JPS606654A - 置換フエニルスルホニルグアニジン誘導体、その中間体、それらの製法及び除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な置換フ−ニルスルホニルグアニジン紳導
体、その中間体、それらの製法及び除草挨フェニルスル
ホニルグアニジン誘導体に関スる。

一般式： 式中、Ｒ１はフェニル基又はフェノキシ基を示し、 ノイ２及びＲａは、夫々、低級アルキル基又は低級アル
コキシ基を示し、そして ７＜４は水素原子、低級アルキル基ｔは低級アルコキシ
基を示す。

上記一般式（１）の本発明化合物は、例えば、下記の方
法、製法（１）により製造することができ、本発明は該
カ法にも、関する。

製法１）　：　− 一般式： 式中、Ｒ１、Ｒ”及びＲａＢ前記と同じ・で表わされる
化付物と、 一般式： ％式％（） 式中、Ｒ４は前記と向じ、 で表わされる化付物とを、反応させることを特徴とする
上記一般式（１）の置換フェニルスルホニルグアニジン
誘導体の製造方法。

本発明は上記製法（１）に於ける。り道中ｌ￥ｉ３体で
ある−　般式（ｕ）のＭ　ｌｉ？フェニルスルホニルイ
ンチオウレア誘導体並びに下記製法（１１）及び（川）
で表わされるその製法にも関する。

製法（ｉｉ）　：　− 一般式： 式中、Ｒｊは前記と−ｊじ、 で表わされる化付物と、 式中、Ｒ８及びＲ８は前記と同じ、 で表わされる化付物とを、反応させることを特徴とする
前記一般式（１）の置換フェニルスルホニルインチオウ
レア誘導体の製造方法。

製法（ｉｉ）　ニー 一般式： 式中、Ｒｉ　、Ｂｚ及びＲ１はＭｔｌ記と同じ、で表わ
される化付物と、メチル化酌とを、培基の存在下で反応
させることを；跨蛸とする前記一般式（ＩＩ）の置換フ
ェニルスルホニルイソチオウレア誘ｉ体の製造方法。

不発明は上部製法（ｉｉｉ）に於ける製造中間体である
一般式（Ｖ）の１換フ工ニルスルホニルナオウレア誘導
体及び下記製法Ｏｖ）で表わさｉるその製法にも関する
。

製法ＧＶ）　ニー 一般式：゛ １ 式中、ｉ＜１は前記と同じ、 で表わされる化付物と、前記一般式（Ｖ）で表わされる
化付物とを、反らさせることｆ：特徴とする前記一般式
間め置換ヤニニルスルホモルチオウレア誘導体の製造方
法。

本発明は上記製法ＯＶ＞に於ける製造中間体である一般
式（（２）の１ｂ換ベンゼンスルホニルインチオシア□
ネート及び下記製法（Ｖ）で表わされるその製法にも関
する。

製法（Ｖ）　ニー 一般式： 式中、Ｒ１は前記と同じ、そして Ｊｉはアルカリ金属原子を示す、 で表わされる化付物と、ホスダン、トリクロルメチルノ
ロルホルメート及びチオニルクロライドより成る群から
えらばれた化合物とを、反応させることを特徴とする前
記一般式（ロ）の置換フェニルインチオシアネートの製
造方法。

不発明は１ｊ１」記製法（ｉｉ）に於ける製造中間体で
ある一般式（ｉつの化は物及び下記製法（Ｖｉｌで表わ
されｇその製法にも関する。

製法（Ｖ（１：　− 前記一般式（ｖ組　で衣わされる化付物とメチル化剤と
を反応させることｔｌ−特徴とする上記一般式（ＩＶＪ
のジメチル　＃−（Ｉｌｌ換フェニルスルホニル）カル
ボンイミドジチオエートの叱°ｌ造方法。

本発明は前記製法（Ｖ）及び（Ｖｉ）に於りる製造中同
体である一般式（Ｖｌｌｌ）の１’　−＜ｔｒｉ、ｊ＞
Ｎフェニルスルホニル）　カノトボンイミドソチオエー
トのアルカリ金Ｈ塩、及び下記製法（ｖｉ＋　）で表わ
されるその製法にも関する。

製法（ｖ＋＋）　ニー 一般式： 式中、ＨＵＦｉ前記と同じ、 で表わされる化合物と二硫化炭紫及び 一般式： ％式％（） 式中、Ａｉは前記と同じ、 で表わ芒れる化付物とを、反応させることを特徴とする
前記一般式い１の７−、（Ｉｔ換フェニルスルホニル）
カルボンイミドジチオ＝Ｔ−−）のアルカリ金属塩の製
造方法。

本発明は、更に、一般式（Ｉ）の置換フェニルスルホニ
ルグアニジノ誘導体を有効成分として含有する除草剤に
も関する。

本発明者等は優イした除雄活性を有する新規化付物をめ
るべく、研究を重ねた結−果、此度、意外にも、前記一
般式（１）の買換フェニルスルホニルグアニジン誘導体
の＠成に成功し且つ該化付物が従米文献未記載の化合物
でろって、優れた除草竺性を有する化付物であることを
発見した。更に又、詳化付物を水田用除草剤として、使
用したときに、水稲に対する薬害がなく、水田雑草に対
して極めて卓越した退択的除草効果を示すことを発見し
た。

本発明の前記一般式（１）の化合物は、従来公知文献に
未記載の全く新規な化合物であって、その特徴は、化学
構造においては、グアニジン骨格を基本給進とし、１位
のｙ原子に、２−ビフェニリルスルホニル７Ａ又１１２
−フェノキシフェニルスルホニル基が結会し、且つ２位
のＮｌｆｔ子に、置換−１，３，５−）リアジン−２−
イル基が結合し、且つまた３位の７ｖ原子に、水素原子
又は低級アルキル基又は低級アルコキシ基が結付してい
る点にある。そして、上記、４ｆ異的該徊造によって初
めて、Ｍｕ記如き優れた生物学的特徴をも、獲得するこ
とができることがわかった。

本発明の一般式（１）のｗ′換フェニルスルホニルグア
ニジン紡導体の製造中間体である前記一般式（Ｉ＋）、
Ｗ）、　（Ｍ）、（ロ）、（Ｋ）及び（Ｘ）の化付物も
また、従来公知文献に未記載の全く新規な化付物である
。更に、これら化付物の中でも、一般式（Ｉｔ）で表わ
される島換りエニルスルホニルイソチオウレア誘導体及
び−１４式（Ｖｌ）で弐わされる着換フェニルスルホニ
ルチオウレア銹導体は、それら自体が、優れた除草活性
治：冶しており、有用化付物の中間体とし′ても且つそ
れ自体除草剤としても有用な化付物であることもわかっ
た。

従って、本発明の目的は、前記一般式（＋）で表わされ
る置換フェニルスルホニルグアニジン誘導体、その中間
体、それらの製法、及びその除草剤、特には水田雑草の
選択的除草剤としての利用を徒供するにあ゛る。

Ｊ拍ｔ！Ｉ−１’υ上ｄＣ目的及び更に多くの他の目的
ならひに利点は、以下のＩ記載から一崩り」らかとなる
であろう。゛ 本究明の化付物ば、特に水田雑草の発芽前土壊処理剤、
茎葉兼上樋処理剤として使用した揚曾、卓越した迦択的
防除効力を示す。

本発明の化付物は安全性に優れ、かつ、卓越した除草活
性を発現し、巾広い除草スペクトルを有している。

例えは、水田雑草としては、 植物名　ラテン塩 双子葉植、物 キカシグサ　Ｒｏｔａｌａ　１ｎｄｉｃａ　Ｋｏｅｈｎ
ｅアゼナ　Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ　ｌ−ｒｏｃｕｍｂｅｎ
ｓ　Ｐｈ１ｌｃｏ：ｔｏｎｎ ミゾハ＝ｒへＥｌａｔｉｎｅ　ｔｒｉａｎｄｒａ　５ｃ
ｈｋ単子葉植物 ヒエ　”ｅｈｉｎｏｃｈｌｏａ　ｃｒｕｓ−ｇａｌｔｉ
Ｂｅａｕｖ　ｖａｒ コナギ　Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ　ｖａｇｉｎａｌｉｓ　
ｐｒｅｓｌマツバイ　Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓ　ａｃｉｃ
ｕｌａｒｉｓ　Ｌ。

クログワイ　Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓ　Ｋｕｒｏｇｗｗａ
ｉ　ＯｈｗｉタマガヤツリＣｙｐｅｒｕｓ　ｄｉｊ’ｆ
ｏｒｍｉｓ　Ｌ。

ミズガヤツリＣｙｐｅｒｔｂｓ　ａｇｒ、、ｏｔｉｔｎ
ｂｓ　Ｒｏｔｔｂｏｅｌウリカワ　Ｓａｇｉｔｔａｒｉ
ａ　ｐｙｇｍａｅａ　Ｍｉｑヘラオモダカ　Ａｌｉｓｍ
ａ　ｃａｎａｌｉｃｕｌｔ−ｒｂｍＡ　Ｂｒ　ｅｔ　Ｂ
ｏｕＣｈｓ　。

ホタルイ　５ｃｉｒｐｕｓ　ｊｕｎｃｏｉｄｅｓＲｏｘ
ｂｕｒｇｈ　ｖａｒ。

等に除草活性が認められ、水稲に対して全く害作用が認
められない特徴を有する。

また畑地雑草としては、例えば、 植物名　ラテン塩 双子葉植物 りｆｐｏｌｙｇｏｔｎｂｔｎ　ｓｐ。

アカザ　Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕｍ　ａｌｂｕｍＬ　１ｎ
ｎａｅｒｂｓ ハコへＳ　ｔｅｌ　Ｌａｒｉａ　ｍｅｄｉａ　Ｖｉｌ　
ｊａｒｓスベリヒュＰｏｒｔｕｌａｃａ　ｏｌｅｒａｃ
ｅａＬｉｎｎａｅｘａ 単子葉植物 ヒｘ　ＥｃｈｉｎｏｃｈＬｏａ　ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ
Ｂｅａｕｖ　ｖａｒ メヒシバＤｉｇｉｔａｒｉａ　ａｄｓｃｔｔｏｄｅｎａ
ａｎｒ− カヤツリグサ　Ｃｙｐｅｒｕｓ　１ｒｉａ　Ｌ。

等に除草活性が認められ、次のような作物には全く害作
用が認められない特徴を鳴する。

例えば、双子系植物として、刀うシ、カラシナ、棉、人
参、豆類、馬鈴薯、ビート、カンラン等。

単子葉植物として、トウモロコシ、稲、カラス麦、人皮
、小麦、キビ、サトウキビ等を挙げることができる。た
だし、上述の植物の種類は、ラテン塩で芋げた１Ｆｊ４
　（ｇｅｎｒｂｓ　）の包成的な例であると考えられた
い。

しかし、本発明の活性化付物の通Ｃｃ、Ｖ性は、水田、
畑地雑草に対してのみに限疋されるものではなく、イ草
等に有害な雑草、および休耕地等の雑草等に対しても、
有効である。ここでいう雑草という言葉は、最も広い意
味において望ましくない場所に生えるすべての植物を意
味す号。

本発明の前記一般式（１）の層換フェニルスルホニルグ
アニジン誘導体は、例えば、下記製法（Ｈにより脅威す
ることができる。

製法（ｉ）　ニー じ。

上記反応式において、 Ｒ”Ｊｄ７ｘニル基又はフェノキシ基ヲ示ス。

Ｒ２及びＲ１は、夫々、低級アルキル基又は低級アルコ
キシ基を示し、具体的には、メチル、エチル、プロピル
、イソプロピル、ｎ−（ｉｓｏ−１ｓｇｃ−１又はｔｔ
ｒｒｔ−）ブチル等の低級アルキル基、又は上記と同様
な低級アルキル基を有する低級アルコキシ基を例示する
ことができる。

Ｒ′は水素原子低級アルキル基又は低級アルコキシ基を
示し、低級アルキル基及び低級アルコキシ基の具体例と
しては、Ｒ２及びＲ３について上記に例示したと同様な
ものをあけることができる。

上記反応式で示される本発明の一般式（夏）の置換フェ
ニルスルホニルグアニジノ誘導体の製造方法において、
原料である一般式（Ｉｆ）の化付物の具体例としては、
例えば、 １−（２−ビフェニリルスルホニル）３−（４−メトキ
シ−６−メチル−１，３，５−）リアジン−２−イル）
　２−メチルインチオウじア、ｌ−（２−ビフェニリル
スルホニル）　３−（４゜６−シメトキシー１　、．３
　、５−　）リアジン−２−イル）２−メチルイソチオ
ウレア、 ３−（４，１５−ジメトキシ−１’、３．５−）リアジ
ン−２−イル）　２−メチル　１−（２−フェノキシス
ルホニル）インチオウレア、 ３−（４−メトキシ−６−メチル−ｉ、ａ、ｓ−トリア
ノン−２−イル）　２−メチル　１−（２−フェノキシ
フェニルスルホニル）インチオウレア 等を例示することができる。

ｌた、同様に原料である一般式（帳の化付物の具体例と
しては、例えは、 アンモニア、Ｏ−メチルヒドロキシルアミン、メチルア
ミン、Ｏ−プロピルヒドロキシルアミン等紮Ｖす示する
ことかできる。

次に代表例をあけて、具体的に上記製造方法ｒ説明する
。

ｏｃｎ。

本発明の化付物の上記製造方法は、望ましくは溶媒また
は希４く剤を用いて実施できる。このためにはすべての
不活性溶媒、ｔＪ４＜剤′ｆ：９４用することができる
。

かかる溶媒ないし柘釈剤としては、脂肪族、壌脂肋厩お
よび芳遺族炭化水素類（場合によっては塩素化されても
よい）例えは、ヘキサン、シクロヘキサン、心油エーテ
ル、リグロイン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチ
レンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素、エチレン
クロライドおよヒドリ−クロルエチレン、クロルペなゼ
ン；ソの他エーテル類例えば、ジブチルエーテル、メチ
ルエチルエーテル、ジー１８０−プロピルエーテル、ジ
ブチルエーテル、プロピレン′オキサイド、ジオキサン
、テトラヒＰロアラン；ケトン類例えばアセトン、メチ
ルエチルケトン、メチル−１ｓｏ−プロピルケトン、メ
チル−１８ｏ−ブチルケトン；ニトリル類例えば、アセ
トニトリル、グロピオニトリル、アクリロニトリル；エ
ステル類例えば、酢酸エチル、酢酸アミル；酸アミド類
例えば、ツメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
；スルホン、スルホキシド類例えば、ジメチルスルホキ
シド、スルホラン；および有磯塙基例えは、ピリジン等
ｌｌ１−あけることができる。

本発明の上記方法は、広い九度４ａ囲内において実施す
ることができる。例えば約−２０℃と混廿物の沸点との
閾で実施でき、好ましくは約０〜約１００℃の間で実施
できる。また、反応り常圧の下でおこなうのが望ましい
が、加圧または減圧下で操作することも可能でおる。

本発明の上記一般式（幻で表わされる中間体であるＩｔ
換フェニルスルホニルイソチオウレア誘導体は、例えば
、下記製法（１：）もしくｔｉ（ｉｉＤにより甘酸する
ことができる。

製法（ｉｆ）　ニ一 式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３・は前記と同じ。

上記反応式−で示される本発明の一般式（Ｉｔ）のば換
フェニルスルホニルイソチオウレア杓専体の腔造方法に
おいて、原料である一般式（ＩＶ）の化付物の具体・し
Ｕとしては、例えは、ツメチル　Ｎ−（２−ビフェニリ
ルスルホニル）カルボンイミドジチオニー１、ジｌｆｋ
　＃−（２−フェノキシフェニルスルホニル）カルボン
イミドジチオニート等を例７バすることができる。

同椋に原料である一般式（Ｖ）の化付物の具体例として
は、例えば、２−アミノ−４，６−シメトキシー１，３
．５−トリアジン、２−アミノ−４−メトキシ−６−メ
チル−１，３，５−トリアジン、２−アミノ−４，６−
シメチルー１．３．５−トリアジン等を例示することが
できる。

次に代表例金あげて、具体的に上記製法を説明する。

上記方法を実施するために、好ましくは前記したと同様
な不活性溶媒または希釈剤を使用し、畠純匿、高収餡・
で目的物を得ることがで参る。

また、上記方法は、例えば水素化ナトリウム、水素化カ
リワムの仔在下で、効率よく行うことも可能である。

上記反応は、ムい温度範囲内に２いて実施することがで
きる。例えば、約−２０°′Ｃと混曾物の沸点との間で
３１！施でき、好ましくは約０〜約１００℃の間で実施
できる。また反応は常圧の下で行なうのが好ましいが、
加圧互たは減圧下で操作することも可能である。

製法（ｉｔ）　：　− 式中１．Ｒ１、ＲＲ及びＢｓは前記と同じ。

上記反応式で示される本発明の一般式（１）の置換フェ
ニルスルホニルイソチオウレア誘導体の製造方法におい
て、原料である一般式（Ｍ）の化付物の具体例としては
、例えば、 ｌ−（２−ビフェニリルスルホニル）３−（４−メトヤ
シ−６−メチル−１，３，５−）リアジン−２−イル）
チオウレア、 ｌ−（２−ビフェニリルスルホニル＞３−　（４゜６−
シメトキシー１．３．５−トリアジン−２−イ、ル）チ
オウレア、 ３−（４，６−シメトキシー１，３．５−）リアジン−
２−イル）ｌ−（２−フェノキシフェニルスルホニル）
チオウレア、 ３−（４−メトキシ−６−メチル−１，３，５−トリア
ジン−２−イル）ｌ−（２−フェノキシフェニルスルホ
ニル）チオウレア 尋を例示することができる。

また、メチル化剤としては、上記、ヨウ化メチルの他、
例えば、ジメチル硫酸、臭化メチル、塩化メチル等を例
示することができる。

また、上記方法は、塩基の存在の下で行うことが必要で
あり、塩基としては、例えば、金属ナトリウム、金属カ
リウム、金紙リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化リチウム等を例示１−ることかできる。

次に代表例をあけて、具体的に上記製法を説明する。

　ＣＲ３ 上記方法を実施するために、好ましくは前記したと同様
な不活性溶媒または希釈剤を使用し、＾紳度、高収量で
目的物を得ることができる。

上記反応は、広い温度範囲内において実施することがで
きる。例えば、約−２０℃と混付物の沸点との間で実施
でき、好ましくは約θ〜約１００℃の間で実施できる。

また反応は常圧の下で行なうのが好咬しいが、加圧また
は減圧下で操作することも可能である。

本発明の上記一般式（ｖＯで表わされる中間体である買
換フェニルスルホニルチオウレア誘導体は、例えは下記
製法（ｉｖ）により甘酸することができる。

製法（ｉｖ）　：　一 式中、Ｒ１、Ｒ２！及びＲ”は前記と同じ。

上記反応式で示される本発明の一般式（Ｍ）の置換フェ
ニルスルホニルチオウレア肪導体の製造方法において、
原料である一般式（搬の化付物の具体例としては、例え
ば、２−フェニルベンゼンスルホニルイソチオシアネー
ト、２−フェノキシベンゼンスルホニルインチオシアネ
ート等を例示することができる。

また、同様に原料である一般式（Ｖ）の化せ物の具体例
としては、前記製法（１１）で例示したと同様なものを
あけることができる。

次に代表例ｆＩ：めけて、具体的に上ＮＵ剥製法説明す
る。

八〇 上記方法を実施するために、好ましくはＮ＋１記したと
同様な不活性溶媒または布釈剤を使用し、筒純度、高Ｊ
医鎗で目的物を得ることができる。

上記反応は、広い混匿範囲内において実施することかで
きる。例えば、約−２０℃と混付物の沸点との間で実施
でき、好ましくは約０〜％’、ｊ　ｌ　００℃の間で実
施できる。またルＬｒ）、は常圧の下で行なうのが好ま
しいが、加゛圧または減圧下で操作することも可能であ
る。

更に、トリエチルアミン、ジアザビシクロオクタンの如
き、有機塩基を触媒として使用することによシ反応を促
進させることも可能である。

本発明の上記−ｉｔ式（搬で表わ式れる中間体である＞
ｔ　ｍ−＝ンゼンスルホニルインテオシアネートは、例
えば、下記製法（Ｖ）によシ＠成することができる。

製法（Ｖ）　ニー Ｉ （■） 式中、Ｒ１及びＭは前記と同じ。

上記反応式で示される本発明の一般式（■）の置換ベン
ゼンスルホニルイソチオシアネートの製造方法において
、原料ズある一般式（■）の化付物の具体例としては、
例えば、カリウム　八−（２−ビフェニリルスルホニル
）カルボンイミドジチオエート、カリウム　六−（２−
フェノキシフェニルスルホニル）カルボンイミドジチオ
エート等を例示することができ、またカリウム塩の代わ
りに、ナトリウム塩、リチウムＦＩＡ、　Ｗのアルカリ
金ｊｓ４塩をあけることができる。

また、同様に原料でろるチオニルクロライドの代わりに
、ホスダン又はトリクロルメチルクロルホルメートを反
応させることも可能である。

次に代表例をりけて、具体的に上記製法を脱明する。

上記方法を実施するために、好ましくは前記したと帥］
様な不活性溶媒または希沢ｉ＋＋を１チ用し１．高純度
、高収量で目的物を得ることができる。

上記反応は、広い温度馳囲内に訃いて９−施することが
できる。例えば、約−２０℃と混付物の沸点との間で実
施でき、好ましくは約０〜約１００℃の間、で実施でき
る。また反応は常圧の１で行なうのが好ましいが、加圧
または減圧下で操作することも可能でめる。

本発明の前記一般式（ＩＶＪで表わさｎる中間体である
ジメチル　六−（１ｍ換フェニルスルホニル）カルボン
イミドジチオエートｔよ、例えば、下記製法−（ｖＯに
より置数することができる。

製法（ＶＤ　ニー １ （■） （ｆｆ） 式中、Ｒ１及びＭは前記と同じ。

上記反応式で示される本発明の一般式（Ｆ／）のジメチ
ル　八−（＠換フェニルスルホニル）カルボンイミドジ
チオエートの製造方法において、原料である一般式（Ｖ
ｌ）の化付物の具体例としては、上記製法（Ｖ）で例示
したと同様なものをあけること炉できる。

また、同様に原料であるメチル化剤としては、上記反応
式で例示したツメチル硫酸の他、前記製法（ｉｉ）で例
示したと同様なものラリりることかできる。

次に代表例をあけて、具体的に上記製法を説明する。

上記方法會実施するために、好ましくは前記したと同様
な不范性酢媒または布択剤（ｉｌ−使用し、高純度、高
収νで目的物を得ることができる。

上ｈピ反応ｔユ、広い温度範囲内において実施すること
かできる。例えＦｊ：、約−２０℃と碌付物の沸点との
闇で実施でき、好ましくは約θ〜約１００℃の間で実〃
１１Ｉできる。また反応は常圧の下で行なうのが好まし
いが、加圧または鶴圧下で操作することもｈ」能である
。

本発明の上ｉｉ己一般式、（■）で表わされる中間体で
ある＊−（ｍｍフェニルスルホニル）カルボンイミドジ
チオエートのアルカリ金Ｍ塩は、例えば、下記製法（ｖ
ｉ＋　）により甘酸することができる。

製法（ｖｉｌ）ニー １ 式中、Ｒ′及びＭは前記と同じ。

上記反応式で２Ｉ：さ扛る本発明の一般式い１のＮ−＜
ｔＭ換フェニルスルホニル）カルボンイミドジチオエー
トの製造方法において、原料である一般式（ｆｆｌ）の
化付物の具体例としては、例えば、２−フェニルベンゼ
ンスルホンアミド、２−フェノキシベンゼンスルホンア
ミド等を例示するこトカテ詐る。

また、同様に原料である一般式（Ｘ）の化付物の具体例
としては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム
、水酸化リチウム等を例示することができる。

次に代表例をあげて、具体的に上記製法を説明する。

上記方法を実施するために、好ましくは前記したと同様
な不活性靜媒または布釈剤を使用し、筒祠度、高収量で
目的物を得ることができる。

上記反応は、広い温度範囲内において実施することがで
きる。例えばＪ釣−２０℃と混付物の沸点との間で実施
でき、好ましくは約θ〜約１００℃の間で実施できる。

ｉた文略は常圧の下で行なうのが好ましいが、加圧また
は減圧下で操作することもｉｊＪ能である。

′７＋発明の一般式（０の猜換フェニルスルホニルグア
ニジン誘導体は、上記製法（■）を第１段階の反応とし
て、中間体を分離することなく、上記各反応を連続的に
行うことにより、製造することも可能である。その全体
反応を示すと、下記の通りで必る。

本発明の一般式（１）の化付物を、除草剤として使用す
る場合、そのまま直接水で希釈して１史用するか、また
は農薬補助剤を用いて農薬製造分野に於いて一般に行な
われている方法によシ、樺々の製Ａｌｌ形態にして１史
用することができる。これらの種種の製剤は、実際の使
用に際しては、直接そのまま使用するか、または水でＦ
９１ｉ望ａ夏に希釈して使用することができる。ここに
言う、農薬補助剤としては、例えば、希釈剤（浴剤、増
量剤、担体）、界面活性剤（可溶化剤、乳化剤、分散剤
、湿展剤）、安定剤、固層−剤、エーロゾル用噴射剤、
共力剤をケけることができる。

ｃｆｆ剤としては、水のｅｌかに、有機浴剤たとえば炭
化水素類〔例えば、ｎ−ヘキサノ、石油エーテル、ナフ
サ、石油留分（ツクラフイン蝋、灯油、軽油、中油、重
油）　、ベンゼン、トルエン、キシレン類〕；ハロゲン
化炭化水素類〔例えば、クロルメチレン、四塩化炭素、
トリクロルエチレン、エチレンクロライド、工具化エチ
レン、クロルベンゼン、クロロホルム〕；アルコール類
〔ρ（１えば、メチルアルコール、エチルアルコール　
プロピルアルコール、エチレングリコール〕；エーテル
類Ｃ例工ｉｒＪ：、エチルエーテル、エチレンオキシド
、ジオキサン〕；アルコールエーテル類し例えはエチレ
ングリコールモノメチルエーテル〕；ケトン類〔例えは
、アセトン、インホロン〕；エステル類し例えば酢酸エ
チル、酢酸アルキルアミン類〔例えば、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド〕；スルホキシド姑、〔
例えば、ジメチルスルホキシド〕；などを￥けることが
できる。

増量剤または担体としては無機質粉粒体、例えば、硫黄
、消石灰、マグネシウム石灰、石・時、炭酸カルシウム
、砂石、パーライト、軽石、珪藻土、無晶形酸化ケイ素
、アルミナ、ゼオライト、粘土鉱物（例えば、パイロフ
ィライト、滑石、モンモリロナーｉト、バイデライト、
）ぐ−ミキュライト、カオリナイト、雲母）など；細物
性粉粒体、例えは、穀粉、澱粉、加工デンプン、砂糖、
プドり糖、４ＩＩｉ物茎幹破砕物など；甘酸樹脂粉わ冒
本１４例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、塩化ヒ”ニ
ル榴脂などヲ挙けることができる。

界面活性剤としては、アニオン（陰イオン）界１１１４
ｂｊ註剤、たとえば硫酸エステルＭＬ例えはラウリルＩ
Ｊｌｉ心ナトリウム〕、アリールスルホン酸類〔例えば
アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルナフタレンス
ルホン酸ナトリウム〕、コノ・り酸塩類、ホリエチレン
グリコールアルキルアリールエーテル硫酸エステル塩類
など；カチオン（陽イオン）界面活性剤、たとえば、ア
ルキルアミン類〔例えは、ラウリルアミン、ステアリル
トリメチルアンモニウムクロライド、アルキルツメチル
ベンジルアンモニウムクロライド〕、ポリオキシエチレ
ンアルキルアミン類など；非イオン界面活性剤、たとえ
ば、ポリオキシエチレングリコールエーテル類〔ｙすえ
ば、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、お
よびその縮合物〕、ポリオキシエチレングリコールエス
テル類〔例えは、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル〕
、多ｆＪｉ＋アルコールエステル類〔例えば、ポリオキ
シエチレンソルビタンモノラウレート〕など；両性界面
活性剤；等を挙げることができる。

その他、安定剤、固着剤し例えは、農業川石けん、カゼ
イン石灰、アルギン鈑ソーダ、ポリビニルアルコール（
ＰＦＡ）　、酢酸ビニル系接着剤、アクリル系接着剤〕
、効力延長剤、分散安定剤〔例えば、カゼイン、１ラガ
カント、カルボキシメチルセルムース（ＣＭＣ）　、ポ
リビニルアルコールＩＰＶＡ））、共力剤等を挙げるこ
とができる。

本発明の化合物は、一般に農薬製造分野で行なわれてい
る方法により種々の製剤形態に製造することができる。

製剤の形態としては、乳剤、油剤、水利剤、水溶剤、勲
濁剤、粉剤、粒剤、粉粒剤、カプセル剤等を挙げること
ができる。

本発明の除草剤は、＠１Ｊ記活性成分を約０．００１〜
１００屯皐チ、好ましくは約０．００５〜約９５Ｍｃ　
Ｗ気の址で含有することができる。

実際の使用に除しては、前記した種々の製剤および財布
用版製物（ｒｅａｄｙ−ｔ　ｏ−ｕｓｅ−ｐｒｅｐａｒ
ａｔ　ｉｏｎ　）中の活性化せ物含脳は、たとえば約０
．Ｏ１〜約９５茄槍チ、好ましくは約０，０５〜約６０
重量％の本」、囲が適当である。これらの活性成分の含
有量は、製剤の形態および施用する方法、目的、時ル１
、場ＰＪｒおよび髄２草の発生状況等によって適当に変
更できる。

本発明の一般式（１）の化付物は、更に必要ならば、他
の農薬、例えば、殺虫剤、殺菌剤、殺ダニ剤、殺線虫剤
、抗ウィルス剤、除草剤、植物生長調整剤、諺引剤〔例
えば、壱４・及燐酸エステル系化合物、カーバメート系
化合物、ジチオ（またはチオール）カーバメート系化合
物、有ＩＳ：塩素系化合物、ジニトロ系化合物、崩様帆
黄または金属系化＠牧！、抗生物質、置換ジフェニルエ
ーテル系化合物、尿素系化合物、トリアジン系化合物〕
または／および肥料等を併用もしくは共存きせることも
できる。

本発明のｈｂ記性成成分ケも刹する柳々の製剤または散
布用Ｎ勺ｍ物（ｒｅ、ａｄｙ−１ｏ−ｕｓｅ−ｐｒｅｐ
αｒα−ｔｉｏｎ）　は農薬製造分野にて旭當一般に行
なわれている施り：ｌ方法、たとえば、散布〔例えば液
剤散布（１貝鋺）、ミスティング（ｍｉｓｔｉｎｇ）、
アトマイズイング（αｔｏｍｉｚｉｎｇ）、散粉、散粒
、水面施用、ボアリング（ｐｏｕｒｉｎｇ　）　）’、
土壌施用〔例えば、土壌混入、スプリンクリシグ（ｓｐ
ｒｉｎｋｌｉｎｇ）　’）等により行なうことができる
。またいわゆる超高濃度少−散布法（ｕｌｔｒａ−１ｏ
ｗ−ｖｏｌｕｍｅ　）により使用することもできる。こ
の方法においては、活性成分を１００％含有することが
可能でわる。

単位面積当りの施用繍としては、１ヘクタール当り活性
化付物として例えば約０．１〜イ’Ｊ３”ｆｓ女１〜１
しくは約０．２〜約ｘＫｏの１集用桁をνり示できる。

しカルながらｔｆ＋沖℃楊会には、こｉ″Ｌらの珀ｔｊ
ｌ用を超えろことが、１だは下複わることが司ｎじであ
一す、また時には必要でさえある。

不発ψ１によれは、活性成分としてｉ’ｊＵ　ｇｅ　−
１１蜜式（１）の化付物を合み、且つ希釈剤（浴剤およ
び／ｌたは増量剤および／−１，たは担体）および／ま
たは界面活性剤、更に必要ならば、例えば安定剤、固着
剤、共力剤を含む除草組成物が提供できる。

れらの生育個所に前記一般式（１）の化＠物を卸、独に
、または希釈剤（浴剤および／または淳、１１・剤およ
び／まｆｃは担体）および／−ｉｌ、’ｉ−は昇■１活
性剤、史に心安ならば、安定剤、固層剤、共力ｈ−１と
ケイ上台して施用する雑草防除方法か提供できる。

次に尖／ｌｌ！ｌ？ｌｌによシ不発すノ１のＰｊ谷を具
体的にｂ５１」するが、本発明はこれの今に限定ちれる
べきものではない・ 矢ｈｍ？Ｊ　Ｉ　Ｃ中間体一般式（題）せ酸例〕２−フ
ェニルペン七゛ンスルホンアミト９１１５，５ｔをンメ
戸ルホルムアミド５００１雇向石屓し、この冷液に、二
誠化炭系３８７と水６エγ化力１ノウム２８ｖを加え、
７時間室温でｌ；＝、（’ｌ’−Ｊ−る。この反応（詑
。

付物に水酸化カリウム２８ｆ加え、２＋４＋ｌ砧１室温
で撹拌した後、酢酸ニブル４００　ｍｌを滴下すると、
淡黄色の沈殿物が析出する。この結晶ｉＦ：１ＩＩＬ、
ルカリウム　Ｎ−（２−ビフェニリルスルホニル）カル
ボンイミドジチオエート１６０ｒが得られる。

（化付物扁１−１） 上記実施例ｘ（！：＃ｆｆｔ同様な方法により、カリウ
ム　Ｍ−（２−フェノキシフェニルスルホニル）カルが
ンイミドジチオエート　（化＠ｑ’ｌｌＪ　Ａ　％Ｍ　
−２）を合成した。

実施例２〔中間体一般式（ＩＶ）合成例〕カリウム　／
Ｖ−（２−ビフェニリルスルホニル）カルボンイミドジ
チオニー）？７ｆｉジメチルホルムアミド２００−に溶
解し、この溶液にジメチル傭酸５０．４　ｆを６０℃で
１時間、Ｑ−けて、滴下する。滴下終了後２時間加熱還
流する。昂却後、反応混せ物をｌｔの水に注ぎ、析出す
る結晶をＰ取すると、目的の下記式で示されるジメチル
　Ａ−（２−ビフェニリルスルホニル）カルボンイミド
ジチオエート６５ｖが得られる。

ｍｐＨ５〜１１７℃ 上記実施例２とｆｌは同様な方法によシ、シメチ／Ｌ＝
Ａ−（２−フェノキシフェニルスル不ニル）カルボンイ
ミドジチオエート　（化合物ＡＰ／−２）を合成した。

実施例３（中間体一般式（■）合成例〕カリウム　ａ−
（２−ビフェニリルスルホニル）カルボンイミドジチオ
ニー１−７７　ｆ　ｉ　）ルエン１００ｍｊ：に卿濁芒
せ、それにチオニルクロライド３７−を０〜ｌＯ℃で１
時間かけて、滴下する。滴下終了後、２時間室温で攪拌
する。反応混付物を濾過し、炉液を減圧下に濃縮して、
減圧蒸留すると、目的の下記式で示される２−フェニル
ベンゼンスルホニルインチオシアネート３０２が得られ
る。

ｂｐ、ｘ’ｒｏ℃／　０．５　ｗｔｒＨＱ上記実施例３
とｉｌｌよ同様な方法により、２−フェノキシベンゼン
スルホニルインチオシアネート（化合物点■−２）を合
成した。

実施例４〔中間体一般式（Ｖｌ）せ酸例〕２−アミノー
４．６−ソメトキシーｉ、ａ、ｓ−トリアジン１５．６
ｆを乾燥トルエン３００　ｍｅにｌＩ！＋濁サセ、すレ
ニ、２−　フェニルベンゼンスルホニルインチオシアネ
ート２７．５ｔｆ：加え、８時間加熱還流する。冷却後
、白色沈殿を戸取し、エタノールで杓結晶すると、目的
の下１．ｒ２式で示されるｌ−（２−ビフェニリルスル
ホニル）３−（４゜６−ヅメトキシー１＊ｄ＋５−）リ
アジン−２−イル）チオウレア３５９が得られる。

ｍｐ、１９２〜１９３℃ （化８物扁■−１） 上記実施例４とほぼ同様な方法により、下記に示す化付
物を合成した。。

化合物ムＭ−２：１−　（ビフェニリルスルホニル）３
−（４−メトキシ−６−メチ ル−・１．３．５−トリアジン− ２−イル）チオウレア 化８１１勿煮Ｍ−３：３−　（４，６−シメトキシー１
゜３，５−トリアジン−２−イル） １−（２−フェノキシフェニル スルホニル）チオウレア ＡＶ＋−４：３−　（４−メトキシ−６−メチル−１，
３，５−）リアジン− ２−イル）ｉ−（２−フェノキ シフェニルスルホニル）チオウ レア 実施例５〔中間体一般式（１１）合成例〕ｌ−（２−ビ
フェニリルスルホニル）３−（４゜６−ジメトキシｌ　
、　３　、　ｒｉ−）リアジン−２−イル）チオウレア
４．３１　ｔを、乾燥アセトニトリル５０ｔｎｔＫ懸濁
させ、それｔζ金属ナトリウム０，３２のエタノールｌ
ロー溶液を加え、３０分間加熱還流する。冷却後、ヨウ
化メチル１．８５　ｆを加え、５時間加熱還流した。冷
却後、反応混合物を１００〃ｉの水に注ぎ、塩化メチレ
ンで生成物を抽出する。

減圧下に塩化メチレンを留去し、残置をエタノールで再
結晶Ｊ−ると、目的の下記式で示Ｇれる１−（２−ビフ
ェニリルスルホニル）３−（４，６−ジメトキシ−１，
３，５−１−リアジン−２−イル）２−メチルイソチオ
ウレアＺｌｒが得られる。

フｎｐ、　１　３　５　〜１３７　℃ （化＠物Ｔｏ、　Ｉｆ　−１） 上記実施例５とほぼ同様な方法により、下記に示す化合
物全合成した。

化・才物／Ｉｌｒ、ｕ　−２：　１−（２−ビフェニリ
ルスルホニル）３−（４−メトキシ−６ 一メチルー１，３．５−）リア ジン−２−イル）　２−メチルイ　ｌ ジチオウレア 化付物Ａｌ１−３：３−　（４，６−ノメト千シー１．
　）３．５−トリアジン−２−イル） ２−メチル　ｌ−（２−フェノ　Ｅ キシフェニルスルホニル〕イソ チオウレア　ｌ 化合物１ｊｉ　ｎ　−４：　３−（４−）　）　’Ｆ　
シー　６−１　ｆ　ニル−１，３，５−トリアジン−ミ ２−イル）　２−メチル　ｌ−４ （２−フェノキシフェニルスル ホニル）インチオソレア 実施例６〔中間体一般式（Ｉｆ）＠−成例〕　ｒ２−ア
ミノ−４，６−シメトキシー１，３．５　’Ｊ−トリア
ジンｌ　５．６　Ｗをジメヲールホルムアミド３３００
ｔｎ１．に懸濁させ、それに水素化ナトリウム（油性６
０％）４Ｆを加え、１時間室温で擢拌する。　１紅に、
ジメチル　八−（２−ビフェニリルスルホニル）カルボ
ンイミドジチオエート３３．７Ｆを加し、−昼夜室温て
攪拌する。その反応混合物ｆ：２乙の水に注ぎ、濾過し
、ｐ液を弱酸性にすると、１色の結晶が析出する。その
結晶を戸数し、エタノールで再結晶すると、目的の上記
実施例５で示７た。Ｉ［の１−　（２−ビフェニリルス
ルホニル）３−（４，６−シメトキシー１．３．５−）
リアノン−２−イル）　２−メチルイソチオウレア（化
（物Ａｌｌ　−１）　、３６．２２が得られる。ｆｉＺ
ｐ、　１３５−１３７℃。

また、上記実施例６と１１は同掃な方法により、■記、
化合物扁１１−２、ムＩｔ−３、ｔし…−４を容弓に合
成ターることができることを確認した。

嶋施例７〔最終目的化金物一般式（り合成例〕ｌ−（２
−ビフェニリルスルホニル）３−（４゜５−ジメトキシ
−１、３、５−’）リン゛ジン−２−イル）２−メチル
イソチオウレア４．４５９をジオキサン５０ｍ１に溶解
し、この浴液にＯ−メチルヒドロキシルアミン２．３５
１Ｆを加え、５時間別＃！、還流する。冷却後、温媒を
減圧下に留去し、残渣をエタノールで再結晶すると、目
的の下記式で示さｔＬＡｄＶ−（２−ビンエニリルスル
ホニル＞　７ｙ／−（４，６−シメトキシー１，３．５
−トリアジン−２−イル）八“−（メトキシ）グアニジ
ン３．１２が１ぢら五る。ｎＬｐ、　１８９〜ｌ　９　
（１，５℃。

（化付物Ａｔ　−１） 上記実施例とｔ屹ｆ同様な方法により、下記第１表に示
す化合物を合成した。

実施ｌ＋１１８（水和剤） 本発明は化合物１ｉ　１．１５部、粉末けい藻土と粉末
クレーとの混付物（１：５）、８０部、アルキルベンゼ
ンスルホン酸ナトリウム、２部、アルキルナフタレンス
ルホン酸ナトリウムホルマリン縮付物、３部を粉砕混合
し、水利剤とする。これを水でｆ？Ｊ１＜シて、雑草お
よび／またはこれらの生育個所に滴下処理する。

実施例９　（乳剤） 本発明化合物扁■、３０部、キシレン、５５部、ポリオ
キシエチレンアルキルフェニルエーテル、８部、アルキ
ルベンゼンスルホン酸カルシウム、７部を混付攪拌して
乳剤とする。これを水で希釈して、雑草および／または
、それらの生育個所に滴下処理する。

実施例１０（粉剤） 本発明化付物Ａｎｔ、２部、粉末クレー、９８部を粉砕
混合して粉剤とする。これを雑草および／または、それ
らの生育個所に散粉する。

実施例ｉｌ　（粉剤） 本発明化合物Ｊｆ■、１．５部、インプロプルハイドロ
グンホスフエート（Ｐ　Ａ　Ｐ　）　、０．５　ｆｉ３
　粉末クレー、９８部を粉砕混合して粉剤とし、雑草お
よび／または、それらの生育個所に散粉する。

実施例１２（粒剤） 本発明化合物Ａｌ１１，１０部、ベントナイト　（モン
モリロナイト）、３０ｉ１ｉ、タルク（滑石）、５８部
、リグニンスルホン酸塩、２部の混付物に、水、２５部
を加え、良く捏化し、押し出し式造粒様により、１０〜
４０メツシユの粒状として、４０〜５０℃で♀ｉ’ｔｌ
Ａして粒剤とする。これを雑草および／またはこれらの
生育偏Ｈ「に散粒する。

実施例１３（粒剤） ０．２〜２閣に粒径分布を有する粒土鉱物粒、９５部を
回転混合機に入れ、回転下、有機溶剤に溶１リイさせた
本発明化せ物Ａｌ、５都をｒｔＲ霧し均等にしめらせた
彼４０〜５０℃で乾燥して粒剤とする。これを、雑草お
よび／またはそれらの生育個所に散粒する。

実施例１４ 水田雑草に対する湛水下茎葉兼土壌処理試験（ポット試
験） 活性化付物の調製 担　体：アセトン５獣飯部 乳化剤：ペンジルオキシボリグリコールエーテル１１皺
部 ／６性化付物の調曾剤は、１型針部の活性化合物と上述
した分易の担体および乳化剤とを混ひし、乳剤として得
られる。その調せ剤のＤ［定薬量を、水で′８１＜シて
調製する。

試験方法 １　／　５．０００アールのワダネルポットに水田土壌
を充填し、２〜３葉期（草丈的１０ａ＋＋）の水稲苗（
品種：全雨風）を１ポット当り２本移殖した。

更に、コナギ、ホタルイ、広果雑草の種子及びマツバイ
の小片及びミＸ′ガヤツリ、ウリカワの塊蟲を接種し、
湿潤状態に保った。接種約手７〜９日に、約６ｃｒｎＫ
堪水し、本発明活性化合物を乳剤のプレ沙にして所定量
をピペットにて処理した。処坤俊１日２〜３確の割付で
２日間菊水処理し、その後は約３１Ｍの湛水状態を保ち
、架剤処理４週間口に除草効果、薬害の程度を次の基準
により０〜５の段階に類別評価した。

効果の評価は無処址区に比軟し７部場合、４：　＃　８
０ｑＩ）以上９５％未満 ３：　＃　５部％以上・８０チ未満 ２：無処理区に対 する殺草率　３０％以上５０％未満 １：　Ｉ　１０％以上３０チ未満 ０：　＃　１０％未満（効果なし） 水４拍に対する薬害の評価は無処理区に比較した揚什、 ５：無処理区に対 する殺草率　９０％り上（致命的損傷）４：　Ｉ　５０
％以上９０チ未満 ３：　Ｉ　３０％以上５０チ未満 ２：　＃　１０チ以上３０％未満 １：　＃　０越ｌＯ％未満 ０：　ｌ　Ｏチ　（薬害なし） とした。

試験結果は第２表に示す。

註）１．化合物ムは前記と同じ。

λ　雑草の欄の記号、Ａ、Ｂ、Ｃ５７Ｊ、Ｅ・Ｆは下記
の雑草を示す。

Ａ：マツバイ、Ｂ：ホタルイ、Ｃ′：コナギ、Ｄ：広葉
雑草（アゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ）、Ｅ：ミズガ
ヤツリ、ｔ゛：ウリカワ。

１　比較ｓｉｍａｔｒｙｎ　（一般名）　：２．４−ビ
ス（エチルアミン）　−６−メチルチオ−１，３，５−
トリアジン 上記叉施例１４に例示の他の本発明一般式（１）のｔ６
性化会物も、同程度の優れた効果を現わした。

また、上記実施例１４と内球な試験方法により本発明の
新規中間体である一般式（幻、及び一般式（’１１）の
化せ物の除草効果を試験した。その結果を下記第３表に
示す。

第３表 ［ｌ＋：）１．　化付物Ａは前記と同じ。

２　雑草の欄の記号は、第２表の表示と同じ。

上記、詳細な説明で述べた本発明を要約すれば次の通り
である。

ｌ）　一般式： 式中、Ｒ′はフェニル基又はフェノキシ基を示し、 Ｒ２及びＲ３は、夫々、低級アルキル基又は低級アルコ
キシ基を示し、そして Ｒ４は水素原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基
を示す、 で表わされる置換フェニルスルホニルグアニジノ誘導体
。

２）　一般式： 式中、Ｒ１，Ｒ２、及びＲ３は前記と同じ、で表わされ
る化合物と、 一゛般式： ％式％（） 式中、Ｒ４は前記と同じ、 で表わされる化合物とを、反応させることを特徴とする
、上記一般式（１）の置換フェニルスルホニルグアニー
／シ誘導体の製造方法。

３）　前記　Ｗ式（ＩＩ）の置換フェニルスルホニルイ
ソチオウレア誘導体。

４）　一般式： 式中、Ｒ′は前記六回じ、 で表わされる化合物と、 一般式： 式中、Ｒ２、Ｒ８、Ｒ”は前記と同じ、で表わされる化
合物とを、反応させることを特徴とする、前記一般式（
Ｉｔ）の置換フェニルスルホニルイソチオウレア誘導体
の製造方法。

５）　一般式： 式中、Ｒ１、Ｒ”　、及びＲ８は前記と同じ、で表わさ
れる化合物と、メチル化剤とを反応させることを特徴と
する、前記一般式（１）の置換フェニルスルホニルイソ
チオウレア誘導体の製造方法。

６）　前記一般式（Ｍ）の置換フェニルスルホニルチオ
ウレア誘導体。

７）　一般式： 式中、Ｒ′は前記と同じ、 で表わされる化合物と、前記一般式（Ｖ）で表わされる
化合物とを、反応させることを特徴とする、前記一般式
（■）の置換フェニルスルホニルウレア誘導体の製造方
法。

８）　前記一般式（■）の置換ベンゼンスルホニルイン
チオファネート。

９）　一般式： 式中、Ｒ１は前記と同じ、そして Ｍはアルカリ金属原子を示す、 で表わされる化合物と、ホスダン、トリクロルメチルク
ロルホルメート及びチオニルクロライドより成る群から
選ばれた化合物とを、反応させるととを特徴とする前記
一般式（■）の置換フェニルインチオシアネートの製造
方法。

１０）　前記一般式（ＩＶ）のツメチルＮ−（置換フェ
ニルスルホニル）カルボンイミドソチオエート。

１１）　前記一般式（■）で表わされる化合物とメチル
化剤とを、反応させることを特徴とする上記一般式（Ｉ
Ｖ）のツメチルＮ−（Ｗｔ換フェニルスルホニル）ソチ
オカーバメートの製造方法。

１２）　前記一般式（■１）のＮ−（置換フェニルスル
ホニル）カルボンイミドソチオエートのアルカリ金属塩
。

１３）　一般式： 式中、Ｒ′は前記と同じ、 で表わされる化合物と、二硫化炭素、及び一般式： ％式％（） 式中、Ｍは前記と同じ、 で表わされる化合物とを、反応させることを特徴とする
、前記一般式（Ｖｌｌ）のＮ−（置換フェニルスルホニ
ル）カルΔ？ンイミドソチオエートのアルカリ金属塩の
製造方法。

１４）　前記一般式（１）の置換フェニルスルホニルグ
アニジノ誘導体を有効成分として含有する除草剤。

１５）　水田用選択的除草剤として用いる前記１４）項
の除草剤。

１６）　前記一般式（１）の置換フェニルスルホニル゛
アニノン誘導体を単独に、または希釈剤（溶剤および／
または増量剤および／まだは担体）および／または界面
活性剤、更に必要ならば、安定剤、固着剤、共力剤とを
混合して施用する雑草防除方法。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式： 式中、Ｒ”　Ｉｄ、フェニル基又はフェノキシ基を示し
   、 ７１！　及（ＪＲ・は、夫々、低級アルキル基又は低級
   アル占キシ基を示し、そして Ｒ４は水素原子、低級アルキル基又は低級アルコキ、シ
   基を示す、 テ表ワされる置換フェニルスルホニルグアニジン訪導体
   。 ２　式： で表わされる特許請求の範囲第１項記載のＮ−（２−ビ
   フェニリルスルホニル）ＪＶ’−（４，６−シメトキシ
   ー１．３．５−）リアジン−２−イル）Ｎ“−（メトキ
   シ）グアニジン。 ３、式： で表わされる特許請求の範囲第１項記載のＮ−（２−ビ
   フェニリルスルホニル）／Ｖ’−（４−メ）キシ−６−
   メチル−１，３，５，−）リアジン−２−イル）　７ｙ
   ／／−（メトキシ）グアニジン。　−−４，一般式： 式中、Ｒ’　ｉＪ、フェニル基、又はフェノキシ基を示
   し、そして Ｒ２及びＲａは、夫々低級アルキル基又は低級アルコキ
   シ基を示す、 で表わされる化付物と、 一般式： ％式％ 式中、Ｒａは水素原子、低級アルキル基又は低級アルコ
   キシ基を示す、 で表わされる化付物とを、反応させることを特徴とする
   、　□ 一般式： で表ワされる置換フェニルスルホニルグアニジン肪導体
   の製造方法。 ５、一般式： 式中、Ｒ’＆Ｊ、フェニル基又はフェノキシ基を示し、 Ｒχ及びＲ８は、夫々、低級アルキル基又は低級アルコ
   キシ基を示し、そして ７７４は水素原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ
   基を示す、 で表わされる置換フェニルスルホニルグアニジン゛誘導
   体を有効成分として含有する除草剤。 ６、一般式： 式中、Ｒ１はフェニル基又は７゛エノキシ基を示し、そ
   して Ｒ２及びＢｓは、夫々、低級アルキル基又は低域アルコ
   キシ基を示す、 で表わされる置換フェニルスルホニルイソチオウレア誘
   導体。 ７、一般式： 式中、Ｒ１はフェニル基又はフェノキシ基を示す、 で表わされる化付物と、 一般式： 式中、Ｒ２及びＲ３は、夫々、低級アルキル基又は低級
   アルコキシ基を示す、 で表わされる化合物とを、反応させることを特徴とする
   、 一般式： 式中、Ｒ１、Ｒ２・及びＢｓは前記と同じ、テ表ワされ
   るＩ換フェニルスルホニルイソチオウレア誘導体の製造
   方法。 ８一般式： Ｈｓ 式中、７？ｌはフェニル基又はフェノキシ基を示し、 Ｒ２及びＲｓは、夫々、１凱吸アルキル眉又は低級アル
   コキシ基を示す、 で表わδれる化付物とメチル化剤とを、仇基の存在下で
   、反Ｌ６させることを特徴とする、−り式： （ 式中、Ｒ１、Ｒ″及びＲ３は前記と同じ、で表わされる
   置換フェニルスルホニルイソチオウレア誘導体の製造方
   法。 ９、一般式： 式中、Ｒ１，はフェニル基又はフェノキシ基を示し、 Ｒ２及びＲ３は、夫々、低級アルキル基又は低級アルコ
   キシ基を示す、 で表わされるＭ舅−ｚエニルスルホニルチオウレア肪導
   体。 １０、　一般式：） 式中、７？１はフェニル基又はフェノキシ基を示す、 で表わされる化＠物と、 一般式： 式中、Ｒ２及びＩ？ａは、夫々、低磁アルキル基又は低
   級アルコキシ−Ｍを示す、 で表わ妊れる化合物とを、反［６さぜることをｑ、ｆ′
   ｆ！。 とする、 −Ｓ丈式： 式中、Ｒ”、Ｒ２及びＲ３は前記と−ｊじ、で表ワされ
   る直換フェニルスルホニルチオウレア訪導体の製造方法
   。 １１、　−ｔ１丈式： 式中、Ｒ”　Ｆｉフェニル基又はフェノキシ基を示す、 で表わされる邑゛換ベンゼンスルホニルインチオシアネ
   ート。 １１　一般式： 式中、）（１はフェニルか又ぐユンエノキシ基を示し、 Ｍはアルカリ金属原子を示す、 で表わされ４化付物と、不スク゛ン、トリクロルメチル
   クロルホルメート及びナオニルクロライドよＣＪｊ）Ｌ
   、６０トからえらはＪ’した化合物と社、反応塾せるこ
   とを特徴とする、 一般式： 式中、Ｒ１は前記と同じ、 で表わされる置換ベンゼンスルホニルインチオシアネー
   トの製造方法。 １３一般式： 式中、Ｒ１はフェニル基又はフェノキシ基を示す、 で表わされるジメチル　＃−（置％）フェニルスルホニ
   ル）カルボンイミドジテオエート。 １４、一般式： 式中、Ｒ′はフェニル基又はフェノキシ基を示し、 Ｍはアルカリ金属原子を示す、 で表わされる化は物とメチル化削とを、反応させること
   を特徴とする、 一般式： 式中、Ｒ１は＾１■記と１ｂ」じ、 で表わされるジメチル　ｆｉ／−＜買換フェニルスルホ
   ニル）カルボンイミドジテオエートの製造方法。 ｉ　ｓ、一般式： 式中、Ｒ１はフェニル基又′はフェノキシ基を示し、 Ｍはアルカリ金輌原子を示す、 で表わされるＩＶ−＜ｒｌ換フェニルスルホニル）カル
   ボンイミドジテオエートのアルカリ金属塩。 １６、　一般式： 式中、Ｒ′１よフェニル基又はフェノキシ基を示す、 で表わされる化付物と二懺化炭素及び 一般式： 式中、Ｍは°アルカリ金鵬原子を示す、で表わされる化
   付物とを、反応させることを特徴とする、 一ν式： 式中、Ｒ１，及びＡＩは前記と同じ、 で表わされる化付物の製造方法。