JPS6071535A - 光フアイバ母材の製造方法 - Google Patents
光フアイバ母材の製造方法Info
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- JPS6071535A JPS6071535A JP17766783A JP17766783A JPS6071535A JP S6071535 A JPS6071535 A JP S6071535A JP 17766783 A JP17766783 A JP 17766783A JP 17766783 A JP17766783 A JP 17766783A JP S6071535 A JPS6071535 A JP S6071535A
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- layer
- optical fiber
- gas
- porous
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
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- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は通信、イメージガイド、ライトガイドなどに用
いられる光ファイバの母材を製造する方法に関し、さら
に詳しくは海底ケーブル用のごとく高強度が要求される
光ファイバの母材を製造する方法に関する。
いられる光ファイバの母材を製造する方法に関し、さら
に詳しくは海底ケーブル用のごとく高強度が要求される
光ファイバの母材を製造する方法に関する。
一般に、光ファイバは強度が大であること、しかも長期
にわたる信頼性の高いことなどが要求されている。
にわたる信頼性の高いことなどが要求されている。
光ファイバの強度を保証するテストとしてはスクリーニ
ング法が実施されており、引張力を基準とするこのスク
リーニング法において例えば０５％伸びを保証するもの
であるとき、光フアイバ全長にわたって０．５％の伸び
を与えても光ファイバが破断しないことを示している。
ング法が実施されており、引張力を基準とするこのスク
リーニング法において例えば０５％伸びを保証するもの
であるとき、光フアイバ全長にわたって０．５％の伸び
を与えても光ファイバが破断しないことを示している。
従来、光ファイバの強度、長期にわたる信頼性を満足さ
せるべき種々の工夫がこれの製造段階においてすでにな
されており、例えば紡糸前の光フアイバ母材を火炎研磨
、弗酸洗浄してその母材の表面傷を消去するとか、ある
いは強化ガラスとなるＴ ｉ ０２ Ｓ ｉ Ｏｔ系の
ガラス層によりその母材外周を被覆するといった手段が
講じられている。
せるべき種々の工夫がこれの製造段階においてすでにな
されており、例えば紡糸前の光フアイバ母材を火炎研磨
、弗酸洗浄してその母材の表面傷を消去するとか、ある
いは強化ガラスとなるＴ ｉ ０２ Ｓ ｉ Ｏｔ系の
ガラス層によりその母材外周を被覆するといった手段が
講じられている。
これらの手段において、表面傷を消去することはたしか
に有効であるが、当該手段は光ファイバの強度低下を阻
止するにとどまり、本質的に光ファイバの強度を向上さ
せたことにはならない。
に有効であるが、当該手段は光ファイバの強度低下を阻
止するにとどまり、本質的に光ファイバの強度を向上さ
せたことにはならない。
一方、ＴｉＯ２−８ｉ０２系のガラスによる被覆では、
表面の耐食性が低下すること、コスト増を来すことなど
に問題があり、しかも昭和５８年度電子通信学会総合全
国大会Ｎ［Ｌｌ １１８では、Ｔ ｉ Ｏ２ドープト石
英を表面に有する光ファイバの破断応力は小さいと報告
されている。
表面の耐食性が低下すること、コスト増を来すことなど
に問題があり、しかも昭和５８年度電子通信学会総合全
国大会Ｎ［Ｌｌ １１８では、Ｔ ｉ Ｏ２ドープト石
英を表面に有する光ファイバの破断応力は小さいと報告
されている。
さらに、かなりの実用化が進んでいる陸上ケーブル用光
ファイバでは、これに要求されるスクリーニング強度の
伸びが０５％程度であるのに対し、これから実用化され
ようとしている海底ケーブル用光ファイバの場合は、上
記伸びとして２〜３％のように桁違いに大きな値が要求
されており、したがって伸び０５％を口論んでいる既存
の各手段では、伸び２〜３％を満足させる光ファイバを
工業的レベルで製造すること本発明の目的は上記の問題
に対処すべく、高強度の光ファイバが得られる母材の製
造方法を提供することにある。
ファイバでは、これに要求されるスクリーニング強度の
伸びが０５％程度であるのに対し、これから実用化され
ようとしている海底ケーブル用光ファイバの場合は、上
記伸びとして２〜３％のように桁違いに大きな値が要求
されており、したがって伸び０５％を口論んでいる既存
の各手段では、伸び２〜３％を満足させる光ファイバを
工業的レベルで製造すること本発明の目的は上記の問題
に対処すべく、高強度の光ファイバが得られる母材の製
造方法を提供することにある。
本発明の特徴とするところは、少なくともコア用ガラス
とクラッド用ガラスとを備えたガラス棒の外周に、多孔
質ガラス層を堆積形成し、該多孔質ガラス層を脱水処理
することなく加熱により透明ガラス化することにある。
とクラッド用ガラスとを備えたガラス棒の外周に、多孔
質ガラス層を堆積形成し、該多孔質ガラス層を脱水処理
することなく加熱により透明ガラス化することにある。
以下、本発明の具体的実施例につき、図面を参照して説
明する。
明する。
第１図イ、口、ハは本発明方法により製造される母材の
断面形状をその工程ｊ＠に示したものである。
断面形状をその工程ｊ＠に示したものである。
第１図イのガラス棒１は石英系であり、コア用ガラス２
とクラッド用ガラス３とを備えている。
とクラッド用ガラス３とを備えている。
このガラス棒１は既知のＭＣＶＤ法、ＰＣＶＤ法、ＯＶ
Ｄ法、ＶＡＤ法など、適宜の手段を介してつくられ、ク
ラッド用ガラス３の外周に石英系のサポートノ―、ジャ
ケット層などを備えていることもある。
Ｄ法、ＶＡＤ法など、適宜の手段を介してつくられ、ク
ラッド用ガラス３の外周に石英系のサポートノ―、ジャ
ケット層などを備えていることもある。
また、ガラス棒１のコア用ガラス２、あるいはコア用ガ
ラス２とクラッド用ガラス３など、該ガラス棒１の要部
は上記各法により作製された合成ガラス製であるが、例
えばＭＣＶＤ法により石英管の外周にクラッド用ガラス
３、コア用ガラス２を堆積形成するとき、その石英管を
天然のものとすることがある。
ラス２とクラッド用ガラス３など、該ガラス棒１の要部
は上記各法により作製された合成ガラス製であるが、例
えばＭＣＶＤ法により石英管の外周にクラッド用ガラス
３、コア用ガラス２を堆積形成するとき、その石英管を
天然のものとすることがある。
さらに上記ガラス棒１はつぎの堆積工程へうつる前、表
面傷などを消去すべき処理を受けるのがよく、この前処
理としてはガラス棒１を弗酸洗浄し、水洗した後、その
外周面を石英製バーナにて火炎研磨するといった手段が
採用される。
面傷などを消去すべき処理を受けるのがよく、この前処
理としてはガラス棒１を弗酸洗浄し、水洗した後、その
外周面を石英製バーナにて火炎研磨するといった手段が
採用される。
この際の洗浄用水、火炎研磨雰囲気は不純物、ダスト（
夾雑物）などがきわめて少ない清浄な状態に保持される
。
夾雑物）などがきわめて少ない清浄な状態に保持される
。
第１図口は上記ガラス棒１の外周に多孔質ガラス層４が
堆積形成された状態を示している。
堆積形成された状態を示している。
多孔質ガラス層４は火炎加水分解法等により生成された
ガラス微粒子（高純度Ｓｉｏ２の粉末）が所定の形状に
堆積形成されたものであり、当該多孔質ガラス層４は、
第２図のＯＶＤ法とが、第３図のＶＡＤ法などを介して
形成される。
ガラス微粒子（高純度Ｓｉｏ２の粉末）が所定の形状に
堆積形成されたものであり、当該多孔質ガラス層４は、
第２図のＯＶＤ法とが、第３図のＶＡＤ法などを介して
形成される。
第２図において、１１は排気管１２とガス導入管１３と
を備えた容器、１４は多重管構造のバーナ、１６は図示
しないガラス旋盤の回転自在なチャック、１６は上記バ
ーナ１４に接続されたガスシステムである。
を備えた容器、１４は多重管構造のバーナ、１６は図示
しないガラス旋盤の回転自在なチャック、１６は上記バ
ーナ１４に接続されたガスシステムである。
第２図のＯＶＤ法によりガラス棒１の外周に多孔質ガラ
ス層４を堆積形成するときは、ガラス棒１をチャック１
５により保持して回転させ、該ガラス棒１の長手方向に
沿って往復動するバーナ１４には、ガスシステム１６か
ら原料ガス（Ｓ ｉ ＣＡｌ）、燃熱カス（Ｈ２）、支
燃ガス（ｏＪ 緩衝力ｙ。
ス層４を堆積形成するときは、ガラス棒１をチャック１
５により保持して回転させ、該ガラス棒１の長手方向に
沿って往復動するバーナ１４には、ガスシステム１６か
ら原料ガス（Ｓ ｉ ＣＡｌ）、燃熱カス（Ｈ２）、支
燃ガス（ｏＪ 緩衝力ｙ。
（不活性ガス）などを供給し、これら各ガスによる火炎
加水分解反応により生成したガラス微粒子をガラス棒１
の外周に堆積させ、多孔質ガラス層４を形成する。
加水分解反応により生成したガラス微粒子をガラス棒１
の外周に堆積させ、多孔質ガラス層４を形成する。
この際、容器１１内は排気管１２を介して排気されると
ともにガス導入管１３からの雰囲気ガスが供給される。
ともにガス導入管１３からの雰囲気ガスが供給される。
雰囲気ガスとしてはフィルタにより濾過された清浄空気
、Ａｒ％Ｈｅ ｓ Ｎ＊などの不活性ガスなどが用いら
れる。
、Ａｒ％Ｈｅ ｓ Ｎ＊などの不活性ガスなどが用いら
れる。
上記のようにしてガラス棒１の外周に多孔質ガラス層４
を形成するとき、その堆積雰囲気中のダスト濃度をつぎ
のように設定するのがよい。
を形成するとき、その堆積雰囲気中のダスト濃度をつぎ
のように設定するのがよい。
すなわち粒径０．３μｍ以上のダスト（不純物、夾雑物
などをいう）が１ｔあたり１０００個以下、より好まし
くは１ｔあたり２０〜１００個程度となるような清浄雰
囲気に保持するのがよく、こうすること幌より後述の高
強度ガラス層がより得やすくなる。
などをいう）が１ｔあたり１０００個以下、より好まし
くは１ｔあたり２０〜１００個程度となるような清浄雰
囲気に保持するのがよく、こうすること幌より後述の高
強度ガラス層がより得やすくなる。
これの具体的手段としては、例えばガス導入管１３を介
して容器１１内へ外気（粒径０．３μｍ以上のダス）１
６０００個／ｌ’）を導入するとき、前記のごとくその
外気をフィルタ（濾過孔径０．３μｍ以下）に通せばよ
い。
して容器１１内へ外気（粒径０．３μｍ以上のダス）１
６０００個／ｌ’）を導入するとき、前記のごとくその
外気をフィルタ（濾過孔径０．３μｍ以下）に通せばよ
い。
一方、第３図のＶＡＤ法によりガラス棒１の外周に多孔
質ガラス層４を形成するときはつぎの要領で行なうこと
となる。
質ガラス層４を形成するときはつぎの要領で行なうこと
となる。
まず、各部の構成から略述すると、第３図において、２
１は排気管２２とガス導入口２３とを有するペルジャー
、２４は噴射口がペルジャー２１内に挿入された多重管
構造のバーナ（前記バーナ１４と同じ）、２６は下端が
ペルジャー２１内に挿入された引上棒である。
１は排気管２２とガス導入口２３とを有するペルジャー
、２４は噴射口がペルジャー２１内に挿入された多重管
構造のバーナ（前記バーナ１４と同じ）、２６は下端が
ペルジャー２１内に挿入された引上棒である。
上記ペルジャー２１内にはガス導入口２３から雰囲気ガ
スが導入されるようになっており、その排気管２２には
調節弁２６、吸気ポンプ２７を備えた排気系２８が接続
され、この排気系２８を介してペルジャー２１内が排気
されるようになっている。
スが導入されるようになっており、その排気管２２には
調節弁２６、吸気ポンプ２７を備えた排気系２８が接続
され、この排気系２８を介してペルジャー２１内が排気
されるようになっている。
バーナ２４には前記と同じ（各種ガスを供給するための
ガスシステム２９が接続され、引上。
ガスシステム２９が接続され、引上。
棒２６はその上端に備えられた回転機３０ ｓ引上機構
３１により回転ならびに引上げられるようになっている
。
３１により回転ならびに引上げられるようになっている
。
第３図のＶＡＤ法によりガラス棒１の外周に多孔質ガラ
ス層４を形成するときは、ガラス棒１を石英製引上棒２
６により保持してこれをペルジャー２１内に内挿し、回
転機３０にて引上棒２６を回転させることによりガラス
棒１を回転状態とする。
ス層４を形成するときは、ガラス棒１を石英製引上棒２
６により保持してこれをペルジャー２１内に内挿し、回
転機３０にて引上棒２６を回転させることによりガラス
棒１を回転状態とする。
一方、バーナ２４には前記と同じくガスシステム２９か
ら原料ガス、燃焼ガス、支燃ガス、緩衝ガスなどを供給
し、これら各ガスによる火炎加水分解反応により生成し
たガラス微粒子をガラス棒１の外周に堆積形成するが、
この際の堆積時、ガラス微粒子はガラス棒外周の上端か
ら下端に向は連続的に堆積されることとなり、そのため
ガラス棒１は引上棒２５の引上機構３１を介して所定速
度で引き上げられ、かくてガラス棒１の外周長手方向に
は前記と同じく多孔質ガラス層４が形成される。
ら原料ガス、燃焼ガス、支燃ガス、緩衝ガスなどを供給
し、これら各ガスによる火炎加水分解反応により生成し
たガラス微粒子をガラス棒１の外周に堆積形成するが、
この際の堆積時、ガラス微粒子はガラス棒外周の上端か
ら下端に向は連続的に堆積されることとなり、そのため
ガラス棒１は引上棒２５の引上機構３１を介して所定速
度で引き上げられ、かくてガラス棒１の外周長手方向に
は前記と同じく多孔質ガラス層４が形成される。
第３図のＶＡＤ法でも、ペルジャー２１内は排気管２２
を介して排気され、ガス導入口２３より雰囲気ガスが供
給される。
を介して排気され、ガス導入口２３より雰囲気ガスが供
給される。
この際、堆積雰囲気中のダスト濃度は前述したと同様の
手段により前述と同程度に保持される。
手段により前述と同程度に保持される。
なお、第２図、第３図の手段によりガラス棒１の外周に
多孔質ガラス層４を形成するとき、バーナ１４．２４へ
供給する各ガスは、酸素に代え空気（例えば清浄空気）
としたり、水素′に代え炭化水素としたり、５ｉＣ２４
に代えＳ ｉ （ＯＣ２Ｈ６）４のごとき有機化合物と
することがある。
多孔質ガラス層４を形成するとき、バーナ１４．２４へ
供給する各ガスは、酸素に代え空気（例えば清浄空気）
としたり、水素′に代え炭化水素としたり、５ｉＣ２４
に代えＳ ｉ （ＯＣ２Ｈ６）４のごとき有機化合物と
することがある。
また、多孔質ガラス層４はこれを透明ガラス化したとき
の層さが１〜３ｍｍ程度となるように堆積させれば充分
である。
の層さが１〜３ｍｍ程度となるように堆積させれば充分
である。
この除、Ｏ，３〜１．０ ｆ／−程度のガラス微粒子堆
積速度で堆積させるのがよく、その速度が２ｆ／ａｍ
以上となると、気泡が混入しやすくなるので好ましくな
い。
積速度で堆積させるのがよく、その速度が２ｆ／ａｍ
以上となると、気泡が混入しやすくなるので好ましくな
い。
さらに第２図のＯＶＤ法などで多孔質ガラス層４を形成
するとき、１層あたりの堆積厚さは透明ガラス化後にお
いて３０〜１００μｍ程度となるように設定するのが遥
当である。
するとき、１層あたりの堆積厚さは透明ガラス化後にお
いて３０〜１００μｍ程度となるように設定するのが遥
当である。
第１図ハは上記のようにしてガラス棒１の外周に形成さ
れた多孔質ガラス層４を加熱により透明ガラス化した状
態を示し、図中、６がその透明ガラス層である。
れた多孔質ガラス層４を加熱により透明ガラス化した状
態を示し、図中、６がその透明ガラス層である。
この際の透明ガラス化は１３００〜１６００℃の加熱温
度にて行なわれる。
度にて行なわれる。
上記透明ガラス化のための雰囲気はＨｅにより形成する
のが最もよ＜、Ｏｔ２は混入させない方がよい。
のが最もよ＜、Ｏｔ２は混入させない方がよい。
通常、多孔質ガラス層を透明ガラス化するとき、ＯＨな
どの不純物を除去すべく塩素雰囲気にてその多孔質ガラ
ス層が加熱されるが、脱水処理と称する塩素雰囲気中で
の加熱では高強度の透明ガラス層が得られないのでよく
ない。
どの不純物を除去すべく塩素雰囲気にてその多孔質ガラ
ス層が加熱されるが、脱水処理と称する塩素雰囲気中で
の加熱では高強度の透明ガラス層が得られないのでよく
ない。
Ｈｅにより透明ガラス化雰囲気を形成するとき、そのＨ
ｅ濃度は７０ｖｏｔ％以上が適している。
ｅ濃度は７０ｖｏｔ％以上が適している。
つぎに本発明の具体例、比較例について説明する。
具体例
工程１ａ
ＶＡＤ法によりガラス棒１をつくるとき、１本のコア用
バーナと、２本のクラッド用バーナとを用い、コア用多
孔質ガラス層がＳ ｉ ０２− Ｇ ｅ ０２、クラッ
ド用多孔質ガラス層がＳｉＯ２となる多孔質ガラス棒を
形成し、これをヘリウムと塩素とを含有する雰囲気中に
て加熱し、透明ガラス化した。
バーナと、２本のクラッド用バーナとを用い、コア用多
孔質ガラス層がＳ ｉ ０２− Ｇ ｅ ０２、クラッ
ド用多孔質ガラス層がＳｉＯ２となる多孔質ガラス棒を
形成し、これをヘリウムと塩素とを含有する雰囲気中に
て加熱し、透明ガラス化した。
上記透明ガラス化により得られた棒を加熱延伸により減
径して外径１８謔φのガラス棒１とした。
径して外径１８謔φのガラス棒１とした。
このガラス棒１はコア用ガラス２の比屈折率差（△）が
０８３％、該ガラス２の直径が約１．４閣φである。
０８３％、該ガラス２の直径が約１．４閣φである。
工程１ｂ
ＭＣＶＤ法によりガラス棒１をつくるとき、ヘラウス社
の光フアイバ用天然石英管（ＷＧ管）を用い、コア用ガ
ラスがＧｅ０ｔ−Ｓ １Ｏｔ（八−０，３％）、クラッ
ド用ガラスがＳ ｉ Ｏｔ−Ｆ −Ｂ！Ｏｓ（△＝θ％
）となる各ガラス層を石英管の内周に堆積形成し、これ
をコラプスしてガラス棒１を得た。
の光フアイバ用天然石英管（ＷＧ管）を用い、コア用ガ
ラスがＧｅ０ｔ−Ｓ １Ｏｔ（八−０，３％）、クラッ
ド用ガラスがＳ ｉ Ｏｔ−Ｆ −Ｂ！Ｏｓ（△＝θ％
）となる各ガラス層を石英管の内周に堆積形成し、これ
をコラプスしてガラス棒１を得た。
このガラス棒１は外径１８關φ、コア用ガラス２の直径
約１．４４ ｍｍφ、クラッド用ガラス３の外径８６朝
φであった。
約１．４４ ｍｍφ、クラッド用ガラス３の外径８６朝
φであった。
工程１１
上記工程ｊａｓ工程１ｂで得られた各ガラス棒１を弗酸
水溶液に浸漬して洗浄し、ついで純水にて水洗した後、
石英製バーナを介した酸水素炎によりこれらガラス棒１
の表面を強加熱して火炎研藤した。
水溶液に浸漬して洗浄し、ついで純水にて水洗した後、
石英製バーナを介した酸水素炎によりこれらガラス棒１
の表面を強加熱して火炎研藤した。
上記処理後、各ガラス棒１の外周には第２図のＯＶＤ法
により多孔質ガラス層４を堆積形成した。
により多孔質ガラス層４を堆積形成した。
この除用いたバーナ１４は外径１５．２−φの４重管構
造であり、これに供給した各ガスは、Ｈｔ＝ ６ ｔ／
配、０２＝ ４ Ｌ／” ％ Ａ ｒ ＝１ ｔ／”、
Ｓ ｉ Ｃ４４＝５００ｍＬ／ｍｎ （５００ｍｔ／ｍ
のＡｒを４０℃の５ｉＣｊ４に通して蒸発同伴させた量
）とした。
造であり、これに供給した各ガスは、Ｈｔ＝ ６ ｔ／
配、０２＝ ４ Ｌ／” ％ Ａ ｒ ＝１ ｔ／”、
Ｓ ｉ Ｃ４４＝５００ｍＬ／ｍｎ （５００ｍｔ／ｍ
のＡｒを４０℃の５ｉＣｊ４に通して蒸発同伴させた量
）とした。
さらに上記バーナ１４を介して生成したガラス微粒子を
ガラス棒１の外周に堆積形成するとき、該ガラス棒１を
６０ ｒｐ、ｍで回転させ、バーナ１４は６０ ｔｔａ
ｎ／ｍで移動させ、その堆積移動回数を３０回とした。
ガラス棒１の外周に堆積形成するとき、該ガラス棒１を
６０ ｒｐ、ｍで回転させ、バーナ１４は６０ ｔｔａ
ｎ／ｍで移動させ、その堆積移動回数を３０回とした。
工程１１１ａ
上記多孔質ガラス層４が形成された後の各ガラス棒１を
、２５ ｔ／ａｍのＨｅが流れる１３６０℃の清浄な炉
中に７ｍ／ｍＩの移動速度で挿入し、透明ガラス化した
。
、２５ ｔ／ａｍのＨｅが流れる１３６０℃の清浄な炉
中に７ｍ／ｍＩの移動速度で挿入し、透明ガラス化した
。
工程１１１ｂ
上記多孔質ガラス層４が形成された後の各ガラス棒１を
、２５ｔ／−のＨｅ １１ ｔ／ ” （’） Ｏｔ、
０１ｔ／繻のＳ ＯＣｔ！が流れる１３８０℃の炉中に
７ ｗａ／ａ’＋の移動速度で挿入し、透明ガラス化し
た。
、２５ｔ／−のＨｅ １１ ｔ／ ” （’） Ｏｔ、
０１ｔ／繻のＳ ＯＣｔ！が流れる１３８０℃の炉中に
７ ｗａ／ａ’＋の移動速度で挿入し、透明ガラス化し
た。
これらの工程を経て得られた光フアイバ母材の外径は２
０簡φである。
０簡φである。
工程１ｖ
上記により得られた各光フアイバ母材を通常の紡糸手段
（加熱延伸）により線引きして外径１２５μｍφの光フ
ァイバとした。
（加熱延伸）により線引きして外径１２５μｍφの光フ
ァイバとした。
この隙の線引き条件は引取速度４０ ｍ７ｗｍ 、引取
張力１０ｒであり、さらに紡糸直後の光フアイバ外周に
は、その紡糸工程とタンデムに結合、された被覆工程に
より紫外線硬化性樹脂製の被覆層を外径４００μｍφと
なるよう形成した。
張力１０ｒであり、さらに紡糸直後の光フアイバ外周に
は、その紡糸工程とタンデムに結合、された被覆工程に
より紫外線硬化性樹脂製の被覆層を外径４００μｍφと
なるよう形成した。
比較例
前述した工程１ａｓｉｂで得られたガラス棒を光フアイ
バ母材とし、これらを前記工程１ｖと同じ手段で紡糸な
らびに被覆してそれぞれ被覆光ファイバを得た。
バ母材とし、これらを前記工程１ｖと同じ手段で紡糸な
らびに被覆してそれぞれ被覆光ファイバを得た。
上記各側により得られた被覆光ファイバに伸ヒ２，２％
に相当する荷重をかけ、スクリーニング時間Ｉ Ｓｅ（
：としてスクリーニングテストした。
に相当する荷重をかけ、スクリーニング時間Ｉ Ｓｅ（
：としてスクリーニングテストした。
この際の平均生存長を次表に示す。
上記表の結果で明らかなように、本発明の各具体例では
ガラス棒１の外周に所定の層４を形成していたことによ
り光ファイバの高強度が確保できたが、こうした層のな
い比較例では光ファイバの強度が従来レベルにとどまっ
ている。
ガラス棒１の外周に所定の層４を形成していたことによ
り光ファイバの高強度が確保できたが、こうした層のな
い比較例では光ファイバの強度が従来レベルにとどまっ
ている。
なお、上記工程１１での多孔質ガラス層４の堆積形成は
ダスト濃度２００〜１００個／ｌの範囲内で行なわれた
が、これをダスト濃度１６０００個／ｌ の外気とした
とき、事後の透明ガラス化において透明ガラス層５に１
０個以上／母村長さ１５０〜２００簡の気泡が発生した
。
ダスト濃度２００〜１００個／ｌの範囲内で行なわれた
が、これをダスト濃度１６０００個／ｌ の外気とした
とき、事後の透明ガラス化において透明ガラス層５に１
０個以上／母村長さ１５０〜２００簡の気泡が発生した
。
また、工程：ｔｉ ａ ｓ ｆ：： ｂにおいて炉温か
１６００℃を越えたとき、これも透明ガラス層６中に強
度低下の原因となる発泡が生じた。
１６００℃を越えたとき、これも透明ガラス層６中に強
度低下の原因となる発泡が生じた。
以上説明した通り、本発明方法によるときは、高強度の
光ファイバが得られる母材を製造することができる。
光ファイバが得られる母材を製造することができる。
第１図は本発明方法により製造される光フアイバ母材を
その工程順に示した断面図、第２図、第３図は本発明方
法の要部を例示した説明図である。 １・・・・・ガラス棒 ２・・・・・コア用ガラス ３・・・・・クラッド用ガラス ４・・・・・多孔質ガラス層 ６ｅ・・・・透明ガラス層 ２４・・・・・多孔質ガラスト形成用のバーナ図面の浄
書（内容に変更ｔｔ Ｌ ） 第１図 ８３ 図 手続補正書０，５゜ １、事件の表示 特願昭５８−１７７６６７２、発明の
名称 光フアイバ母材の製造方法３、補正をする者 ４、後代 理 人 〒１００ ６、補〒「の対象 明細書及び図面 ７、補正の内容 別紙の通りタイプ浄書した明細書全文（内容に変更なし
）およびトレースした図面（内容に変更なし）を提出し
ます。 以 上
その工程順に示した断面図、第２図、第３図は本発明方
法の要部を例示した説明図である。 １・・・・・ガラス棒 ２・・・・・コア用ガラス ３・・・・・クラッド用ガラス ４・・・・・多孔質ガラス層 ６ｅ・・・・透明ガラス層 ２４・・・・・多孔質ガラスト形成用のバーナ図面の浄
書（内容に変更ｔｔ Ｌ ） 第１図 ８３ 図 手続補正書０，５゜ １、事件の表示 特願昭５８−１７７６６７２、発明の
名称 光フアイバ母材の製造方法３、補正をする者 ４、後代 理 人 〒１００ ６、補〒「の対象 明細書及び図面 ７、補正の内容 別紙の通りタイプ浄書した明細書全文（内容に変更なし
）およびトレースした図面（内容に変更なし）を提出し
ます。 以 上
Claims (3)
- （１）少すくともコア用ガラスとクラッド用力゛ラスと
を備えたガラス棒の外周に、多孔質ガラス層を堆積形成
し、該多孔質ガラス層を脱水処理することなく加熱によ
り透明ガラス化する光フアイバ母材の製造方法。 - （２） 多孔質ガラス層を１３００〜１６００℃の加熱
温度にて透明ガラス化する特許請求の範囲第１項記載の
光フアイバ母材の製造方法。 - （３）多孔質ガラス層を堆積させる雰囲気は、０３μｍ
以上のダストが１ｔあたり１０００個以下となるダスト
濃度に保持されている特許請求の範囲第１項記載の光フ
フイ／く母材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17766783A JPS6071535A (ja) | 1983-09-26 | 1983-09-26 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17766783A JPS6071535A (ja) | 1983-09-26 | 1983-09-26 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6071535A true JPS6071535A (ja) | 1985-04-23 |
Family
ID=16034997
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17766783A Pending JPS6071535A (ja) | 1983-09-26 | 1983-09-26 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6071535A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10308541B2 (en) | 2014-11-13 | 2019-06-04 | Gerresheimer Glas Gmbh | Glass forming machine particle filter, a plunger unit, a blow head, a blow head support and a glass forming machine adapted to or comprising said filter |
-
1983
- 1983-09-26 JP JP17766783A patent/JPS6071535A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10308541B2 (en) | 2014-11-13 | 2019-06-04 | Gerresheimer Glas Gmbh | Glass forming machine particle filter, a plunger unit, a blow head, a blow head support and a glass forming machine adapted to or comprising said filter |
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