JPS6061731U - 電子ビ−ム描画装置のウエハホルダ - Google Patents

電子ビ−ム描画装置のウエハホルダ

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JPS6061731U
JPS6061731U JP15426483U JP15426483U JPS6061731U JP S6061731 U JPS6061731 U JP S6061731U JP 15426483 U JP15426483 U JP 15426483U JP 15426483 U JP15426483 U JP 15426483U JP S6061731 U JPS6061731 U JP S6061731U
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JP
Japan
Prior art keywords
electron beam
beam lithography
wafer holder
lithography equipment
wafer
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Pending
Application number
JP15426483U
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English (en)
Inventor
岩瀬　昭
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Shibaura Machine Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Machine Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図はウェハの方向性を示す斜視図、第２図および第
３図は従来例を示し第２図は平面図、第３図は第２図の
３−３線断面図、第４図ないし第６図は本考案の一実施
例を示し第４図は平面図、　　　′□第５図は第４図の
５−５線断面図、第６図はウェハホルダを描画ステージ
に置いたときの説明図である。 １１・・・ウェハ、２１・・・ウェハホルダ、２４・・
・空気穴。 −ｋ　５図 矛６図

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 電子ビーム描画装置のウェハホルダにおいて、中央部の
    基準面にウェハの進行方向に向けてウェハ搬送用の複数
    の空気穴を設けたことを特徴とする電子ビーム描画装置
    のウェハホルダ。
JP15426483U 1983-10-04 1983-10-04 電子ビ−ム描画装置のウエハホルダ Pending JPS6061731U (ja)

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JP15426483U JPS6061731U (ja) 1983-10-04 1983-10-04 電子ビ−ム描画装置のウエハホルダ

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JP15426483U JPS6061731U (ja) 1983-10-04 1983-10-04 電子ビ−ム描画装置のウエハホルダ

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JPS6061731U true JPS6061731U (ja) 1985-04-30

Family

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JP15426483U Pending JPS6061731U (ja) 1983-10-04 1983-10-04 電子ビ−ム描画装置のウエハホルダ

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