JPS606930B2 - エチレングリコ−ルの製造方法 - Google Patents

エチレングリコ−ルの製造方法

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JPS606930B2
JPS606930B2 JP57005586A JP558682A JPS606930B2 JP S606930 B2 JPS606930 B2 JP S606930B2 JP 57005586 A JP57005586 A JP 57005586A JP 558682 A JP558682 A JP 558682A JP S606930 B2 JPS606930 B2 JP S606930B2
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義弘 杉
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憲一郎 阪東
康雄 高味
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
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    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はエチレングリコールを効率的に製造する全く新
規な方法に関する。
さらに詳しくいえば、本発明は、光触媒反応によりメタ
ノールからエチレングリコールを効率良く製造する方法
に関するものである。エチレングリコールは、ポリエス
テルの原料、有機溶媒、不揮発性不凍剤、冷却剤などと
して工業的に重要かつ需要の多い基礎化学品である。
このエチレングリコールは現在エチレンを原料とする石
油化学法により製造されている。しかし、昨今の石油価
格の急激な高騰や石油資源の枯渇化により、この現在石
油から誘導されている化学製品を石油以外の原料から製
造する方法に転換することが急務となっている。石油以
外の原料からエチレングリコールを製造する方法として
は、メタンを主成分とする天然ガス、又は石油に比べて
多量に存在する石炭などから容易に入手しうる合成ガス
及びそれから誘導されるホルムアルデヒドなどの炭素数
1の化合物を原料とするエチレングリコールの製造方法
がこれまで多数提案されている。
例えば、ロジウム触媒の存在下に合成ガスから直接エチ
レングリコールを製造する方法(特開昭50一3211
7号、同51一32507号など)が開発されている。
しかし、この方法は50ぴ気圧以上の高圧下で行う必要
があり、工業的に実施するには困難が伴う。またホルマ
リン又はその誘導体を原料とする方法も多数提案されて
いる。例えばホルムアルデヒドを合成ガスと反応させエ
チレングリコールを得る方法(特関昭51−12890
3号、同53一53607号)が知られているがエチレ
ングリコールの選択率が低く、対ホルマリン収率が40
%以下にすぎない。さらにホルムアルデヒドの第二級ア
セタール−と合成ガスを反応させてエチレングリコール
モノェーテルとし、次いで加水分解によりエチレングリ
コールを得る方法(持関昭56一118026号)、ホ
ルムアルデヒドと一酸化炭素の共重合により得られる重
合体をアルコールで加溶媒分解し、グリコール酸ェステ
ルとし、これの水素化によりエチレングリコールを製造
する方法(特開昭54−106408号など)が知られ
ているが、これらの方法は高圧の、一酸化炭素又は合成
ガスの存在下で反応を行う必要があり、また、反応工程
数が多く、選択率が十分でないなど改良すべき点が多く
、工業的にに実施することは困難であった。一方、濃硫
酸中、銅カルボニルの存在下で常温、常圧でホルムアル
デヒドと一酸化炭素を反応させ、次いでメタノールで処
理してグリコール酸メチルとし、これを水素化しエチレ
ングリコールを得る方法もある(相馬芳枝、佐野寛、触
媒23 48(1981))が、この方法においても反
応工程数が多く、また多量の硫酸を使用するので、その
腐食性及び廃棄処理の面倒このため困難が伴う。一方、
メタノールを原料とするエチレングリコールの製造方法
も数少ないが提案されており、メタノールから誘導され
るホルムアルデヒドを原料とす方法よりは経済的に有利
となることが期待される。
このような方法としては、例えばメタノール譲導体のカ
ップリングによるエチレングリコールの製造法が知られ
ている。すなわち、メタノールの水酸基をトリアルキル
シリル基で保護し、その後有機過酸化物によるカップリ
ング反応で1,2−ビス(トリアルキルシロキシ)エタ
ンとし、次いでメタノーリシスによりエチレングリコー
ルを得る方法がある。しかし、この方法もやはり反応工
程数が多く、トリアルキルシリル基や有機過酸化物を使
用するなど複雑であり、工業的に実施する方法としては
まだ解決すべき問題が多い。本発明者らは、このような
従来知られているエチレングリコールの製造法の欠点、
問題点を克服するため種々検討を重ねた結果、常温、常
圧で特,定の触媒の存在下、メタノールに光照射を行う
ことにより、効率良く、一段反応で直接エチレングリコ
ールが得られることを見いだし、この知見に基づき本発
明をなすに至った。すなわち本発明は、ロジウム錆体及
びアセトンの存在下でメタノールに光照射することを特
徴とするエチレングリコールの製造方法を提供するもの
である。
本発明方法の反応は次式により表わされる。
光2CH30H−ーーーHOCH2CH20H+日2触
媒本発明方法においては、ロジウム鎖体を触媒として用
いる。
このロジウム鈴体とは、ロジウムに、配位子として、ホ
スフィン類のようなリン化合物、ハロゲン及び一酸化炭
素から選ばれた少な〈とも1種を配位させてなることを
特徴とする単核又は複核の錆体を意味し、具体例として
は、クロロトリストリフエニルホスフインロジウム、ブ
ロモトリストリフエニルホスフインロジウム、クロロカ
ルポニルビストリフエニルホスフインロジウム、1,5
−シクロオクタジエンビストリフエニルホスフインロジ
ウム(1)パークロレート、/ルボルナジエンビストリ
フエニルホスフインロジウム(1)テトラフルオロボレ
ート、トリカルボニルビス(アセタト)トリフエニルホ
スフインロジウムなどがあげられる。本発明方法の実施
に当っては初めからロジウム鍔体として反応系中に添加
しないで、直接、反応条件下でロジウム鈴体前駆体と配
位子(例えばトリフェニルホスフイン)とを混合するこ
とにより触媒活性種を発生させるようにしてもよい。こ
のようなロジウム鍔体前駆体を例示すると、ジクロロテ
トラカルボニルジロジウム、クロロビスシクロオクテン
ロジウム、ジクロロジノルボルナジエンジロジウムなど
がある。また、ロジウム錯体の配位子としてのホスフィ
ンとしては、トリフェニルホスフィンを代表的に例示し
たが、もちろんこれに限定されるものではなく、一般式
(式中、R,,R2及びR3は1価の脂胞族基又は芳香
族基をそれぞれ示す)で表わされるホスフィンが配位子
として利用できる。
上記ホスフィンにおいて、置換基R.,R2及びR3は
それぞれ異なっていても良いが、経済的な理由から同じ
であるのが好ましい。適当な脂肪族置換基としては、メ
チル、エチル、ブロピル、ブチル、オクチル、デ十シル
、8−フエニルエチル、シクロヘキシル、シクロオクチ
ル基などがあげられる。また、芳香族置換基としては、
トリル、キシリル、p−エチルフエニル、p−teれ−
ブチルフエニル、p−オクチルフエニル、p−メトキシ
フエニル、p−クロロフエニル、p−フルオロフエニル
、mートリフルオロメチルフェニル、2ーナフチル基な
どがあげられる。またホスフィン配位子として、一般式 式中R4,R5,R6及びR7は脂肪族又は芳香族基で
あり、nは1〜10の整数である)で表わされるジホス
フィンも本発明において有効である。
このジホスフインの例としては、ビス(ジフェニルホス
フイノ)メタン、1,2ービス(ジフエニルホスフイノ
)エタン、1,3ービス(ジフエニルホスフイ/)プロ
パン、1,4−ビス(ジフエニルホスフイノ)ブタン、
1,5ーピス(ジフヱニルホスフイノ)ペンタン、1,
6ーピス(ジフエニルホスフイノ)へキサン、1,4ー
ビス(ジシクロヘキシルホスフイノ)ブタン、1,4−
ビス(ジブチルホスフイノ)ブタンなどがあげられる。
以上例示した触媒は、反応条件下では、上記以外の異な
る活性種を同時に形成することもあるが、これらは本発
明の反応を損なうものではない。
このロジウム鍔体の使用量は特に制限はないが5.0X
IO−2〜1×10‐3mmol/molーメタノール
の範囲が好ましい。
この量が少なすぎると、反応速度が不十分であり、また
多すぎてもその効果は十分ではない。次に本発明におい
ては、アセトンの共存下に反応を行うことが必要である
が、このアセトンの添加量は1.4×10‐4mol〜
lmol/molメタノールの範囲が好ましい。
本発明における光照射の照射光としては、紫外光から可
視光に至る広範囲の白色光又は単色光が使用可能である
が、好ましくは、水銀灯から発生する白色光を用いる。
光照射時間は、光源の強さ、照射距離などの照射条件や
反応容量などによって異なるが通常1〜2鮒時間の範囲
である。本発明においては、通常常温で反応が行われる
が、必要に応じて加熱、冷却してもよく、その温度範囲
は、一970〜65qo、好ましくは0〜60ooの範
囲である。
この場合温度が低すぎると反応速度が不十分であり、ま
た、高くなりすぎるとメタノールの沸点を越えるので望
ましくない。このように本発明方法によれば、ロジウム
鍵体及びアセトンの存在下でメタノールに光照射するこ
とにより、常温、常圧下でメタノールから容易に、好収
率で選択性良くエチレングリコールを製造でき、反応が
一段反応で進行し複雑ではないので、全く新しい反応シ
ステムに基づくエチレングリコールの製造方法を提供す
るものとしてその意義は大きい。
次に本発明を実施例及び比較例に基づきさらに詳細に説
明する。
実施例 1 ガラス製450の【容の石英ジャケット付内部照射型光
反容器にメタノール302夕(9.4mol)、アセト
ン15.8夕(0.27mol)及びクロロトリストリ
フェニルホスフインロジウム(RhC1(Pph3)3
)40の9(0.041mmol)を仕込み、30分間
かきまぜた。
次に反応溶液をかきまぜながら、100Wの高圧水銀灯
より光照射を開始し、6時間照射して反応を行わせた。
反応温度は垣温槽により220に保持した。反応終了後
、反応溶液を分析した結果、エチレングリコールが3.
7夕(6位hmol)生成していることがわかった。実
施例 2 実施例1と同じ反応容器を用い、メタノール302夕(
9.4mol)、アセトン15.8夕(0.27mol
)及びクロロトリストリフエニルホスフインロジウム1
00雌(0.1mmol)を仕込み、1時間かきまぜた
次に反応溶液をかきまぜながら、100Wの高圧水銀灯
により照射を開始し、1虫時間30分光照射下で反応を
行った。その間反応温度を陣温槽により220に保持し
た。反応終了後生成物を取り出して分析した結果、エチ
レングリコール6.6夕(108hmol)が生成して
いることがわかった。実施例 3実施例1と同機の反応
容器を用い、これにメタノール238.2夕(7.4m
ol)、アセトン79.2夕(1.4mol)及びクロ
ロトリストリフェニルホスフインロジウム40の9(0
.041mmol)を仕込み、1時間かきまぜた。
次に反応溶液をかきまぜながら100Wの高圧水銀灯に
より光照射を開始し、6時間照射して反応を行わせた。
反応温度は恒温槽により220に保持した。反応終了後
生成物を分析した結果エチレングリコール4.7夕(7
8hmol)が生成していることがわかった。実施例
4 実施例1と同様の反応容器を用い、これにメタノール3
02夕(9.4mol)、アセトン15.8夕(0.2
7mol)及びクロロカルボニルビストリフェニルホス
インロジウム(RhC○CI(Pph3)2)74.7
雌(0.1mmol)を仕込み1時間かきまぜた。
次に反応溶液をかきまぜながら100Wの高圧水銀灯に
より照射を開始し、1筋時間光照射下に反応を行わせた
。その間の反応温度は恒温槽により2が0に保持した。
反応終了後生成物を分析した結果、エチレングリコール
4.15夕(67mmol)が生成したことがわかった
。比較例 1 実施例1と同様の反応容器を用い、これにメタノール3
18夕(9.9hol)及びクロロトリフェニルホスフ
インロジウム40の9(0.041mmol)を仕込み
1時間かきまぜた。
次に反応溶液をかきまぜながら100Wの高圧水銀灯に
より照射を開始し、照射下に6時間反応を行わせた。反
応温度は220‘こ保持した。反応終了後反応溶液を分
析したがェチレングIJコールの生成は認められなかっ
た。比較例 2比較例1と同様の反応容器を用い、これ
にメタノール320夕(9.ghol)、アセトン16
.0夕(2.8×10‐lmol)及びクロロトリスト
リフェニルホスフィンロジウム40雌(0.041mm
ol)を仕込み光照射を行わずに(すなわち脂反応で)
6時間反応溶液をかきまぜた。
反応温度は2ぞCに保った。反応終了後生成物の分析を
行ったが、エチレングリコールの生成は認められなかっ
た。実施例1〜4及び比較例1〜2の反応条件及び結果
をまとめて次表に示す。
(反応温度 全て22℃)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ロジウム錯体及びアセトンの存在下で、メタノール
    に光照射することを特徴とするエチレングリコールの製
    造方法。
JP57005586A 1982-01-18 1982-01-18 エチレングリコ−ルの製造方法 Expired JPS606930B2 (ja)

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JPS58124724A JPS58124724A (ja) 1983-07-25
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