発明は被着基材
を例えば室温以下に冷却することを特徴とする。
かくて該被着基材の温度は適温に維持でき、従来より約
１００エルステッド以上大きい保磁力を安定して得るこ
とができ効果を有する。
１００エルステッド以上大きい保磁力を安定して得るこ
とができ効果を有する。
以下本発明の実施例を図面につき説明する。
本発明の製造方法を実施するために図面に示すような装
置を使用した。
置を使用した。
該装置の構成を説明すると、該装置は例えば純度９８％
の鉄塊を収容したるつぼから成る蒸発源（１）と、該鉄
に対して電子線を照射してこれを蒸発させる電子ビーム
放射源（２）と、鉄蒸気をイオン化するための熱電子放
射フイラメンＮ３＋及びイオン化電極（４）と、ノズル
（５）を介して流入する窒素ガスをイオン化すると共に
該窒素イオンを加速する例えば、フリーマン型イオン銃
（６）と被着基材（７）への鉄イオンの入射角を変化で
きる被着基材ホルダ（８）と、膜厚計（９）とを具備し
、これ等部材はすべて１０４Ｔｏｒｒに減圧された真空
槽（図示しない。）内に配置されるようにした。
の鉄塊を収容したるつぼから成る蒸発源（１）と、該鉄
に対して電子線を照射してこれを蒸発させる電子ビーム
放射源（２）と、鉄蒸気をイオン化するための熱電子放
射フイラメンＮ３＋及びイオン化電極（４）と、ノズル
（５）を介して流入する窒素ガスをイオン化すると共に
該窒素イオンを加速する例えば、フリーマン型イオン銃
（６）と被着基材（７）への鉄イオンの入射角を変化で
きる被着基材ホルダ（８）と、膜厚計（９）とを具備し
、これ等部材はすべて１０４Ｔｏｒｒに減圧された真空
槽（図示しない。）内に配置されるようにした。
次に上記装置を使用して磁気記録媒体を製造する本発明
の方法について説明する。
の方法について説明する。
被着基材ホルダ（８）をそれに対する鉄イオンの入射角
が５０度になるように固定する。電子ビーム放射源（２
）への供給電力を調整して、蒸発され膜厚計（９）に到
達する鉄の原子数を８×１０−”個／ｃｎｆ −ｓｅｃ
にし、次いで熱電子放射フィラメント（３）を加熱し、
イオン化電極（４）に正電圧を加え、該フィラメント（
３）の通電量とイオン化電極＋４１の正電圧を調整して
被着基材ホルダ（８）に捕捉される鉄イオンの数を８
Ｘ １０−１４個／ｃｒｌ−ｓｅａ（イオン化率１０％
）にした。またノズル（５）に連なるバルブ（１０１を
調整してイオン銃（６）から被着基材ホルダ（８）に照
射する窒素分子イオンの数を８ Ｘ １０−１４個／Ｃ
−・ｓｅｃにした。
が５０度になるように固定する。電子ビーム放射源（２
）への供給電力を調整して、蒸発され膜厚計（９）に到
達する鉄の原子数を８×１０−”個／ｃｎｆ −ｓｅｃ
にし、次いで熱電子放射フィラメント（３）を加熱し、
イオン化電極（４）に正電圧を加え、該フィラメント（
３）の通電量とイオン化電極＋４１の正電圧を調整して
被着基材ホルダ（８）に捕捉される鉄イオンの数を８
Ｘ １０−１４個／ｃｒｌ−ｓｅａ（イオン化率１０％
）にした。またノズル（５）に連なるバルブ（１０１を
調整してイオン銃（６）から被着基材ホルダ（８）に照
射する窒素分子イオンの数を８ Ｘ １０−１４個／Ｃ
−・ｓｅｃにした。
以上の条件を固定し、被着基材（７）の温度を７７°に
１２００°に、３００’に、４２３°に、４７３’にと
変化すせ、それぞれの温度毎に該ホルダ（８）に密着さ
せて大きさ５０ｆ！１×５０關で膜厚１５μｍの耐熱性
高分子フィルム（ポリイミド樹脂）を取付け、１２分間
被着させて１０００Ａの鉄窒化物薄膜を形成した。
１２００°に、３００’に、４２３°に、４７３’にと
変化すせ、それぞれの温度毎に該ホルダ（８）に密着さ
せて大きさ５０ｆ！１×５０關で膜厚１５μｍの耐熱性
高分子フィルム（ポリイミド樹脂）を取付け、１２分間
被着させて１０００Ａの鉄窒化物薄膜を形成した。
前記被着基材（７）の温度の調整は、被着基材ホルダ（
８）に設けた図示しないパイプに液体窒素を流して熱電
対温度計で測温して７７°に、２００°にとし、水を流
して３００°にとした。高湿の被着基材温度は、図示し
ないが被着基板ホルダ（８）に加熱用ヒータを取付け、
これに電流を流すこと罠より設定した。
８）に設けた図示しないパイプに液体窒素を流して熱電
対温度計で測温して７７°に、２００°にとし、水を流
して３００°にとした。高湿の被着基材温度は、図示し
ないが被着基板ホルダ（８）に加熱用ヒータを取付け、
これに電流を流すこと罠より設定した。
鉄イオンの入射角が６０度、７０度、８０度になるよう
に被着基材ホルダ（８）の向きを変え、それぞれについ
て上記と同様に被着基材温度を変えて鉄窒化物薄膜を形
成した。
に被着基材ホルダ（８）の向きを変え、それぞれについ
て上記と同様に被着基材温度を変えて鉄窒化物薄膜を形
成した。
以上の鉄窒化物薄膜について、試料振動型磁力計で保磁
力を測定した。この結果を下表に示す。
力を測定した。この結果を下表に示す。
尚、４２５°に、４７３°には被着基材温度を制御しな
い場合に相当する。
い場合に相当する。
表に示すように、被着基材温度を制御しない場付に比べ
て被着基材温度を常温以下に冷却した時には鉄窒化物薄
膜の保磁力を１００エルステッド以上大きくすることが
できた。特定の保磁力を有する鉄窒化物薄膜を得るとき
には、従来のものより入射角を１０度以上小さくでき、
かくて被着効率を著しく向上させることができる。
て被着基材温度を常温以下に冷却した時には鉄窒化物薄
膜の保磁力を１００エルステッド以上大きくすることが
できた。特定の保磁力を有する鉄窒化物薄膜を得るとき
には、従来のものより入射角を１０度以上小さくでき、
かくて被着効率を著しく向上させることができる。
図面は本発明の方法を実施するのに使用する装置の模式
図を示す。 （１）・・・蒸 着 源 （２）・・・電子ビーム放射
源（３）・・・熱電子放射フィラメント（４）・・・イ
オン化電極（５）・・・ノ ズ ル （６）・・・イオ
ン銃（７し・被着基材 （８）・・・被着基材ホルダ（
９）・・・膜 厚 計 ＱＯＩ・・・バ ル プ外２名
図を示す。 （１）・・・蒸 着 源 （２）・・・電子ビーム放射
源（３）・・・熱電子放射フィラメント（４）・・・イ
オン化電極（５）・・・ノ ズ ル （６）・・・イオ
ン銃（７し・被着基材 （８）・・・被着基材ホルダ（
９）・・・膜 厚 計 ＱＯＩ・・・バ ル プ外２名
Claims (1)
- 被着基材上に磁性金属を斜方入射して磁気記録媒体を製
造する方法において、前記被着基材を冷却しなから該被
着基材に一部をイオン化した鉄又は鉄合金を斜方入射さ
せて被着すると同時に、該被着基材の鉄又は鉄合金の入
射面に窒素分子イオンを照射することを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16745783A JPS6059537A (ja) | 1983-09-13 | 1983-09-13 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16745783A JPS6059537A (ja) | 1983-09-13 | 1983-09-13 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6059537A true JPS6059537A (ja) | 1985-04-05 |
| JPH0334623B2 JPH0334623B2 (ja) | 1991-05-23 |
Family
ID=15850031
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16745783A Granted JPS6059537A (ja) | 1983-09-13 | 1983-09-13 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6059537A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4673610A (en) * | 1984-08-24 | 1987-06-16 | Fuji Photo Film Company, Limited | Magnetic recording medium having iron nitride recording layer |
| US4743491A (en) * | 1984-11-02 | 1988-05-10 | Hitachi, Ltd. | Perpendicular magnetic recording medium and fabrication method therefor |
| US4801500A (en) * | 1986-12-16 | 1989-01-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
-
1983
- 1983-09-13 JP JP16745783A patent/JPS6059537A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4673610A (en) * | 1984-08-24 | 1987-06-16 | Fuji Photo Film Company, Limited | Magnetic recording medium having iron nitride recording layer |
| US4743491A (en) * | 1984-11-02 | 1988-05-10 | Hitachi, Ltd. | Perpendicular magnetic recording medium and fabrication method therefor |
| US4801500A (en) * | 1986-12-16 | 1989-01-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0334623B2 (ja) | 1991-05-23 |
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