JPS6066328A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS6066328A JPS6066328A JP17476683A JP17476683A JPS6066328A JP S6066328 A JPS6066328 A JP S6066328A JP 17476683 A JP17476683 A JP 17476683A JP 17476683 A JP17476683 A JP 17476683A JP S6066328 A JPS6066328 A JP S6066328A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- magnetic
- supporting body
- support
- roll
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 13
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 11
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 6
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 abstract description 11
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 86
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 19
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 16
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 11
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 9
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 5
- 229910001096 P alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000003490 calendering Methods 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 4
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 3
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 3
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017709 Ni Co Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910003267 Ni-Co Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910003262 Ni‐Co Inorganic materials 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- QXYJCZRRLLQGCR-UHFFFAOYSA-N dioxomolybdenum Chemical compound O=[Mo]=O QXYJCZRRLLQGCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 2
- BHHYHSUAOQUXJK-UHFFFAOYSA-L zinc fluoride Chemical compound F[Zn]F BHHYHSUAOQUXJK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N 1-monostearoylglycerol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(O)CO VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCO HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APXYQFWNKAYRFS-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)O.ClC=COC=CCl Chemical compound C(C=C)(=O)O.ClC=COC=CCl APXYQFWNKAYRFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005997 Calcium carbide Substances 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- 229910020676 Co—N Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002546 FeCo Inorganic materials 0.000 description 1
- DCXXMTOCNZCJGO-UHFFFAOYSA-N Glycerol trioctadecanoate Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC)COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC DCXXMTOCNZCJGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003286 Ni-Mn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018605 Ni—Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- BAECOWNUKCLBPZ-HIUWNOOHSA-N Triolein Natural products O([C@H](OCC(=O)CCCCCCC/C=C\CCCCCCCC)COC(=O)CCCCCCC/C=C\CCCCCCCC)C(=O)CCCCCCC/C=C\CCCCCCCC BAECOWNUKCLBPZ-HIUWNOOHSA-N 0.000 description 1
- PHYFQTYBJUILEZ-UHFFFAOYSA-N Trioleoylglycerol Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(=O)OCC(OC(=O)CCCCCCCC=CCCCCCCCC)COC(=O)CCCCCCCC=CCCCCCCCC PHYFQTYBJUILEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- GZCGUPFRVQAUEE-SLPGGIOYSA-N aldehydo-D-glucose Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C=O GZCGUPFRVQAUEE-SLPGGIOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- DCRIQAAPAFMPKP-UHFFFAOYSA-N aluminum oxygen(2-) titanium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Al+3].[Ti+4] DCRIQAAPAFMPKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 229910052571 earthenware Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000007763 reverse roll coating Methods 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- CLZWAWBPWVRRGI-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-[2-[2-[2-[bis[2-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-2-oxoethyl]amino]-5-bromophenoxy]ethoxy]-4-methyl-n-[2-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-2-oxoethyl]anilino]acetate Chemical compound CC1=CC=C(N(CC(=O)OC(C)(C)C)CC(=O)OC(C)(C)C)C(OCCOC=2C(=CC=C(Br)C=2)N(CC(=O)OC(C)(C)C)CC(=O)OC(C)(C)C)=C1 CLZWAWBPWVRRGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 235000010215 titanium dioxide Nutrition 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHYFQTYBJUILEZ-IUPFWZBJSA-N triolein Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OCC(OC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC)COC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC PHYFQTYBJUILEZ-IUPFWZBJSA-N 0.000 description 1
- 229940117972 triolein Drugs 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
1、産業上の利用分野
本発明は、磁気テープ、磁気シート等の磁気記録媒体の
製造方法に関するものである。
製造方法に関するものである。
Z 従来技術
一般に、塗布型と称される磁気記録媒体を作成するには
、磁性体粉末と高分子バインダー−分散剤等の添加剤と
を混練して磁性塗料を調製し、これを支持体上に塗布し
、乾燥、カレンダー等の処理を施している。 こうした
塗布型磁気記録媒体において、磁性層表面の滑り性の向
上は専ら添加剤の調整によって達成している。 また−
塗布型であることから、磁性層の表面性を良くするため
Kは、必ず上記のカレンダー処理を行なわねばならない
。
、磁性体粉末と高分子バインダー−分散剤等の添加剤と
を混練して磁性塗料を調製し、これを支持体上に塗布し
、乾燥、カレンダー等の処理を施している。 こうした
塗布型磁気記録媒体において、磁性層表面の滑り性の向
上は専ら添加剤の調整によって達成している。 また−
塗布型であることから、磁性層の表面性を良くするため
Kは、必ず上記のカレンダー処理を行なわねばならない
。
一方、金属薄M型と称される磁気記録媒体は、より高密
度な記録が可能であることから注目されてきている。
この金属薄膜型磁気記録媒体では、電気メッキ、真空蒸
着法、イオンプレ−アイツク法、スパッタ法等により磁
性粒子をバインダーなしに直接支持体上に被着させ、そ
の連続簿膜からなる磁性層を形成している。 この磁性
層表面には滑性伺与のために種々の表面層又はオーバー
コート層(以下、00層と称することがある。)が施さ
れるが、00層としては特開昭50−75001号、5
6−7235号公報明細書等に記載されている有機物塗
膜が使用可能IL素材の種類や組合せの選択性の面で望
ましいものと考えられる。 また、磁性層とは反対側の
支持体面には、媒体の巻き姿安定性及び走行性の向上の
ためにバックコート層(以下、BCJvIと称すること
がある。)を設けることが望ましい。
度な記録が可能であることから注目されてきている。
この金属薄膜型磁気記録媒体では、電気メッキ、真空蒸
着法、イオンプレ−アイツク法、スパッタ法等により磁
性粒子をバインダーなしに直接支持体上に被着させ、そ
の連続簿膜からなる磁性層を形成している。 この磁性
層表面には滑性伺与のために種々の表面層又はオーバー
コート層(以下、00層と称することがある。)が施さ
れるが、00層としては特開昭50−75001号、5
6−7235号公報明細書等に記載されている有機物塗
膜が使用可能IL素材の種類や組合せの選択性の面で望
ましいものと考えられる。 また、磁性層とは反対側の
支持体面には、媒体の巻き姿安定性及び走行性の向上の
ためにバックコート層(以下、BCJvIと称すること
がある。)を設けることが望ましい。
本発明者は一上記した如く支持体の一方の面に金屑連続
薄膜(磁性WJ)及び00層を有しかつ他方の面KBC
層を有する高密度記録用磁気記録媒体な製造する方法建
ついて種々検討を加えた結果、特性良好な媒体を得る上
で次の如き特殊な事情があることを見出した。
薄膜(磁性WJ)及び00層を有しかつ他方の面KBC
層を有する高密度記録用磁気記録媒体な製造する方法建
ついて種々検討を加えた結果、特性良好な媒体を得る上
で次の如き特殊な事情があることを見出した。
即ち、塗布型の場合には磁性塗料の塗布後の乾燥によっ
て蒸発した溶媒の跡や添加剤粒子の含有のために、磁性
層がポーラスとなったり表面平担性が悪くなり、従って
磁性層の均−化及び平担化の目的で必ずカレンダーをか
げる必要があるのに対し、連続薄膜型の場合には平担な
支持体上に蒸着等により連続薄膜を直接形成するために
薄膜表面は支持体面に追随した平担面を呈し、カレンダ
ー処理は不要である。 また、仮にカレンダーをかげる
と却って磁性層に傷が付き、不適当である。
て蒸発した溶媒の跡や添加剤粒子の含有のために、磁性
層がポーラスとなったり表面平担性が悪くなり、従って
磁性層の均−化及び平担化の目的で必ずカレンダーをか
げる必要があるのに対し、連続薄膜型の場合には平担な
支持体上に蒸着等により連続薄膜を直接形成するために
薄膜表面は支持体面に追随した平担面を呈し、カレンダ
ー処理は不要である。 また、仮にカレンダーをかげる
と却って磁性層に傷が付き、不適当である。
しかし、カレンダー処理が不要である反面、連続薄膜は
例えば蒸着で形成されるときには蒸着時の熱で支持体が
熱変形して歪みが生じ易< 1.Cる。
例えば蒸着で形成されるときには蒸着時の熱で支持体が
熱変形して歪みが生じ易< 1.Cる。
特に、蒸着時には一支持体を支えるローラーへの付着を
防ぐ目的で、支持体上にはその幅よりも狭い領域に蒸着
を行なうので〜支持体上には必ず蒸着領域の両側に非蒸
着領域が存在することになり、これら両領域の境界域で
は支持体が受ける熱に著しい差が生じへこれが上記した
熱変形の原因となる。 従って、支持体に生じた歪みを
除去するために、蒸着後に支持体を60〜150℃で熱
処理することが要求される。
防ぐ目的で、支持体上にはその幅よりも狭い領域に蒸着
を行なうので〜支持体上には必ず蒸着領域の両側に非蒸
着領域が存在することになり、これら両領域の境界域で
は支持体が受ける熱に著しい差が生じへこれが上記した
熱変形の原因となる。 従って、支持体に生じた歪みを
除去するために、蒸着後に支持体を60〜150℃で熱
処理することが要求される。
3、発明の目的
本発明の目的は、支持体に生じ得る歪みを減少させると
共に、巻き姿及び走行性の安定な連続薄膜型磁気記録媒
体を作成可能な方法を提供することにある。
共に、巻き姿及び走行性の安定な連続薄膜型磁気記録媒
体を作成可能な方法を提供することにある。
4、発明の構成及びその作用効果
即ち、本発明は、バインダーを含まない磁性体連続薄膜
からなる磁性層が支持体上に設(すられ、前記磁性層と
は反対側の支持体上にバックコート1(Be層)が設け
られている磁気記録媒体を製造するに際し、少なくとも
前記磁性層を形成し、次いで熱処理を施し、次いで少な
くとも前記Be層を形成することを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法に係るものである。
からなる磁性層が支持体上に設(すられ、前記磁性層と
は反対側の支持体上にバックコート1(Be層)が設け
られている磁気記録媒体を製造するに際し、少なくとも
前記磁性層を形成し、次いで熱処理を施し、次いで少な
くとも前記Be層を形成することを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法に係るものである。
本発明によれば、少なくとも磁性層を形成した後に熱処
理を施しているので、磁性層の形成時に生じる既述した
支持体の熱変形又は歪みを除去することができる。 し
かも、そのように支持体の歪みをとってから次の少なく
ともBe層5の形成を行なっているので、nc@等を均
一に形成できると共に、Be層によって支持体裏面を適
度に荒らして媒体の巻き姿(及びその際の磁性粒子の転
写)−走行性を向上させることかできる。
理を施しているので、磁性層の形成時に生じる既述した
支持体の熱変形又は歪みを除去することができる。 し
かも、そのように支持体の歪みをとってから次の少なく
ともBe層5の形成を行なっているので、nc@等を均
一に形成できると共に、Be層によって支持体裏面を適
度に荒らして媒体の巻き姿(及びその際の磁性粒子の転
写)−走行性を向上させることかできる。
5、 実施例
以下、本発明を実施例について詳細に説明する。
第1図は、本発明に基く磁気記録媒体〜例えば磁気テー
プの製造工程を例示するものであって、基本的には、ま
ず支持体の表面上に下びき層を塗布形成した後、連続金
属薄膜からなる磁性層を下びき層上忙蒸着法で形成し、
次いで歪みをとるための熱処理を加えてから、支持体裏
面K10層を形成し、更に磁性層上に00層を塗布形成
する。
プの製造工程を例示するものであって、基本的には、ま
ず支持体の表面上に下びき層を塗布形成した後、連続金
属薄膜からなる磁性層を下びき層上忙蒸着法で形成し、
次いで歪みをとるための熱処理を加えてから、支持体裏
面K10層を形成し、更に磁性層上に00層を塗布形成
する。
但、破線で示すように、熱処理後に00層を形成してか
ら、Be層を形成してもよい。 次に一上記した各工程
を順次詳述する。
ら、Be層を形成してもよい。 次に一上記した各工程
を順次詳述する。
まず、第2A図及び第2B図に示す如く、ポリエチレン
テレフタレート等の支持体10表面側に湿式塗布法によ
り磁性層の下びき層2を予め形成した状態で、下びき層
2上に連続金属薄膜15を蒸着する。 使用する真空蒸
着装置は−ベルジャー8内で供給ロール7から巻取ロー
ル3へ支持体lを繰出し、中途で冷却ローラー9上に密
着ぜしめながらルツボ】0中の金属(例えばCo)1.
1を電子銃12からの電子ビームで加熱、蒸発させ一支
持体1に対し向流的に斜め方向に蒸着させる。 なお、
図中の13は酸素ガス14の導入管であり、この酸素ガ
スにより磁性層15の表面を軽く酸化することによって
磁気異方性を向上させて保磁力(Hc )を高め、かつ
磁性層15の耐摩耗性、走行性を向上させる。
テレフタレート等の支持体10表面側に湿式塗布法によ
り磁性層の下びき層2を予め形成した状態で、下びき層
2上に連続金属薄膜15を蒸着する。 使用する真空蒸
着装置は−ベルジャー8内で供給ロール7から巻取ロー
ル3へ支持体lを繰出し、中途で冷却ローラー9上に密
着ぜしめながらルツボ】0中の金属(例えばCo)1.
1を電子銃12からの電子ビームで加熱、蒸発させ一支
持体1に対し向流的に斜め方向に蒸着させる。 なお、
図中の13は酸素ガス14の導入管であり、この酸素ガ
スにより磁性層15の表面を軽く酸化することによって
磁気異方性を向上させて保磁力(Hc )を高め、かつ
磁性層15の耐摩耗性、走行性を向上させる。
この蒸着時には、第2C図に示す如く、既述したように
蒸着物質の付着によるローラー9の汚れを防ぐために、
斜腺で示した磁性層15の蒸着領域を支持体1の幅より
も狭くしているので、両側の非蒸着領域16と蒸着領域
15との境界において支持体1の受(する熱に著しい差
があり、これKよって支持体IK歪みが生じ易い。
蒸着物質の付着によるローラー9の汚れを防ぐために、
斜腺で示した磁性層15の蒸着領域を支持体1の幅より
も狭くしているので、両側の非蒸着領域16と蒸着領域
15との境界において支持体1の受(する熱に著しい差
があり、これKよって支持体IK歪みが生じ易い。
この歪みをとる目的で一次に第3A図に示す如く、ロー
ル3から繰出される支持体1(既に上記下びき層2及び
磁性層15が形成されている)をヒーター内蔵の一対の
熱ロール17.18に接触せしめ、例えば60〜80℃
(ラインスピードが大きいときには150℃以下)で熱
処理を加える。
ル3から繰出される支持体1(既に上記下びき層2及び
磁性層15が形成されている)をヒーター内蔵の一対の
熱ロール17.18に接触せしめ、例えば60〜80℃
(ラインスピードが大きいときには150℃以下)で熱
処理を加える。
更に、熱ロールIL 1Bから、3本のロール24から
なるリバースロール方式でBC4形成用塗布液25を支
持体1上に塗布し、乾燥を経てM3B図忙示すnc層6
を形成し、ロール20上に巻取る。
なるリバースロール方式でBC4形成用塗布液25を支
持体1上に塗布し、乾燥を経てM3B図忙示すnc層6
を形成し、ロール20上に巻取る。
次いで一1JA図の如く、ロール20から支持体1を順
次繰出し、3本のロール34によるリバースロール方式
でoc71形成用形成布液35を支持体1上に塗布し、
更に乾燥して第4B図の如く磁性層15上にOC層19
を形成した後、巻取ロール3o上に巻取る。 なお、こ
のOCC層面布形成工程、第3A図のBC層形成工程に
連続して行なってもよい。 つまり、ロール20前に塗
布ローラー34を配置することができる。
次繰出し、3本のロール34によるリバースロール方式
でoc71形成用形成布液35を支持体1上に塗布し、
更に乾燥して第4B図の如く磁性層15上にOC層19
を形成した後、巻取ロール3o上に巻取る。 なお、こ
のOCC層面布形成工程、第3A図のBC層形成工程に
連続して行なってもよい。 つまり、ロール20前に塗
布ローラー34を配置することができる。
なお、上記した工程において、第2B図の下びき層2を
形成する前の支持体10表面粗さくRa )は20A程
度とし、下びき層2の形成後のその表面のRaは30〜
40Aとしてよい。 適切なRa1Cしてから、第2B
図の磁性層15を形成すれば、カレンダー処理不要で高
密度記録に適した磁性層重5を形成することができる。
形成する前の支持体10表面粗さくRa )は20A程
度とし、下びき層2の形成後のその表面のRaは30〜
40Aとしてよい。 適切なRa1Cしてから、第2B
図の磁性層15を形成すれば、カレンダー処理不要で高
密度記録に適した磁性層重5を形成することができる。
また、第3B図の80層60表面粗さくR&)は走行
性(ひいては支持体1のしわの防止)のためには100
八程度とすることができる。
性(ひいては支持体1のしわの防止)のためには100
八程度とすることができる。
以上に説明したように、本実施例による方法は、磁性層
(更にはその前段に下びき層)の形成後に熱処理をかげ
ているので、磁性層の蒸着形成時に生じた支持体の熱変
形又は歪みを除去することができる。 従って一次のB
CfiSQC層の形成を均一に行なうことができる。
(更にはその前段に下びき層)の形成後に熱処理をかげ
ているので、磁性層の蒸着形成時に生じた支持体の熱変
形又は歪みを除去することができる。 従って一次のB
CfiSQC層の形成を均一に行なうことができる。
また、熱処理後のBC層の形成によって、支持体の裏面
が適度な粗さとなり、これが媒体の巻き姿の安定性、走
行安定性(ローラー等に対する摩擦力の低減)に寄与し
、また巻回時の磁性粒子の転写も防止できる。 更に一
〇C層の形成によって、磁性層表面の滑り性や表面保眼
も図ることができる。
が適度な粗さとなり、これが媒体の巻き姿の安定性、走
行安定性(ローラー等に対する摩擦力の低減)に寄与し
、また巻回時の磁性粒子の転写も防止できる。 更に一
〇C層の形成によって、磁性層表面の滑り性や表面保眼
も図ることができる。
なお、上述の実施例において、磁性層15に使用できる
磁性粉として、F e −N i −Co合金、Fe
−Mn−Zn合金、F e−Co −N i−P合金、
Fe−Ni−Zn合金、F e −N i −Cr−P
合金、F e−Co−N i Cr合金、Fe−Co−
P合金、Fe−Ni合金、F@−Ni−Mn合金、Co
−Ni合金、Co−N1−P合金、Fa−AJ金合金F
e−Mn−Zn合金、Fa AII P合金等の如くF
e、Ni−Coを主成分とするメタル系磁性粉等が挙げ
られる。
磁性粉として、F e −N i −Co合金、Fe
−Mn−Zn合金、F e−Co −N i−P合金、
Fe−Ni−Zn合金、F e −N i −Cr−P
合金、F e−Co−N i Cr合金、Fe−Co−
P合金、Fe−Ni合金、F@−Ni−Mn合金、Co
−Ni合金、Co−N1−P合金、Fa−AJ金合金F
e−Mn−Zn合金、Fa AII P合金等の如くF
e、Ni−Coを主成分とするメタル系磁性粉等が挙げ
られる。
また、上述した支持体1の素材としては、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレート
等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィ
ン類、セルローストリアセテート、セルロースダイアセ
テート等のセルロース誘導体、ポリカーボネートなどの
グラスチック、AA’、Znなとの金属、ガラス、窒化
珪素、炭化珪素、磁器、陶器等のセラミックなどが使用
される。 これら支持体の厚みはフィルム、シート状の
場合は約3〜100μm程度、好ましくは5〜50μm
であり、ディスク、カード状の場合は30μm〜10m
m程度であり、ドラム状の場合は円筒状とし、使用する
レコーダーに応じてその型は決められる。
テレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレート
等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィ
ン類、セルローストリアセテート、セルロースダイアセ
テート等のセルロース誘導体、ポリカーボネートなどの
グラスチック、AA’、Znなとの金属、ガラス、窒化
珪素、炭化珪素、磁器、陶器等のセラミックなどが使用
される。 これら支持体の厚みはフィルム、シート状の
場合は約3〜100μm程度、好ましくは5〜50μm
であり、ディスク、カード状の場合は30μm〜10m
m程度であり、ドラム状の場合は円筒状とし、使用する
レコーダーに応じてその型は決められる。
また、BCfi6に含有せしめられる非磁性粉としては
、カーボンブラック、酸化珪素、酸化チタン−酸化アル
ミニウム、酸化クロム、炭化珪素、炭化カルシウム、酸
化亜鉛、α−Fe20.タルク、カオリン、硫酸カルシ
ウム、窒化ホウ素、フッ化亜鉛、二酸化モリブデン、炭
酸カルシウム等からなるもの、好ましくはカーボンブラ
ック又は酸化チタンからなるものが挙げられる。 これ
らの非磁性粉をBC層に含有せしめれば、BC層の表面
を適度に荒らして(マント化して)表面性を改良でき、
またカーボンブラックの場合にはBe層に導電性を付与
して帯電防止効果が得られる。 カーボンブランクと他
の非磁性粉とを併用すると表面性改良(走行性の安定化
)と導電性向上の双方の効果が得られ、有利である。
但、BCFIの表面粗さは、表面凹凸の中心線の平均粗
さ又は高さくRa)は望ましくは0.025μm以下と
し、また最大粗さく Rmax )を0.20〜0.8
0μmとするのがよい。 laについては、クロマS/
Nを良好にする上でRa≦0.025μとするのが望ま
しい。 Ra又はRmaxの値が小さすぎると走行安定
性、テープ巻回時の巻き姿が不充分となり、また大きす
ぎるとBe層から磁性層へ転写(テープ巻同時)が生じ
て表面が更に荒れてしまう。
、カーボンブラック、酸化珪素、酸化チタン−酸化アル
ミニウム、酸化クロム、炭化珪素、炭化カルシウム、酸
化亜鉛、α−Fe20.タルク、カオリン、硫酸カルシ
ウム、窒化ホウ素、フッ化亜鉛、二酸化モリブデン、炭
酸カルシウム等からなるもの、好ましくはカーボンブラ
ック又は酸化チタンからなるものが挙げられる。 これ
らの非磁性粉をBC層に含有せしめれば、BC層の表面
を適度に荒らして(マント化して)表面性を改良でき、
またカーボンブラックの場合にはBe層に導電性を付与
して帯電防止効果が得られる。 カーボンブランクと他
の非磁性粉とを併用すると表面性改良(走行性の安定化
)と導電性向上の双方の効果が得られ、有利である。
但、BCFIの表面粗さは、表面凹凸の中心線の平均粗
さ又は高さくRa)は望ましくは0.025μm以下と
し、また最大粗さく Rmax )を0.20〜0.8
0μmとするのがよい。 laについては、クロマS/
Nを良好にする上でRa≦0.025μとするのが望ま
しい。 Ra又はRmaxの値が小さすぎると走行安定
性、テープ巻回時の巻き姿が不充分となり、また大きす
ぎるとBe層から磁性層へ転写(テープ巻同時)が生じ
て表面が更に荒れてしまう。
なお、BC層6中の充填剤(非磁性粉を含む)の粒径は
、上記表面粗さを得るためKO,5μm以下、好ましく
は0.2μm以下とするとよい。 また、BC7’56
は上記したと同様の方法で塗布形成可能であるが、その
塗布・乾燥後の膜厚o1〜3.0/Am、好ましくは1
μm以下、更には0.6μm以下がよい。
、上記表面粗さを得るためKO,5μm以下、好ましく
は0.2μm以下とするとよい。 また、BC7’56
は上記したと同様の方法で塗布形成可能であるが、その
塗布・乾燥後の膜厚o1〜3.0/Am、好ましくは1
μm以下、更には0.6μm以下がよい。
非磁性粉の10層中への添加量は一般に100〜4o。
mg/In”、好ましくは200〜300 mg/m’
とする。
とする。
また、BCrPj6(更には下びき層2、oc層19用
)のバインダーとして、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、
反応型樹脂、電子線照射硬化型樹脂又はこれらの混合物
が使用されてもよい。 また、00層は、トリオレイン
、ブトギシエチルステアレート、ホウ酸、高級アルコー
ル、ステアリン1Ti2笠の高級脂肪酸、シリコーン油
、界面活性剤等、ツク素系ポリマーの塗布によって形成
してもよい。
)のバインダーとして、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、
反応型樹脂、電子線照射硬化型樹脂又はこれらの混合物
が使用されてもよい。 また、00層は、トリオレイン
、ブトギシエチルステアレート、ホウ酸、高級アルコー
ル、ステアリン1Ti2笠の高級脂肪酸、シリコーン油
、界面活性剤等、ツク素系ポリマーの塗布によって形成
してもよい。
熱可塑性樹脂としては、軟化温度が150℃以下、平均
分子量が10,000〜200,000.重合度が約2
00〜2,000程度のもので、例えばアクリル酸エス
テル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸ニスf
# −jA 化ヒニリテン共重合体−アクリル酸エステ
ル−スチレン共重合体、メタクリル酸エステル−アクリ
ロニトリル共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニ
リデン共重合体、メタクリル酸エステル−スチレン共重
合体、ポリ弗化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロニト
リル共重合体、アクリロニド、リループクジェン共重合
体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、スチレン
−ブタジェン共重合体、ポリエステル樹脂、クロロビニ
ルエーテル−アクリル酸エステル共重合体、アミン樹脂
、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂およびこれらの温合
物等が使用される。
分子量が10,000〜200,000.重合度が約2
00〜2,000程度のもので、例えばアクリル酸エス
テル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸ニスf
# −jA 化ヒニリテン共重合体−アクリル酸エステ
ル−スチレン共重合体、メタクリル酸エステル−アクリ
ロニトリル共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニ
リデン共重合体、メタクリル酸エステル−スチレン共重
合体、ポリ弗化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロニト
リル共重合体、アクリロニド、リループクジェン共重合
体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、スチレン
−ブタジェン共重合体、ポリエステル樹脂、クロロビニ
ルエーテル−アクリル酸エステル共重合体、アミン樹脂
、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂およびこれらの温合
物等が使用される。
熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては、塗布液の状態
では200,000以下の分子量であり、塗布乾燥後に
は縮合、付加等の反応により分子量は無限大のものとな
る。 また、これらの樹脂のなかで樹脂が熱分解するま
での間に軟化または溶融しないものが好ましい。 具体
的には、例えばポリウレタン、フェノール樹脂、エポキ
シ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シ
リコン樹脂、アクリル系反応樹脂、メタクリル酸塩共重
合体とジイソシアネートプレポリマーの混合物、尿素ホ
ルムアルデヒド樹脂、ポリアミン樹脂、及びこれらの混
合物等である。
では200,000以下の分子量であり、塗布乾燥後に
は縮合、付加等の反応により分子量は無限大のものとな
る。 また、これらの樹脂のなかで樹脂が熱分解するま
での間に軟化または溶融しないものが好ましい。 具体
的には、例えばポリウレタン、フェノール樹脂、エポキ
シ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シ
リコン樹脂、アクリル系反応樹脂、メタクリル酸塩共重
合体とジイソシアネートプレポリマーの混合物、尿素ホ
ルムアルデヒド樹脂、ポリアミン樹脂、及びこれらの混
合物等である。
電子線照射硬化型樹脂としては、不飽和プレポリマー、
例えば無水マレイン酸タイプ、ウレタンアクリルタイプ
ルポリエステルアクリルタイプ、ポリエーテルアクリル
タイプ、ポリウレタン了クリルタイプ、ポリアミドアク
リルタイプ等、または多官能モノマーとして、エーテル
アクリルタイプ、ウレタンアクリルタイプ、リン酸エス
テルアクリルタイプ、アリールタイプ−ハイドロカーボ
ンタイプ等が挙げられる。
例えば無水マレイン酸タイプ、ウレタンアクリルタイプ
ルポリエステルアクリルタイプ、ポリエーテルアクリル
タイプ、ポリウレタン了クリルタイプ、ポリアミドアク
リルタイプ等、または多官能モノマーとして、エーテル
アクリルタイプ、ウレタンアクリルタイプ、リン酸エス
テルアクリルタイプ、アリールタイプ−ハイドロカーボ
ンタイプ等が挙げられる。
なお、BCi等のバインダー成分としては上1113以
外にも、ニトロセルロース等の繊維素系樹脂が使用可能
である。
外にも、ニトロセルロース等の繊維素系樹脂が使用可能
である。
また、BC層6等の塗布の際に使用する溶媒としては、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン等のケトン類;メタノール、エタ
ノール、グロパノール、ブタノール等のアルコール類;
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、エ
チレングリコールモ人アセテート等のエステル類;エチ
レングリコ−゛ルジメチルエーテル、ジエチレンクリコ
−ルモノエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素;メチレンクロライド、エチレンクロ
ライド、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロルベンゼン
等のノ・ロゲン化炭化水素等のものが使用できる。
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン等のケトン類;メタノール、エタ
ノール、グロパノール、ブタノール等のアルコール類;
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、エ
チレングリコールモ人アセテート等のエステル類;エチ
レングリコ−゛ルジメチルエーテル、ジエチレンクリコ
−ルモノエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素;メチレンクロライド、エチレンクロ
ライド、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロルベンゼン
等のノ・ロゲン化炭化水素等のものが使用できる。
この塗布方法としては、エアーナイフコート、ブレード
コート、エアーナイフコート、スクイズコート、含浸コ
ート、リバースロールコート、トランスファーロールコ
ート、グラビアコート、キスコート、キャストコート、
スプレィコート等力利用でき、その他の方法も可能であ
る。
コート、エアーナイフコート、スクイズコート、含浸コ
ート、リバースロールコート、トランスファーロールコ
ート、グラビアコート、キスコート、キャストコート、
スプレィコート等力利用でき、その他の方法も可能であ
る。
以下、本発明を具体的な実施例につき説明する。
以下に示す成分、割合、操作順序静は、本発明の精神か
ら逸脱しない範囲において種々変更しうる。
ら逸脱しない範囲において種々変更しうる。
なお、下記の実施例において「部」はすべて1重全部」
を表わす。
を表わす。
実施例
10μ厚の超平滑ポリエステルベース上に、あらかじめ
磁性面となる側に下引き層を施したものな真空蒸着装置
に設置し、CO又はFeCo(70: 30)を0.1
5μm厚に、1O−STorr程度の真空中で蒸着し、
磁性層を形成した。 BC及び00層を形成するため、
上記の蒸着済みベースをコーティングライン中に設置し
、あらかじめライン中に&jlみ込まれているヒートロ
ールの表面温度を120℃に設λ 定し、ラインヒートな20mにして、熱処理をしながら
、ブーティングを行なった。
磁性面となる側に下引き層を施したものな真空蒸着装置
に設置し、CO又はFeCo(70: 30)を0.1
5μm厚に、1O−STorr程度の真空中で蒸着し、
磁性層を形成した。 BC及び00層を形成するため、
上記の蒸着済みベースをコーティングライン中に設置し
、あらかじめライン中に&jlみ込まれているヒートロ
ールの表面温度を120℃に設λ 定し、ラインヒートな20mにして、熱処理をしながら
、ブーティングを行なった。
素材として4’BCK’iについては、ポリウレタン2
0部、ポリエステル50部、繊維素系樹脂30部をメチ
ルエチルケトン40部、シクロヘキサノン20部、トル
エン40部に溶解したものにチタンホワイト20部を分
散したものを塗液とした。
0部、ポリエステル50部、繊維素系樹脂30部をメチ
ルエチルケトン40部、シクロヘキサノン20部、トル
エン40部に溶解したものにチタンホワイト20部を分
散したものを塗液とした。
00層は、ステアリン酸のトルエン溶液(0,2%)を
用いた。 これらの塗布に際し、張力バランスは、巻き
出し部 0.9 kg (幅1 cm当たり)コータ一
部 1.ikg(z ) 巻き取り部 1.9kg(1) に保った。
用いた。 これらの塗布に際し、張力バランスは、巻き
出し部 0.9 kg (幅1 cm当たり)コータ一
部 1.ikg(z ) 巻き取り部 1.9kg(1) に保った。
00層、BC層共にリバースロールコート法な用いて行
なったが−BC層あるいはOCW!のどちらを先に形成
した場合においても、しわ等のベースのひずみによる欠
陥は少なく、良好なテープを作成する事ができた。
なったが−BC層あるいはOCW!のどちらを先に形成
した場合においても、しわ等のベースのひずみによる欠
陥は少なく、良好なテープを作成する事ができた。
比較例
10μ厚の超平滑ポリエステルベース上に、あらかじめ
磁性面となる側に下引き層を施したものを真空蒸着装置
に設置し、Coを0.15μ厚に104Torr程度の
真空中で蒸着し、磁性層を形成した。
磁性面となる側に下引き層を施したものを真空蒸着装置
に設置し、Coを0.15μ厚に104Torr程度の
真空中で蒸着し、磁性層を形成した。
BCi及びOCNを形成するため、上記の蒸着済みベー
スをコーティングラインに設置した。
スをコーティングラインに設置した。
あらかじめライン中に組み込まれているヒートロールの
表面温度は、常温のままでラインスピードを20mとし
て、コーティングを行なった。
表面温度は、常温のままでラインスピードを20mとし
て、コーティングを行なった。
素材としては、実施例と同様のものを用いて行なった。
また張力バランスは次の通りであり、巻き出し部 0
.1〜4 kg (幅1 cm当たり)コータ一部 0
.1〜4 kg (幅1cm当たり)巻き取り部 0.
1〜4 kg (幅1 co+当たり)これら各部間の
各点をとって変化させたが、00層、BC層のどちらを
先に形成した場合においても、多くのしわが発生するだ
けでなく、駆動ロールへの巻き付き等の事故も多発し、
良好1、(テープが長尺にわたって得る事ができなかっ
た。
.1〜4 kg (幅1 cm当たり)コータ一部 0
.1〜4 kg (幅1cm当たり)巻き取り部 0.
1〜4 kg (幅1 co+当たり)これら各部間の
各点をとって変化させたが、00層、BC層のどちらを
先に形成した場合においても、多くのしわが発生するだ
けでなく、駆動ロールへの巻き付き等の事故も多発し、
良好1、(テープが長尺にわたって得る事ができなかっ
た。
上述の実施例においては、磁性層の熱処理を塗布工程と
インラインで行なった(第3A図)が〜この熱処理を蒸
着(第2A図)とインラインで行なってもよい。 また
、磁性層の形成は蒸着法以外にも、イオンブレーティン
グ法、スパッタrA 6fpで行なうことができる。
また、上述の下びき層は必ずしも設けることを要しない
。 なお、本発明は磁気テープのみならず磁気シート等
の他の磁気記録媒体にも適用可能である。
インラインで行なった(第3A図)が〜この熱処理を蒸
着(第2A図)とインラインで行なってもよい。 また
、磁性層の形成は蒸着法以外にも、イオンブレーティン
グ法、スパッタrA 6fpで行なうことができる。
また、上述の下びき層は必ずしも設けることを要しない
。 なお、本発明は磁気テープのみならず磁気シート等
の他の磁気記録媒体にも適用可能である。
図面は本発明の実施例を示すものであって、第1図は磁
気記録媒体の製造プロセスフロー図、第2A図は磁性層
形成用の蒸着装置の概略断面図、第2C図は蒸着領域を
示す冷却ローラー下方からみた底面図、 第3A図は熱処理及びBC層塗布形成時の概略図、第3
B図はnc層形成後の断面図、 第4A図はOCC層面布形成時概略図〜第4B図は最終
的に得られた磁気記録媒体の断面図 である。 なお、図面に示された符号において、 1・・・・・・・・・・・・・・・支持体2・・・・・
・・・・・・・・・・下びき層6・・・・・・・・・・
・−・・・BC層9・・・・・・・・・・・・・・・冷
却ローラー17.18・・・・・・熱ロール 19・・・・・・・・・・・・・・・ocfFiI25
・・・・・・・・・・・・・・・80層形成用塗布液2
5・・・・・・・・・・・・・・・OC層形成用塗布液
である。 代理人 弁理士逢坂 宏(他1名) 換1図 (命令) 手続省T’f正書(方式) 昭和59年2月t1日 1、事件の表示 昭和58年 特許 廓第174766号2、発明の名称 磁気記録媒体の製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都新宿区西新宿1丁目26番2号名 称
(127)小西六写真工業株式会社4、代理人 8、補正の内容 ノ′−2・−2−、パ、 ノr:x−−,− (1)、明細書第18頁下から4行目と3行目との間に
下記の記載を加入しまず。 記 「第2B図は磁気記録媒体の一部分の断面し1、−1−
以 十−
気記録媒体の製造プロセスフロー図、第2A図は磁性層
形成用の蒸着装置の概略断面図、第2C図は蒸着領域を
示す冷却ローラー下方からみた底面図、 第3A図は熱処理及びBC層塗布形成時の概略図、第3
B図はnc層形成後の断面図、 第4A図はOCC層面布形成時概略図〜第4B図は最終
的に得られた磁気記録媒体の断面図 である。 なお、図面に示された符号において、 1・・・・・・・・・・・・・・・支持体2・・・・・
・・・・・・・・・・下びき層6・・・・・・・・・・
・−・・・BC層9・・・・・・・・・・・・・・・冷
却ローラー17.18・・・・・・熱ロール 19・・・・・・・・・・・・・・・ocfFiI25
・・・・・・・・・・・・・・・80層形成用塗布液2
5・・・・・・・・・・・・・・・OC層形成用塗布液
である。 代理人 弁理士逢坂 宏(他1名) 換1図 (命令) 手続省T’f正書(方式) 昭和59年2月t1日 1、事件の表示 昭和58年 特許 廓第174766号2、発明の名称 磁気記録媒体の製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都新宿区西新宿1丁目26番2号名 称
(127)小西六写真工業株式会社4、代理人 8、補正の内容 ノ′−2・−2−、パ、 ノr:x−−,− (1)、明細書第18頁下から4行目と3行目との間に
下記の記載を加入しまず。 記 「第2B図は磁気記録媒体の一部分の断面し1、−1−
以 十−
Claims (1)
- 1、バインダーを含まない磁性体連続薄膜からなる磁性
層が支持体上に設けられ、前記磁性層とは反対側の支持
体上にバックコート層が設けられている磁気記録媒体を
製造するに際し一少なくとも前記磁性層を形成し、次い
で熱処理を施し、次いで少なくとも前記バックコート層
を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17476683A JPS6066328A (ja) | 1983-09-21 | 1983-09-21 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17476683A JPS6066328A (ja) | 1983-09-21 | 1983-09-21 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6066328A true JPS6066328A (ja) | 1985-04-16 |
| JPH0418370B2 JPH0418370B2 (ja) | 1992-03-27 |
Family
ID=15984296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17476683A Granted JPS6066328A (ja) | 1983-09-21 | 1983-09-21 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6066328A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5715803A (en) * | 1980-07-03 | 1982-01-27 | Nitto Electric Ind Co Ltd | Method for concentration of aqueous solution |
| JPS5792434A (en) * | 1980-11-28 | 1982-06-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacture of magnetic recording medium |
| JPS5794929A (en) * | 1980-12-01 | 1982-06-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Surface treatment for magnetic tape |
| JPS57167138A (en) * | 1981-04-06 | 1982-10-14 | Olympus Optical Co Ltd | Heat treatment device for film formed with pellicle |
-
1983
- 1983-09-21 JP JP17476683A patent/JPS6066328A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5715803A (en) * | 1980-07-03 | 1982-01-27 | Nitto Electric Ind Co Ltd | Method for concentration of aqueous solution |
| JPS5792434A (en) * | 1980-11-28 | 1982-06-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacture of magnetic recording medium |
| JPS5794929A (en) * | 1980-12-01 | 1982-06-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Surface treatment for magnetic tape |
| JPS57167138A (en) * | 1981-04-06 | 1982-10-14 | Olympus Optical Co Ltd | Heat treatment device for film formed with pellicle |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0418370B2 (ja) | 1992-03-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3746791B2 (ja) | 低帯電性複合ポリエステルフィルム | |
| US4911951A (en) | Method for manufacturing magnetic recording medium | |
| JPWO1998049008A1 (ja) | 低帯電性複合ポリエステルフィルム | |
| JPS5840250B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0365777B2 (ja) | ||
| JPS60111339A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JP3626588B2 (ja) | 磁気記録媒体用ポリエステルフイルム | |
| JPH0418370B2 (ja) | ||
| JP4066768B2 (ja) | 二軸配向ポリエステルフィルム | |
| JP3310165B2 (ja) | 積層フイルム | |
| JPS6066327A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS6069818A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP3288940B2 (ja) | 磁気記録媒体用積層フイルム | |
| JP2627212B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH01299832A (ja) | 二軸配向ポリエステルフイルム | |
| JP3288926B2 (ja) | 積層フイルム | |
| JPH11216823A (ja) | 磁気記録媒体用ポリエステルフイルム | |
| JPH0194531A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS60111338A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPS60111342A (ja) | カレンダ−装置 | |
| JPH10157039A (ja) | 積層フイルム | |
| JPH0570207B2 (ja) | ||
| JPH01106329A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH03162714A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6098526A (ja) | 磁気記録媒体 |