JPS6076604A - 位相変調スペックル干渉計による粗面物体の変形測定法および測定装置 - Google Patents
位相変調スペックル干渉計による粗面物体の変形測定法および測定装置Info
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- JPS6076604A JPS6076604A JP18493283A JP18493283A JPS6076604A JP S6076604 A JPS6076604 A JP S6076604A JP 18493283 A JP18493283 A JP 18493283A JP 18493283 A JP18493283 A JP 18493283A JP S6076604 A JPS6076604 A JP S6076604A
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- G01B11/16—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring the deformation in a solid, e.g. optical strain gauge
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- G—PHYSICS
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- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02094—Speckle interferometers, i.e. for detecting changes in speckle pattern
- G01B9/02095—Speckle interferometers, i.e. for detecting changes in speckle pattern detecting deformation from original shape
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、位相変訓スペックル干渉計により粗面物体の
変形１１を自重！＋ ｊｌｌｌ定する測定方法およびそ
の測定装置に関する。
変形１１を自重！＋ ｊｌｌｌ定する測定方法およびそ
の測定装置に関する。
物体の変形ｔ１を計測ずることは、工学、医学、歯学な
どの広範囲の学問分ＩＩＩｒばかりでなく、電気電子機
器、炉空や衿合旧和などの製造業にとっても、イ販めて
重要な計８１１１となっている。特に製造業では、構造
物の変形解析は、目ヒ物の基本的な設計思想をも決定す
るものであるので、実時間で簡便な言１測法に対ずる請
求はヴ！；い。現在の変形測定法の主流は、歪ケ゛−ジ
からの多次元１４；気信号を処理、解析するものである
。しかし、物体の変形が複雑になる場合では、このよう
な多点言ｔ ｉｌｉでは不十分となり、偵１情報を得る
ことが不可欠となる。
どの広範囲の学問分ＩＩＩｒばかりでなく、電気電子機
器、炉空や衿合旧和などの製造業にとっても、イ販めて
重要な計８１１１となっている。特に製造業では、構造
物の変形解析は、目ヒ物の基本的な設計思想をも決定す
るものであるので、実時間で簡便な言１測法に対ずる請
求はヴ！；い。現在の変形測定法の主流は、歪ケ゛−ジ
からの多次元１４；気信号を処理、解析するものである
。しかし、物体の変形が複雑になる場合では、このよう
な多点言ｔ ｉｌｉでは不十分となり、偵１情報を得る
ことが不可欠となる。
また医学などの分野では対象物が柔らかく、歪ゲージを
張り付けるのが不可能となる。このような要求を満たす
測定法としてスペックル干渉法があるが、従来は変形量
の等高純を表わす縞模様を観察するだけの定性的測定法
であった。
張り付けるのが不可能となる。このような要求を満たす
測定法としてスペックル干渉法があるが、従来は変形量
の等高純を表わす縞模様を観察するだけの定性的測定法
であった。
本発明は上記に鑑みなされたものであって、位相変調ス
ペックル干渉法と計ｑ機システムを用いて、変形量を自
動解析する手法および自動解析装置を提供することを目
的とする。
ペックル干渉法と計ｑ機システムを用いて、変形量を自
動解析する手法および自動解析装置を提供することを目
的とする。
この目的は、以下に述べる方法および＠信により達成す
ることができる。
ることができる。
変形前の被測定物体の表面からの物体レーザー光と、位
相の異なる参照レーザー光とを干渉させて少なくとも３
枚の第／の干渉スペックル像をつくって変形前のスペッ
クル像の位相θ，をめ、変形後の被測定物体からの物体
レーザー光と位相の異なる参照レーザー光とを干渉させ
て少な《とも３枚の第２の干渉スペックル像をつくって
変形後のスペックル像の位相θ２ をめ、そして被側定
物体の変形量を０２−０１として決定することができる
。第一の方法は、物体変形前の被測定物体の表面からの
物体レーザー光と、参照レーザー光とを干渉させて第ｌ
の干渉スペックル像Ｉ，をつくり、変形後の被測定物体
の表面からの物体レーザー光と、位相の異なる参照レー
ザー光とを干渉させて、少なくとも３枚の第一の干渉ス
ペックル像をつくり、第一の干渉スペックル像と第１の
干渉スペックル像との差の自乗をめ、そしてこれらの差
の自兜から被沖１定物体の変形量を決定することができ
る。
相の異なる参照レーザー光とを干渉させて少なくとも３
枚の第／の干渉スペックル像をつくって変形前のスペッ
クル像の位相θ，をめ、変形後の被測定物体からの物体
レーザー光と位相の異なる参照レーザー光とを干渉させ
て少な《とも３枚の第２の干渉スペックル像をつくって
変形後のスペックル像の位相θ２ をめ、そして被側定
物体の変形量を０２−０１として決定することができる
。第一の方法は、物体変形前の被測定物体の表面からの
物体レーザー光と、参照レーザー光とを干渉させて第ｌ
の干渉スペックル像Ｉ，をつくり、変形後の被測定物体
の表面からの物体レーザー光と、位相の異なる参照レー
ザー光とを干渉させて、少なくとも３枚の第一の干渉ス
ペックル像をつくり、第一の干渉スペックル像と第１の
干渉スペックル像との差の自乗をめ、そしてこれらの差
の自兜から被沖１定物体の変形量を決定することができ
る。
第１図は本発明を達ｈｌｔ、−ｊ−るためのブロック図
の７例である。レーザー沖１からのレーザー光２をミラ
ー３及び対物レンズ４により広げ、半透鏡５により光路
６および光Ｍ７に分ける。光路６のレーザー光は被測定
物体８を照明し、光路７のレーザー光は参照面９を照明
する。被測定面８および参照面９より散乱した光１０．
１１を再び半透鏡５により重ね合わせ、光１イ゛変換装
僧（ＴＶカメラＣＯＤカメラなど）１２に結像する。こ
こで移相装置（ＰＺＴ、ファラデーローチーター、半波
長板など）１３その駆動装置１４（高圧電源、回転駆動
回路など）により参照光１１０位相をφだけ変化させる
とすると、光電変換装ｇ＃１２での光強度Ｉは、Ｉ＝α
＋βｃｏｓ（θ、＋φ）と書ける。ここで、φをｉ／Ｎ
（ｒａｄ）（Ｎ≧３）ずつＮ回変えて、このＩを表わす
光電変換装置１２の出力信号をメモリ１５に記録した後
、信号処理・演算装置１６を通して、大容量メモリ１７
に記録する０ここで０１ は干渉スペックル像の位相で
ある。大容量メモリ１７のデータを用いて偏量ｆＸ４装
ｇ！、 １６により演算を行ない、スペックル像の位相
θ、をめる。φを２π外〔ｒａｄ〕ずつＮ回かえて、ス
ペックル形後１２、φを２π外［：ｒａｄ’］ずつＮ回
かえて、ス（ックル像１’１ｚ １’２＋・・・・・・
・・・ＩｌＮをつくり、演算を行なうことにより、変形
後のスペックル像の位相θ２ がまる。そして、θ２−
０１を！１勺−すると、これが被測定物体の変形量とな
る。
の７例である。レーザー沖１からのレーザー光２をミラ
ー３及び対物レンズ４により広げ、半透鏡５により光路
６および光Ｍ７に分ける。光路６のレーザー光は被測定
物体８を照明し、光路７のレーザー光は参照面９を照明
する。被測定面８および参照面９より散乱した光１０．
１１を再び半透鏡５により重ね合わせ、光１イ゛変換装
僧（ＴＶカメラＣＯＤカメラなど）１２に結像する。こ
こで移相装置（ＰＺＴ、ファラデーローチーター、半波
長板など）１３その駆動装置１４（高圧電源、回転駆動
回路など）により参照光１１０位相をφだけ変化させる
とすると、光電変換装ｇ＃１２での光強度Ｉは、Ｉ＝α
＋βｃｏｓ（θ、＋φ）と書ける。ここで、φをｉ／Ｎ
（ｒａｄ）（Ｎ≧３）ずつＮ回変えて、このＩを表わす
光電変換装置１２の出力信号をメモリ１５に記録した後
、信号処理・演算装置１６を通して、大容量メモリ１７
に記録する０ここで０１ は干渉スペックル像の位相で
ある。大容量メモリ１７のデータを用いて偏量ｆＸ４装
ｇ！、 １６により演算を行ない、スペックル像の位相
θ、をめる。φを２π外〔ｒａｄ〕ずつＮ回かえて、ス
ペックル形後１２、φを２π外［：ｒａｄ’］ずつＮ回
かえて、ス（ックル像１’１ｚ １’２＋・・・・・・
・・・ＩｌＮをつくり、演算を行なうことにより、変形
後のスペックル像の位相θ２ がまる。そして、θ２−
０１を！１勺−すると、これが被測定物体の変形量とな
る。
さらに、第１図に示したシステムを用いて、次のような
方法によっても変形量を自動解析することができる。物
体変形前の被測定物体の表面８からの散乱光１０と、参
照面９で散乱される光１１とを光電変換装Ｐ１１２の中
で干渉させ、スＲツクル像■、シ得る。こｉｔを光電ψ
換装置＾°１２により電気信号とし、メモリ１５に記録
した後に演巽装ｗｔ１６を介して太容１層メモリ１７に
記録する。次に、物体８が変形の徒に、移相装置１３お
よびその駆動回路１４を用いて参照レーザー光１１の位
ｄを：ｌｎ／Ｎ［ｒａｄ’Ｊ（Ｎ ＞ ３ ） ４’つ
Ｎ回メ：えて、Ｎ枚の第一の干渉スペックル像１１．
、 Ｐ２・・・・・・・・・ＩＩＮをつくり、光電変換
装ｇ１１２ Ｋよりそれらの光強１１’を表わす電気信
号に変換した後メモリｌ ５に記録し、演算装置１６を
介し゛〔大容量メモリ１７に記録する。これら太容」メ
モリ１７に記録されたデータをもとに言１Ｎするのであ
るが、まず、／＋−（＋、−ｔ、）２（＋＝１．２．・
・・・・・・・・、Ｎ）を計算し、Ｎ枚のスペックル干
渉縞を形成する。このとき、スペックル干渉縞ｆ１ は
、物体変形前後の位相差を０２−〇、と（２πＩ／Ｎ
） ｌ／（Σｆｌｃｏｓ（２πｌΔ０）〕を行なうこと
によ１＝１ りめられる。この計装結果は、まだ雑音を含んでいるの
で、演ヤ・処理装置１６により、空間フィルタリング、
メディアンフィルタ、および空間微分操作などを行なっ
て、変形量、ｉ、応力、曲すモーメントなどを表示装置
１８に出力する。
方法によっても変形量を自動解析することができる。物
体変形前の被測定物体の表面８からの散乱光１０と、参
照面９で散乱される光１１とを光電変換装Ｐ１１２の中
で干渉させ、スＲツクル像■、シ得る。こｉｔを光電ψ
換装置＾°１２により電気信号とし、メモリ１５に記録
した後に演巽装ｗｔ１６を介して太容１層メモリ１７に
記録する。次に、物体８が変形の徒に、移相装置１３お
よびその駆動回路１４を用いて参照レーザー光１１の位
ｄを：ｌｎ／Ｎ［ｒａｄ’Ｊ（Ｎ ＞ ３ ） ４’つ
Ｎ回メ：えて、Ｎ枚の第一の干渉スペックル像１１．
、 Ｐ２・・・・・・・・・ＩＩＮをつくり、光電変換
装ｇ１１２ Ｋよりそれらの光強１１’を表わす電気信
号に変換した後メモリｌ ５に記録し、演算装置１６を
介し゛〔大容量メモリ１７に記録する。これら太容」メ
モリ１７に記録されたデータをもとに言１Ｎするのであ
るが、まず、／＋−（＋、−ｔ、）２（＋＝１．２．・
・・・・・・・・、Ｎ）を計算し、Ｎ枚のスペックル干
渉縞を形成する。このとき、スペックル干渉縞ｆ１ は
、物体変形前後の位相差を０２−〇、と（２πＩ／Ｎ
） ｌ／（Σｆｌｃｏｓ（２πｌΔ０）〕を行なうこと
によ１＝１ りめられる。この計装結果は、まだ雑音を含んでいるの
で、演ヤ・処理装置１６により、空間フィルタリング、
メディアンフィルタ、および空間微分操作などを行なっ
て、変形量、ｉ、応力、曲すモーメントなどを表示装置
１８に出力する。
実施例
変形する対象物８として直径、２０πｍ１埋さθ、／即
のアルミ円板を用い、その表面は白色スプレーを塗装し
た。この物体の外周を固定し、中心に直径３１ｕｍのＰ
ＺＴを接着し、高電圧を加えることにより変形を与えた
。レーザー源１としてはＳθｍＷのＨｅ −Ｎｅレーザ
ーを用い、移相装置１３としてはＰＺＴに表面を白色塗
装したアクリル平板を接着したものを用い、このＰＺＴ
の出動装＠１４として高電圧回路を用い、参照レーザー
光Ｊ１の位相を変えた。光電変換装置１２とし−（はＴ
Ｖカメラを用い、メモリ１５としては／フレーム分のＴ
Ｖ画像を記録するディジタルフレームメモリ、演η・処
理装置１６としてはミニコンピユータを、大容量メモリ
１７としては磁り（ディスクを用いた。
のアルミ円板を用い、その表面は白色スプレーを塗装し
た。この物体の外周を固定し、中心に直径３１ｕｍのＰ
ＺＴを接着し、高電圧を加えることにより変形を与えた
。レーザー源１としてはＳθｍＷのＨｅ −Ｎｅレーザ
ーを用い、移相装置１３としてはＰＺＴに表面を白色塗
装したアクリル平板を接着したものを用い、このＰＺＴ
の出動装＠１４として高電圧回路を用い、参照レーザー
光Ｊ１の位相を変えた。光電変換装置１２とし−（はＴ
Ｖカメラを用い、メモリ１５としては／フレーム分のＴ
Ｖ画像を記録するディジタルフレームメモリ、演η・処
理装置１６としてはミニコンピユータを、大容量メモリ
１７としては磁り（ディスクを用いた。
ＴＶ左カメラ２からの出力信号はＶＤ変換した。
出力表示装置１８としてはグロツターを用いた。
第２図が出力結果を等変位線として示したものであり、
線間隔は０．３μｍ の面外変位に相当する。
線間隔は０．３μｍ の面外変位に相当する。
第３図が第２図と同じ出力を鳥徹図として表現したもの
であり、対象物の変形のようすが浪くわかる。
であり、対象物の変形のようすが浪くわかる。
以上詳述したように、本発明は対象物の累形針を非接触
でかつ自動的にオンライン割泪１１できる手法および装
置を提供するものであるので、製造品特に航空用のタイ
ヤやＩＣなどの熱変形による破損および複合拐料の異常
検出など、品）内管理、工程制御などの迅速化、高精度
化に寄与することができる。
でかつ自動的にオンライン割泪１１できる手法および装
置を提供するものであるので、製造品特に航空用のタイ
ヤやＩＣなどの熱変形による破損および複合拐料の異常
検出など、品）内管理、工程制御などの迅速化、高精度
化に寄与することができる。
第１図は本発明を鮨、明するためのブロック図、第一回
及び第３図は本発明の実施例で得られた変位量の等高線
図及び鳥睡図である。 図中の符号：１・・・・・・レーザー装面“、２１６１
７．１０．１１・・・・・・レーザー光、 ４・・・・
・・対物レンズ、５・・・・・・半透鏡、８・・・・・
・対象物、９・・・・・・参照面、 １２・・・・・・
光重変換装置、１３・・・・・・移相装置、１４・・・
・・・多相装置り駆動製餡、１５・・・・・・メモリ、
１６・・・・・・演算・処理装置、１７・・・・・・大
容量メモリ、１８・・・・・・表示装置。 第２図 第３図 昭和 年 月 日 １、事件の表示 昭和５８年特許願第１８４９３２号３
、補正をする者 事件との関係 出願人 名称 （６７９）理化学研究所 ４、代理人 ５、補正命令の日付 自 発 ６、補正の対象 明細書の特許請求の範囲の欄７、補正
の内容 別紙記、９１Ｎ、 特許請求の範囲 （１）変形前の被測定物体の表面からの物体レーザー光
き、位相の異なる参照レーザー光とを干渉させて、少な
くとも３枚の第１の干渉スペックル像をつくって変形前
のスペックル像の位相θ１をめ、変形後の被測定物体か
らの物体レーザー光と、位相の異なる参照レーザー光と
を干渉させて少なくとも３枚の第２の干渉スペックル像
をつくって変形後のスペックル像の位相θ２をめ、そし
て、被測定物体の変形量を０２−θ１として決定するこ
とを特徴とした物体の変形測定法。 （２） 参照レーザー光の位相を２πハ［ｒａｄ ］
（Ｎ≧３）ずつＮ回度化させ、それに対応したＮ枚の第
１の干渉スペックル像１． 、Ｌ 、・・・ ＩＭ を
つくって変形前のスペックル像の位相θ１を変形後に、
参照光の位相を２πハ［ｒａｄ ］ずつＮ回変化させて
、それに対応したＮ枚の第２の干渉スペックル像１’、
、Ｉ’２ 、・・・ ｌ′２をつくり、変形後のスペッ
クル像の位相θ２をｊＥ Ｉ ′３ ｃｏｓ（２πｊ
／Ｎ） ） ］から決定し、そＪ＝１ して、被測定物体の変形量をθ２〜θ１ として決定す
る特許請求の範囲第１項に記載の物体の変形測定法。 （３）物体変形前の被測定物体の表面からの物体レーザ
ー光と、参照レーザー光とを干渉させて第１の干渉スペ
ックル像１１ をつくり、変形後の被測定物体の表面か
らの物体レーザー光と、位相の異なる参照レーザー光と
を干渉させて、少なくとも３枚の第２の干渉スペックル
像をつくり、第２の干渉スペックル像と第１の干渉スペ
ックル像との差の自乗をめ、そしてこれらの差の自乗か
ら被測定物体の変形量を決定することを特徴とした物体
の変形測定法。 〔４）物体変形後に、参照レーザー光の位相を３６０
” ／Ｎ（Ｎ≧１）ずつＮ回変化させて、それに対応し
たＮ枚の第２の干渉スペックル像１′１゜１′２．・・
・ Ｉ′ｏをつくり、第２の干渉スペックル像と第１°
の干渉スペックル像との差の自乗ｆ１−（ド、 、＋、
＞２． ｆ２＝（ド、 −＋、）”。 ・・・、ｆＮ＝（１′ｗ ＋、ｆ をめ、そして被測定
物体の変形量を 特許請求の範囲第４項に記載の物体の変形測定法。 （５〕 レーザー光源から被測定物体の表面に至り、そ
して被測定物体の表面から撮像管に至る第１の光路、レ
ーザー光源から移相手段を介して撮像管に至る第２の光
路、及び前記の移相手段を駆動する駆動装置を備えた物
体の干渉スペックル像をつくる装置。 （６） 前記の移相手段が振動反射面である特許請求の
範囲第７項に記載の装置。 （７） 前記の移相手段が電気制御されるファラデイー
ローチーターである特許請求の範囲第７項１ご記載の装
置。 （８） 前記の移相手段が回転する半波長板である’Ｐ
？許請求の範囲第７項に記載の装置。
及び第３図は本発明の実施例で得られた変位量の等高線
図及び鳥睡図である。 図中の符号：１・・・・・・レーザー装面“、２１６１
７．１０．１１・・・・・・レーザー光、 ４・・・・
・・対物レンズ、５・・・・・・半透鏡、８・・・・・
・対象物、９・・・・・・参照面、 １２・・・・・・
光重変換装置、１３・・・・・・移相装置、１４・・・
・・・多相装置り駆動製餡、１５・・・・・・メモリ、
１６・・・・・・演算・処理装置、１７・・・・・・大
容量メモリ、１８・・・・・・表示装置。 第２図 第３図 昭和 年 月 日 １、事件の表示 昭和５８年特許願第１８４９３２号３
、補正をする者 事件との関係 出願人 名称 （６７９）理化学研究所 ４、代理人 ５、補正命令の日付 自 発 ６、補正の対象 明細書の特許請求の範囲の欄７、補正
の内容 別紙記、９１Ｎ、 特許請求の範囲 （１）変形前の被測定物体の表面からの物体レーザー光
き、位相の異なる参照レーザー光とを干渉させて、少な
くとも３枚の第１の干渉スペックル像をつくって変形前
のスペックル像の位相θ１をめ、変形後の被測定物体か
らの物体レーザー光と、位相の異なる参照レーザー光と
を干渉させて少なくとも３枚の第２の干渉スペックル像
をつくって変形後のスペックル像の位相θ２をめ、そし
て、被測定物体の変形量を０２−θ１として決定するこ
とを特徴とした物体の変形測定法。 （２） 参照レーザー光の位相を２πハ［ｒａｄ ］
（Ｎ≧３）ずつＮ回度化させ、それに対応したＮ枚の第
１の干渉スペックル像１． 、Ｌ 、・・・ ＩＭ を
つくって変形前のスペックル像の位相θ１を変形後に、
参照光の位相を２πハ［ｒａｄ ］ずつＮ回変化させて
、それに対応したＮ枚の第２の干渉スペックル像１’、
、Ｉ’２ 、・・・ ｌ′２をつくり、変形後のスペッ
クル像の位相θ２をｊＥ Ｉ ′３ ｃｏｓ（２πｊ
／Ｎ） ） ］から決定し、そＪ＝１ して、被測定物体の変形量をθ２〜θ１ として決定す
る特許請求の範囲第１項に記載の物体の変形測定法。 （３）物体変形前の被測定物体の表面からの物体レーザ
ー光と、参照レーザー光とを干渉させて第１の干渉スペ
ックル像１１ をつくり、変形後の被測定物体の表面か
らの物体レーザー光と、位相の異なる参照レーザー光と
を干渉させて、少なくとも３枚の第２の干渉スペックル
像をつくり、第２の干渉スペックル像と第１の干渉スペ
ックル像との差の自乗をめ、そしてこれらの差の自乗か
ら被測定物体の変形量を決定することを特徴とした物体
の変形測定法。 〔４）物体変形後に、参照レーザー光の位相を３６０
” ／Ｎ（Ｎ≧１）ずつＮ回変化させて、それに対応し
たＮ枚の第２の干渉スペックル像１′１゜１′２．・・
・ Ｉ′ｏをつくり、第２の干渉スペックル像と第１°
の干渉スペックル像との差の自乗ｆ１−（ド、 、＋、
＞２． ｆ２＝（ド、 −＋、）”。 ・・・、ｆＮ＝（１′ｗ ＋、ｆ をめ、そして被測定
物体の変形量を 特許請求の範囲第４項に記載の物体の変形測定法。 （５〕 レーザー光源から被測定物体の表面に至り、そ
して被測定物体の表面から撮像管に至る第１の光路、レ
ーザー光源から移相手段を介して撮像管に至る第２の光
路、及び前記の移相手段を駆動する駆動装置を備えた物
体の干渉スペックル像をつくる装置。 （６） 前記の移相手段が振動反射面である特許請求の
範囲第７項に記載の装置。 （７） 前記の移相手段が電気制御されるファラデイー
ローチーターである特許請求の範囲第７項１ご記載の装
置。 （８） 前記の移相手段が回転する半波長板である’Ｐ
？許請求の範囲第７項に記載の装置。
Claims (8)
- （１）変形前の被測定物体の表面からの物体レーザー光
と、位相の異なる参照レーザー光とを干渉させて、少な
くとも３枚の第１の干渉スペックル像をつくって変形前
のスペックル像の位相θ１をめ、変形後の被測定物体か
らの物体レーザー光と、位相の異なる参照レーザー光と
を干渉させて少なくとも３枚の第２の干渉スペックル像
をつくって変形後のスペックル像の位相θ２をめ、そし
て、被測定物体の変形量を０２−０１として決定するこ
とを特徴とした物体の変形測定法。 - （２）参照レーザー光の位相を２い（’ｒａｄ〕（Ｎ乏
３）ずつＮ回変化させ、それに対応したＮ枚の第１の干
渉スペックル（＆ １１ ｒ １２ ＋・・・・・・・
・・ＩＮをつくって変形前のスペックル像の位相θ、を （２πＩ／Ｎ ） ） ）かも決定し、物体変形後に、
参照光の位相を２ｙｒ／Ｎ〔ｒ ａｄ ）ずつＮ回変化
させて、それに対応したＮ枚の第コの干渉スペックル像
■′１゜■′２・・・・・・・・・ＩＬＮをつくり、変
形後のスペックル像の位相θ２を （２πＩ／Ｎ月〕から決定し、そして、被測定物体の変
形量を０２−〇、として決定する特許請求の範囲第１項
に記載の物体の変形測定法。 - （３）物体変形前の被測定物体の表面からの物体レーザ
ー光と、参照レーザー光とを干渉させて第１の干渉スペ
ックル像１１ をつ（す、変形後の被測定物体の表面か
らの物体レーザー光と、位相の異なる参照レーザー光と
を干渉させて、少なくとも３枚の第ユの干渉スペックル
像をつくり、第コの干渉スペックル像と第１の干渉スペ
ックル像との差の自乗をめ、そしてこれらの差の自乗か
ら被測定物体の変形量を決定することを特徴とした物体
の変形測定法。 - （４）物体変形後に、参照レーザー光の位相を３ Ａ
Ｏｃ／ＮＣＮ≧グ）ずつＮ回変化させて、それに対応し
たＮ枚の第一の干渉スペックル像Ｉ′、。 １／ 、・・・・・・・・・１′、をつくり、第２の干
渉スペックル像と第１の干渉スペックル像との差の自乗
／、＝（１’１− ｔ、）２＋ ７２−（１’２−１．
）２．・・・・・・、 ／Ｎ−（Ｔ’、−１をめ、そし
て被測定物体の変形量を として決定する特許請求の範囲第１１項に記載の物体の
変形測定法。 - （５） レーザー光源から被測定物体の表面に至り、そ
して被測定物体の表面から撮像管に至る第１の光路隻レ
ーザー光源から移相手段を介して撮像管に至る第一の光
路、及び前記の移相手段を一駆動する駆動装置を備えた
物体の干渉スペックル像をつくる装置。 - （６）前記の移相手段が据％反射面である特許請求の範
囲第７項に記載の＠貿。 - （７） 前記の移相手段がｌｈ、覚制御されるファラデ
イーローチーターである特許請求の範囲第７項に記載の
製箔。 - （８）前記の移相手段が回転する半沢；艮板である特許
請求の範囲 １）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18493283A JPS6076604A (ja) | 1983-10-03 | 1983-10-03 | 位相変調スペックル干渉計による粗面物体の変形測定法および測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18493283A JPS6076604A (ja) | 1983-10-03 | 1983-10-03 | 位相変調スペックル干渉計による粗面物体の変形測定法および測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6076604A true JPS6076604A (ja) | 1985-05-01 |
| JPH052924B2 JPH052924B2 (ja) | 1993-01-13 |
Family
ID=16161864
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18493283A Granted JPS6076604A (ja) | 1983-10-03 | 1983-10-03 | 位相変調スペックル干渉計による粗面物体の変形測定法および測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6076604A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03502008A (ja) * | 1988-09-02 | 1991-05-09 | ブリティッシュ・テクノロジー・グループ・リミテッド | インターフェロメトリー |
| EP0915317A1 (en) * | 1997-11-04 | 1999-05-12 | European Community | Method of improving the contrast of images obtained using the pulsed image-addition ESPI technique |
| JP2008045922A (ja) * | 2006-08-11 | 2008-02-28 | Toyama Univ | レーザスペックルによるナノメートル変位測定方法と装置 |
-
1983
- 1983-10-03 JP JP18493283A patent/JPS6076604A/ja active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03502008A (ja) * | 1988-09-02 | 1991-05-09 | ブリティッシュ・テクノロジー・グループ・リミテッド | インターフェロメトリー |
| EP0915317A1 (en) * | 1997-11-04 | 1999-05-12 | European Community | Method of improving the contrast of images obtained using the pulsed image-addition ESPI technique |
| WO1999023446A1 (en) * | 1997-11-04 | 1999-05-14 | European Community | Method of improving the contrast of images obtained using the pulsed image-addition espi technique |
| US6362873B1 (en) | 1997-11-04 | 2002-03-26 | European Community | Method of improving the contrast of images obtained using the pulsed image-addition ESPI technique |
| JP2008045922A (ja) * | 2006-08-11 | 2008-02-28 | Toyama Univ | レーザスペックルによるナノメートル変位測定方法と装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH052924B2 (ja) | 1993-01-13 |
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