JPS6067698A - ウエブ冷却方法 - Google Patents
ウエブ冷却方法Info
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- JPS6067698A JPS6067698A JP17283383A JP17283383A JPS6067698A JP S6067698 A JPS6067698 A JP S6067698A JP 17283383 A JP17283383 A JP 17283383A JP 17283383 A JP17283383 A JP 17283383A JP S6067698 A JPS6067698 A JP S6067698A
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- Japan
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- cooling
- electrolytic
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- liquid
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- Pending
Links
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- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 claims abstract description 6
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Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、写真用フィルムや写真製版材、磁気録音テー
プ等の磁気記録材料等記録材料の製造において、連続走
行している長尺帯状支持体(以下、「ウェブ」という。
プ等の磁気記録材料等記録材料の製造において、連続走
行している長尺帯状支持体(以下、「ウェブ」という。
)を冷却する方法に関する。
かかるウェブの冷却方法としては、冷却風を吹き付ける
方法、低温ロールに接触せしめる方法、冷却液を吹きつ
ける方法等がある。本発明は、冷却液を用いたウェブの
冷却方法における改良を提案するものである。以下、例
を金属ウェブの連続的電解処理における冷却の場合につ
いて、本発明の詳細な説明する。
方法、低温ロールに接触せしめる方法、冷却液を吹きつ
ける方法等がある。本発明は、冷却液を用いたウェブの
冷却方法における改良を提案するものである。以下、例
を金属ウェブの連続的電解処理における冷却の場合につ
いて、本発明の詳細な説明する。
液体給電法による金属ウェブの連続電解処理は例えば鍍
金処理、電解粗面化処理、電解エラチンいる。液体給電
法は電解液を介して間接的に金属ウェブに給電する方法
であり、極めて安定的に大電流の給電が可能である。し
かし電解槽間に於て金属ウェブ内を流れる電流の断面電
流密度Ds(以下単にrDsJと記す。)が高い場合に
はジュール熱による加熱が生じ金属ウェブに熱歪みが生
じたり、肉厚の薄いウェブだと溶断したりする欠陥があ
る。処理速度が高い場合、高電流密度処理となるためD
sが高くなりこれらの欠陥が発生しやすくなる。本発明
はこれらの欠陥を解消する効率的な金属ウェブの冷却方
法を提供することを目的とするものである。
金処理、電解粗面化処理、電解エラチンいる。液体給電
法は電解液を介して間接的に金属ウェブに給電する方法
であり、極めて安定的に大電流の給電が可能である。し
かし電解槽間に於て金属ウェブ内を流れる電流の断面電
流密度Ds(以下単にrDsJと記す。)が高い場合に
はジュール熱による加熱が生じ金属ウェブに熱歪みが生
じたり、肉厚の薄いウェブだと溶断したりする欠陥があ
る。処理速度が高い場合、高電流密度処理となるためD
sが高くなりこれらの欠陥が発生しやすくなる。本発明
はこれらの欠陥を解消する効率的な金属ウェブの冷却方
法を提供することを目的とするものである。
本発明の上記の目的は、ウェブ表面に冷却液の流下液膜
を形成することを特徴とするウェブ冷却方法により達成
される。
を形成することを特徴とするウェブ冷却方法により達成
される。
以下、添付図面如従い本発明の内容を更に詳細に説明す
る。
る。
第1図はラジアル型電解槽を用いた液体給電電解法での
従来のウェブ冷却法を示したものである。
従来のウェブ冷却法を示したものである。
仝hウエヅlはガイド30−ル、2によh隔オ証1イ解
槽3に導入され続いてガイドロールμ・j′により陰極
電解槽6に導入され、ガイドロール7により槽外に移送
される。r・り・10−//は電極であり、ドラムロー
ラ/2・13に巻回して走行する金属ウェブlに対向1
てそれぞれ電解槽3・6内に配置される。
槽3に導入され続いてガイドロールμ・j′により陰極
電解槽6に導入され、ガイドロール7により槽外に移送
される。r・り・10−//は電極であり、ドラムロー
ラ/2・13に巻回して走行する金属ウェブlに対向1
てそれぞれ電解槽3・6内に配置される。
又電解液は各電解槽の中央下の部分に配設された電解液
給液口/グ・/jよりポンプ/4・/7により給液され
電極と金属ウェブとの間隙を満しオーバーン0−口/l
−7F−20−21VCより槽外に排液され電解液槽コ
コに戻り循環される。
給液口/グ・/jよりポンプ/4・/7により給液され
電極と金属ウェブとの間隙を満しオーバーン0−口/l
−7F−20−21VCより槽外に排液され電解液槽コ
コに戻り循環される。
、23は電源であり一方の出力端子電極g−2に、他方
の出力端子を電極10−//に接続し電圧印加する。こ
のようにする仁とKより金属ウェブlに連続的に電解処
理を施すことができる。陽極電解槽3と陰極電解槽6の
間に金属ウェブが槽外に出て空中に露出する種間部分が
ある。Dsが高い場合にこの部分でのジュール熱による
加熱が生じ金属ウェブlに熱歪みが生じる。この対策と
しては従来は種間部分の長さを出来るだけ短くしたり又
スプレーノズル、24cmコ!により電解液を金属ウェ
ブに吹きつけ冷却する方法が行われている。
の出力端子を電極10−//に接続し電圧印加する。こ
のようにする仁とKより金属ウェブlに連続的に電解処
理を施すことができる。陽極電解槽3と陰極電解槽6の
間に金属ウェブが槽外に出て空中に露出する種間部分が
ある。Dsが高い場合にこの部分でのジュール熱による
加熱が生じ金属ウェブlに熱歪みが生じる。この対策と
しては従来は種間部分の長さを出来るだけ短くしたり又
スプレーノズル、24cmコ!により電解液を金属ウェ
ブに吹きつけ冷却する方法が行われている。
Dsは通常10〜/θA/−mm2である。従来この種
間部分は金属ウェブ/が水平に移送され、金属ウェブ表
面に流膜が生ぜず為に冷却効果が充分でなかった。本発
明はこの部分での冷却方法に関するものであり高電流密
度処理に於ても極めて安定的に電解処理可能な優れた冷
却方法を提供する。
間部分は金属ウェブ/が水平に移送され、金属ウェブ表
面に流膜が生ぜず為に冷却効果が充分でなかった。本発
明はこの部分での冷却方法に関するものであり高電流密
度処理に於ても極めて安定的に電解処理可能な優れた冷
却方法を提供する。
本発明方法の一実施例を示す第2図において、金属ウェ
ブ31はガイドロール32により陽極電解槽33に導入
され続いてガイドロールJ4’・3!により陰極電解槽
3tに導入され、ガイドロール37により槽外に移送さ
れる。3r・3り・≠0−4′/は電極であり、ドラム
ローラ11..2・≠3に巻回して走行する金属ウェブ
31に対向してそれぞれ電解槽33・3を内に配置され
る。又電解液は各電解槽の中央下の部分に配設された電
解液給液口弘弘・4A、1からポンプ≠t・≠7によす
給液され電極と金属ウェブとの間隙を満し、オーバーフ
ロー口4AIr−弘り・to−ziより槽外に排液され
成解液槽j2に戻り、再びポンプ≠t−弘7により循環
される。陽極電解槽33と陰極電解槽36との間にも金
属ウェブ3/が槽外に出て空中に露出する種間部分がち
り、本発明による方法では、ガイドロール3≠の位置を
ガイドロール3!よりも高くし種間部分で金属ウェブを
進行方向に100以上の下り勾配αをもって搬送させ、
かつ金属ウェブの上下両側に冷却スプレーノズルよ≠・
ZSを設置し送液ポンプj6により配管j7を通じて電
解液を金属ウェブ31に吹きつけ金属ウェブ3ノの表面
に流下液膜を形成して冷却を行うものである。スプレー
ノズルjlI−より吹きつけられた液は金属ウェブ31
の上面でウェブと併行流をなすため表面全体わたって均
一な強い液流を発生させる。又スプレーノズルjjによ
り金属ウェブ31に吹きつけられた液もそのほとんどが
金属ウェブ31の下面に付着した後同様に併行流の均一
な強い液流を発生させる。このことにより金属ウェブ表
面全面にわたってムラなく効率の良い冷却力可能となり
l) 3=/ 00〜/ j Oh/mrrL ”でも
安定的に電解処理することが可能である。勾付着が不充
分である。又金属ウェブの勾配を逆にした場合は、金属
ウェブ上下両面にて同様に液流を発生させることが出来
るが液は金属ウェブに対し、対向流で流れるため界面に
於て流れの乱れが生じ部分的に液流の弱い個所が生じそ
こで熱歪みが発生する。以上のように本発明の特徴は液
体給電による電解処理に於て種間部分で金属ウェブを進
行方向に700以上の下り勾配で搬送させかつ上下両面
をスプレーノズルにて電解液を吹きつけて冷却すること
である。
ブ31はガイドロール32により陽極電解槽33に導入
され続いてガイドロールJ4’・3!により陰極電解槽
3tに導入され、ガイドロール37により槽外に移送さ
れる。3r・3り・≠0−4′/は電極であり、ドラム
ローラ11..2・≠3に巻回して走行する金属ウェブ
31に対向してそれぞれ電解槽33・3を内に配置され
る。又電解液は各電解槽の中央下の部分に配設された電
解液給液口弘弘・4A、1からポンプ≠t・≠7によす
給液され電極と金属ウェブとの間隙を満し、オーバーフ
ロー口4AIr−弘り・to−ziより槽外に排液され
成解液槽j2に戻り、再びポンプ≠t−弘7により循環
される。陽極電解槽33と陰極電解槽36との間にも金
属ウェブ3/が槽外に出て空中に露出する種間部分がち
り、本発明による方法では、ガイドロール3≠の位置を
ガイドロール3!よりも高くし種間部分で金属ウェブを
進行方向に100以上の下り勾配αをもって搬送させ、
かつ金属ウェブの上下両側に冷却スプレーノズルよ≠・
ZSを設置し送液ポンプj6により配管j7を通じて電
解液を金属ウェブ31に吹きつけ金属ウェブ3ノの表面
に流下液膜を形成して冷却を行うものである。スプレー
ノズルjlI−より吹きつけられた液は金属ウェブ31
の上面でウェブと併行流をなすため表面全体わたって均
一な強い液流を発生させる。又スプレーノズルjjによ
り金属ウェブ31に吹きつけられた液もそのほとんどが
金属ウェブ31の下面に付着した後同様に併行流の均一
な強い液流を発生させる。このことにより金属ウェブ表
面全面にわたってムラなく効率の良い冷却力可能となり
l) 3=/ 00〜/ j Oh/mrrL ”でも
安定的に電解処理することが可能である。勾付着が不充
分である。又金属ウェブの勾配を逆にした場合は、金属
ウェブ上下両面にて同様に液流を発生させることが出来
るが液は金属ウェブに対し、対向流で流れるため界面に
於て流れの乱れが生じ部分的に液流の弱い個所が生じそ
こで熱歪みが発生する。以上のように本発明の特徴は液
体給電による電解処理に於て種間部分で金属ウェブを進
行方向に700以上の下り勾配で搬送させかつ上下両面
をスプレーノズルにて電解液を吹きつけて冷却すること
である。
本発明において、ウェブ表面に冷却液の流下液膜を形成
するには、実施例記載の如くスプレーノズルによる以外
に、ウェブの巾方向に延在するスリットを有するホッパ
ーや、カーテン液膜、エクストルージョンホッパー管種
々の実施態様があり得る。
するには、実施例記載の如くスプレーノズルによる以外
に、ウェブの巾方向に延在するスリットを有するホッパ
ーや、カーテン液膜、エクストルージョンホッパー管種
々の実施態様があり得る。
第1図は従来のウェブ冷却方法を模式的に示す図、第1
図は本発明に係るウェブ冷却力流を模式的に示す図であ
る。 /、3/・・・・・・金属ウェブ 12、/3.11.2、グ3・・・・・・電解槽2λ、
jコ・・・・・・′電解液槽 、23、!3・・・・・・電源 2≠、λz、j’A、jtj・・・・・・スプレーノズ
ル16.17、≠t1≠7、!t・・・・・・送液ポン
プ特許出願人 富士写真フィルム株式会社自発手続補正
書 特許庁長官殿 1、事件の表示 昭和sr年 特願第172g33号2
、発明の名称 ウェブ冷却方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 性 所 神奈川県南足柄市中沼210番地連絡先 〒1
06東3i(都港区西麻布2「目26番30号富士写真
フィルム株式会社東j;一本ネ」電話(406) 25
37 4、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 5、 補正の内容 (111311細書の「発明の詳細な説明」の欄の記載
を次の通り補正する。 (1)第3頁、第12行の 「出力端子」の後に 「を」 を挿入する。 (11) 第1頁、第3行の 「ro〜10A/龍2」を 「lO〜/θθA/朋2」 と訂正する。
図は本発明に係るウェブ冷却力流を模式的に示す図であ
る。 /、3/・・・・・・金属ウェブ 12、/3.11.2、グ3・・・・・・電解槽2λ、
jコ・・・・・・′電解液槽 、23、!3・・・・・・電源 2≠、λz、j’A、jtj・・・・・・スプレーノズ
ル16.17、≠t1≠7、!t・・・・・・送液ポン
プ特許出願人 富士写真フィルム株式会社自発手続補正
書 特許庁長官殿 1、事件の表示 昭和sr年 特願第172g33号2
、発明の名称 ウェブ冷却方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 性 所 神奈川県南足柄市中沼210番地連絡先 〒1
06東3i(都港区西麻布2「目26番30号富士写真
フィルム株式会社東j;一本ネ」電話(406) 25
37 4、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 5、 補正の内容 (111311細書の「発明の詳細な説明」の欄の記載
を次の通り補正する。 (1)第3頁、第12行の 「出力端子」の後に 「を」 を挿入する。 (11) 第1頁、第3行の 「ro〜10A/龍2」を 「lO〜/θθA/朋2」 と訂正する。
Claims (1)
- ウェブ表面に冷却液の流下液膜を形成することを特徴と
するウェブ冷却方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17283383A JPS6067698A (ja) | 1983-09-19 | 1983-09-19 | ウエブ冷却方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17283383A JPS6067698A (ja) | 1983-09-19 | 1983-09-19 | ウエブ冷却方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6067698A true JPS6067698A (ja) | 1985-04-18 |
Family
ID=15949192
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17283383A Pending JPS6067698A (ja) | 1983-09-19 | 1983-09-19 | ウエブ冷却方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6067698A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011202219A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 長尺導電性基板の電気めっき方法及びその装置、金属化ポリイミドフィルム及びその製造方法 |
| JP2011246754A (ja) * | 2010-05-26 | 2011-12-08 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 金属化樹脂フィルム基板の製造方法 |
| JP4905803B2 (ja) * | 2005-03-15 | 2012-03-28 | 富士フイルム株式会社 | めっき処理方法、および導電性膜の製造方法 |
| CN109338431A (zh) * | 2018-12-11 | 2019-02-15 | 深圳市华加日西林实业有限公司 | 直冷式微弧氧化电解液降温系统 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS551358A (en) * | 1978-06-20 | 1980-01-08 | Fujikura Ltd | Twooflyer type wire twisting apparatus |
-
1983
- 1983-09-19 JP JP17283383A patent/JPS6067698A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS551358A (en) * | 1978-06-20 | 1980-01-08 | Fujikura Ltd | Twooflyer type wire twisting apparatus |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4905803B2 (ja) * | 2005-03-15 | 2012-03-28 | 富士フイルム株式会社 | めっき処理方法、および導電性膜の製造方法 |
| US8177954B2 (en) | 2005-03-15 | 2012-05-15 | Fujifilm Corporation | Plating processing method, light-transmitting conductive film and electromagnetic wave-shielding film |
| JP2011202219A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 長尺導電性基板の電気めっき方法及びその装置、金属化ポリイミドフィルム及びその製造方法 |
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| CN109338431A (zh) * | 2018-12-11 | 2019-02-15 | 深圳市华加日西林实业有限公司 | 直冷式微弧氧化电解液降温系统 |
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