JPS6074263A - 多孔性基板の含浸液酸度調整方法 - Google Patents
多孔性基板の含浸液酸度調整方法Info
- Publication number
- JPS6074263A JPS6074263A JP58182557A JP18255783A JPS6074263A JP S6074263 A JPS6074263 A JP S6074263A JP 58182557 A JP58182557 A JP 58182557A JP 18255783 A JP18255783 A JP 18255783A JP S6074263 A JPS6074263 A JP S6074263A
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- Japan
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- impregnating
- sampling
- ladle
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
- H01M4/00—Electrodes
- H01M4/02—Electrodes composed of, or comprising, active material
- H01M4/24—Electrodes for alkaline accumulators
- H01M4/26—Processes of manufacture
- H01M4/28—Precipitating active material on the carrier
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/10—Energy storage using batteries
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- Electrochemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
- Control Of Non-Electrical Variables (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はアルカリ蓄電池等の多孔性極板製造時における
含浸液の酸度調整方法に関するものである。
含浸液の酸度調整方法に関するものである。
蓄電池極板の製造工程において、多孔性基板に活動物質
を滲み込ませる工程を含浸工程と言い、アルカリ蓄電池
極様においては焼結ニッケル板などの多孔性基板をニッ
ケルあるいはカドミウム塩の水溶液中に浸漬し、化学的
、電気的あるいは燃的処理を数回繰返して、所定量の水
酸化ニッケル（正極）あるいは水酸化カドミウム（負極
）を基板の気孔中に沈澱せしめている。
を滲み込ませる工程を含浸工程と言い、アルカリ蓄電池
極様においては焼結ニッケル板などの多孔性基板をニッ
ケルあるいはカドミウム塩の水溶液中に浸漬し、化学的
、電気的あるいは燃的処理を数回繰返して、所定量の水
酸化ニッケル（正極）あるいは水酸化カドミウム（負極
）を基板の気孔中に沈澱せしめている。
ごの含浸工程においては、ニッケルあるいはカドミウム
の硝酸塩水溶液などよりなる含浸液を母槽より含浸液中
間槽（以下単に中間槽と言う）に供給され、ここに貯溜
される。中間槽に貯溜されている含浸液は多孔性基板が
セットされた含浸槽へ供給され、所定時間合浸作深が行
なわれた後、再び中間層へ還流させるように構成されて
いる。
の硝酸塩水溶液などよりなる含浸液を母槽より含浸液中
間槽（以下単に中間槽と言う）に供給され、ここに貯溜
される。中間槽に貯溜されている含浸液は多孔性基板が
セットされた含浸槽へ供給され、所定時間合浸作深が行
なわれた後、再び中間層へ還流させるように構成されて
いる。
また含侵工程におけて、基板との反応により減少した含
浸液の酸濃度は一般に含浸作業が終了し含浸槽より中間
層へ戻された段階で調整される。
浸液の酸濃度は一般に含浸作業が終了し含浸槽より中間
層へ戻された段階で調整される。
従来、上記含浸工程において含浸液中の遊離酸の酸濃度
は手分析で検出され、中間槽内の含浸液量に応じて追加
すべき酸量を演算して、酸液（例えばＨＮＯ３）をメス
シリンダで軽量して中間槽内の含浸液に添加していたた
め、その分析に多大な時間を要し、濃度不良の発見とそ
れに伴なう化学物質の遊離酸濃度の調整が遅れ、大量の
不良極板を発生する恐れがあった。また、冬期時にはサ
ンプリング用のホールピペットの先端に数秒で結晶が生
じ、分析誤差を生じる原因になっていた。
は手分析で検出され、中間槽内の含浸液量に応じて追加
すべき酸量を演算して、酸液（例えばＨＮＯ３）をメス
シリンダで軽量して中間槽内の含浸液に添加していたた
め、その分析に多大な時間を要し、濃度不良の発見とそ
れに伴なう化学物質の遊離酸濃度の調整が遅れ、大量の
不良極板を発生する恐れがあった。また、冬期時にはサ
ンプリング用のホールピペットの先端に数秒で結晶が生
じ、分析誤差を生じる原因になっていた。
本発明は上記のごとき欠点を改善したもので、その要旨
は含浸液中間槽内の含浸液中に支持されたレイドルを複
数回上下に移動させ、レイドル内のサンプリング液を置
換させる工程、前記レイドルを前記中間槽より外部に引
出してサンプリングピュレットの先端を挿入し、該ピコ
レット内にサンブリング液を複数回吸入、排出した後所
定量を吸入する工程、前記ビュレット内のサンプリング
液を分析セルに注入しサンプリング液の酸度を滴定分析
する工程、前記滴定分析の結末と中間槽内の含浸液量よ
り酸液添加量を算出する工程、前記算出された添加量を
酸液タンクにり含浸液中間槽に添加する工程、を経るこ
とにより含浸液の酸濃度を調整することを特徴とするも
のである。
は含浸液中間槽内の含浸液中に支持されたレイドルを複
数回上下に移動させ、レイドル内のサンプリング液を置
換させる工程、前記レイドルを前記中間槽より外部に引
出してサンプリングピュレットの先端を挿入し、該ピコ
レット内にサンブリング液を複数回吸入、排出した後所
定量を吸入する工程、前記ビュレット内のサンプリング
液を分析セルに注入しサンプリング液の酸度を滴定分析
する工程、前記滴定分析の結末と中間槽内の含浸液量よ
り酸液添加量を算出する工程、前記算出された添加量を
酸液タンクにり含浸液中間槽に添加する工程、を経るこ
とにより含浸液の酸濃度を調整することを特徴とするも
のである。
以下、本発明の一実施例を図面を参照しつつ説明する。
図において１は中間槽で内部には含浸液が貯溜されてお
り、含浸槽（図示せず）へ含浸液を送るためのパイプ１
ａ、含浸液を撹拌するための撹拌器１ｂ、およびサンプ
ル取出口１ｃを備えている。２は硝酸ニッケル水溶液、
硝酸カドミウム水溶液などの含浸液の母液を中間槽に供
給するための母種、３は酸液タンク、３ａは所定量の酸
液を計量し、中間槽へ供給するための分注器である。４
は中間槽内の含浸液を分析するために掬い上げるレイド
ルで、昇降装置４ａより支持棒４ｂを介して中間槽のサ
ンプル取出口１ｃから含浸液中に吊下げられており、常
時は含浸液中に浸漬し、サンプリング時の液温低下によ
って結晶が析出し分析誤差が生じない様に保温されてい
る。更に、このレイドルは含浸液の一部をサンプリング
するとき、長期間の使用により中間槽内に蓄積された塵
埃などの浮遊物を掬い上げない様に第３図の如き構造に
作られている。第３図において、コップ状のレイドル本
体４１の上面は前記本体より大径で外周に垂下壁４３を
有する蓋４２により覆われており、前記垂下壁内側の蓋
下面と本体上端との接合部に液流通口４４が形成され、
また蓋の中央部には下端が本体内底面に近接して開口し
、上端は蓋４３の上面より突出させて開口した筒体４５
が設けられている。従って、該レイドルを含浸液中で上
下移動させることにより、液流通口４４と筒体４５の上
端より含浸液が流入出し、内部の含浸液を置換させるこ
とが出来る。５はレイドルより一定量の含浸液をサンプ
リングし、分析セルに注入するサンプリングビュレット
で、ビュレツトの先端はレイドルおよび分析セル内に下
降できるように垂直移動装置５ａに取付けられ、且つ該
垂直移動装置５ａはレイドル４と分析セル６の間を移動
出来るように油圧シリンダ等よりなる横方向移動装置５
ｂに取付けられている。分析セル６は第２図に示した如
く、底内に廃液を排出するためのパイプ６２を備えたガ
ラス製容器６１と撹拌器６３、ＰＨメータ６４を備えて
おり、前記パイプ６２は開閉弁６５および排出ポンプ６
６を介して廃液タンク（図示せず）に連絡されている。
り、含浸槽（図示せず）へ含浸液を送るためのパイプ１
ａ、含浸液を撹拌するための撹拌器１ｂ、およびサンプ
ル取出口１ｃを備えている。２は硝酸ニッケル水溶液、
硝酸カドミウム水溶液などの含浸液の母液を中間槽に供
給するための母種、３は酸液タンク、３ａは所定量の酸
液を計量し、中間槽へ供給するための分注器である。４
は中間槽内の含浸液を分析するために掬い上げるレイド
ルで、昇降装置４ａより支持棒４ｂを介して中間槽のサ
ンプル取出口１ｃから含浸液中に吊下げられており、常
時は含浸液中に浸漬し、サンプリング時の液温低下によ
って結晶が析出し分析誤差が生じない様に保温されてい
る。更に、このレイドルは含浸液の一部をサンプリング
するとき、長期間の使用により中間槽内に蓄積された塵
埃などの浮遊物を掬い上げない様に第３図の如き構造に
作られている。第３図において、コップ状のレイドル本
体４１の上面は前記本体より大径で外周に垂下壁４３を
有する蓋４２により覆われており、前記垂下壁内側の蓋
下面と本体上端との接合部に液流通口４４が形成され、
また蓋の中央部には下端が本体内底面に近接して開口し
、上端は蓋４３の上面より突出させて開口した筒体４５
が設けられている。従って、該レイドルを含浸液中で上
下移動させることにより、液流通口４４と筒体４５の上
端より含浸液が流入出し、内部の含浸液を置換させるこ
とが出来る。５はレイドルより一定量の含浸液をサンプ
リングし、分析セルに注入するサンプリングビュレット
で、ビュレツトの先端はレイドルおよび分析セル内に下
降できるように垂直移動装置５ａに取付けられ、且つ該
垂直移動装置５ａはレイドル４と分析セル６の間を移動
出来るように油圧シリンダ等よりなる横方向移動装置５
ｂに取付けられている。分析セル６は第２図に示した如
く、底内に廃液を排出するためのパイプ６２を備えたガ
ラス製容器６１と撹拌器６３、ＰＨメータ６４を備えて
おり、前記パイプ６２は開閉弁６５および排出ポンプ６
６を介して廃液タンク（図示せず）に連絡されている。
７は分析セル内のサンプル液を希釈し、また分析セルを
洗條するための精製水タンクで、ポンプ７ａを介して分
析セル６に供給される様になっている。
洗條するための精製水タンクで、ポンプ７ａを介して分
析セル６に供給される様になっている。
８は滴定ビュレットで、例えば０．１規定のＮａＣＯ液
を分析セル内のサンプル液に滴定し、サンプル液が所定
の値（たとえばＰＨ４）になるまでの量を計量して酸度
を検出する。９は予め設定されたプログラムに従って、
次に述べる工程を順次実行するため、上述した各機器に
動作指令を送る制御装置である。
を分析セル内のサンプル液に滴定し、サンプル液が所定
の値（たとえばＰＨ４）になるまでの量を計量して酸度
を検出する。９は予め設定されたプログラムに従って、
次に述べる工程を順次実行するため、上述した各機器に
動作指令を送る制御装置である。
上述した装置において、制御装置９が含浸槽からの指令
信号を受けると、先ず中間槽１内の含浸液量を調整する
ため、中間槽内に配置されている液面検出器（図示せず
）が動作し、液量が所定量になるように母槽２より母液
を補充した後、撹拌器１ｂを回転させ、中間槽内の含浸
液を一定時間撹拌し、液組成を均一にする。
信号を受けると、先ず中間槽１内の含浸液量を調整する
ため、中間槽内に配置されている液面検出器（図示せず
）が動作し、液量が所定量になるように母槽２より母液
を補充した後、撹拌器１ｂを回転させ、中間槽内の含浸
液を一定時間撹拌し、液組成を均一にする。
含浸液の酸濃度検出開始時には、サンプリングビュレッ
ト５は分析セル６上に停止しており、分析セル内には洗
條水が入っている状態にある。そこで先ず、開閉弁６５
を開さ、排出ポンプ６６を作動させて、セル内の洗條水
を排出する。次いで分析セル６に精製水タンク７より水
を送り込んで撹拌器６３を回し、分析セル６の内部とサ
ンプリングビュレット５を洗條（ビュレットのピストン
を動作させて水を吸入・排出させる）し、開閉弁６５聞
き、排出ポンプ６６を作動させてセル内のの洗浄水を排
出する。次いで分析セル内に希釈水として精製水タンク
７より精製水を所定量（例えば１００ｃｃ）注入して撹
拌器６３を回転させる。一方中間槽１ではレイドル４が
予め設定してあるリフレッシュ回数だけ上下運動を繰返
し、レイドル内の含浸液を置換した後、中間槽より含浸
液を汲み上げ外部へ引出される。この時サンプリングビ
ュレット５が分析セル６の位置からレイドル４の上部に
移動し、ビュレットの先端がレイドルの筒体４５内に下
降する。この状態でビュレット５内に複数回レイドル内
の含浸液を吸入・排出させ、ビュレットを含浸液と同一
酸度にし、結晶が析出しない様にすると共に、ビュレッ
トの洗浄時に付着残留した微量の水がサンプル液の酸濃
度に影響を与えない様にする。吸引・排出動作が終った
後、所定量のサンプル液を吸引し、ビュレットを引き上
げ、分析セル６上へ移動させると共にレイドル４を中間
槽内の含浸液中に下降復帰させる。分析セル４に移動し
たビュレットは、その先端が分析セル内に降下し、サン
プリング液を分析セル内に注入した後上昇する。注入さ
れたサンプリング液は分析セル内の希釈水により希釈さ
れ、撹拌器６３で撹拌しつつ、滴定ビュレット８から試
薬（例えば０．１規定のＮａＣＯ３）を滴下して滴定を
行ない、設定されたＰＨ値まで滴定すると、ＰＨメータ
６４によりこれを検出して滴定動作を終る。ここで開閉
弁６５および排出ポンプ６６を働かせて分析セル内の液
を廃液タンクに排出する。
ト５は分析セル６上に停止しており、分析セル内には洗
條水が入っている状態にある。そこで先ず、開閉弁６５
を開さ、排出ポンプ６６を作動させて、セル内の洗條水
を排出する。次いで分析セル６に精製水タンク７より水
を送り込んで撹拌器６３を回し、分析セル６の内部とサ
ンプリングビュレット５を洗條（ビュレットのピストン
を動作させて水を吸入・排出させる）し、開閉弁６５聞
き、排出ポンプ６６を作動させてセル内のの洗浄水を排
出する。次いで分析セル内に希釈水として精製水タンク
７より精製水を所定量（例えば１００ｃｃ）注入して撹
拌器６３を回転させる。一方中間槽１ではレイドル４が
予め設定してあるリフレッシュ回数だけ上下運動を繰返
し、レイドル内の含浸液を置換した後、中間槽より含浸
液を汲み上げ外部へ引出される。この時サンプリングビ
ュレット５が分析セル６の位置からレイドル４の上部に
移動し、ビュレットの先端がレイドルの筒体４５内に下
降する。この状態でビュレット５内に複数回レイドル内
の含浸液を吸入・排出させ、ビュレットを含浸液と同一
酸度にし、結晶が析出しない様にすると共に、ビュレッ
トの洗浄時に付着残留した微量の水がサンプル液の酸濃
度に影響を与えない様にする。吸引・排出動作が終った
後、所定量のサンプル液を吸引し、ビュレットを引き上
げ、分析セル６上へ移動させると共にレイドル４を中間
槽内の含浸液中に下降復帰させる。分析セル４に移動し
たビュレットは、その先端が分析セル内に降下し、サン
プリング液を分析セル内に注入した後上昇する。注入さ
れたサンプリング液は分析セル内の希釈水により希釈さ
れ、撹拌器６３で撹拌しつつ、滴定ビュレット８から試
薬（例えば０．１規定のＮａＣＯ３）を滴下して滴定を
行ない、設定されたＰＨ値まで滴定すると、ＰＨメータ
６４によりこれを検出して滴定動作を終る。ここで開閉
弁６５および排出ポンプ６６を働かせて分析セル内の液
を廃液タンクに排出する。
この様にして測定された試薬の滴定量から酸濃度を演算
し、含浸液の酸濃度設定値および中間槽内の液量によっ
て酸添加量を算出し、分注器３ａを動性させて酸液タン
ク３より酸液を中間槽内に添加する。その後、再度中間
槽ａの撹拌ポンプ１ｂを働かせて含浸液を撹拌した後、
上記と同一の工程を繰返して確認分析を行う。
し、含浸液の酸濃度設定値および中間槽内の液量によっ
て酸添加量を算出し、分注器３ａを動性させて酸液タン
ク３より酸液を中間槽内に添加する。その後、再度中間
槽ａの撹拌ポンプ１ｂを働かせて含浸液を撹拌した後、
上記と同一の工程を繰返して確認分析を行う。
以上述べた如く、本発明方法はアルカリ蓄電池等の多孔
性極板製造状不可欠である含浸液の酸濃度を正確かつ自
動的に調整する方法であり、極板製造工程の自動化が可
能になり、その効果は極めて大である。
性極板製造状不可欠である含浸液の酸濃度を正確かつ自
動的に調整する方法であり、極板製造工程の自動化が可
能になり、その効果は極めて大である。
尚、本発明は単に上記実施例に限定されるものではなく
、極板の製造において多孔性基板に活動物質を液状で充
填するものであれは、あらゆる種類の電池の極板に適用
可能である。
、極板の製造において多孔性基板に活動物質を液状で充
填するものであれは、あらゆる種類の電池の極板に適用
可能である。
第１図は本発明方法を説明するための装置の一例を示す
概略構成図、第２図は本発明方法において使用する、分
析セルを中心とした酸濃度検出機構を示すブロック図、
第３図は本発明に使用するレイドルの構造の一例を示す
断面図である。 １・・・・・・含浸液中間槽 ２・・・・・・母槽３・
・・・・・酸液タンク ４・・・・・・レイドル５・・
・・・・サンプリングビュレット６・・・・・・分析セ
ル 代理人 弁理士 鈴木稔
概略構成図、第２図は本発明方法において使用する、分
析セルを中心とした酸濃度検出機構を示すブロック図、
第３図は本発明に使用するレイドルの構造の一例を示す
断面図である。 １・・・・・・含浸液中間槽 ２・・・・・・母槽３・
・・・・・酸液タンク ４・・・・・・レイドル５・・
・・・・サンプリングビュレット６・・・・・・分析セ
ル 代理人 弁理士 鈴木稔
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）含浸液中間槽内の含浸液中に支持されたレイドルを
複数回上下に移動させ、レイドル内のサンブリング液を
置換させる工程、 前記レイドルを前記中間槽内の含浸液中より引出してサ
ンプリングピュレット先端を挿入し、該ピュレット内に
サンプリング液を複数回吸入、排出した後所定量を吸入
する工程、 前記ビュレット内のサンプリング液を分析セルに注入し
サンプリング液の酸濃度を滴定分析する工程、 前記滴定分分析の結果と中間槽内の含浸液量より酸液添
加量を算出する工程、 前記降出された酸液添加量に某ずさ酸液を酸液タンクよ
り中間槽に添加する工程、 よりなることを特徴どする多孔性基板の含浸液酸度調整
方法。 ２）レイドルがコップ状の本体と、該本体の上面を覆い
外周に本体の外周壁と間隔を持たせて重下した環状壁を
有する蓋と、該蓋の中央部を貫通し下端が本体内部の底
面に近接して開口し上端は蓋上面より上方に突出間口さ
せた筒体を備え、本体上端と蓋下面との接合部に液流通
口を設けたものである特許請求の範囲第１項記載の多孔
性基板の含浸液酸度調整方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58182557A JPS6074263A (ja) | 1983-09-29 | 1983-09-29 | 多孔性基板の含浸液酸度調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58182557A JPS6074263A (ja) | 1983-09-29 | 1983-09-29 | 多孔性基板の含浸液酸度調整方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6074263A true JPS6074263A (ja) | 1985-04-26 |
Family
ID=16120354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58182557A Pending JPS6074263A (ja) | 1983-09-29 | 1983-09-29 | 多孔性基板の含浸液酸度調整方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6074263A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5076494A (ja) * | 1973-10-24 | 1975-06-23 | ||
| JPS548123A (en) * | 1977-06-21 | 1979-01-22 | Canon Inc | Controller for concentration of plating bath |
| JPS548122A (en) * | 1977-06-21 | 1979-01-22 | Canon Inc | Controller for concentration of plating bath |
-
1983
- 1983-09-29 JP JP58182557A patent/JPS6074263A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5076494A (ja) * | 1973-10-24 | 1975-06-23 | ||
| JPS548123A (en) * | 1977-06-21 | 1979-01-22 | Canon Inc | Controller for concentration of plating bath |
| JPS548122A (en) * | 1977-06-21 | 1979-01-22 | Canon Inc | Controller for concentration of plating bath |
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